JPH0322487A - トランスファー型ソリッドステートリレー - Google Patents
トランスファー型ソリッドステートリレーInfo
- Publication number
- JPH0322487A JPH0322487A JP1157609A JP15760989A JPH0322487A JP H0322487 A JPH0322487 A JP H0322487A JP 1157609 A JP1157609 A JP 1157609A JP 15760989 A JP15760989 A JP 15760989A JP H0322487 A JPH0322487 A JP H0322487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- photovoltage
- photovoltaic element
- depletion
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000003001 depressive effect Effects 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/80—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water
- H04B10/801—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water using optical interconnects, e.g. light coupled isolators, circuit board interconnections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/1446—Devices controlled by radiation in a repetitive configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/78—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled
- H03K17/785—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled controlling field-effect transistor switches
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ソリッドステ〜トリレーに関し、峙にMOS
FETを用いたソリッドステートリレーに関する。
FETを用いたソリッドステートリレーに関する。
従来、この種のソリッドステートリレー(以下SSRと
記す)は、第7図に示すように、制御入力端子1に電圧
を印加して、LED2を発光させ、光起電力素子3から
なる光電圧発光回路に光電圧を発生させ、これをエンハ
ンスメント型MOS FET8のゲート7に印加してO
Nさせる。またOFFさせるために、ディプレッシ璽冫
型MOS FET31、光起電力素子32、抵抗33で
構成した放電回路を有している。
記す)は、第7図に示すように、制御入力端子1に電圧
を印加して、LED2を発光させ、光起電力素子3から
なる光電圧発光回路に光電圧を発生させ、これをエンハ
ンスメント型MOS FET8のゲート7に印加してO
Nさせる。またOFFさせるために、ディプレッシ璽冫
型MOS FET31、光起電力素子32、抵抗33で
構成した放電回路を有している。
また、この回路を改良したものとして、第8図に示すよ
うに、放電回路を、サイリスタ6及びダイオード4.5
で構成したものがある。高速なOFF動作ができること
が特徴である。
うに、放電回路を、サイリスタ6及びダイオード4.5
で構成したものがある。高速なOFF動作ができること
が特徴である。
さらに第9図に示すように第7図のSSHに、ディプレ
ッシ嘗ン型MOS FET14を付け加えてエンハンス
メントIIMOS FET8t−ノーマルオープン接点
、ディプレッシ嘗ン型MOS FET14を、ノーマル
クローズ接点とした、トランスファー型SSRも作られ
ている。
ッシ嘗ン型MOS FET14を付け加えてエンハンス
メントIIMOS FET8t−ノーマルオープン接点
、ディプレッシ嘗ン型MOS FET14を、ノーマル
クローズ接点とした、トランスファー型SSRも作られ
ている。
上述した従来までのトランスファー型SSRは、単純に
、エンハンスメント型MOS FET8と、ディプレク
シ曹ン型MOS FET14を組合せて、SSRを構成
しているため、エンハンスメント型MOS FETとデ
ィプレッション型MOS FETの両方が同時にON状
態になることがあb1 トランスファ動作、つまシかな
らずすくなくとも、どちらか一方がOFFになっている
動作が実現できず、実用上は、回路の短絡が起きるなど
、安全性に問題があり、使いづらいとの欠点があった。
、エンハンスメント型MOS FET8と、ディプレク
シ曹ン型MOS FET14を組合せて、SSRを構成
しているため、エンハンスメント型MOS FETとデ
ィプレッション型MOS FETの両方が同時にON状
態になることがあb1 トランスファ動作、つまシかな
らずすくなくとも、どちらか一方がOFFになっている
動作が実現できず、実用上は、回路の短絡が起きるなど
、安全性に問題があり、使いづらいとの欠点があった。
本発明のトランスファー型ソリッドステートリレーは、
制御入力端子に接続された発光ダイオードと、前記発光
ダイオードからの光を受ける光起電力素子を含む第1の
光電圧発生回路、前記発光ダイオードの消灯を検出して
前記第1の光電圧発生回路の出力電圧を放電する第1の
放電回路及び前記第1の放電回路の出力電圧で制御され
るエンハンスメント型MOS FETからなる第1の出
力回路と、前記発光ダイオードからの光を受ける光起電
力素子を含む第2の光電圧発生回路、前記発光ダイオー
ドの消灯を検出して前記第2の光電圧発生回路の出力電
圧を放電する第2の放電回路であクて前記第1の放電回
路に比較して消灯後放電開始迄の時間遅れの大きいもの
及び前記第2の放電回路の出力電圧で制御されるディプ
レッシ.冫型MOS FETからなる第2の出力回路と
からな)、前記第2の光電圧発生回路の光起電力素子は
、前記第1の光電圧発生回路の光起電力素子に比べて光
電流が大きくとれる構造を有しているというものである
。
制御入力端子に接続された発光ダイオードと、前記発光
ダイオードからの光を受ける光起電力素子を含む第1の
光電圧発生回路、前記発光ダイオードの消灯を検出して
前記第1の光電圧発生回路の出力電圧を放電する第1の
放電回路及び前記第1の放電回路の出力電圧で制御され
るエンハンスメント型MOS FETからなる第1の出
力回路と、前記発光ダイオードからの光を受ける光起電
力素子を含む第2の光電圧発生回路、前記発光ダイオー
ドの消灯を検出して前記第2の光電圧発生回路の出力電
圧を放電する第2の放電回路であクて前記第1の放電回
路に比較して消灯後放電開始迄の時間遅れの大きいもの
及び前記第2の放電回路の出力電圧で制御されるディプ
レッシ.冫型MOS FETからなる第2の出力回路と
からな)、前記第2の光電圧発生回路の光起電力素子は
、前記第1の光電圧発生回路の光起電力素子に比べて光
電流が大きくとれる構造を有しているというものである
。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の第1の実施例を示す回路図である。
エンハンスメント側の回路は、制御入力端子1に印加さ
れた電圧によb1発光する発光ダイオード(以下LED
)2及びこのLED2からの光を受けて、光電圧、光電
流を生ずるフォトダイオードを直列に接続してフォトダ
イオードアレーで形或した光電圧の高い、光起電力素子
3かななる第1の光電圧回路及び第1の放電回路を形成
するダイオード4,5及びサイリスタ6、さらに、ダイ
ー5一 オード4を通して、光起電力素子3から発生した光電圧
がゲート7に印加されるエンハンスメント型MOS F
ET8 (第1の出力回路)から構威されている。
れた電圧によb1発光する発光ダイオード(以下LED
)2及びこのLED2からの光を受けて、光電圧、光電
流を生ずるフォトダイオードを直列に接続してフォトダ
イオードアレーで形或した光電圧の高い、光起電力素子
3かななる第1の光電圧回路及び第1の放電回路を形成
するダイオード4,5及びサイリスタ6、さらに、ダイ
ー5一 オード4を通して、光起電力素子3から発生した光電圧
がゲート7に印加されるエンハンスメント型MOS F
ET8 (第1の出力回路)から構威されている。
また、ディプレッシ1ン側の回路は、同様に、制御入力
端子1に印加された電圧によb発光するLED2からの
光を受けて光電圧、光電流を生ずる、エンハンスメント
側のものよう1光電圧が低く、光電流の大きい光起電力
素子9(第2の光電圧発生回路)及び同様に、第2の放
電回路を形或するダイオード10.11及びサイリスタ
12及び光起電力素子9からの光電圧をダイオード10
を通して、ゲート13に受けるエンハンスメント型MO
S FET8に比べ、しきい電圧の低いディプレッシ璽
ン型MOS FET14 (第2の出力回路)を有し、
さらにサイリスタ12のカソード端子l5にアノード端
子16、またサイリスタ12の7ノード端子17に、カ
ソード端子18を接続したダイオード19及びダイオー
ド10のカソード20、ダイオード11のアノード21
に接続されたコン6一 デンサー22から構威されている。
端子1に印加された電圧によb発光するLED2からの
光を受けて光電圧、光電流を生ずる、エンハンスメント
側のものよう1光電圧が低く、光電流の大きい光起電力
素子9(第2の光電圧発生回路)及び同様に、第2の放
電回路を形或するダイオード10.11及びサイリスタ
12及び光起電力素子9からの光電圧をダイオード10
を通して、ゲート13に受けるエンハンスメント型MO
S FET8に比べ、しきい電圧の低いディプレッシ璽
ン型MOS FET14 (第2の出力回路)を有し、
さらにサイリスタ12のカソード端子l5にアノード端
子16、またサイリスタ12の7ノード端子17に、カ
ソード端子18を接続したダイオード19及びダイオー
ド10のカソード20、ダイオード11のアノード21
に接続されたコン6一 デンサー22から構威されている。
このように構成されたトランスファー型8SRは、まず
、制御入力端子1に電圧が印加されるとLED2が発光
し、光起電力素子3,9に光電圧が発生し、それぞれエ
ンハンスメント型MOS FET8 のゲート7及び
ディプレッション型MOSFET14のゲート13を充
電するために光電流が流れる。この場合ゲー}7.13
は見かけ上、コンデンサと見なすことができるため、光
電流が流れることによって、電荷が蓄積され、ゲート電
圧が発生し、しきい電圧と一致した所で、エンノ・ンス
メント型MOS FETはONし、ディプレッション
型MOS FETはOFFする。(ディブレッション
型MOS FETは、しきい電圧が負であるため、回
路上、負の光電圧が印加される様に構威されている。)
この時、トランスファー動作であるためには、ディプレ
ッション型MOS FET14が先にOFFすれば良い
。このため、ディプレッション側の光起電力素子の光電
流が大きく、壕た、ディプレッション型MOS FE
Tのしきい電圧が低ければ、ディプレッション側が先に
OFFすることになる。厳密には、エンハンスメント型
MOSFET8のしきい電圧をVTI,光電流をII
mゲート容量CI+ ディプレクション型MOS
FET14のしきい電圧の絶対値を■TD光電流をID
%ゲート容量CDとすれば であれば、トランスファー動作が実現することになる。
、制御入力端子1に電圧が印加されるとLED2が発光
し、光起電力素子3,9に光電圧が発生し、それぞれエ
ンハンスメント型MOS FET8 のゲート7及び
ディプレッション型MOSFET14のゲート13を充
電するために光電流が流れる。この場合ゲー}7.13
は見かけ上、コンデンサと見なすことができるため、光
電流が流れることによって、電荷が蓄積され、ゲート電
圧が発生し、しきい電圧と一致した所で、エンノ・ンス
メント型MOS FETはONし、ディプレッション
型MOS FETはOFFする。(ディブレッション
型MOS FETは、しきい電圧が負であるため、回
路上、負の光電圧が印加される様に構威されている。)
この時、トランスファー動作であるためには、ディプレ
ッション型MOS FET14が先にOFFすれば良い
。このため、ディプレッション側の光起電力素子の光電
流が大きく、壕た、ディプレッション型MOS FE
Tのしきい電圧が低ければ、ディプレッション側が先に
OFFすることになる。厳密には、エンハンスメント型
MOSFET8のしきい電圧をVTI,光電流をII
mゲート容量CI+ ディプレクション型MOS
FET14のしきい電圧の絶対値を■TD光電流をID
%ゲート容量CDとすれば であれば、トランスファー動作が実現することになる。
通常、同じ耐圧,ON抵抗のエンハンスメント型MOS
FETとディプレッショy型MOSFETを比較し
た場合、ディプレッション型MOSFETのゲート容量
が大きくなる傾向があるため、光電流を大きくして、し
きい電圧を低くすることが重要になる。
FETとディプレッショy型MOSFETを比較し
た場合、ディプレッション型MOSFETのゲート容量
が大きくなる傾向があるため、光電流を大きくして、し
きい電圧を低くすることが重要になる。
第2図,第3図はそれぞれ、エンハンスメント側の光起
電力素子と、ディプレッション側の光起電力素子を示す
平面図である。
電力素子と、ディプレッション側の光起電力素子を示す
平面図である。
誘電体分離基板23に形威されたフォトダイオード24
を、アルミニウム配線25で接続して、パッド26.2
7から光電圧、光電流を取b出す。
を、アルミニウム配線25で接続して、パッド26.2
7から光電圧、光電流を取b出す。
ディプレッシ胃ン側の光起電力素子は、MOSFETの
しきい電圧が低いため、フォトダイオードの数は小なく
て良く、従って個々のフォトダイオードの面積を光電流
が大きくとれるように大きくしても、光起電力素子自体
の面積はさほど大きくはならない。
しきい電圧が低いため、フォトダイオードの数は小なく
て良く、従って個々のフォトダイオードの面積を光電流
が大きくとれるように大きくしても、光起電力素子自体
の面積はさほど大きくはならない。
第4図は、第2図の光起電力素子の従断面図である。
ポリシリコンで形威された誘電体分離基板23に島状に
単結晶で形成され酸化シリコン膜28で分離されたフォ
トダイオード24がアルミニウム配線25によう直列に
接続されている。
単結晶で形成され酸化シリコン膜28で分離されたフォ
トダイオード24がアルミニウム配線25によう直列に
接続されている。
次に、制御入力端子1、に印加された電圧が無くな!D
,LED2からの光が無くなった場合、トランスファー
動作を行なうためには、ハンハンスメント型MOS F
ET8がディプレッシ璽ン型MOSFET14がONす
るよシ早<OFFすれば良い。
,LED2からの光が無くなった場合、トランスファー
動作を行なうためには、ハンハンスメント型MOS F
ET8がディプレッシ璽ン型MOSFET14がONす
るよシ早<OFFすれば良い。
このためには、ディプレッシ冒ン側の第2の放電回路の
動作を遅らせることが考えられる。具体的−9− にば、放電回路の動作は、光の入力が無くなった後光起
電力素子9の自己放電によう1光起電力素子9の電圧が
下がり、これによって、MOSFET14のゲート電圧
との間によって生じた電位差によb1サイリスタ17を
動作させて、MOS FET14のゲート13にた會っ
た電荷を放電して、MOS FET14がONする。こ
のため、ダイオード19をサイリスタの両端子間に、サ
イリスタとは逆方向に接続すると、ダイオード19の逆
方向の漏れ電流により、ゲート13の電圧が低下して電
位差が生じにくくなう,サイリスタ12の動作が遅れ、
ディプレッションのMOS FET14のONが遅れる
ことになる。
動作を遅らせることが考えられる。具体的−9− にば、放電回路の動作は、光の入力が無くなった後光起
電力素子9の自己放電によう1光起電力素子9の電圧が
下がり、これによって、MOSFET14のゲート電圧
との間によって生じた電位差によb1サイリスタ17を
動作させて、MOS FET14のゲート13にた會っ
た電荷を放電して、MOS FET14がONする。こ
のため、ダイオード19をサイリスタの両端子間に、サ
イリスタとは逆方向に接続すると、ダイオード19の逆
方向の漏れ電流により、ゲート13の電圧が低下して電
位差が生じにくくなう,サイリスタ12の動作が遅れ、
ディプレッションのMOS FET14のONが遅れる
ことになる。
また、光起電力素子9の両端間にコンデンサー22を付
加するとコンデンサー22にチャージされた電荷によb
1光起電力素子9の自己放電による電圧低下が遅れサイ
リスタ12の動作が遅れディプレクションMOS FE
T14のONが遅れることになb1 トランスファー動
作が、実現できることになる。上記のダイオードの付加
及び、コンデー10一 サーの付加のいずれも、同じ効果をもたらすため、いず
れか、一方だけであっても、トランスファー動作を実現
できれば、一方だけの付加で良い。、第5図は本発明の
第2の実施例を示す回路図である。
加するとコンデンサー22にチャージされた電荷によb
1光起電力素子9の自己放電による電圧低下が遅れサイ
リスタ12の動作が遅れディプレクションMOS FE
T14のONが遅れることになb1 トランスファー動
作が、実現できることになる。上記のダイオードの付加
及び、コンデー10一 サーの付加のいずれも、同じ効果をもたらすため、いず
れか、一方だけであっても、トランスファー動作を実現
できれば、一方だけの付加で良い。、第5図は本発明の
第2の実施例を示す回路図である。
第1の実施例と同様に、制御入力端子1とこれに接続さ
れたLED2を有し、さらにこのLED2からの光を受
ける、エンハソスメント側の光起電力素子3と、ディプ
レッシ讐ン側の光起電力素子9と、さらにエンハンスメ
ント側の放電回路として、フォトトランジスタ29.3
0 (LED2からの光を受けるように配置してカく)
とサイリスタ−6また、ディプレッション側の放電回路
として、ダイオード10.11とサイリスター12を有
し、さらにそれぞれの光起電力素子からの光電圧を受け
て動作する、エンハンスメント型MOS FET8 及
び、ディプレッシ璽ン型MOS FET14で構威さ
れている。第2の実施例において、制御入力端子1に電
圧が印加された場合は、第1の実施例の場合とまったく
同様に、ディプレッション側の光起電力素子9の光電流
を大きく、1たディプレッシッン!MOS FET14
のしきい電圧を低くすることにようトランスファー動作
を実現する。
れたLED2を有し、さらにこのLED2からの光を受
ける、エンハソスメント側の光起電力素子3と、ディプ
レッシ讐ン側の光起電力素子9と、さらにエンハンスメ
ント側の放電回路として、フォトトランジスタ29.3
0 (LED2からの光を受けるように配置してカく)
とサイリスタ−6また、ディプレッション側の放電回路
として、ダイオード10.11とサイリスター12を有
し、さらにそれぞれの光起電力素子からの光電圧を受け
て動作する、エンハンスメント型MOS FET8 及
び、ディプレッシ璽ン型MOS FET14で構威さ
れている。第2の実施例において、制御入力端子1に電
圧が印加された場合は、第1の実施例の場合とまったく
同様に、ディプレッション側の光起電力素子9の光電流
を大きく、1たディプレッシッン!MOS FET14
のしきい電圧を低くすることにようトランスファー動作
を実現する。
一方、制御入力端子1の電圧が無くなった場合、工/ハ
ンスメント側の第1の放電回路にかいて、ダイオード4
,5のかわシにフォトトランジスタ29.30が用いら
れている。ダイオードをフォトトランジスタに置き変え
た場合、トランジスタの順方向電圧がダイオードに比べ
低いため、光起電力素子3で発生した光電圧と、MOS
FET8のグート7に印加される電圧との電位差が小
さくなる。
ンスメント側の第1の放電回路にかいて、ダイオード4
,5のかわシにフォトトランジスタ29.30が用いら
れている。ダイオードをフォトトランジスタに置き変え
た場合、トランジスタの順方向電圧がダイオードに比べ
低いため、光起電力素子3で発生した光電圧と、MOS
FET8のグート7に印加される電圧との電位差が小
さくなる。
従って、サイリスタ6を動作させるために必要な光起電
力素子3の自己放電による電圧降下は小さくてよく、従
って第1の放電回路は高速に動作する。このための、エ
ンハンスメント型の出力用MOS FET8は、ディプ
レッシ百ン型MOS FET14よb早(OFFI,、
トランスファー動作が実現する。このような回路構威の
場合、第1の実施例に比べ素子数がへるほかに、全体と
して、高速動作が実現できる利点がある。
力素子3の自己放電による電圧降下は小さくてよく、従
って第1の放電回路は高速に動作する。このための、エ
ンハンスメント型の出力用MOS FET8は、ディプ
レッシ百ン型MOS FET14よb早(OFFI,、
トランスファー動作が実現する。このような回路構威の
場合、第1の実施例に比べ素子数がへるほかに、全体と
して、高速動作が実現できる利点がある。
なか、今會での説明において、出力用のMOSFETは
、すべて1個だけの直流負荷用の回路構威であったが、
MOS FETの部分を、第6図に示すようにMOS
FET 2個を逆直列に接続した回路構威に置き変
えることによう,他の部分はまったくそのままで交流負
荷用として利用可能である。
、すべて1個だけの直流負荷用の回路構威であったが、
MOS FETの部分を、第6図に示すようにMOS
FET 2個を逆直列に接続した回路構威に置き変
えることによう,他の部分はまったくそのままで交流負
荷用として利用可能である。
また、出力用に使用されるMOS FETは、通常の
バックゲートを有するMOS FETのソースとバッ
クゲートを短絡して用いるか、内部で、短絡されている
片導通型の縦形あるいは横形のMOSFETを用いる。
バックゲートを有するMOS FETのソースとバッ
クゲートを短絡して用いるか、内部で、短絡されている
片導通型の縦形あるいは横形のMOSFETを用いる。
以上説明したように本発明はディプレッシ冒ン側の光起
電力素子の光電流を増し、さらにディプレッシ璽ン側の
放電回路の動作を遅らせるか、エンハンスメント側の放
電回路の動作を早めることによう,容易にトランス7ア
ー動作をするト2ンス7アー型SSRを得られる効果が
ある。
電力素子の光電流を増し、さらにディプレッシ璽ン側の
放電回路の動作を遅らせるか、エンハンスメント側の放
電回路の動作を早めることによう,容易にトランス7ア
ー動作をするト2ンス7アー型SSRを得られる効果が
ある。
−13−
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図、第2図は
エンハンスメント側の光起電力素子の平面図、第3図は
ディプレッシ嘗ン側の光起電力素子の平面図、第4図は
、エンハンスメント側の光起電力素子の断面図、第5図
は本発明の第2の実施例を示す回路図、第6図は交流用
の出力用MOSFET回路を示す回路図、第7図は従来
のSSRの回路図、第8図は従来のトランスファー型S
SRの回路図、第9図は従来のSSRの回路図である。 1・・・・・・制御入力端子、2・・・・・−LED(
発光ダイオード)、3・・・・・・エンハンスメント側
光起電力素子、4・・・・・・ダイオード、5・・・・
・・ダイオード、6・・・・・・サイリスタ、7・・・
・・・エンハンスメン}型MOsFETC)グー}、8
・・・・・・エンハンスメントfflMOsFET,9
・・・・・・ディプレクシ冒ン側光起電力素子、10−
−−−−・ダイオード、11・・・・・・ダイオード、
12・・・・・・サイリスタ、13・・・・・・ディプ
レッシ曹ン型MOS FETのゲート、14・・・・・
・ディプレッシ璽ンWMOS FET,15・・・・
・・サイリスタのカソード14− ?子、16・・・・・・ダイオードのアノード端子、1
7・・・・・・サイリスタのアノード端子、18・・・
・・・ダイオードのカソード端子、19・・・・・・ダ
イオード、20・・・・・・ダイオード10のカソード
、21・・・・・・ダイオード11のアノード、22・
・・−・・コンデンサー23・・・・・・誘電体分離基
板、24・−・・・・フォトダイオード、25・・・・
・・アル■ニウム配線、26・・・・・・パッド、27
・・・・・・パッド、28・・・・・・酸化膜、29・
・・・・・フォトトランジスタ、30・・・・・・フォ
トトランジスタ、31・・・・・・ディプレッショy型
MOS FE’r,32・・・・−・光起電力素子、
33・・・・・・抵抗。
エンハンスメント側の光起電力素子の平面図、第3図は
ディプレッシ嘗ン側の光起電力素子の平面図、第4図は
、エンハンスメント側の光起電力素子の断面図、第5図
は本発明の第2の実施例を示す回路図、第6図は交流用
の出力用MOSFET回路を示す回路図、第7図は従来
のSSRの回路図、第8図は従来のトランスファー型S
SRの回路図、第9図は従来のSSRの回路図である。 1・・・・・・制御入力端子、2・・・・・−LED(
発光ダイオード)、3・・・・・・エンハンスメント側
光起電力素子、4・・・・・・ダイオード、5・・・・
・・ダイオード、6・・・・・・サイリスタ、7・・・
・・・エンハンスメン}型MOsFETC)グー}、8
・・・・・・エンハンスメントfflMOsFET,9
・・・・・・ディプレクシ冒ン側光起電力素子、10−
−−−−・ダイオード、11・・・・・・ダイオード、
12・・・・・・サイリスタ、13・・・・・・ディプ
レッシ曹ン型MOS FETのゲート、14・・・・・
・ディプレッシ璽ンWMOS FET,15・・・・
・・サイリスタのカソード14− ?子、16・・・・・・ダイオードのアノード端子、1
7・・・・・・サイリスタのアノード端子、18・・・
・・・ダイオードのカソード端子、19・・・・・・ダ
イオード、20・・・・・・ダイオード10のカソード
、21・・・・・・ダイオード11のアノード、22・
・・−・・コンデンサー23・・・・・・誘電体分離基
板、24・−・・・・フォトダイオード、25・・・・
・・アル■ニウム配線、26・・・・・・パッド、27
・・・・・・パッド、28・・・・・・酸化膜、29・
・・・・・フォトトランジスタ、30・・・・・・フォ
トトランジスタ、31・・・・・・ディプレッショy型
MOS FE’r,32・・・・−・光起電力素子、
33・・・・・・抵抗。
Claims (2)
- (1)制御入力端子に接続された発光ダイオードと、前
記発光ダイオードからの光を受ける光起電力素子を含む
第1の光電圧発生回路、前記発光ダイオードの消灯を検
出して前記第1の光電圧発生回路の出力電圧を放電する
第1の放電回路及び前記第1の放電回路の出力電圧で制
御されるエンハンスメント型MOSFETからなる第1
の出力回路と、前記発光ダイオードからの光を受ける光
起電力素子を含む第2の光電圧発生回路、前記発光ダイ
オードの消灯を検出して前記第2の光電圧発生回路の出
力電圧を放電する第2の放電回路であって前記第1の放
電回路に比較して消灯後放電開始迄の時間遅れの大きい
もの及び前記第2の放電回路の出力電圧で制御されるデ
ィプレッション型MOSFETからなる第2の出力回路
とからなり、前記第2の光電圧発生回路の光起電力素子
は、前記第1の光電圧発生回路の光起電力素子に比べて
光電流が大きくとれる構造を有していることを特徴とす
るトランスファー型ソリッドステートリレー。 - (2)ディプレッション型MOSFETのしきい電圧の
絶対値がエンハンスメント型MOSFETのしきい電圧
より低い請求項(1)記載のトランスファー型ソリッド
ステートリレー。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15760989A JP2555887B2 (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | トランスファー型ソリッドステートリレー |
US07/539,903 US5045709A (en) | 1989-06-19 | 1990-06-18 | Optically coupled solid state relay with dual discharging circuits |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15760989A JP2555887B2 (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | トランスファー型ソリッドステートリレー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0322487A true JPH0322487A (ja) | 1991-01-30 |
JP2555887B2 JP2555887B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=15653469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15760989A Expired - Lifetime JP2555887B2 (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | トランスファー型ソリッドステートリレー |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5045709A (ja) |
JP (1) | JP2555887B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144395A (en) * | 1988-07-04 | 1992-09-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optically driven semiconductor device |
JPH05114847A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-05-07 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 半導体リレー |
JP2007281934A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Nec Electronics Corp | 半導体リレー |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5504449A (en) * | 1992-04-09 | 1996-04-02 | Harris Corporation | Power driver circuit |
US5633526A (en) * | 1992-11-01 | 1997-05-27 | Rohm Co., Ltd. | Photodiode array and method for manufacturing the same |
FR2698223B1 (fr) * | 1992-11-13 | 1995-01-27 | Dassault Electronique | Installation optoélectronique pour l'interconnexion de modules électroniques et connecteur optoélectronique correspondant. |
US5422493A (en) * | 1993-08-09 | 1995-06-06 | National Center For Manufacturing Sciences, Inc. | Asynchronous bidirectional node switch |
US5532498A (en) * | 1994-12-06 | 1996-07-02 | At&T Corp. | High sensitivity control circuit for optical solid-state relays |
US5549762A (en) * | 1995-01-13 | 1996-08-27 | International Rectifier Corporation | Photovoltaic generator with dielectric isolation and bonded, insulated wafer layers |
US5594256A (en) * | 1995-01-13 | 1997-01-14 | Clark-Mxr, Inc. | High voltage switch for pockels cells |
US6600175B1 (en) * | 1996-03-26 | 2003-07-29 | Advanced Technology Materials, Inc. | Solid state white light emitter and display using same |
JP2006186344A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-07-13 | Toshiba Corp | 光結合装置 |
JP4528321B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2010-08-18 | シャープ株式会社 | スイッチング回路、回路、並びにスイッチング回路及び駆動パルス生成回路を含む回路 |
JP5723303B2 (ja) * | 2012-01-27 | 2015-05-27 | 株式会社東芝 | 受光回路 |
JP5781108B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2015-09-16 | 株式会社東芝 | 光結合装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57107633A (en) * | 1980-09-12 | 1982-07-05 | Setaajiei Corp | Solid state switching device |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4419586A (en) * | 1981-08-27 | 1983-12-06 | Motorola, Inc. | Solid-state relay and regulator |
-
1989
- 1989-06-19 JP JP15760989A patent/JP2555887B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-18 US US07/539,903 patent/US5045709A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57107633A (en) * | 1980-09-12 | 1982-07-05 | Setaajiei Corp | Solid state switching device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144395A (en) * | 1988-07-04 | 1992-09-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optically driven semiconductor device |
JPH05114847A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-05-07 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 半導体リレー |
JP2007281934A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Nec Electronics Corp | 半導体リレー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2555887B2 (ja) | 1996-11-20 |
US5045709A (en) | 1991-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4745311A (en) | Solid-state relay | |
JPH0322487A (ja) | トランスファー型ソリッドステートリレー | |
US4303831A (en) | Optically triggered linear bilateral switch | |
JPH0161264B2 (ja) | ||
WO1983000746A1 (en) | Solid-state relay and regulator | |
US4754175A (en) | Solid state relay having a thyristor discharge circuit | |
US5214322A (en) | High voltage cmos power driver | |
JP2847908B2 (ja) | ソリッドステートリレー | |
JPS63283082A (ja) | 光結合半導体装置 | |
JP3567735B2 (ja) | 半導体回路 | |
JPH09140122A (ja) | Igbt駆動の逆バイアス回路 | |
JPH0365816A (ja) | 光結合型リレー回路 | |
JPS63227215A (ja) | 半導体スイツチ回路 | |
JPH0478211B2 (ja) | ||
JP2000286688A (ja) | スイッチング回路 | |
JPH04254383A (ja) | ソリッドステートリレー回路 | |
JPH05227000A (ja) | ソリッドステートリレー | |
JPH04324711A (ja) | 半導体リレー回路 | |
JP2002026710A (ja) | スイッチ回路、リレー回路及びその駆動方法 | |
JPH02256315A (ja) | 入出力絶縁形半導体スイツチ回路 | |
JPS62213414A (ja) | 半導体リレ−回路 | |
JP2004319674A (ja) | Mos半導体リレー | |
JPS6110318A (ja) | 半導体リレ− | |
JPH0411125B2 (ja) | ||
JPH04167617A (ja) | 半導体リレー回路 |