JPH03227626A - 高分子フィルム - Google Patents

高分子フィルム

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JPH03227626A
JPH03227626A JP2299086A JP29908690A JPH03227626A JP H03227626 A JPH03227626 A JP H03227626A JP 2299086 A JP2299086 A JP 2299086A JP 29908690 A JP29908690 A JP 29908690A JP H03227626 A JPH03227626 A JP H03227626A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下塗した高分子フィルム、及び特にそれより
製造される生成物に関する。
高分子フィルムは、例えば高分子フィルムをコートもし
くは積層することにより他の物質と共に用いられ、成分
材料に比較し改良された特性を示す積層体又は複合体を
形成する。多くのコーティング又は接着剤組成物が種々
の高分子フィルムによく接着しないことは当該分野にお
いてよく知られている。さらに、インク及びラッカーは
通常高分子フィルムによく接着しない。高分子ベースフ
ィルムの接着特性はその後塗布するコート層に受容され
るコーテイング物質の下塗層を塗布することにより改良
される。不幸にも、下塗層はその後塗布される水性もし
くは有機溶剤ベースコーティング媒体と相溶性である特
定のタイプのコーティング、インクもしくはラッカーの
接着性を改良するのみである。
表面に有害な静電荷を蓄積する高分子フィルムの傾向は
公知である。そのような電荷の存在は、フィルム表面へ
のほこり及び他の汚れの吸引、有機溶剤の存在下での爆
発の危険性の発生、フィルム取扱い及び処理装置へのフ
ィルム供給の困難さ、フ゛ロッキング、すなわちフィル
ムのそれ自身もしくは他のフィルムへの接着、及びその
後塗布した感光性コーティング層が曇る危険性を含む種
々の問題をおこす。好適なコーティングもしくは下塗組
成物より高分子フィルムに帯電防止剤を塗布してよいが
、有効な帯電防止挙動を与えるために存在しなければな
らないそのような帯電防止剤の比較的高い濃度は下塗層
の接着促進特性を妨害する。
我々は、下塗した高分子フィルムと広範囲のその後塗布
した追加層の間に改良された接着を示す接着層で下塗し
た帯電防止高分子フィルムを発明した。
従って、本発明は、その少なくとも一面上にコモノマー
(a) 35〜40モル%アルキルアクリレート、(b
) 35〜40モル%アルキルメタクリレート、(c)
 10〜15モル%の遊離カルボキシル基を含むモノマ
ー、及び(dH5〜20モル%の芳香族スルホン酸及び
/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層を有する高
分子フィルム基材層を含む下塗したフィルムを提供する
本発明は、高分子物質の基材層を形成し、その少なくと
も一面にコモノマー(a)35〜40モル%アルキルア
クリレート、(b)35〜40モル%アルキルメタクリ
レート、(c)遊離カルボキシル基を含む10〜15モ
ル%のモノマー、及び(d)15〜20モル%の芳香族
スルホン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接
着層を塗布することによる下塗したフィルムの製造方法
を提供する。
本発明に係る下塗した高分子フィルムに用いるための基
材は、あらゆる好適なフィルム形成高分子物質より形成
される。熱可塑性物質が好ましく、1−オレフィン、例
えばエチレン、プロピレン及び1−ブテンのホモポリマ
ーもしくはコポリマーポリアミド、ポリカーボネート、
及び特に1種以上のジカルボン酸及びその低級アルキル
(6個以下の炭素原子)ジエステル、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、2,5−22,6−もし
くは2.7−ナフタレンジカルボン酸、琥珀酸、セバシ
ン酸、アジピン酸、アゼライン酸、4.4′ジフエニル
ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸もしくは1.
2−ビス−p−カルボキシフェノキシエタン(所望によ
りモノカルボン酸、例えばピバリン酸を含む)と1種以
上のグリコール、特に脂肪族グリコール、例えばエチレ
ングリコール、1.3−プロパンジオール、1.4−ブ
タンジオール、ネオペンチルグリコール及び1.4−シ
クロヘキサンジメタツールとの縮合により得られる合成
線状ポリエステルを含む。ポリエチレンテレフタレート
及び/又はポリエチレンナフタレートフィルムが好まし
く、例えば英国特許GB−^−838708に記載され
ているようなポリエチレンテレフタレートフィルム、特
に典型的には70〜125°Cの温度で2つの互いに垂
直方向に連続延伸することにより配向され、好ましくは
典型的には150〜250°Cの温度で熱硬化するフィ
ルムが特に好ましい。
また基材は、ボリアリールエーテル又はそのチオ同族体
、特にポリアリールエーテルケトン、ポIJ 71J−
ルエーテルスルホン、ポリアリールエーテルエーテルケ
トン、ボリアリールエーテルエーテルスルホン、又はそ
のコポリマーもしくはチオ同族体を含む。これらのポリ
マーの例は、EP−A−1879、EP−A−1844
58及びUS−^−4008203に開示されており、
特に好適な物質は商標5TABARとしてICIPLC
より販売されているものである。これらのポリマーのブ
レンドを用いてもよい。
好適な熱硬化性樹脂基材物質はさらに重合樹脂、例えば
アクリル、ビニル、ビスマレイミド及び不飽和ポリエス
テル、ホルムアルデヒド縮合樹脂、例えばウレア、マレ
イミドもしくはフェノールとの縮合体、シアネート樹脂
、官能化ポリエステル、ポリアミド又はポリイミドを含
む。
本発明に係る下塗したフィルムの製造用の高分子フィル
ム基材は未配向もしくは一軸配向であってよいが、好ま
しくは機械及び物理特性の十分な組み合せを達成するた
めフィルムの平面において2つの互いに垂直方向に延伸
することにより二輪配向されている。熱可望性高分子チ
ューブを延伸し7、その後急冷し、再加熱し、次いで内
部ガス圧により膨張させ横方向に配向させ、縦方向の配
向をおこす速度で引くことにより同時二軸配向が行なわ
れる。その後の延伸は平坦な押出物として熱可塑性基材
を押出し、まず一方向に延伸し、次いで他の互いに垂直
方向に延伸することによりテンター法において行なわれ
る。通常、まず縦方向、すなわちフィルム延伸機を通す
方向に、次いで横方向に延伸することが好ましい。延伸
した基材フィルムは、そのガラス転移温度以上の温度に
おいて寸法拘束下熱硬化により寸法安定化される。
基材は好適には12〜300、好ましくは50〜175
、特に50〜125mの厚さを有する。
モノマー(a)のアルキル基は好ましくは低級アルキル
基、例えば6個以下の炭素原子を含むアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、ターブチル、及びヘキシルである
。エチルアクリレートが特に好ましいモノマーである。
モノマー(b)のアルキル基は好ましくは低級アルキル
基、例えば6個以下の炭素原子を含むアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、ターブチル、及びヘキシルである
。メチルメタクリレートが特に好ましいモノマーである
遊離カルボキシル基、すなわちコポリマーが形成される
重合反応において含まれる以外のカルボキシル基を含む
モノマー(c)は、好適には共重合性不飽和カルボン酸
を含み、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、及び/又はイタコン酸を含み、アクリル酸及びイ
タコン酸が特に好ましい。
芳香族スルホン酸モノマー(d)は、遊離酸及び/又は
その塩、例えばアンモニウム、置換アンモニウム、又は
アルカリ金属、例えばリチウム、ナトリウムもしくはカ
リウム塩として本発明のコポリマー中に存在してよい。
スルホネート基は接着コポリマーが形成される重合反応
において沈殿しない。非芳香族スルホネート含有モノマ
ーの使用は得られる接着層塗布フィルムに不適当な帯電
防止特性を与え、重合の間のコポリマー乳濁液を不安定
にし、コポリマーの感水性を許容できないものにする。
芳香族スルホン酸ポリマーは好ましくはp−スチレンス
ルホン酸及び/又はその塩である。
接着層は好ましくはコモノマー(a) 35〜37.5
モル%アルキルアクリレート、(b)35〜37.5モ
ル%アルキルメタクリレート、 (C)遊離カルボキシ
ル基を含む10〜15モル%のモノマー、及び(d) 
15〜20モル%の芳香族スルホン酸及び/又はその塩
を含むコポリマーを含む。特に好ましいコポリマーは3
5/35/15/15モル%、特に37.5/37.5
/10/15モル%の比のエチルアクリレート/メチル
メタクリレート/イタコン酸/p−スチレンスルホン酸
及び/又はその塩を含む。
コポリマーの重量平均分子量は広範囲に及ぶが、好まし
くは10,000〜10.000.000、より好まし
くは1.000,000のオーダーである。
所望により、コーティング組成物は高分子コーティング
層を架橋し高分子基材への接着を改良する架橋剤を含む
。さらに、架橋剤は好ましくは溶剤浸透に対する保護を
与えるため内部架橋できるべきである。好適な架橋剤は
エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミン誘導体、例えばヘ
キサメトキシメチルメラミン、及び/又はアミン、例え
ばメラミン、ジアジン、ウレア、環式プロピレンウレア
、チオウレア、環式エチレンチオウレア、アルキルメラ
ミン、例えばブチルメラミン、アリールメラミン、グア
ナミン、アルキルグアナミン、及びアリールグアナミン
の縮合生成物を含み、グリコルウリルをアルデヒド、例
えばホルムアルデヒドと縮合させてよい。有効な縮合生
成物はメラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物である
。縮合生成物は好ましくはアルキル化、例えばエトキシ
ル化されている。架橋剤はコーティング組成物中のポリ
マーの重量を基準として好ましくは10〜25重量%の
量で用いられる。所望により、接着ポリエステル樹脂に
好適な触媒を加えることにより架橋の促進を行ってよい
。メラミンホルムアルデヒドを架橋するための好ましい
触媒は塩化アンモニウム、硝酸アンモニウム、チオシア
ン酸アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、硫酸アン
モニウム、燐酸水素二アンモニウム、パラトルエンスル
ホン酸、塩基との反応により安定化されたマレイン酸、
及びパラトルエンスルホン酸モルホリニウムを含む。
コーティング組成物のコポリマーは通常水不溶性である
。それにもかかわらず水不溶性コポリマーを含むコーテ
ィング組成物を有機溶媒中の溶液として又は水性分散体
として高分子フィルム基材に塗布してよい。水性媒体か
らの塗布が経済的に有利であり、揮発性有機溶剤の使用
に伴なう毒性の危険性及び爆発の可能性を避け、有機溶
剤を用いる場合にしばしば遭遇する残留臭気の問題を排
除する。
高分子フィルム基材上の水性接着媒体の良好な湿潤及び
均展特性を達成するため、接着媒体の表面エネルギーが
フィルム基材の表面エネルギーより低いことが望ましい
表面張力の好適な低下は接着媒体、例えばアルコールエ
トキシレート、及びエトキシル化アルキル、例えばノニ
ル、フェノールへの1種以上の界面活性剤の添加により
達成される。
接着コーティング媒体はすでに配向されたフィルム基材
、例えばポリイミドフィルムに塗布される。しかし、コ
ーティング媒体の塗布は、好ましくは延伸操作の前又は
間に行なわれる。
特に、接着コーティング媒体を熱可塑性フィルム二軸延
伸操作の2つの段階(縦及び横)の間にフィルム基材に
塗布することが好ましい。そのような延伸及び塗布の順
序は塗布した線状ポリエステルフィルム基材、例えば塗
布したポリエチレンテレフタレートフィルムの製造に特
に好ましく、このフィルムはまず回転ローラー上で縦方
向に延伸され、接着層が塗布され、次いでテンターオー
ブン内で横方向に延伸され、好ましくはその後熱硬化さ
れる。
高分子基材への接着コーティング媒体の付着の前に、所
望によりその暴露面は化学もしくは物理表面改良処理が
行なわれ、表面とその後塗布される接着層の間の結合が
改良される。その簡単さ及び有効性のためポリオレフィ
ン基材の処理に特に好適な好ましい処理は基材の暴露面
をコロナ放電に伴なう高電圧電気応力にさらすことであ
る。この他に、基材ポリマーに溶剤もしくは膨潤作用を
有することが公知の試剤により基材を予備処理してよい
。ポリエステル基材の処理に特に好適であるそのような
試剤の例は、通常の有機溶剤に溶解したハロゲン化フェ
ノール、例えばアセトンもしくはメタノール中のP−ク
ロロ−m−クレゾール、2.4−ジクロロフェノール、
2,4.5−もしくは2,4.6−ドリクロロフエノー
ル又は4クロロレソルシノールのNWt ヲ含t;。
接着コーティングは高分子基材の一面又は各面に塗布し
てよい。この他に、基材の一面を塗布せず、本明細書に
示した接着媒体以外の物質の層を塗布してもよい。
接着コポリマーは、あらゆる好適な従来のコーティング
法、例えばグラビアロールコーティング、リバースロー
ルコーティング、浸漬コーティング、ビードコーティン
グ、スロットコーティング又は静電吹付コーティングに
より水性分散体として又は有機溶剤中の溶液として高分
子フィルム基材に塗布してよい。溶液又は分散体は、好
適には接着層の厚さが、例えば塗布した基材を加熱する
ことにより乾燥した場合その後塗布する層に有効な結合
を与える量で塗布される。
例えば火炎処理、イオン衝撃、電子ビーム処理、紫外線
処理又は好ましくはコロナ放電による接着層の表面の改
良は、その後塗布されるコーティング、インク及びラッ
カーの接着を改良するが、十分な接着の提供には必須で
はない。
コロナ放電による好ましい処理は、好ましくは1〜10
0にνの電位において1〜20kwの出力を有する高周
波数、高電圧発生器を用いる従来の装置により大気中大
気圧において行なわれる。放電は好ましくは1.0〜5
00m/分のライナー速度で放電部位において誘電支持
ローラー上をフィルムを通すことにより行なわれる。放
電電極は移動するフィルム表面から0.1〜10.0n
nmに置かれている。
しかし、接着層の表面へ直接塗布されたコーテイング物
質の十分な接着は、例えばコロナ放電処理による従来の
表面改良を行なわず達成できる。
コロナ放電処理を行なわず適切な接着を与える接着層の
例は、35/35/15/15モル%の比のエチルアク
リレート/メチルメタクリレート/イタコン酸/p−ス
チレンスルホン酸のコポリマー及び/又はその塩である
接着層の厚さに対する基材の比は広範囲に及ぶが、接着
層の厚さは好ましくは基材の厚さの0.004%未満で
あってはならず10%より大きくてもいけない。実際、
接着層の厚さは望ましくは少なくとも0.01−であり
、好ましくは約1.0−を越えてはならず、より好まし
くは約0.2 trw+を越えてはならない。
本発明に係る高分子フィルムの層は、従来高分子フィル
ムの製造に用いられたあらゆる添加剤を含んでよい。従
って、染料、顔料、滑剤、抗酸化剤、粘着防止剤、界面
活性剤、スリップ助剤、光沢改良剤、紫外線安定剤、粘
度改良剤及び分散安定剤のような添加剤を基材、及び/
又は接着層、及び/又は追加塗布層に混入してよい。特
に、追加塗布層、及び/又は接着層、及び/又は基材は
小さな粒度の粒状充填側、例えばシリカを含んでよい。
望ましくは、基材層に用いる場合、充填剤は少量、すな
わち基材の重量の0.5%を越えず、好ましくは0.2
%未満存在すべきである。製図材料としての使用に好適
なフィルムは、接着層に充填剤粒子を加えることにより
製造される。充填剤粒子はフィルム表面を粗くし、製図
器具、例えば鉛筆によるマーキングを容易にする。充填
剤は、例えば無機又は熱可塑性粒状充填剤であってよい
好適な無機充填剤は、シリカ、特に沈殿もしくは珪藻シ
リカ及びシリカゲル、焼成チャイナクレー硫酸バリウム
、炭酸カルシウム、及び三水和アルミニウムより選ばれ
る。シリカ−子が特に好ましい。好ましくは、充填剤粒
子は001〜54、より好ましくは0.02〜0.5 
trm、特に0.13〜0.15−の平均粒度を有する
。本発明の好ましい実施態様において、異なる粒度の充
填剤粒子の混合物が用いられ、特に、0.03〜0.0
5趨及び0.1〜0.15−の平均粒度を有し、小さな
粒子の濃度が大きな粒子の濃度より大きい混合物が用い
られる。充填剤粒子は好ましくは、コポリマーの重量に
対し20〜200%、より好ましくは50〜150%、
特に約100%の接着層を含む。前記充填剤粒子を含む
接着層は不透明なボイドを含む基材、特にGB−A−1
563591に開示されているように写真プリント材料
として用いられル硫酸バリウム充填剤を含むポリエステ
ルフィルムへのコーティング用に好適である。従って本
発明の好ましい実施態様は写真フィルムとしての使用に
好適であり、その第1の表面上に写真乳濁液層を有する
不透明なボイドを含む基材、及び基材の第2の表面に前
記充填剤粒子を含む接着層を含む。接着層はフィルム上
の筆記用材料に帯電防止性及び受理性を与える。
本発明の下塗した高分子フィルムは、下塗した基材フィ
ルムに他の物質を塗布もしくは貼ることにより種々の複
合体構造を形成するた必用いてよい。例えば、接着層を
塗布した高分子フ、・ルムは、金属ホイル、例えば銅、
アルミニウム及びニッケルを貼った場合良好な接着を示
し、これは回路板の形成に用いてよい。真空バッグ積層
、プレス積層、ロール積層又は他の標準積層法を用い前
記ラミネートを形成してよい。
接着層への金属層の付着は、従来のめっき法により、例
えば好適な液体ビヒクル中の微粉砕金属粒子の懸濁液か
らのめっきにより、又は好ましくは高真空の条件に保っ
たチャンバー内で金属を接着樹脂表面に蒸発させる真空
めっき法により行なわれる。好適な金属はパラジウム、
ニッケル、銅(及びその合金、例えばブロンズ)、銀、
金、コバルト及び亜鉛を含むが、経済性及び樹脂層への
結合の容易さのためアルミニウムが好ましい。
めっきは接着層の暴露面全体に又はその選んだ一部のみ
に行なわれる。
めっきしたフィルムは、用いる特定のフィルムの用途に
より主に決められる厚さで製造される。
製図フィルムとしての使用に好適なフィルムを製造する
ため接着層にラッカー層が塗布される。
ラッカー層は好ましくは1種以上のポリビニルアルコー
ル及び/又はポリビニルアセクール樹脂を含む。ポリビ
ニルアセクール樹脂は好適にはポリビニルアルコールを
アルデヒドと反応させることにより製造される。市販入
手可能なポリビニルアルコールは通常ポリビニルアセテ
ートを加水分解することにより製造される。ポリビニル
アルコールは通常一部加水分解(15〜30%ポリビニ
ルアセテート基を含む)及び完全に加水分解(0〜5%
ポリビニルアセテート基を含む)と分類される。
両方のタイプのポリビニルアルコールは市販入手可能な
ポリビニルアセタール樹脂の製造に用いられる。アセタ
ール反応の条件及び用いられる特定のアルデヒド及びポ
リビニルアルコールの濃度はポリビニルアセクール樹脂
に存在するヒドロキシル基、アセテート基及びアセター
ル基の特性を決定する。ヒドロキシル、アセテート及び
アセタール基は通常分子内に不規則に分布している。好
適なポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラー
ル、好ましくはポリビニルホルマールを含む。
ラッカー層は好ましくはさらに微粉砕粒状物質を含む。
高分子フィルムを製図材料とし用いる場合、用いられる
粒状物質はフィルム表面に、鉛筆、クレヨン及びインク
のような筆記用具の圧痕を保ち及びマークできる表面の
荒さを与える。
微粉砕粒子物質はシリカ、シリケート、粉砕ガラス、チ
ョーク、タルク、珪藻土、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛
、ジルコニア、炭酸カルシウム、及び二酸化チタンより
選ばれる。微粉砕シリカが製図材料の製造に好ましい物
質であり、必要な半透明度を得るため並びにコーティン
グの粗さ及び耐性を増すため他の物質を少量混入してよ
い。望ましくは、充填剤は、ラッカー層に用いる場合、
高分子物質の50重量%以下の量存在し、その平均粒度
は15Jna以下、好ましくは10−未満、特に0.1
〜5pであるべきである。
下塗した高分子フィルムを他の有機及び/又は水性溶剤
ベースインク及びラッカー、例えばアクリルコーティン
グ、セルロースアセテートブチレートラッカー、及びジ
アゾニウムコーティングで塗布してよい。
また、下塗したフィルムを写真乳濁液、例えば感光性ゼ
ラチン状ハロゲン化銀乳濁液、特に従来のX線乳濁液で
コートしてよい。感光性乳濁液は所望により通常用いら
れるあらゆる従来の添加剤を含んでよい。
また、磁気カード、例えばクレジットカード、及び特に
「プリペイドカード」、例えばテレフォンカード、及び
多くの金融取引に関する情報を保存できる「インテリジ
ェントカード」を形成するため下塗したフィルムを用い
てよい。磁気カードは好ましくは順に(i)磁気層、(
11)コモノマ(a)35〜40モル%アルキルアクリ
レート、(b) 35〜40モル%アルキルメタクリレ
ート、(C)遊離カルボキシル基を含む10〜15モル
%のモノマー、及び(dH5〜20モル%の芳香族スル
ホン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層
、(ij)高分子基材層、(iv)上記(ii)規定の
接着層、及び(v)グラフィック層を含む。
従来の結合剤を磁気コーティング材料用に用いてよい。
広範囲のインク及びラッカーをグラフィック層に用いて
よく、例えば水性及び有機溶剤ベース材料、特に電子ビ
ーム及び他のUV硬化性インクである。
本発明を添付した図面を参考にし説明する。
第1図を参照し、フィルムは一面(3)に結合した接着
層(2)を有する高分子基材層(1)を含む。
第2図のフィルムはさらに接着層の離れた表面(5)に
結合した追加層(4)を含む。
以下の例を参考にし本発明をさらに説明する。
この例で用いるテストは以下のとおりである。
CAB−・・カー  :高分子フィルムへの有機溶剤ベ
ースラッカーの接着は標準クロスハツチ接着テストを用
いて測定した。ラッカーをMeyer棒を用いて塗布し
、テストする前に120℃において1分間オーブン内で
硬化させた。以下の成分を含むセルロースアセテートブ
チレート(CAB)ラッカーを用いた。
Eastman Kodak 35econds 27
2/3樹脂(CAB)               
15.0部メチルイソブチルケトン(MIBK)   
  42.5部メチルエチルケトン(MEK)    
    42.5部ローダミン染料         
  0.06部結果は接着テープを1回はがした後残っ
ている正方形の数(最大100)として決定した。高分
子フィルムより接着テープをはがした後、100個のう
ち98個以上が残っている場合、接着は許容され、この
フィルムを合格とする。残っているものが98個未満の
場合、接着は許容されず「不合格」とする。
(’t f 7   :高分子フィルムに従来の感光性
水性乳濁液を塗布し、冷却しコーティングをゲル化し、
33°Cで20分間乾燥した。最終写真フィルムでの高
分子フィルムへの乳濁液の接着は、標準クロスハツチ接
着テストを行なうことにより標準写真化学において加工
する前に調べられた。結果は接着テープを4回はがした
後残っている正方形の数(最大100)で決定した。高
分子フィルムより接着テープをはがした後95個以上の
正方形が残っている場合、接着は許容され「合格」とさ
れた。残っているものが95個未満である場合、接着は
許容されず「不合格」とされた。
表皿猛抗率ニア0%相対湿度において表面抵抗率(SR
)を測定することにより高分子フィルムの帯電防止特性
を決定した。10.5未満、好ましくは10、Olog
 ob+w/平方未満のSRが許容される帯電防止特性
を与える。
35/35/15/15モル%の比のエチルアクリレー
ト/メチルメタクリレート/イタコン酸/ナトリウムP
−スチレンスルホネートコポリマーの水性分散体を以下
の成分の従来の乳濁重合により製造した。
エチルアクリレート    63m メチルメタクリレート   621d イタコン酸        32g 過硫酸アンモニウム    20d蒸留水中2g蒸留水
          50511!l!ポリエチレンテ
レフタレートフイルムを溶融押出しを行ない、冷却回転
ドラム上に流延し、押出し方向にその最初の長さの3倍
に延伸した。次いで冷却した延伸フィルムの両面に以下
の成分を含む水性組成物を塗布した。
アンモニウムP−トルエンスル ホン酸(10重量%水溶液) 0.03% w / v ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に塗布し、
約7,1111の厚さの湿ったコーティングを与えた。
接着層塗布フィルムをテンターオーブンに通し、ここで
フィルムを乾燥し、横方向に最初の寸法の約3倍まで延
伸した。二輪延伸コートフィルムは従来の方法により約
220°Cの温度で熱硬化した。
最終フィルム厚は100nであり、各接着層の乾燥コー
ト重量は約0.7■/dm”であった。
接着層コートフィルムのCABラッカー接着、ゼラチン
接着及び表面抵抗率を測定した。結果を表1に示す。
炎叉 コポリマーがイタコン酸のかわりにアクリル酸(AA)
を含み、及びコポリマーの組成が37.5/37.5/
10/15モル%の比のEA/MMA/AA/SSAで
あることを除き例1の方法を繰り返した。結果を表1に
示す。
■1 これは比較例であり、本発明の例ではない。ボリエチレ
ンテレフタレートフィルムを接MNでコートしないこと
を除き例1の方法を繰り返した。
結果を表1に示す。
±↓二主 これは比較例であり、本発明の例ではない。コポリマー
の組成が以下のとおりであることを除き例1の方法を繰
り返した。
例4−47.5/47.5/ 5モル%の比のEA/M
M八/I八 へ5iへ/451515モル%の比のE八/MMA/I
A/SSA 例6−37.5/37.5/ 5 /20モル%の比の
EA/MMA/IA/SSA 例7−37.5/37.5/20/ 5モル%の比のH
A/聞A/IA/SS八 例へ −30/30/20/20モル%の比のE八/M
MA/IA/SSA 結果を表1に示す。
炎l コポリマーの組成が37.5/37.5/10/15モ
ル%の比のEA/MMA/IA/SSAであることを除
き例1の方法を繰り返した。結果を表1に示す。
貫刊 ポリエチレンテレフタレートフィルムのかわりにポリエ
チレンナフタレートフィルムを用いることを除き例1の
方法を繰り返した。結果を表1に示す。
罰 これは比較例であり、本発明の例ではない。ポリエチレ
ンナフタレートフィルムヲ接着層でコートしないことを
除き例10の方法を繰り返した。結果を表1に示す。
貫■ ポリエチレンテレフタレートフィルムを以下の成分を含
む水性組成物でコートすることを除き例1の方法を繰り
返した。
ポリマー 9% W/ジ アンモニウムP−トルエンスルホ ン酸(10重量%水溶液)      I%ts / 
v接着層をコートしたフィルムの表面抵抗率は8.85
1og ohm/平方であった。フィルム表面上にH〜
2Bの間の硬度の鉛筆で筆記し、未コートポリエチレン
テレフタレートフィルムと比較することによりコートフ
ィルムを調べた。コートフィルムの鉛筆取込み特性は良
好であり、一方未コートポリエチレンテレフタレートは
不十分であった。
勲 コーティング組成物がさらに0.12511/νの5y
ton W(平均粒度0.1254のシリカ、Mon5
anto製)を含むことを除き例12の方法を繰り返し
た。
上記例は、本発明の接着層コートフィルムの改良された
特性を示す。
衣−土 EA/開A/IA/SSA  35/35/+5/+5
    0  0EA/開^/^A/SSA  37.
5/37.5/10/+5  0  0EA/朋A/I
νSSA  37.5/37.5/10/+5  01
0”  EA/開A/1415S4 35/35/+5
/+5    08 10.4 傘ポリエチレンナフタレートM材 ○:合格; ×・不合格 好1」」x良性 本発明に係る下塗したフィルムは好ましい特性を単独で
もしくは組み合せて示す。
1、接着層のコポリマーはコモノマー(a)エチルアク
リレート、(b)メチルメタクリレート、(c)イタコ
ン酸及び/又はアクリル酸、及び(d)  P−スチレ
ンスルホン酸及び/又はその塩を含む。
2 接着層は少なくとも一部架橋している。
3、 接着層は少なくとも10重量%の架橋剤を含む。
4、接着層は5IM未満の粒度を有し及びコポリマーの
200重量%以下の量存在する粒状充填剤を含む。
5、磁気カードは下塗したフィルムの第1の接着層に直
接もしくは間接的に塗布した磁気層、及び前記下塗した
フィルムの第2の接着層に直接もしくは間接的に塗布し
たグラフィック層を含む。
6、 写真フィルムは下塗したフィルムの高分子フィル
ム基材の離れた面に直接もしくは間接的に塗布した感光
性写真乳濁液を含む。
7、 めっきしたフィルムは下塗したフィルムの接着層
に直接もしくは間接的に塗布した金属層を含む。
8、 製図フィルムは下塗したフィルムの接着層に直接
もしくは間接的に水性及び/又は有機溶媒より塗布した
ラッカー層を含む。
【図面の簡単な説明】
第1図は、接着層を有する高分子フィルムの略断面図で
あり、第2図は接着層に結合した追加塗布層を有する高
分子フィルムの略断面図である。 1・・・高分子基材層、  2・・・接着層、4・・・
追加層。 図面の浄書(内容に変更なし) Rg、7゜ Fl’g、2゜ 手 続 補 正 書(方式) 事件の表示 2゜ 平成2年特許願第299086号 発明の名称 高分子フィルム 3゜ 補正をする者 事件との関係

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、その少なくとも一面にコモノマー(a)35〜40
    モル%アルキルアクリレート、(b)35〜40モル%
    アルキルメタクリレート、(c)遊離カルボキシル基を
    含む10〜15モル%のモノマー、及び(d)15〜2
    0モル%の芳香族スルホン酸及び/又はその塩を含むコ
    ポリマーを含む接着層を有する高分子フィルム基材層を
    含む下塗したフィルム。 2、高分子物質の基材層を形成し、その少なくとも一面
    にコモノマー(a)35〜40モル%アルキルアクリレ
    ート、(b)35〜40モル%アルキルメタクリレート
    、(c)遊離カルボキシル基を含む10〜15モル%の
    モノマー、及び(d)15〜20モル%の芳香族スルホ
    ン酸及び/又はその塩を含むコポリマーを含む接着層を
    塗布することによる、下塗したフィルムの製造方法。
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