JPH03222188A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH03222188A
JPH03222188A JP2018253A JP1825390A JPH03222188A JP H03222188 A JPH03222188 A JP H03222188A JP 2018253 A JP2018253 A JP 2018253A JP 1825390 A JP1825390 A JP 1825390A JP H03222188 A JPH03222188 A JP H03222188A
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恒男 高野
Masaru Uesugi
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  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、高密度なダイナミック・ランダム・アクセス
・メモリ(以下、DRAMという〉等の半導体記憶装置
、特にそのセンスアンプからデータバスへの転送回路構
成及びそのパターン構成に関するものである。
(従来の技術) 従来、この種の半導体記憶装置としては、特開昭63−
211198号公報に記載されるものがあり、複数のメ
モリアレイに分割された半導体記憶装置において、各々
のメモリアレイにスイッチ手段を介して接続された複数
のデータバス対を有し、センスアンプからメインアンプ
へ、或いはその逆方向へデータを転送する構成が知られ
ている。
その構成例を第2図に示す。
第2図は従来の半導体記憶装置におけるセンスアンプ・
データバス間の要部回路図、及び第3図は第2図中のセ
ンスアンプの回路図である。
第2図はDRAMを示すもので、説明を簡単にするため
に4個のセンスアンプ10,10m+1゜100,2,
10III、3とその付近の回路配線が図示されている
各センスアンプ10111〜10□+3は、第3図に示
すように、2個のNチャネルMOSトランジスタ(以下
、NMO8という>11.12で構成され、その各NM
O3II、12のゲート及びドレイン側のセンスアンプ
ノード対がビット線対BL。
πにそれぞれ接続され、さらにその各ソースがセンスア
ンプ活性化信号(以下、φ、という〉の共通ノードに接
続されている。
4個のセンスアンプ10m〜10I、l、3の両端のセ
ンスアンプノード対は、それぞれビット線対(BL  
、丁ら) 、 (BL、、1 、πm+1”(81m+
2.πm+2 > 、 (Bt、、、、3 、 BL@
、3 >に接続され、マ3共通ノードが各ビット線対(
BL  π ;イ旦し、x=m、・・・、m+3>を縦
xノ× 断している。ビット線(BL、百T1)と(BLlll
+1,6丁4,1〉対間、及び(BLm、2 、81m
+2)と(B Lm+3 、π、、3〉対間に、それら
と平行にコラムラインCL  、CL、+、が配設され
ている。
ビット線対(BL  、BL、)はスイッチ手段である
2個のNMO320,2て1の各ソース(またはドレイ
ン)に接続され、そのNMO8201丁百□の各ゲート
がコラムラインCL、に共通接続され、さらに各ドレイ
ン(またはソース)が各接点(P1P□〉を介してデー
タバス対(DB□ 、 Tfv3゜〉にそれぞれ接続さ
れている。
同様に、ビット線対(BL   、π、、1〉は、m+
1 NMO820□9丁で、及び接点(Pm+1 。
)、1)を介してデータバス対(DB、、6百、)にそ
れぞれ接続されている。ビット線対(BLm。
2、π、〉は、NMO820,,1、丁π、、1及び接
点P  、P  を介してデータバス対m+2   m
+2 (DBo、D百。)にそれぞれ接続されている。
また、ビット線対(BL   、π、、3〉は、Nm+
3 MO820m+3 、2 ’m+3及び接点Pm+3 
、Tsm+3を介してデータバス対(DB  、DBl
 )にそれぞれ接続されている。
以上の構成において、データ読出し動作では、ビット線
対(BL  、π 〉〜(BL   、百m    l
ll      m+3 ’m+3 >にそれぞれ接続された図示しないメモリセ
ルの情報が、該センスアンプ10〜10III、3にそ
れぞれ現われる。ビット線対間のレベル差は、各センス
アンプ10m〜10IIl、3でそれぞれ増幅され、セ
ル情報が読取られる。ここで、図示しない列デコーダに
より、例えばコラムラインCL。
を選択状態にし、コラムラインCL、、1を非選択状態
にすれば、NMO82020,,20,。
ITl′ 1 ’ ”m+1が導通してセンスアンプ10Ill〜
10m+1がデータバス対(DBo、6百。)、(DB
、DBi>とそれぞれ導通し、該センスアン11011
0m+1からデータバス対(DBo。
6百 )、(DBl、百Bi )へのデータ転送が行え
る。逆に、データ書込み動作では、データバス対(DB
□ 、 6百。) 、  (DBl 、 ’j5’Tr
1 )からセンスアンプ10110m、1へのデータ転
送が行える。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記構成の装置では、次のような課題が
あった。
従来の半導体記憶装置を、例えば高密度なVLS I 
(very large 5cale integra
ted circuit )等で構成する場合、ビット
線BL  、π、・・・BLm+3.百r、、3の線間
ピッチが狭くなるが、線間ピッチが狭くなると、限られ
た平面内でNMO820M  ・’・、 20m+3 
、 π、、等m’     m’ をレイアウト出来なかったり、或いは無駄な面積を必要
とする等、不都合な回路方式になるという問題があった
例えば、平面のレイアウト面積を小さくしようとする場
合、1つの配線に2つ以上のノードがあるとき、これを
共有化することが得策である。即ち、センスアンプ10
m+1と10I11+2のφ、ノードを第2図のように
共通にしてφ、配線に接続すると、接点(P  、 P
  ) 、  (Pm+1 、7m+1 >    m 及び(p、+2. Prm+2 ) 、  (Pm+3
 、 ’m+3 >は、T、ノードとはセンスアンプ1
0m〜10111+3を挟んで反対側にレイアウトする
ことが望ましい。
ところが、そのようなレイアウトにしようとすると、接
点(F?   T5)をデータバス対(DB。。
m′m 6百。〉へ、接点(Pm+1 、 ’m+1 ’)をデ
ータバス対(DB  、osl )へセンスアンプ10
゜10  の間で、及び接点(Pm+2 、7’、Il
、2)をm+1 データバス対(DBo、6百0〉へ、接点(P、ヤ3 
’ Pm+3 〉をデータバス対(DBl、75’百、
)へセンスアンプ10  .10m、3の間で、それm
+2 ぞれ接続出来るようレイアウトしなければならない。し
かし、センスアンプ10,1OIll、1の間、センス
アンプ10m、2,10IIl、3の間では、共通ノー
ドが1つもないので、面積低減化が極めて困難であった
本発明は前記従来技術が持っていた課題として、各ビッ
ト線の線間ピッチが狭くなった場合、ビット線とデータ
バスとを接続しようとするときに、共通ノードがないた
め、ピッチ内のレイアウトが出来ず、面積低減化が困難
であるという点について解決した半導体記憶装置を提供
するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は前記課題を解決するために、複数のセンスアン
プと、複数のデータバスと、複数のコラムラインの信号
によりそれぞれオン、オフ動作して前記センスアンプノ
ードに接続されるビット線と前記データバスとの間を接
続、遮断する複数のスイッチ手段とを、備えた半導体記
憶装置において、2つの隣接する前記各ビット線を、互
いに異なる前記コラムラインの信号を入力とする前記ス
イッチ手段を通じて同一ビット線で前記データバスへの
接続、遮断を行う構成にしたものである。
(作用〉 本発明によれば、以上のように半導体記憶装置を構成し
たので、コラムラインの信号によってスイッチ手段をオ
ン、オフ動作させることにより、ビット線とデータバス
との間が接続、遮断され、ビット線とデータバスとのデ
ータ転送制御が行える。これにより、従来のものと回路
的には等価的な動作が可能となる。その上、スイッチ手
段を通じて同一ノードでデータバスへの接続、遮断を行
う回路構成法の採用により、各ビット線の線間ピッチが
狭くなった場合でも、ピッチ内のレイアウトが容易にな
って面積低減化が図れる。従って、前記課題を解決でき
るのである。
(実施例〉 第1図は本発明の実施例を示すもので、半導体記憶装置
におけるセンスアンプ・データバス間の要部回路図、及
び第4図は第1図中のセンスアンプの回路図である。
第1図はDRAMを示すもので、説明を簡単にするため
に4個のセンスアンプ30,30.。
30.30IIl、3とその付近の回路配線が図示m+
2 されている。
各センスアンプ30Ill〜30m、3は、第4図に示
すように、2個のNMO831,32で構成され、一方
のNMO831のドレイン側のセンスアンプノードがビ
ット線BLに、ゲート側のセンスアンプノードがビ・シ
ト線TMにそれぞれ接続され、他方のNMO332のド
レイン側のセンスアンプノードがビット線πに、ゲート
側のセンスアンプノードがビット線BLにそれぞれ接続
されている。NMO831,32の各ソースは、’Js
の共通ノードに接続されている。
4個のセンスアンプ30m〜30m、3の両端のセンス
アンプノード対は、それぞれビット線対(BL  、π
 )、(BL、π12)。
m    m      m+2 (BLIll、、 、πn++1 〉、(BL11+3
 ’π、。3〉に接続され、マ、共通ノードが各ビット
線対(BL 、π ;但し、x=m、・・・、m+3)
に対×     × して直交して縦断している。各ビット線対(BL8.π
8〉には、図示しない行デコーダによりて行方向のワー
ド線が選択され、そのワード線につながるメモリセルが
選択されるようにそれぞれ接続されている。ビット線対
(BL、πl11)と(BL、、2 、π、)、及び(
BL、、、、百Lm、1 ) ト(B LIIl+3 
、 ”m+3 > トf)各村f)間に、それらと平行
にコラムラインCLn、CL、+1が配設されている。
ビット線対(BLlfL、)はスイッチ手段である2個
のNMO840、Ulllの各ソース(またはドレイン
〉に接続され、そのNMO840、π の各ゲートがコ
ラムラインCL、にlll11 共通接続され、さらに各ドレイン(またはソース)が各
共通接点(pHI/m+2 ’ Pm/F2 )を介し
てデータバス対(DB、百F。〉に接続されている。
同様に、ビット線対(BLIn+1 、 Iff@+1
 )は2個(7)NMO840,+、、″4?5m+1
ノ各ソース(またはドレイン)に接続され、そのNMO
840m。
1 、 ”m+1の各ゲートがコラムラインCL、に共
通接続され、各トレイン(またはソース)が共通接点(
1m+1/m+3 、’n++1/m+3 >を介して
データバス対(DB、[)百、)にそれぞれ接続されて
いる。ビット線対(BLm、2 、π、〉は2個のNM
O8401,、,2,4百m+2の各ソース(またはド
レイン〉に接続され、そのNMO340m+2.■て1
+2の各ゲートがコラムラインCL、+1に共通接続さ
れ、各ドレイン(またはソース〉が共通接点(Pm/m
+2.馬/IIl+2〉を介してデータバス対(DB、
D百。〉にそれぞれ接続されている。また、ビット線対
(BL   、百T1゜m+3 3〉は2個のN M O840m+3 、τ百m+3の
各ソース(またはドレイン〉に接続され、そのNMO8
40m、3.4万、、3の各ゲートがコラムラインCL
、、1に共通接続され、各トレイン(またはソース〉が
共通接点(Pm。1/m+3 ’ ”m+1/m。3〉
を介してデータバス対(DBl 、DBl )にそれぞ
れ接続されている。
第5図は、第1図の半導体記憶装置をIC化する場合の
レイアウト例を示す図である。
第5図において、符号50はアクティブ領域、51はジ
ャンクション・ポリSi・オーミック・コンタクト、5
2はポリSi領域、53はポリSi・メタル或いは接合
・メタル〉コンタクト、54はメタル領域である。
なお、相補関係にあるビット線対(π1BL )と(π
  、 BLITl、1>は、第1図に対m     
   m+1 して互いに入れ替っている。これは、センスアンプ30
.30m+1を構成するトランジスタの形底上、そのト
ランジスタの電極を逆配置せざるを得す、センスアンプ
構成でひねりが生じているために発生したものであり、
単なる製造上の問題であって本実施例の作用、効果上、
何ら問題となるものではない。
以上の構成において、データ読出し動作では、図示しな
い行デコーダで選択されたメモリセルの情報が、センス
アンプ30130.Il+3に現われる。すると、ビッ
ト線対間のレベル差は、各センスアンプ301.1〜3
0I11+3でそれぞれ増幅され、セル情報が読取られ
る。ここで、図示しない列デコーダにより、例えばコラ
ムラインCL、を選択状態にし、コラムラインCLo、
1を非選択状態にすれば、NMO84011百m 、 
40IIl、1 、4百、が導通してセンスアンプ30
,30I11+1力哄通接点(Pm/m+2 ・’m/
m。2)、(Pm。1/m。
3 ”In+1/m+3 )を介してデータバス対(D
B。。
6百。)、(DB、、Tff百、〉とそれぞれ導通し、
該センスアンプ30130III、1からデータバス対
(DB  、6百。)、(DBl 、6百1)へのデー
タ転送が行える。
逆に、データ書込み動作では、データバス対(DB  
、百百。)、(DBl、6百、)から共通接点(PIl
l/Ill、2.T5rn/m。2)、(Pm。1/m
+3゜馬+1/m+3 〉及びNMO840、τ百、4
0m+1 、 ”m+1を介して、センスアンプ301
30ユへのデータ転送がそれぞれ行える。転送されたデ
ータは、ビット線対(BL  、8m、)。
(BLm、1.百’m+i )を介して、図示しない行
デコーダで選択されたメモリセルへ書込まれる。
本実施例では、次のような利点を有している。
第5図のレイアウト例で示すように、センスアンプ部パ
ターンを挾んでT8への共通ノード(ジャンクション・
ポリSi・オーミック・コンタクト51〉とは反対側に
、データバス対(DB。。
Tf’rl。)或いは(DBl、m11 >への共通ノ
ード(共通接点Pm/m+2 ・T5m/m+2 ・1
m+1/m+3 ・’m+1/m+3 >で、NMO8
40,4百、40m+2 、 TCm+2.40m+1
 、TUm+1.40m+3゜τで、、3を介してデー
タバス対(DBo、DB。〉、  (DB  、汀U1
)とビット線対(BL1百L)〜(BL、百’m+3 
> トが接続されてm        m+3 いる。そのため、極めて少ない面積で結線が行える。つ
まり、データバス対(DBo、Ill。〉。
(DB  、 6百1)への接続に要するレイアウト面
積を極小に抑えることができる。従って、高密度なVL
SIメモリ等のようなビット線ピッチが著しく狭くなる
回路でも、そのレイアウトが可能となる。
なお、本発明は図示の実施例に限定されず、例えばセン
スアンプ30IIl〜30m+3を第4図の回路構成以
外の回路で構成したり、スイッチ手段をNMO840、
π〜40.II+3.π□、3以m      m 外のトランジスタで構成したり、センスアンプノードか
ら直接スイッチ手段を接続したり、あるいはビット線対
数や第5図のレイアウト例等を図示以外のものに変形し
たり、さらに本発明をスタテックRAM等の他の半導体
記憶装置に適用する等、種々の変形が可能である。
(発明の効果〉 以上詳細に説明したように、本発明によれば、隣接する
ビット線を、コラムラインの信号によりオン、オフ動作
するスイッチ手段を通じてデータバスへ接続する場合、
そのコラムライン信号を互いに異なる信号線にし、かつ
同一ノードでデータバスへ接続させるので、データバス
への接続に要するレイアウト面積を極小に抑えることが
できる。
従って、高密度なVLSIメモリ等のようなビット線ピ
ッチが著しく狭くなる回路でも、そのレイアウトが可能
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す半導体記憶装置の要部回
路図、第2図は従来の半導体記憶装置の要部回路図、第
3図は第2図中のセンスアンプの回路図、第4図は第1
図中のセンスアンプの回路図、第5図は第1図のレイア
ウト例を示す図である。 30、〜30m、3・・・・・・センスアンプ、40゜
T百〜40□ヤ3.τ百、、3・・・・・・NMO8、
BL0.π、〜BL1.l+3.百r  ・・・・・・
ビット線対、m+3 CL、CL   ・・・・・コラムライン、DB、Dn
    n+1’ 百 、DBl 、6百、・・・・・・データバス対、P
m/m+2 ・pm/m+2 ・1m+1/m+3 、
l’m。1/m+3 ’・・・・・共通接点、φ、・・
・・・・センスアンプ活性化信号。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数のセンスアンプと、複数のデータバスと、複数のコ
    ラムラインの信号によりそれぞれオン、オフ動作して前
    記センスアンプノードに接続されるビット線と前記デー
    タバスとの間を接続、遮断する複数のスイッチ手段とを
    、備えた半導体記憶装置において、 2つの隣接する前記各ビット線を、互いに異なる前記コ
    ラムラインの信号を入力とする前記スイッチ手段を通じ
    て同一ビット線で前記データバスへの接続、遮断を行う
    構成にしたことを特徴とする半導体記憶装置。
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