JPH03229680A - 洗浄方法 - Google Patents

洗浄方法

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Publication number
JPH03229680A
JPH03229680A JP2407090A JP2407090A JPH03229680A JP H03229680 A JPH03229680 A JP H03229680A JP 2407090 A JP2407090 A JP 2407090A JP 2407090 A JP2407090 A JP 2407090A JP H03229680 A JPH03229680 A JP H03229680A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
liquid
tank
washed
side wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2407090A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Hanajima
花島 修
Fumitaka Oota
文崇 大田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2407090A priority Critical patent/JPH03229680A/ja
Publication of JPH03229680A publication Critical patent/JPH03229680A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
液晶用カラーフィルター等を製造する際に、ガラス基板
等を洗浄する方法に関する。
【従来の技術】
液晶デイスプレーに使用するカラーフィルターの多くは
、先ずガラス基板の上にCr等の金属を蒸着して金属薄
膜を形成し、次にこの金属薄膜に写真製版技術等の適宜
の手段によって所望のパターンを描画形成している。上
記工程において、前記金属薄膜に無機物や有機物が付着
していると、正規のパターンを形成することができない
。 このため、パターン形成する前にガラス基板をクロコン
液(Crと硫酸の混合液)に浸漬して洗浄する工程が設
けられている。クロコン液に浸漬して洗浄する方法は手
作業であったり、ロボットによって行われている。
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ガラス基板を手作業によって一枚ずつク
ロコン液に浸漬して洗浄する方法は生産性が低いだけで
なく、洗浄液が硫酸を使っているため危険でもある。ま
た、ロボットを人手に代えて投入しても、前後の工程と
比較すると能率が劣るため、ラインを連続化するメリッ
トがないと云う問題点があった。 したがって、安全にしかも高能率にガラス基板を洗浄す
ることのできる洗浄方法の開発が待たれていた。
【課題を解決するための手段】
本発明は上記した従来技術の課題を解決するためになさ
れたもので、洗浄槽に洗浄液を注入して側壁よりオーバ
ーフローさせ、オーバーフロー中の液面上昇部に被洗浄
物を水平搬送手段によって搬送し、洗浄液と接触させて
洗浄することを特徴とする洗浄方法を提供するものであ
る。
【作用】
本発明になる洗浄方法は上記構成であるので、洗浄液を
液槽から洗浄槽に循環注入し、側壁よりオーバーフロー
させながら被洗浄物を搬送手段によって洗浄槽の上に搬
送すると、オーバーフロー中の液面上昇部に被洗浄物が
浸漬されるので、被洗浄物の表面に付着等していた汚れ
は洗浄液によって洗い落とされる。
【実施例】
つぎに本発明を図面に基づいて詳細に説明する。 図中1は液槽2の略中層部に適宜の手段によって配置さ
れた洗浄槽であり、該洗浄槽1の底部と前記液槽2の底
部とを連通ずる注入バイブ3の途中に設けられたポンプ
4によって、洗i液5がM12から洗浄槽1に注入可能
に配設されている。 洗浄槽1の底部から注入された洗浄液5は、側壁11の
上端より液面51が上昇し、オーバーフローして液槽2
に戻る。液面51の上昇の程度は側壁11の周長が一定
であれば、ポンプ4による洗浄槽1への注入速度に大略
比例する。 符号6は、液槽2の側壁21に設けられたスリット21
aと21bとを通り、洗浄槽1の前記側壁11の上端す
れすれに水平移動可能に設けられたコンベヤーであり、
片面にクロム蒸着されたガラス基板7がクロム蒸着面を
上にして水平方向に自動搬送される。 上記構成の装置を用いてガラス基板7を洗浄する方法を
説明すると、ポンプ4を駆動し、注入パイプ3を介して
液槽2にある洗浄液Sを洗浄槽1にその底部から注入す
ると、洗浄槽1に注入された洗浄液5の液面51は側壁
11より上昇し、側壁11の上部開口端よりオーバーフ
ローして液槽2に戻る。洗浄液5をこの様に循環させな
がら、コンベヤー6を駆動させてガラス基板7を側壁2
1のスリット21aから液槽2に送り込み、洗浄槽1の
上を通過させて図面右側のスリブ)21bより搬出させ
る。ガラス基板7は洗浄槽1の上を通過中に、洗浄液5
の液面上昇部に浸漬されてその表面が洗浄される。 なお、洗浄槽1は第2図に示す様に、被洗浄物の搬送手
段であるコンベヤー6の配設箇所を除いて側壁11を高
くしてスリブ1−ILaおよび11bを形成し、洗浄液
5を注入する手段の能力が比較的小さくても液面51が
容易に上昇する様にすることもできる。この場合、洗浄
液5はスリット11aおよびflbよりオーバーフロー
するので、側壁1の上端からはオーバーフローさせても
させなくても良い。また、第3図に示す様に、洗浄槽1
を多数列設して洗浄効率を高めたり(この場合、液槽1
の内部を各洗浄槽1に対応させて区画し、それぞれの間
で洗浄液5を循環注入することも可能)、洗浄液5を被
洗浄物であるガラス基板7の上方から吹き付けて洗浄効
果を高めることもできる。さらに、洗浄槽1に超音波発
振装置を付設して洗浄効果を高めたり、被洗浄物の搬出
入口である側壁21のスリブ)21aおよび21bにエ
アーカーテン等を設けて洗浄液5が装置の外に持ち出さ
れない様にしたり、洗浄液5の循環部に濾過装置を適宜
組込んだり、液槽2に排気装置を付設するなど、従来周
知の各種手段が併用可能なことは云うまでもない。とこ
ろで洗浄槽1、液槽2等は洗浄液5(クロコン液に限定
されるものではない)によって腐食等されることがない
部材、例えばテフロン、塩化ビニル等によって作られる
ことが望ましい。
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明になる洗浄方法は洗浄槽に洗
浄液を注入して側壁よりオーバーフローさせ、オーバー
フロー中の液面上昇部に被洗浄物を水平搬送手段によっ
て搬送し、洗浄液と接触させて洗浄する方法であるので
、水平方向に搬送するだけで被洗浄物は洗浄される。し
たがって、洗浄速度は前後の工程と比較しても遜色ない
ため、洗浄工程を組込んだ高能率なカラーフィルターの
製造ラインが可能となった。また、この様に自動化がで
きるため、人手に頼っていた時に較べ格段に安全性も向
上した。さらに、洗浄液の収率も被洗浄物の出入り口に
エアーナイフ等の簡単な液切れ手段を付設することによ
り、従来の浸漬法より著しく向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す説明図、第2図と第3図
は装置の要部の他の例を示す説明図である。 1・・・洗浄槽、 11・・・側壁、 11a1 lb・・・スリット、 2・・・液槽、 21・・・側壁、 21 a12 l b++スリット、 3・・・注入パイプ、 4・・・ポンプ、 5・・・洗浄液、 51・・・洗浄液部、 6・・・コンベヤー 7・・・ガラス基板。 第1図 第3図 11

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  洗浄槽に洗浄液を注入して側壁よりオーバーフローさ
    せ、オーバーフロー中の液面上昇部に被洗浄物を水平搬
    送手段によって搬送し、洗浄液と接触させて洗浄するこ
    とを特徴とする洗浄方法。
JP2407090A 1990-02-02 1990-02-02 洗浄方法 Pending JPH03229680A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2407090A JPH03229680A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 洗浄方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP2407090A JPH03229680A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 洗浄方法

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Publication Number Publication Date
JPH03229680A true JPH03229680A (ja) 1991-10-11

Family

ID=12128171

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2407090A Pending JPH03229680A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 洗浄方法

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JP (1) JPH03229680A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7943526B2 (en) 2004-03-22 2011-05-17 Rena Sondermaschinen Gmbh Process for the wet-chemical treatment of one side of silicon wafers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7943526B2 (en) 2004-03-22 2011-05-17 Rena Sondermaschinen Gmbh Process for the wet-chemical treatment of one side of silicon wafers

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