JPH05282869A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH05282869A
JPH05282869A JP4075022A JP7502292A JPH05282869A JP H05282869 A JPH05282869 A JP H05282869A JP 4075022 A JP4075022 A JP 4075022A JP 7502292 A JP7502292 A JP 7502292A JP H05282869 A JPH05282869 A JP H05282869A
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JP
Japan
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data
memory cell
word line
bit line
circuit
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Withdrawn
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JP4075022A
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English (en)
Inventor
Yuichi Tagami
雄一 田上
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】1つのメモリセルの書込み(又は読出し)と同
時または非同期で他の(または同一の)メモリセルの読
出しができ、かつマルチセレクト等によるメモリセルの
データの破壊を防止する。 【構成】メモリセルMCに、データ保持部DHの第1の
データ入出力端N1と第1のビット線BL11,BL2
1との間に接続された第1のトランスファゲートT1,
T2と、入力端をデータ保持部DHの第2のデータ入出
力信号N2と接続するバッファ回路のインバータIV3
と、このイバータIV3の出力端と第2のビット線BL
31との間に接続された第2のトランスファゲートT3
とを備える。第1及び第2のトランスファゲートT1,
T2、T3のオン,オフをそれぞれ対応する第1及び第
2のワード線WL11,WL21により制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に書込み,読出し可能なRAM型の半導体記憶装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の半導体記憶装置は、第1
の例として図5(A),(B)に示すように、互いに対
をなすビット線BL1j,BL2j(jは1〜m、以下
同じ)と、複数のワード線WL1〜WLnと、インバー
タIV1,IV2から成り第1及び第2のデータ入出力
端N1,N2をもちこの第1及び第2のデータ入出力端
N1,N2に供給されたデータを保持しかつ保持してい
るデータを第1及び第2のデータ入出力端N1,N2か
ら出力するデータ保持部DH、並びにゲートを共に対応
するワード線(例えばWL1)と接続しソース,ドレイ
ンの一方をデータ保持部DHの第1及び第2のデータ入
出力端N1,N2とそれぞれ対応して接続し他方を対を
なすビット線(例えばBL11,BL21)とそれぞれ
対応して接続しワード線(WL1)が選択レベルのとき
オンとなるトランスファゲートT1,T2を備えた複数
のメモリセルMCdを含むメモリセルアレイ1aと、ア
ドレス信号ADに従って複数のワード線WL1〜WLn
のうちの所定のワード線を選択レベルにするアドレスデ
コーダ2と、所定のタイミングでビット線BL1j,B
L2jを所定の電位にプリチャージするプリチャージ回
路3と、出力端を対応するビット線BL1j,BL2j
と接続し書込み制御信号に従って外部からの書込み用の
データDIjを選択レベルのワード線と対応するメモリ
セルMCdに供給する書込み回路4jと、入力端を対応
するビット線BL1j,BL2jと接続し選択レベルの
ワード線と対応するメモリセルMCdから読出されたデ
ータを所定のタイミングで外部へ出力(DOj)する読
出し回路5jとを有する構成となっている。
【0003】この半導体記憶装置において、アドレスデ
コーダ2,ワード線WL1〜WLn及び対をなすビット
線BL1j,BL2j(以下ビット線対(BL1j,B
L2j)という、他も同様)等が一系統しかないので、
書込み動作と読出し動作とは必ず相違なるタイミングで
行なわれ、1つのメモリセルにデータを書込むと同時
に、またこの書込みとは非同期で他のメモリセルからデ
ータを読出すという動作を行うことはできない。
【0004】これに対し図6に示された第2の例の半導
体記憶装置は、2系統のアドレスデコーダ2a,2b、
ワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL2n及び
ビット線対(BL1j,BL2j),(BL3j,BL
4j)を備え、ビット線対(BL1j,BL2j),
(BL3j,BL4j)に対してそれぞれ読出し回路5
j,6jaを備えているので、アドレス信号AD1によ
りアドレスデコーダ2aで指定したメモリセルMCeに
対してデータの書込み(又は読出し)を行うと同時に、
またこれとは非同期でアドレス信号AD2によりアドレ
スデコーダ2bで指定した他のメモリセルMCeからデ
ータを読出すことができる。
【0005】この第2の例のメモリセルMCeは、第1
及び第2のデータ入出力端N1,N2をもつデータ保持
部DHと、ソース,ドレインをこのデータ保持部DHの
データ入出力端N1,N2とビット線対(例えばBL1
1,BL21)との間にそれぞれ対応して接続しワード
線(例えばWL11)が選択レベルのときオンとなるト
ランスァゲートT1,T2と、同様に、ソース,ドレイ
ンをデータ保持部DHのデータ入出力端N1,N2とビ
ット線対(例えばBL31,BL41)との間にそれぞ
れ対応して接続しワード線(例えばWL21)が選択レ
ベルのときオンとなるトランスファゲートT3,T4と
を備えた構成となっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は、第1の例ではアドレスデコーダ,ワード
線,ビット線等が1系統しかないために1つのメモリセ
ルへのデータの書込みと他のメモリセルからのデータの
読出しとを同時にまた非同期で行うことができないとい
う欠点があり、第2の例では、アドレスデコーダ,ワー
ド線,ビット線等を2系統有しているので1つのメモリ
セルへのデータの書込み(又はこのメモリセルからのデ
ータの読出)と他のメモリセルからのデータの読出しと
を同時にまた非同期で行う2とができるが、データ保持
部DHのデータ入出力端N1,N2とビット線対(BL
1j,BL2j),(BL3j,BL4j)との間がト
ランスファゲートT1〜T4で接続される構成となって
いるので、トランスファゲートT1〜T4は双方向性の
ため、ビット線のプリチャージが充分行なわれなかった
場合、ワード線がマルチセレクト状態となった場合、及
び同一メモリセルから同時に2系統の読出しを行う場合
等においてビット線対(BL1j,BL2j),(BL
3j,BL4j)間の干渉が起り、メモリセルMCeの
データが破壊される危険性がある。
【0007】本発明の目的は、一方の系統の書込み(又
は読出し)と同時または非同期で他の系統の読出しがで
き、かつビット線のプリチャージが不充分の場合、ワー
ド線のマルチセレクト状態の場合、同一メモリセルの同
時読出しの場合でもメモリセルのデータが破壊されるこ
とがない半導体記憶装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、第1及び第2のビット線と、複数の第1及び第2の
ワード線と、第1及び第2のデータ入出力端をもちこの
第1のデータ入出力端に供給されたデータを保持しかつ
保持しているデータを前記第1及び第2のデータ入出力
端から出力するデータ保持部、ゲートを対応する前記第
1のワード線と接続しソース,ドレインの一方を前記デ
ータ保持部の第1のデータ入出力端と接続し他方を前記
第1のビット線と接続し前記対応する第1のワード線が
選択レベルのときオンとなる第1のトランスファゲー
ト、入力端を前記データ保持部の第2のデータ入出力端
と接続するバッファ回路、並びにゲートを対応する前記
第2のワード線と接続しソース,ドレインの一方を前記
バッファ回路の出力端と接続し他方を前記第2のビット
線と接続し前記対応する第2のワード線が選択レベルの
ときオンとなる第2のトランスファゲートをそれぞれ備
えた複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、第1
のアドレス信号に従って前記複数の第1のワード線のう
ちの所定のワード線を選択レベルとする第1のアドレス
デコーダと、第2のアドレス信号に従って前記複数の第
2のワード線のうちの所定のワード線を選択レベルとす
る第2のアドレスデコーダと、出力端を前記第1のビッ
ト線と接続し選択レベルの前記第1のワード線と対応す
るメモリセルに書込み用のデータを供給する書込み回路
と、入力端を前記第2のビット線と接続しこの第2のビ
ット線に伝達されたデータを外部へ出力する読出し回路
とを有している。
【0009】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
【0010】図1(A),(B)はそれぞれ本発明の第
1の実施例のブロック図及びメモリセル部分の回路図で
ある。
【0011】この実施例は、対をなす第1のビット線B
L1j,BL2j(jは1〜m、以下同じ)及び読出し
専用の第2のビット線BL3jと、複数の第1及び第2
のワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL2n
と、インバータIV1,IV2から成り第1及び第2の
データ入出力端N1,N2をもちこの第1及び第2のデ
ータ入出力端N1,N2に供給されたデータを保持しか
つ保持しているデータを第1及び第2のデータ入出力端
N1,N2から出力するデータ保持部DH、ゲートを共
に対応する第1のワード線(WL11〜WL1n)と接
続しソース,ドレインの一方をデータ保持部DHの第1
及び第2のデータ入出力端N1,N2とそれぞれ対応し
て接続し他方を第1のビット線対(BL1j,BL2
j)とそれぞれ対応して接続し対応する第1のワード線
が選択レベルのときオンとなる第1のトランスファゲー
トT1,T2、入力端をデータ保持部DHの第2のデー
タ入出力端N2と接続するバッファ回路のインバータI
V3、並びにゲートを対応する第2のワード線(WL2
1〜WL2n)と接続しソース,ドレインの一方をイン
バータIV3の出力端と接続し他方を第2のビット線B
L3jと接続し対応する第2のワード線が選択レベルの
ときオンとなる第2のトランスァゲートT3をそれぞれ
備えた複数のメモリセルMCを含むメモリセルアレイ1
と、第1のアドレス信号AD1に従って複数の第1のワ
ード線WL11〜WL1nのうちの所定のワード線を選
択レベルとする第1のアドレスデコーダ2aと、第2の
アドレス信号AD2に従って複数の第2のワード線WL
21〜WL2nのうちの所定のワード線を選択レベルと
する第2のアドレスデコーダ2bと、出力端を第1のビ
ット線対(BL1j,BL2j)と接続し選択レベルの
第1のワード線(WL11〜WL1n)と対応するメモ
リセルMCに書込み用のデータDIjを供給する書込み
回路4jと、入力端を第2のビット線BL3jと接続し
この第2のビット線BL3jに伝達されたデータを外部
へ出力(DO2j)する読出し回路6jと、入力端を第
1のビット線対(BL1j,BL2j)と接続しこのビ
ット線対(BL1j,BL2j)に伝達されたデータを
外部へ出力する読出し回路5jと、第1のビット線対
(BL1j,BL2j)を所定のタイミングでプリチャ
ージするプリチャージ回路3とを有する構成となってい
る。
【0012】この実施例においては、第1のアドレスデ
コーダ2aにより例えば第1のワード線WL11が選択
レベルになり、この第1のワード線WL11が選択レベ
ルになりこの第1のワード線WL11と接続するメモリ
セルMCにデータが書込まれている(又はこのメモリセ
ルMCからデータが読出される)とき、第2のアドレス
デコーダ2bにより例えば第2のワード線WL21が選
択レベルとなってこの第2のワード線WL21と接続す
るメモリセルMC(前述のメモリセルと同一)からデー
タが読出されたとしても、第1のビット線対(BL1
j,BL2j)と第2のビット線BL3jとはインバー
タIV3により互いに隔離されるので、第1のビット線
対(BL1j,BL2j)と第2のビット線BL3jと
が互いに干渉しあうことがなく、従ってメモリセルMC
のデータが破壊されることはない。
【0013】図2は本発明の第2の実施例のメモリセル
部分の回路図である。
【0014】この実施例のメモリセルMCaは、バッフ
ァ回路を、ゲートをデータ保持部DHの第2のデータ入
出力端N2と接続しソースを基準電位点(接地電位点)
と接続しドレインを第2のトランスファゲートT3のソ
ース,ドレインの一方と接続するトランジスタQ1で形
成したもので、バッファ回路が簡略化されるという利点
がある。動作及び効果は第1の実施例と同様である。
【0015】図3は本発明の第3の実施例のメモリセル
部分の回路図である。
【0016】この実施例は、メモリセルMCbに複数の
インバータIV3,IV3a〜IV3x(バッファ回
路)及び第2のトランスファゲートT3,T3a〜T3
xを設け、これに伴って、複数の第2のビット線BL3
j,BL3ja〜BL3jx、複数の第2のワード線
(例えばWL21,21a〜21x)、図示していない
が、これらと対応する複数のアドレスデコーダ及び読出
し回路を設けたものである。
【0017】この実施例においては、複数の系統に同時
または非同期で読出しが可能となるほか、第1の実施例
と同様の効果がある。
【0018】図4は本発明の第4の実施例のメモリセル
部分の回路図である。
【0019】この実施例は、第1のビット線をそれぞれ
1本として複数(3本)設けこれらを書込み用(兼読出
し用)とし、読出し専用の第2のビット線を複数(3
本)設けた構成とし、これに伴ってメモリセルMCc
を、データ保持部DHの第1のデータ入出力端N1を第
1のビット線BL1a〜BL1cとの間にそれぞれ対応
して第1のトランスファゲートT1a〜T1cを接続
し、ゲートを共にデータ保持部DHの第2のデータ入出
力端N2と接続するバッファ回路のトランジスタQ1a
〜Q1cを設け、これらトランジスタQ1a〜Q1cの
ドレインと第2のビット線BL3a〜BL3cとの間に
それぞれ対応して第2のトランスファゲートT3a〜T
3cを接続した構成とし、第1のトランスファゲートT
1a〜T1cのオン,オフを第1のワード線WL1a〜
WL1cにより制御し、第2のトランスファゲートT3
a〜T3cのオン,オフを第2のワード線WL2a〜W
L2cにより制御する構成としたものである。
【0020】このような構成とすることにより、複数
(3個)のメモリセルMCeに対し同時または非同期で
書込みができ、かつこれら書込み動作と同時または非同
期で複数系統(3系統)の読出し動作が可能となる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、メモリセ
ルを、データ保持部の第1のデータ入出力端と第1のビ
ット線との間に接続された第1のトランスファゲート
と、入力端をデータ保持部の第2のデータ入出力端と接
続するバッファ回路と、このバッファ回路の出力端と第
2のビット線との間に接続された第2のトランスファゲ
ートとを備え、第1及び第2のトランスファゲートのオ
ン,オフをそれぞれ対応する第1及び第2のワード線に
より制御する構成とすることにより、第1のビット線に
よるデータの書込み,読出しと同時または非同期で第2
のビット線による読出しを行うことができ、かつビット
線のプリチャージが不充分の場合、ワード線のマルチセ
レクト状態の場合、同一メモリセルの同時読出しの場合
でも、第1及び第2のビット線間がバッファ回路で隔離
されるので、メモリセルのデータが破壊される危険性が
なくなるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例のブロック図及びメモリ
セル部分の回路図である。
【図2】本発明の第2の実施例のメモリセル部分の回路
図である。
【図3】本発明の第3の実施例のメモリセル部分の回路
図である。
【図4】本発明の第4の実施例のメモリセル部分の回路
図である。
【図5】従来の半導体記憶装置の第1の例のブロック図
及びメモリセル部分の回路図である。
【図6】従来の半導体記憶装置の第2の例のブロック図
及びメモリセル部分の回路図である。
【符号の説明】
1,1a,1b メモリセルアレイ 2,2a,2b アドレスデコーダ 3,3a プリチャージ回路 41,4m,41a〜4ma 書込み回路 51〜51m,61〜6m,61a〜6ma 読出し
回路 BL1a〜BL1c,BL3a〜BL3c,BL11〜
BL1m,BL21〜BL2m,BL31〜BL3m,
BL41〜BL4m ビット線 DH データ保持部 IV1〜IV3,IV3a〜IV3x インバータ MC,MCa〜MCe メモリセル Q1,Q1a〜Q1c トランジスタ T1〜T4 トランスファゲート WL1〜WLn,WL1a〜WL1c,WL2a〜WL
2c,WL11〜WL1m,WL21〜WL2n,WL
21a〜WL21x ワード線

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2のビット線と、複数の第1
    及び第2のワード線と、第1及び第2のデータ入出力端
    をもちこの第1のデータ入出力端に供給されたデータを
    保持しかつ保持しているデータを前記第1及び第2のデ
    ータ入出力端から出力するデータ保持部、ゲートを対応
    する前記第1のワード線と接続しソース,ドレインの一
    方を前記データ保持部の第1のデータ入出力端と接続し
    他方を前記第1のビット線と接続し前記対応する第1の
    ワード線が選択レベルのときオンとなる第1のトランス
    ファゲート、入力端を前記データ保持部の第2のデータ
    入出力端と接続するバッファ回路、並びにゲートを対応
    する前記第2のワード線と接続しソース,ドレインの一
    方を前記バッファ回路の出力端と接続し他方を前記第2
    のビット線と接続し前記対応する第2のワード線が選択
    レベルのときオンとなる第2のトランスファゲートをそ
    れぞれ備えた複数のメモリセルを含むメモリセルアレイ
    と、第1のアドレス信号に従って前記複数の第1のワー
    ド線のうちの所定のワード線を選択レベルとする第1の
    アドレスデコーダと、第2のアドレス信号に従って前記
    複数の第2のワード線のうちの所定のワード線を選択レ
    ベルとする第2のアドレスデコーダと、出力端を前記第
    1のビット線と接続し選択レベルの前記第1のワード線
    と対応するメモリセルに書込み用のデータを供給する書
    込み回路と、入力端を前記第2のビット線と接続しこの
    第2のビット線に伝達されたデータを外部へ出力する読
    出し回路とを有することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 メモリセルのバッファ回路をインバータ
    とした請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 メモリセルのバッファ回路を、ゲートを
    データ保持部の第2のデータ入出力端と接続しソースを
    基準電位点と接続しドレインを第2のトランスファゲー
    トのソース,ドレインの一方と接続するトランジスタで
    形成した請求項1記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 入力端を第1のビット線と接続し前記第
    1のビット線に伝達されたデータを外部へ出力する読出
    し回路を設けた請求項1記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 メモリセルに複数のバッファ回路及び第
    2のトランスファゲートを設け、これらバッファ回路及
    び第2のトランスファゲートとそれぞれを対応して複数
    の第2のビット線,第2のワード線,第2のアドレスデ
    コーダ及び読出し回路を設けた請求項1記載の半導体記
    憶装置。
  6. 【請求項6】 メモリセルに、それぞれソース,ドレイ
    ンの一方をデータ保持部の第1のデータ入出力端と接続
    する複数の第1のトランスファゲートを設け、これら第
    1のトランスファゲートとそれぞれ対応して複数の第1
    のビット線,第1のワード線,第1のアドレスデコー
    ダ,並びに書込み回路及び読出し回路のうちの少なくと
    も書込み回路を設けた請求項1または請求項4記載の半
    導体記憶装置。
JP4075022A 1992-03-31 1992-03-31 半導体記憶装置 Withdrawn JPH05282869A (ja)

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