JPH03227626A - 高分子フィルム - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
製造される生成物に関する。
くは積層することにより他の物質と共に用いられ、成分
材料に比較し改良された特性を示す積層体又は複合体を
形成する。多くのコーティング又は接着剤組成物が種々
の高分子フィルムによく接着しないことは当該分野にお
いてよく知られている。さらに、インク及びラッカーは
通常高分子フィルムによく接着しない。高分子ベースフ
ィルムの接着特性はその後塗布するコート層に受容され
るコーテイング物質の下塗層を塗布することにより改良
される。不幸にも、下塗層はその後塗布される水性もし
くは有機溶剤ベースコーティング媒体と相溶性である特
定のタイプのコーティング、インクもしくはラッカーの
接着性を改良するのみである。
公知である。そのような電荷の存在は、フィルム表面へ
のほこり及び他の汚れの吸引、有機溶剤の存在下での爆
発の危険性の発生、フィルム取扱い及び処理装置へのフ
ィルム供給の困難さ、フ゛ロッキング、すなわちフィル
ムのそれ自身もしくは他のフィルムへの接着、及びその
後塗布した感光性コーティング層が曇る危険性を含む種
々の問題をおこす。好適なコーティングもしくは下塗組
成物より高分子フィルムに帯電防止剤を塗布してよいが
、有効な帯電防止挙動を与えるために存在しなければな
らないそのような帯電防止剤の比較的高い濃度は下塗層
の接着促進特性を妨害する。
した追加層の間に改良された接着を示す接着層で下塗し
た帯電防止高分子フィルムを発明した。
(a) 35〜40モル%アルキルアクリレート、(b
) 35〜40モル%アルキルメタクリレート、(c)
10〜15モル%の遊離カルボキシル基を含むモノマ
ー、及び(dH5〜20モル%の芳香族スルホン酸及び
/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層を有する高
分子フィルム基材層を含む下塗したフィルムを提供する
。
も一面にコモノマー(a)35〜40モル%アルキルア
クリレート、(b)35〜40モル%アルキルメタクリ
レート、(c)遊離カルボキシル基を含む10〜15モ
ル%のモノマー、及び(d)15〜20モル%の芳香族
スルホン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接
着層を塗布することによる下塗したフィルムの製造方法
を提供する。
材は、あらゆる好適なフィルム形成高分子物質より形成
される。熱可塑性物質が好ましく、1−オレフィン、例
えばエチレン、プロピレン及び1−ブテンのホモポリマ
ーもしくはコポリマーポリアミド、ポリカーボネート、
及び特に1種以上のジカルボン酸及びその低級アルキル
(6個以下の炭素原子)ジエステル、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、2,5−22,6−もし
くは2.7−ナフタレンジカルボン酸、琥珀酸、セバシ
ン酸、アジピン酸、アゼライン酸、4.4′ジフエニル
ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸もしくは1.
2−ビス−p−カルボキシフェノキシエタン(所望によ
りモノカルボン酸、例えばピバリン酸を含む)と1種以
上のグリコール、特に脂肪族グリコール、例えばエチレ
ングリコール、1.3−プロパンジオール、1.4−ブ
タンジオール、ネオペンチルグリコール及び1.4−シ
クロヘキサンジメタツールとの縮合により得られる合成
線状ポリエステルを含む。ポリエチレンテレフタレート
及び/又はポリエチレンナフタレートフィルムが好まし
く、例えば英国特許GB−^−838708に記載され
ているようなポリエチレンテレフタレートフィルム、特
に典型的には70〜125°Cの温度で2つの互いに垂
直方向に連続延伸することにより配向され、好ましくは
典型的には150〜250°Cの温度で熱硬化するフィ
ルムが特に好ましい。
、特にポリアリールエーテルケトン、ポIJ 71J−
ルエーテルスルホン、ポリアリールエーテルエーテルケ
トン、ボリアリールエーテルエーテルスルホン、又はそ
のコポリマーもしくはチオ同族体を含む。これらのポリ
マーの例は、EP−A−1879、EP−A−1844
58及びUS−^−4008203に開示されており、
特に好適な物質は商標5TABARとしてICIPLC
より販売されているものである。これらのポリマーのブ
レンドを用いてもよい。
アクリル、ビニル、ビスマレイミド及び不飽和ポリエス
テル、ホルムアルデヒド縮合樹脂、例えばウレア、マレ
イミドもしくはフェノールとの縮合体、シアネート樹脂
、官能化ポリエステル、ポリアミド又はポリイミドを含
む。
ム基材は未配向もしくは一軸配向であってよいが、好ま
しくは機械及び物理特性の十分な組み合せを達成するた
めフィルムの平面において2つの互いに垂直方向に延伸
することにより二輪配向されている。熱可望性高分子チ
ューブを延伸し7、その後急冷し、再加熱し、次いで内
部ガス圧により膨張させ横方向に配向させ、縦方向の配
向をおこす速度で引くことにより同時二軸配向が行なわ
れる。その後の延伸は平坦な押出物として熱可塑性基材
を押出し、まず一方向に延伸し、次いで他の互いに垂直
方向に延伸することによりテンター法において行なわれ
る。通常、まず縦方向、すなわちフィルム延伸機を通す
方向に、次いで横方向に延伸することが好ましい。延伸
した基材フィルムは、そのガラス転移温度以上の温度に
おいて寸法拘束下熱硬化により寸法安定化される。
、特に50〜125mの厚さを有する。
基、例えば6個以下の炭素原子を含むアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、ターブチル、及びヘキシルである
。エチルアクリレートが特に好ましいモノマーである。
基、例えば6個以下の炭素原子を含むアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、ターブチル、及びヘキシルである
。メチルメタクリレートが特に好ましいモノマーである
。
重合反応において含まれる以外のカルボキシル基を含む
モノマー(c)は、好適には共重合性不飽和カルボン酸
を含み、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、及び/又はイタコン酸を含み、アクリル酸及びイ
タコン酸が特に好ましい。
その塩、例えばアンモニウム、置換アンモニウム、又は
アルカリ金属、例えばリチウム、ナトリウムもしくはカ
リウム塩として本発明のコポリマー中に存在してよい。
において沈殿しない。非芳香族スルホネート含有モノマ
ーの使用は得られる接着層塗布フィルムに不適当な帯電
防止特性を与え、重合の間のコポリマー乳濁液を不安定
にし、コポリマーの感水性を許容できないものにする。
ルホン酸及び/又はその塩である。
モル%アルキルアクリレート、(b)35〜37.5モ
ル%アルキルメタクリレート、 (C)遊離カルボキシ
ル基を含む10〜15モル%のモノマー、及び(d)
15〜20モル%の芳香族スルホン酸及び/又はその塩
を含むコポリマーを含む。特に好ましいコポリマーは3
5/35/15/15モル%、特に37.5/37.5
/10/15モル%の比のエチルアクリレート/メチル
メタクリレート/イタコン酸/p−スチレンスルホン酸
及び/又はその塩を含む。
くは10,000〜10.000.000、より好まし
くは1.000,000のオーダーである。
層を架橋し高分子基材への接着を改良する架橋剤を含む
。さらに、架橋剤は好ましくは溶剤浸透に対する保護を
与えるため内部架橋できるべきである。好適な架橋剤は
エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミン誘導体、例えばヘ
キサメトキシメチルメラミン、及び/又はアミン、例え
ばメラミン、ジアジン、ウレア、環式プロピレンウレア
、チオウレア、環式エチレンチオウレア、アルキルメラ
ミン、例えばブチルメラミン、アリールメラミン、グア
ナミン、アルキルグアナミン、及びアリールグアナミン
の縮合生成物を含み、グリコルウリルをアルデヒド、例
えばホルムアルデヒドと縮合させてよい。有効な縮合生
成物はメラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物である
。縮合生成物は好ましくはアルキル化、例えばエトキシ
ル化されている。架橋剤はコーティング組成物中のポリ
マーの重量を基準として好ましくは10〜25重量%の
量で用いられる。所望により、接着ポリエステル樹脂に
好適な触媒を加えることにより架橋の促進を行ってよい
。メラミンホルムアルデヒドを架橋するための好ましい
触媒は塩化アンモニウム、硝酸アンモニウム、チオシア
ン酸アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、硫酸アン
モニウム、燐酸水素二アンモニウム、パラトルエンスル
ホン酸、塩基との反応により安定化されたマレイン酸、
及びパラトルエンスルホン酸モルホリニウムを含む。
。それにもかかわらず水不溶性コポリマーを含むコーテ
ィング組成物を有機溶媒中の溶液として又は水性分散体
として高分子フィルム基材に塗布してよい。水性媒体か
らの塗布が経済的に有利であり、揮発性有機溶剤の使用
に伴なう毒性の危険性及び爆発の可能性を避け、有機溶
剤を用いる場合にしばしば遭遇する残留臭気の問題を排
除する。
均展特性を達成するため、接着媒体の表面エネルギーが
フィルム基材の表面エネルギーより低いことが望ましい
。
トキシレート、及びエトキシル化アルキル、例えばノニ
ル、フェノールへの1種以上の界面活性剤の添加により
達成される。
、例えばポリイミドフィルムに塗布される。しかし、コ
ーティング媒体の塗布は、好ましくは延伸操作の前又は
間に行なわれる。
伸操作の2つの段階(縦及び横)の間にフィルム基材に
塗布することが好ましい。そのような延伸及び塗布の順
序は塗布した線状ポリエステルフィルム基材、例えば塗
布したポリエチレンテレフタレートフィルムの製造に特
に好ましく、このフィルムはまず回転ローラー上で縦方
向に延伸され、接着層が塗布され、次いでテンターオー
ブン内で横方向に延伸され、好ましくはその後熱硬化さ
れる。
望によりその暴露面は化学もしくは物理表面改良処理が
行なわれ、表面とその後塗布される接着層の間の結合が
改良される。その簡単さ及び有効性のためポリオレフィ
ン基材の処理に特に好適な好ましい処理は基材の暴露面
をコロナ放電に伴なう高電圧電気応力にさらすことであ
る。この他に、基材ポリマーに溶剤もしくは膨潤作用を
有することが公知の試剤により基材を予備処理してよい
。ポリエステル基材の処理に特に好適であるそのような
試剤の例は、通常の有機溶剤に溶解したハロゲン化フェ
ノール、例えばアセトンもしくはメタノール中のP−ク
ロロ−m−クレゾール、2.4−ジクロロフェノール、
2,4.5−もしくは2,4.6−ドリクロロフエノー
ル又は4クロロレソルシノールのNWt ヲ含t;。
てよい。この他に、基材の一面を塗布せず、本明細書に
示した接着媒体以外の物質の層を塗布してもよい。
法、例えばグラビアロールコーティング、リバースロー
ルコーティング、浸漬コーティング、ビードコーティン
グ、スロットコーティング又は静電吹付コーティングに
より水性分散体として又は有機溶剤中の溶液として高分
子フィルム基材に塗布してよい。溶液又は分散体は、好
適には接着層の厚さが、例えば塗布した基材を加熱する
ことにより乾燥した場合その後塗布する層に有効な結合
を与える量で塗布される。
処理又は好ましくはコロナ放電による接着層の表面の改
良は、その後塗布されるコーティング、インク及びラッ
カーの接着を改良するが、十分な接着の提供には必須で
はない。
0にνの電位において1〜20kwの出力を有する高周
波数、高電圧発生器を用いる従来の装置により大気中大
気圧において行なわれる。放電は好ましくは1.0〜5
00m/分のライナー速度で放電部位において誘電支持
ローラー上をフィルムを通すことにより行なわれる。放
電電極は移動するフィルム表面から0.1〜10.0n
nmに置かれている。
質の十分な接着は、例えばコロナ放電処理による従来の
表面改良を行なわず達成できる。
例は、35/35/15/15モル%の比のエチルアク
リレート/メチルメタクリレート/イタコン酸/p−ス
チレンスルホン酸のコポリマー及び/又はその塩である
。
層の厚さは好ましくは基材の厚さの0.004%未満で
あってはならず10%より大きくてもいけない。実際、
接着層の厚さは望ましくは少なくとも0.01−であり
、好ましくは約1.0−を越えてはならず、より好まし
くは約0.2 trw+を越えてはならない。
ムの製造に用いられたあらゆる添加剤を含んでよい。従
って、染料、顔料、滑剤、抗酸化剤、粘着防止剤、界面
活性剤、スリップ助剤、光沢改良剤、紫外線安定剤、粘
度改良剤及び分散安定剤のような添加剤を基材、及び/
又は接着層、及び/又は追加塗布層に混入してよい。特
に、追加塗布層、及び/又は接着層、及び/又は基材は
小さな粒度の粒状充填側、例えばシリカを含んでよい。
わち基材の重量の0.5%を越えず、好ましくは0.2
%未満存在すべきである。製図材料としての使用に好適
なフィルムは、接着層に充填剤粒子を加えることにより
製造される。充填剤粒子はフィルム表面を粗くし、製図
器具、例えば鉛筆によるマーキングを容易にする。充填
剤は、例えば無機又は熱可塑性粒状充填剤であってよい
。
リカ及びシリカゲル、焼成チャイナクレー硫酸バリウム
、炭酸カルシウム、及び三水和アルミニウムより選ばれ
る。シリカ−子が特に好ましい。好ましくは、充填剤粒
子は001〜54、より好ましくは0.02〜0.5
trm、特に0.13〜0.15−の平均粒度を有する
。本発明の好ましい実施態様において、異なる粒度の充
填剤粒子の混合物が用いられ、特に、0.03〜0.0
5趨及び0.1〜0.15−の平均粒度を有し、小さな
粒子の濃度が大きな粒子の濃度より大きい混合物が用い
られる。充填剤粒子は好ましくは、コポリマーの重量に
対し20〜200%、より好ましくは50〜150%、
特に約100%の接着層を含む。前記充填剤粒子を含む
接着層は不透明なボイドを含む基材、特にGB−A−1
563591に開示されているように写真プリント材料
として用いられル硫酸バリウム充填剤を含むポリエステ
ルフィルムへのコーティング用に好適である。従って本
発明の好ましい実施態様は写真フィルムとしての使用に
好適であり、その第1の表面上に写真乳濁液層を有する
不透明なボイドを含む基材、及び基材の第2の表面に前
記充填剤粒子を含む接着層を含む。接着層はフィルム上
の筆記用材料に帯電防止性及び受理性を与える。
ルムに他の物質を塗布もしくは貼ることにより種々の複
合体構造を形成するた必用いてよい。例えば、接着層を
塗布した高分子フ、・ルムは、金属ホイル、例えば銅、
アルミニウム及びニッケルを貼った場合良好な接着を示
し、これは回路板の形成に用いてよい。真空バッグ積層
、プレス積層、ロール積層又は他の標準積層法を用い前
記ラミネートを形成してよい。
えば好適な液体ビヒクル中の微粉砕金属粒子の懸濁液か
らのめっきにより、又は好ましくは高真空の条件に保っ
たチャンバー内で金属を接着樹脂表面に蒸発させる真空
めっき法により行なわれる。好適な金属はパラジウム、
ニッケル、銅(及びその合金、例えばブロンズ)、銀、
金、コバルト及び亜鉛を含むが、経済性及び樹脂層への
結合の容易さのためアルミニウムが好ましい。
に行なわれる。
より主に決められる厚さで製造される。
ため接着層にラッカー層が塗布される。
ル及び/又はポリビニルアセクール樹脂を含む。ポリビ
ニルアセクール樹脂は好適にはポリビニルアルコールを
アルデヒドと反応させることにより製造される。市販入
手可能なポリビニルアルコールは通常ポリビニルアセテ
ートを加水分解することにより製造される。ポリビニル
アルコールは通常一部加水分解(15〜30%ポリビニ
ルアセテート基を含む)及び完全に加水分解(0〜5%
ポリビニルアセテート基を含む)と分類される。
ポリビニルアセタール樹脂の製造に用いられる。アセタ
ール反応の条件及び用いられる特定のアルデヒド及びポ
リビニルアルコールの濃度はポリビニルアセクール樹脂
に存在するヒドロキシル基、アセテート基及びアセター
ル基の特性を決定する。ヒドロキシル、アセテート及び
アセタール基は通常分子内に不規則に分布している。好
適なポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラー
ル、好ましくはポリビニルホルマールを含む。
粒状物質はフィルム表面に、鉛筆、クレヨン及びインク
のような筆記用具の圧痕を保ち及びマークできる表面の
荒さを与える。
ョーク、タルク、珪藻土、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛
、ジルコニア、炭酸カルシウム、及び二酸化チタンより
選ばれる。微粉砕シリカが製図材料の製造に好ましい物
質であり、必要な半透明度を得るため並びにコーティン
グの粗さ及び耐性を増すため他の物質を少量混入してよ
い。望ましくは、充填剤は、ラッカー層に用いる場合、
高分子物質の50重量%以下の量存在し、その平均粒度
は15Jna以下、好ましくは10−未満、特に0.1
〜5pであるべきである。
ベースインク及びラッカー、例えばアクリルコーティン
グ、セルロースアセテートブチレートラッカー、及びジ
アゾニウムコーティングで塗布してよい。
ラチン状ハロゲン化銀乳濁液、特に従来のX線乳濁液で
コートしてよい。感光性乳濁液は所望により通常用いら
れるあらゆる従来の添加剤を含んでよい。
「プリペイドカード」、例えばテレフォンカード、及び
多くの金融取引に関する情報を保存できる「インテリジ
ェントカード」を形成するため下塗したフィルムを用い
てよい。磁気カードは好ましくは順に(i)磁気層、(
11)コモノマ(a)35〜40モル%アルキルアクリ
レート、(b) 35〜40モル%アルキルメタクリレ
ート、(C)遊離カルボキシル基を含む10〜15モル
%のモノマー、及び(dH5〜20モル%の芳香族スル
ホン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層
、(ij)高分子基材層、(iv)上記(ii)規定の
接着層、及び(v)グラフィック層を含む。
よく、例えば水性及び有機溶剤ベース材料、特に電子ビ
ーム及び他のUV硬化性インクである。
層(2)を有する高分子基材層(1)を含む。
結合した追加層(4)を含む。
ースラッカーの接着は標準クロスハツチ接着テストを用
いて測定した。ラッカーをMeyer棒を用いて塗布し
、テストする前に120℃において1分間オーブン内で
硬化させた。以下の成分を含むセルロースアセテートブ
チレート(CAB)ラッカーを用いた。
2/3樹脂(CAB)
15.0部メチルイソブチルケトン(MIBK)
42.5部メチルエチルケトン(MEK)
42.5部ローダミン染料
0.06部結果は接着テープを1回はがした後残っ
ている正方形の数(最大100)として決定した。高分
子フィルムより接着テープをはがした後、100個のう
ち98個以上が残っている場合、接着は許容され、この
フィルムを合格とする。残っているものが98個未満の
場合、接着は許容されず「不合格」とする。
水性乳濁液を塗布し、冷却しコーティングをゲル化し、
33°Cで20分間乾燥した。最終写真フィルムでの高
分子フィルムへの乳濁液の接着は、標準クロスハツチ接
着テストを行なうことにより標準写真化学において加工
する前に調べられた。結果は接着テープを4回はがした
後残っている正方形の数(最大100)で決定した。高
分子フィルムより接着テープをはがした後95個以上の
正方形が残っている場合、接着は許容され「合格」とさ
れた。残っているものが95個未満である場合、接着は
許容されず「不合格」とされた。
)を測定することにより高分子フィルムの帯電防止特性
を決定した。10.5未満、好ましくは10、Olog
ob+w/平方未満のSRが許容される帯電防止特性
を与える。
ト/メチルメタクリレート/イタコン酸/ナトリウムP
−スチレンスルホネートコポリマーの水性分散体を以下
の成分の従来の乳濁重合により製造した。
50511!l!ポリエチレンテ
レフタレートフイルムを溶融押出しを行ない、冷却回転
ドラム上に流延し、押出し方向にその最初の長さの3倍
に延伸した。次いで冷却した延伸フィルムの両面に以下
の成分を含む水性組成物を塗布した。
約7,1111の厚さの湿ったコーティングを与えた。
フィルムを乾燥し、横方向に最初の寸法の約3倍まで延
伸した。二輪延伸コートフィルムは従来の方法により約
220°Cの温度で熱硬化した。
ト重量は約0.7■/dm”であった。
接着及び表面抵抗率を測定した。結果を表1に示す。
を含み、及びコポリマーの組成が37.5/37.5/
10/15モル%の比のEA/MMA/AA/SSAで
あることを除き例1の方法を繰り返した。結果を表1に
示す。
ンテレフタレートフィルムを接MNでコートしないこと
を除き例1の方法を繰り返した。
の組成が以下のとおりであることを除き例1の方法を繰
り返した。
M八/I八 へ5iへ/451515モル%の比のE八/MMA/I
A/SSA 例6−37.5/37.5/ 5 /20モル%の比の
EA/MMA/IA/SSA 例7−37.5/37.5/20/ 5モル%の比のH
A/聞A/IA/SS八 例へ −30/30/20/20モル%の比のE八/M
MA/IA/SSA 結果を表1に示す。
ル%の比のEA/MMA/IA/SSAであることを除
き例1の方法を繰り返した。結果を表1に示す。
チレンナフタレートフィルムを用いることを除き例1の
方法を繰り返した。結果を表1に示す。
ンナフタレートフィルムヲ接着層でコートしないことを
除き例10の方法を繰り返した。結果を表1に示す。
む水性組成物でコートすることを除き例1の方法を繰り
返した。
v接着層をコートしたフィルムの表面抵抗率は8.85
1og ohm/平方であった。フィルム表面上にH〜
2Bの間の硬度の鉛筆で筆記し、未コートポリエチレン
テレフタレートフィルムと比較することによりコートフ
ィルムを調べた。コートフィルムの鉛筆取込み特性は良
好であり、一方未コートポリエチレンテレフタレートは
不十分であった。
ton W(平均粒度0.1254のシリカ、Mon5
anto製)を含むことを除き例12の方法を繰り返し
た。
特性を示す。
0 0EA/開^/^A/SSA 37.
5/37.5/10/+5 0 0EA/朋A/I
νSSA 37.5/37.5/10/+5 01
0” EA/開A/1415S4 35/35/+5
/+5 08 10.4 傘ポリエチレンナフタレートM材 ○:合格; ×・不合格 好1」」x良性 本発明に係る下塗したフィルムは好ましい特性を単独で
もしくは組み合せて示す。
リレート、(b)メチルメタクリレート、(c)イタコ
ン酸及び/又はアクリル酸、及び(d) P−スチレ
ンスルホン酸及び/又はその塩を含む。
200重量%以下の量存在する粒状充填剤を含む。
接もしくは間接的に塗布した磁気層、及び前記下塗した
フィルムの第2の接着層に直接もしくは間接的に塗布し
たグラフィック層を含む。
ム基材の離れた面に直接もしくは間接的に塗布した感光
性写真乳濁液を含む。
に直接もしくは間接的に塗布した金属層を含む。
もしくは間接的に水性及び/又は有機溶媒より塗布した
ラッカー層を含む。
あり、第2図は接着層に結合した追加塗布層を有する高
分子フィルムの略断面図である。 1・・・高分子基材層、 2・・・接着層、4・・・
追加層。 図面の浄書(内容に変更なし) Rg、7゜ Fl’g、2゜ 手 続 補 正 書(方式) 事件の表示 2゜ 平成2年特許願第299086号 発明の名称 高分子フィルム 3゜ 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、その少なくとも一面にコモノマー(a)35〜40
モル%アルキルアクリレート、(b)35〜40モル%
アルキルメタクリレート、(c)遊離カルボキシル基を
含む10〜15モル%のモノマー、及び(d)15〜2
0モル%の芳香族スルホン酸及び/又はその塩を含むコ
ポリマーを含む接着層を有する高分子フィルム基材層を
含む下塗したフィルム。 2、高分子物質の基材層を形成し、その少なくとも一面
にコモノマー(a)35〜40モル%アルキルアクリレ
ート、(b)35〜40モル%アルキルメタクリレート
、(c)遊離カルボキシル基を含む10〜15モル%の
モノマー、及び(d)15〜20モル%の芳香族スルホ
ン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層を
塗布することによる、下塗したフィルムの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8925095.5 | 1989-11-07 | ||
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