JPH03204651A

JPH03204651A - 露光装置

Info

Publication number: JPH03204651A
Application number: JP2000243A
Authority: JP
Inventors: Takaharu Saito; 斉藤　敬治
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1990-01-05
Filing date: 1990-01-05
Publication date: 1991-09-06
Anticipated expiration: 2014-01-06
Also published as: JP2842650B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）・本発明はフィルム基板に設けられたレジスト膜にパタ
ーンを形成する露光装置、詳しくは液晶表示素子のフィ
ルム基板に形成されたレジスト膜に露光する露光装置に
関する。

（従来の技術）従来のこの種の露光装置としては、例えば第７図〜第９
図に示すようなものが知られている。第７図において、
符号１は長方形のガラス基板からなる露光マスクであり
、また符号２は露光マスク１に重ね合わされた同様に長
方形のフィルム基板である。上述の各部材のうち露光マ
スク１のフィルム基板２に対向する対向面には、第８図
に示すように、フィルム基板２に露光すべきパターン３
と、パターン３を挟み、第８図中左右両辺の中央部に位
置する円形で一対の位置合せマーク４．５が印刷により
形成されている。一方、フィルム基板２には、第９図に
示すように、露光マスク１の位置合せマーク４．５にそ
れぞれ対応して同ピ。

チ、同径で一対の位置決め孔６．７が穿設され、さらに
露光マスク１に対向する対向面には、露光マスク１のパ
ターン３が露光されるレジスト膜８が形成されている。

そして、第７図において、フィルム基板２のレジスト膜
８を露光マスク１のパターン３に対向させてフィルム基
板２を露光マスク１に重ね合わせ、目視によってフィル
ム基板２の位置決め孔６．７を露光マスク１の位置合せ
マーク４．５の位置合せした後で、片手でフィルム基板
２を押さえながら、例えば接着テープによりフィルム基
板２を露光マスク１に固定する。さらに、互いに位置合
せ、固定された露光マスク１、フィルム基板２を照射ボ
ックス９に収納し、光源１０の紫外線を露光マスク１を
通してフィルム基板２に投射し、フィルム基板２のレジ
スト膜８に露光マスク１のパターン３の露光が行われる
。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら、このような従来の露光装置にあっては、
フィルム基板２の位置決め孔６．７と露光マスク１の位
置合せマーク４．５を目視により位置合せし、さらにフ
ィルム基板２を片手で押さえながら接着テープによりフ
ィルム基板２を露光マスク１に固定するようになってい
たため、視差に基づく位置合せの誤差および接着テープ
を貼着する際のフィルム基板２のたわみによってフィル
ム基板２の露光マスク１に対する固定精度が低下し、そ
の結果フィルム基ｖｉ、２の露光精度が低下するという
不具合があった。また、フィルム基板２の位置合せ、固
定が手作業によって行われるため、その作業能率が低下
するという不具合があった。

（発明の目的）本発明は、上述のような従来技術の課題を背景としてな
されたものであり、予め位置決め機構により露光マスク
を上プレートに、また位置決めピンおよび吸着孔により
フィルム基板を下プレートにそれぞれ位置決め、固定し
、さらに粗位置決め機構および本位置決め機構を介して
上プレートを下プレートに取付けることにより、フィル
ム基板の固定精度を向上し、同時に作業を簡略化して、
露光精度および作業能率を向上することのできる露光装
置を提供することを目的としている。

（発明の構成）本発明は、上記目的達成のため、露光すべきパターンお
よび位置決めマークを有し、ガラス基板からなる露光マ
スクが装着される上プレートと、位置決め孔を有し、レ
ジスト膜が形成されたフィルム基板が定盤を介して載置
される下プレートと、を備え、露光マスクをフィルム基
板に密着させ、露光マスクを通して光源の光線を投射し
てフィルム基板のレジスト膜に露光マスクのパターンヲ
露光する露光装置であって、前記上プレートに設けられ
、露光マスクの外周に係合して位置決めマークを介して
露光マスクを予め位置決め、固定する位置決め機構と、
下プレートに設けられ、定盤を貫通して突出するととも
にフィルム基板の位置決め孔に嵌挿されてフィルム基板
を位置決めする位置決めビンと、下プレートの定盤に形
成され、真空圧が導入されてフィルム基板を定盤に吸着
、固定する多数の吸着孔と、上プレートに穿設されたガ
イド孔および下プレートに突設され、上プレートのガイ
ド孔に遊合するガイドポストからなる粗位置決め機構と
、上プレートに突設され、錘体状の突出端を有する基準
ピンおよび下プレートに設けられ、基準ピンの突出端が
係合する錐体状の凹部を有するガイド軸からなる本位置
決め機構と、上プレートに設けられ、進退自在な突出部
を有し、突出端の突出高さを表示可能な計測具および下
プレートに設けられ、計測具の突出部に対向するストッ
パからなり、粗位置決め機構および本位置決め機構を介
して上プレートが下プレートに１取付けられたときに、
計測具の表示に基づき上プレートおよび下プレートの間
隔を調節して露光マスクおよびフィルム基板の回着状態
を調節する間隔調節機構と、上プレートに突設され、粗
位置決め機構および本位置決め機構を介して上プレート
が下プレートに取付けられるときに、突出端が下プレー
トに当接して上プレートの降下速度を緩和する緩衝機構
と、を設けたことを特徴とするものである。

以下、本発明の実施例を図面に基づいて具体的に説明す
る。第１図〜第６図は本発明に係る露光装置の一実施例
を示す図である。

まず、構成を説明する。

第１図および第２図において、符号２１はガラス基板か
らなるほぼ正方形の露光マスクであり、露光マスク２１
の第１図中紙背側には、−点鎖線で示すパターン範囲内
に、例えば斜線で示すような露光すべきパターン２２が
所定のピッチで複数個印刷により形成されており、また
上下方向中央の左右に円形の位置決めマーク２３．２４
が同様に印刷によって形成されている。一方、符号２５
は表面にレジスト膜２６が形成されたフィルム基板であ
り、フィルム基板２５には左右一対の位置決め孔２７．
２８が穿設されている。そして、上述の露光マスク２１
は上プレート２９に装着され、またフィルム基板２５は
定盤３０を介して下プレート３１に載置される。さらに
、上プレート２９、下プレート３１を介して露光マスク
２１をフィルム基板２５に密着させ、第２図に示すよう
に、これら露光マスク２１、フィルム基板２５を上プレ
ート２９、定盤３０および下プレート３１とともに紫外
線ランプからなる光源３２を備えた照射ボックス３３に
収納し、光源３２の光線、すなわち紫外線を露光マスク
２１を通して投射してフィルム基板２５のレジスト膜２
６に露光マスク２１のパターン２２を露光するようにな
っている。なお、第１図および第２図において、符号３
４は定盤３０、下プレート３１を支持、固定するベース
プレートであり、ベースプレート３４に設けられたハン
ドル３５を把持して上プレート２９、定盤３０および下
プレート３１がベースプレート３４とともに照射ボック
ス３３に収納される。

第１図において、符号３６〜４３はそれぞれ上プレート
２９の４すみに一対ずつ設けられた８組の位置決め機構
であり、位置決め機構３６〜４３はそれぞれ第１図およ
び第３図に示すように、小径の先端部４４ａが上プレー
ト２９の４辺の外周に当接、係合し、基端部４４ｂが、
ホールダ４５を介して上プレート２９に水平に固定され
たマイクロメータ４４、スプリング力によって先端が露
光マスク２１の外周を押圧する押圧部材４６および露光
マスク２１の外周を上プレート２９に固定する固定プレ
ート４７からなっている。

なお、第２図に示すように、上プレート２９は、露光マ
スク２１の外周を固定プレート４７とともに挟持する周
縁の内方が長方形に開口されており、露光マスク２１を
透過する光源３２の紫外線が該開口を通してフィルム基
板２５に投射されるようになっている。一方、第２図に
おいて、符号４８．４９はそれぞれ下プレート３１に設
けられ、第１図に示すように定１３０の上下中央部で左
右一対の位置決めピンであり、位置決めピン４８．４９
の先端部４８ａ、４９ａは定盤３０を貫通し、基端部４
８ｂ、４９ｂは、下プレート３１の下面に、保持板５０
．５１を介して固着されたピンシリンダ５２．５３の上
端から突出するピン５２ａ、５３ａにそれぞれ当接して
いる。そして、ピンシリンダ５２．５３の下端のブツシ
ュ部５２ｂ、５３ｂが押圧されてピン５２ａ、５３ａが
それぞれ上昇すると位置決めピン４８．４９はフィルム
基板２５に向って上昇し、先端部４８ａ、４９ａがフィ
ルム基板２５の位置決め孔２７．２８に嵌挿されてフィ
ルム基板２５が定盤３０および下プレート３１上に位置
決めされる。すなわち、位置決めピン４８．４９は下プ
レート３１に設けられ、定盤３０を貫通して突出すると
ともにフィルム基板２５の位置決め孔２７．２８に嵌挿
されてフィルム基板２５を位置決めする機能を有する。

なお、第２図において、符号５４．５５はそれぞれ位置
決めピン４８．４９を下方向に付勢するスプリングであ
り、ビンシリンダ５２．５３のブツシュ部５２ｂ、５３
ｂが押圧されない場合には、位置決めピン４８．４９の
先端部４８ａ、４９ａを位置決め孔２７．２８から離隔
する機能を有する。さらに、第１図および第２図におい
て、符号５６は下プレート３１の定盤３０に穿設された
多数の吸着孔であり、吸着孔５６は、それぞれ第２図中
上端側の小径部５６ａおよび下端側の大径部５６ｂから
なり、小径部５６ａの上端はフィルム基板２５に向って
開口し、また大径部５６ｂの下端は定盤３０と下プレー
ト３１０間に画成された吸引室３０ａに連通している。

そして、吸引室３０ａは下プレート３１の排気管３１ａ
、配管５７および開閉弁５８を通して、例えばリングブ
ローアからなる真空源５９に連結されており、真空源５
９の真空圧が上記各部材を通して吸着孔５６に導入され
ると、吸着孔５６の小径部５６ａの先端がフィルム基板
２５を吸着し、定盤３０に固定するようになっている。

なお、フィルム基板２５の吸着、固定および解放は開閉
弁５８の開閉によって行われる。

第１図および第２図において、符号６１は、上プレート
２９に装着された露光マスク２１を、定盤３０に吸着、
固定されたフィルム基板２５に対して粗位置決めする粗
位置決め機構であり、また符号６２は同様に露光マスク
２１をフィルム基板２５に対して本位置決めする本位置
決め機構である。上記機構のうち粗位置決め機構６１は
、第２図に示すように、上プレート２９を上下方向に貫
通、固着されたリニアブツシュ６３に穿設されたガイド
孔６４および下プレート３１に上プレート２９のリニア
ブツシュ６３に向って突設されたガイドボスト６５から
なる。そして、上プレート２９に装着された露光マスク
２１が定盤３０に吸着、固定されたフィルム基板２５に
密着するように上プレート２９が定盤３０、下プレート
３１に取付けられたときに、ガイドボスト６５がガイド
孔６４に嵌挿されて前述のように露光マスク２１がフィ
ルム基板２５に対して大略の位置決めが行われる。なお
、ガイドボスト６５がガイド孔６４に嵌挿されたときに
、ガイドボスト６５はガイド孔６４と遊合状態にあり、
また、上述のように構成された粗位置決め機構６１は第
１図に示すように、上プレート２９および下プレート３
１の対角線上に一対で設けられている。したがって、上
プレート２９を下プレート３１に取付けるときには、一
対のハンドル６６．６７を把持してガイドボスト６５を
ガイド孔６４に容易に嵌挿することができ、また同時に
露光マスク２１の大略の位置決めを行うことができる。

さらに、粗位置決め機構６１を介しての上プレート２９
の下プレート３１への取付けおよび露光マスク２１のフ
ィルム基板２５に対する粗位置決めと同時に、本位置決
め機構６２による高精度の位置決めが自動的に行われる
。すなわち、本位置決め機構６２は第２図に示すように
、基端部６９ａが、上プレート２９に圧入されたブツシ
ュ６８に摺動自在に嵌挿され、さらに上プレート２９を
貫通し、下プレート３１に同って突設されて頂角が、例
えば６０’の錐体状の突出端６９ｂを有する基準ビン６
９および下プレート３１に基準ビン６９に対向して設け
られ、基準ビン６９の突出＠６９ｂが係合する頂角が６
０″の錐体状の凹部７０ａを有するガイド軸７ｏからな
っている。なお、符号７１はブツシュ６８の上端に設け
られたりテーナ７２と基準ビン６９の基端部６９ａの間
に介装されたスプリングであり、スプリング７１ば基準
ビン６９の突出端６９ｂが常に上プレート２９からガイ
ド軸７０に向って突出するように基準ビン６９を付勢し
ている。なお、このように構成された本位置決め機構６
２は、第１図に示すように、上プレート２９、下プレー
）３１０図中上下方向の中央部に一対設けられている。

そして、上述のように、一対の粗位置決め機構６１のガ
イドボスト６５がリニアブツシュ６３のガイド孔６４に
嵌挿されて上プレート２９が下プレート３１に取付けら
れると、一対の本位置決め機構６２の基準ピン６９の突
出部６９ｂがガイド軸７０の凹部７０ａに係合し、さら
に、朶端部６９ｂの頂点は凹部７０ａの斜面に案内され
て移動し、突端部６９ａの頂点が凹部７０ａの内部頂点
に一致したときに、上プレート２９に装着された露光マ
スク２１が定盤３０に固定されたフィルム基板２５に対
して自動的に本位置決めされるようになっている。

第１図および第４図において、符号７３は上プレート２
９および下プレート３１に亘って設けられた間隔調節機
構であり、また符号７４は上プレート２９に下プレート
３１に向って突設された緩衝機構としてのソフトアブソ
ーバである。上記機構のうち間隔調節機構７３は、第４
図に示すように、上フッート２９を貫通して突出部７５
ａが下プレート３１に向って突出するマイクロメータか
らなる計測具７５および計測具７５の突出部７５ａに対
向して下プレート３１に設けられたストンバフ６からな
る。そして、計測具７５は第４図中上部に設けられたダ
イヤル７５ｂを回転することにより突出部７５ａが進退
自在であり、同時にダイヤル７５ｂには突出部７５ａの
突出端の上プレート２９からの突出高さを表示可能であ
る。したがって、予め計測具７５のダイヤル７５ｂを回
転して計測具７５の表示に基づき突出部７５ａの突出高
さを調節することにより、上プレート２９が粗位置決め
機構６１および本位置決め機構６２を介して下プレート
３１に取付けられ、露光マスク２１がフィルム基板２５
に対して本位置決めされたときに、計測具７５の突出部
７５ａがストッパ７６に当接して上プレート２９および
下プレート３１の間隔を調節することができる。したが
って、露光マスク２１とフィルム基板２５の密着状態を
調節することが可能である。なお、上述の間隔ｍ！ｆｆ
機構７３は第１図に示すように、上プレート２９および
下プレート３１の４すみに４組設けられ、露光マスク２
１とフィルム基板２５の間隔の外に露光マスク２１のフ
ィルム基板２５に対する平行度を調節可能であり、した
がって露光マスク２１とフィルム基板２５の密着状態を
均一とすることができる。一方、ソフトアブソーバ７４
は、第４図に示すように、本体部７４ａが上プレート２
９を貫通して螺着され、粗位置決め機構６１および本位
置決め機構６２を介して上プレート２９が下プレート３
１に取付けられ、上プレート２９が粗位置決め機構６１
のガイドボスト６５に沿って下降するときに、ソフトア
ブソーバ７４の突出端である当接部７４ｂが下プレート
３１に当接して徐々に後退し、上プレート２９の降下速
度を緩和して円滑に上プレート２９が下プレート３１に
取付けられ、また本位置決め機構６２の本位置決め作用
もスムーズに行われるようになっている。

ここで、第６図は、第５図に示すように上プレート２９
に装着された露光マスク２１を前述の位置決め機構３６
〜４３により予め位置決めする際に使用される露光マス
ク調整治具８１を示す。なお、第６図に示す露光マスク
調整治具８１は第２図に示す吸着孔５６を除いた定盤３
０と同様な構成を有する治具用定盤８２および排気管３
１ａ、位置決めビン４８．４９、スプリング５４．５５
を除いた上プレート３１と同様な構成の治具用下プレー
ト８３からなり、第１図と同様な位置に粗位置決め機構
６１のガイドボスト６５および本位置決め機構６２のガ
イド軸７０が治具用下プレート８３に設けられている。

そして、第６図において、符号８４は、第１図および第
２図に示すフィルム基板２５と同形状、同一寸法で、同
一位置に位置決め孔２７．２８と同形状、同一寸法の透
孔８５．８６を有する治具用フィルム基板であり、治具
用フィルム基板８４は治具用定盤８２に載置され、さら
に治具用フィルム基板８４の透孔８５．８６にはそれぞ
れ冶具用定盤８２に設けられたガイドビン８７．８８が
嵌挿されて治具用定盤８２に位置決めされている。なお
、ガイドビン８７．８８はそれぞれ透孔８５．８６に嵌
挿される小径の先端部８７ａ、８８ａおよび治具用定盤
８２のガイド孔８２ａ、８２ｂに上下方向摺動自在に設
けられた大径の基端部８７ｂ、８８ｂからなる。そして
、治具用下プレート８３に螺着された止めねじ８９．９
゜とガイドピン８フ０基端部８７ｂ、ガイドピン８３０
基端部８８ｂの間にそれぞれ介装されたスプリング９１
．９２によって先端部８７ａ、８８ａが治具用定盤８２
がら突出して透孔８５．８６に嵌挿されるようになって
いる。そして、ガイドビン８７および８８は第１図およ
び第２図に示す位置決めピン４８．４９と同一の位置に
設けられており、したがって、治具用定盤８２に位置決
めされた治具用フィルム基板８４の透孔８５．８６が治
具用下プレート８３のガイドボスト６５およびガイド軸
７０に対して有する相対位置は、第１図および第２図に
示すフィルム基板２５の位置決め孔２７．２８が下プレ
ート３１のガイドボスト６５およびガイド軸７０対して
有する相対位置と全く同一となるように構成されている
。また、第５図に示す露光マスク２１が装着された上プ
レート２９およびその付属部材は第１図と同様であり、
したがって第１図と同様な符号を付して重複説明を省略
する。なお、第６図中符号９３．９４はそれぞれ露光マ
スク調整治具８１の搬送用のハンドルである。そして、
上述のように構成された第６図に示す露光マスク調整治
具８１に第５図に示す上プレート２９を露光マスク２１
の位置決め以前に取付けて露光マスク２１の位置決めを
予め実施することができる。すなわち、露光マスク２１
が装着された第５図に示す上プレート２９の粗位置決め
機構６１のガイド孔６４を露光マスク調整治具８Ｉのガ
イドボスト６５に嵌合し、上プレート２９を露光マスク
調整治具８１に取付ける。同時に、本位置決め機構６２
の基準ピン６９の突出部６９ｂがガイド軸７０のガイド
軸７０に係合して露光マスク２１を除き上プレート２９
が露光マスク調整治具８１に本位置決めされる。なお、
この際ハンドル６６．６７が利用され、かつ第４図に示
す計測具７５およびソフトアブソーバ７４が前述と同様
な機能を果たすことば勿論である。そして、ハンドル９
３．９４に把持されて露光マスク２１および上プレート
２９は露光マスク調整治具８１とともに図示しないモニ
ター付きの顕微鏡装置に搬送、セットされる。さらに、
該装置により露光マスク２１の位置決めマーク２３．２
４と治具用フィルム基板８４の透孔８５．８６のずれが
監視される。次いで、第１図に示す位置決め機構３６〜
４３のマイクロメータ４４がそれぞれ［ｆｆされ、上述
の位置決めマーク２３．２４が透孔８５．８６にそれぞ
れ一致した状態で位置決め機構３６〜４３の固定プレー
ト４７により露光マスク２１が固定され、露光マスク２
１の事前の位置決めが終了する。すなわち、位置決め機
構３６〜４３はそれぞれ露光マスク２１の外周に係合し
、位置決めマーク２３．２４を介して露光マスク２１を
予め上プレート２９に位置決め、固定する機能を有して
いる。

次に、作用を説明する。

第１図および第５図において、上プレート２９にパター
ン２２および位置決めマーク２３．２４を下向きとして
露光マスク２１が装着され、ハンドル６６．６７が把持
されて粗位置決め機構６１のガイド孔６４が第６図に示
す露光マスク調整治具８１のガイドボスト６５に嵌合さ
れる。上プレート２９の下降に伴い、本位置決め機構６
２の基準ピン６９の基端部６９ａが露光マスク調整治具
８１のガイド軸７０の凹部７０ａに係合して上プレート
２９が露光マスク調整治具８１に本位置決めされる。な
お、この際、露光マスク調整治具８１には治具用フィル
ム基板８４の透孔８５．８６にガイドピン８７．８８が
嵌挿されて治具用フィルム基板８４が既に治具用定盤８
２上に位置決めされている。

次いで、ハンドル９３．９４が把持されて露光マスク２
１、上プレート２９が露光マスク調整治具８１とともに
図示しない顕微鏡装置にセットされる。そして、該装置
により露光マスク２１の位置決めマーク２３および２４
と治具用フィルム基板８４の透孔８５および８６のずれ
を監視しながら、第１図に示す位置決め機ｌｌｌ３６〜
４３のマイクロメータ４４がそれぞれ調整される。そし
て、位置決めマーク２３および２４がそれぞれ透孔８５
および８６に一致した所で位置決め機構３６〜４３の固
定プレート４７により露光マスク２１が固定されて上プ
レート２９に位置決めされる。一方、第２図において、
フィルム基板２５はレジスト膜２６を上側として定盤３
０に載置され、さらにピンシリンダ５２．５３のブツシ
ュ部５２ｂ、５３ｂがブツシュされて位置決めピン４８
．４９の先端部４８ａ、４９ａが位置決め孔２７．２８
に嵌挿され、位置決めされる。次いで、開閉弁５８が開
かれて真空ｓｓ９の真空圧が配管５７、排気管３１ａお
よび吸引室３０ａを通して多数の吸着孔５６にそれぞれ
導入され、フィルム基ＩＦｊ２５が吸着、固定される。

そして、露光マスク調整治具８１から取り外された上プ
レート２９は下プレート３Ｉに取付けられるが、まず粗
位置決め機構６１のガイドボスト６５がリニアブツシュ
６３のガイド孔６４に嵌挿され、粗位置決めされた露光
マスク２１が上プレート２９とともに下降する。同時に
、第４図に示すソフトアブソーバ７４の当接部７４ｂが
下プレート３１に当接して上プレート２９の降下速度が
緩和され、スムーズな上プレート２９の取付けが行われ
る。第２図において、さらに上プレート２９が下降する
と、本位置決め機構６２の基準ピン６９の基端部６９ａ
がガイド軸７０の凹部７０ａに挿入、係合し、突出部６
９ｂの頂点が凹部７０ａの斜面に沿って案内される。そ
して、突出部６９ｂの頂点が凹部７０ａの内部の頂点に
一致した所で、露光マスク２１のフィルム基板２５に対
する本位置決−めが行われ、露光マスク２１の位置決め
マーク２３．２４がそれぞれフィルム基板２５の位置決
め孔２７．２８に一致する。なお、この際、第２図にお
いて、ビンシリンダ５２．５３のブツシュ部５２ｂ、５
３ｂのブツシュは解除されており、また露光マスク２１
とフィルム基板２５の間隔は第４図に示す計測具７５に
よってほぼ零に設定されており、計測具７５の突出部７
５ａがストッパ７６に当接することによって露光マスク
２１とフィルム基板２５が平行で、かつ良好な密着状態
となる。上述のように、上プレート２９に取付けられた
露光マスク２１は定盤３０に固定されたフィルム基Ｆｉ
２５に対して精度良（位置決めされた後、上プレート２
９および下プレート３１とともにハンドル３５を利用し
て第２図に示すように、照射ボックス３３に収納される
。そして、光源３２の紫外線が露光マスク２１を通して
フィルム基板２５に投射され、露光マスク２１のパター
ン２２がフィルム基板２５のレジスト膜２６に露光され
て一連の露光作業が終了する。なお、フィルム基板２５
の露光の際には、開閉弁５８が閉じられて吸着孔５６に
よるフィルム基板２５の吸着が解除されており、多数の
吸着孔５６による吸着によって部分的にフィルム基板２
５がへこみを生じて露光結果が悪化しないように配慮さ
れている。

このように、本実施例においては、予め位置決め機構３
６〜４３により露光マスク２１を上プレート２９に位置
決め、固定し、また位置決めビン４８．４９によりフィ
ルム基！ｔＩｉ、２５を下プレート３１の定盤３０に位
置決めし、さらに吸着孔５６に導入される真空源５９の
真空圧によってフィルム基板２５を定盤３０に吸着、固
定している。そして、粗位置決め機構６１および本位置
決め機構６２を介して上プレート２９を下プレート３１
に取付けているので、自動的に露光マスク２１のフィル
ム基板２５に対する精度の高い位置決めが可能である。

すなわち、粗位置決め機構６１のみで位置決めを行って
目視により露光マスク２１の位置決めマーク２３．２４
をフィルム基板２５の位置決め孔２７．２８に合わせる
ことがないので、視差による誤差あるいは作業能率の低
下を未然に解消することができる。したがって、フィル
ム基板２５の固定精度を向上し、同時に作業を簡略する
ことができるので、露光精度および作業能率をともに向
上することができる。

（効果）本発明によれば、予め位置決め機構により露光マスクを
上プレートに、また位置決めピンおよび吸着孔によりフ
ィルム基板を下プレートにそれぞれ位置決め、固定し、
さらに粗位置決め機構および本位置決め機構を介して上
プレートを下プレートに取付けているので、フィルム基
板の固定精度を向上し、かつ作業を簡略化することがで
きる。

したがって、本発明の目的とする露光精度および作業能
率を向上することのできる露光装置を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図は本発明に係る露光装置の一実施例を示
す図であり、第１図はその組立て状態の平面図、第２図
は第１図の■−■矢視断面図、第３図は第１図のｍ−ｍ
矢視断面図、第４図は第１図のＩＶ−ｒＶ矢視断面図、
第５図はその上プレートの第２図と同様な断面図、第６
図はその露光マスク位置決め治具の正面断面図である。第７図〜第９図は従来例を示す図であり、第７図はその
概略構成を示す正面断面図、第８図はその露光マスクの
斜視図、第９図はそのフィルム基板の斜視図である。２１・・・・・−露光マスク、２２・・・・・・パターン、２３．２４・・・・・・位置決めマーク、２５・・・・
・・フィルム基板、２６・・・・・・レジスト膜、２７．２８・・・・・・位置決め孔、２９・・・・−・上プレート、３０・・−・・・定盤、３１・・・・・・下プレート、３２・・・・・・光源、３６〜４３・・・・・・位置決め機構、４８．４９・・
・−・−位置決めピン、５６・・−・・−吸着孔、６１・・・・・・粗位置決め機構、６２・・・・・・本位置決め機構、６４・・・・・・ガイド孔、６５・・・・・・ガイドポスト、６９・・・・・・基準ピン、６９ｂ・・−・・・突出端、７０・・・・・・ガイド軸、７０ａ・・・・・−凹部、７３・・・・・・間隔調節機構、７４・・・・・・ソフトアブソーバ（緩衝機構）７４ｂ
・−・・・・当接部（突出端）７５・・・・・・計測具、７５ａ・・・・・・突出部、７６・・−・・・ストッパ。代理　人　弁理士　　有我手続補正書岨釦

Claims

【特許請求の範囲】

露光すべきパターンおよび位置決めマークを有し、ガラ
ス基板からなる露光マスクが装着される上プレートと、
位置決め孔を有し、レジスト膜が形成されたフィルム基
板が定盤を介して載置される下プレートと、を備え、露
光マスクをフィルム基板に密着させ、露光マスクを通し
て光源の光線を投射してフィルム基板のレジスト膜に露
光マスクのパターンを露光する露光装置であって、前記
上プレートに設けられ、露光マスクの外周に係合して位
置決めマークを介して露光マスクを予め位置決め、固定
する位置決め機構と、下プレートに設けられ、定盤を貫
通して突出するとともにフィルム基板の位置決め孔に嵌
挿されてフィルム基板を位置決めする位置決めピンと、
下プレートの定盤に形成され、真空圧が導入されてフィ
ルム基板を定盤に吸着、固定する多数の吸着孔と、上プ
レートに穿設されたガイド孔および下プレートに突設さ
れ、上プレートのガイド孔に遊合するガイドポストから
なる粗位置決め機構と、上プレートに突設され、錘体状
の突出端を有する基準ピンおよび下プレートに設けられ
、基準ピンの突出端が係合する錐体状の凹部を有するガ
イド軸からなる本位置決め機構と、上プレートに設けら
れ、進退自在な突出部を有し、突出端の突出高さを表示
可能な計測具および下プレートに設けられ、計測具の突
出部に対向するストッパからなり、粗位置決め機構およ
び本位置決め機構を介して上プレートが下プレートに取
付けられたときに、計測具の表示に基づき上プレートお
よび下プレートの間隔を調節して露光マスクおよびフィ
ルム基板の密着状態を調節する間隔調節機構と、上プレ
ートに突設され、粗位置決め機構および本位置決め機構
を介して上プレートが下プレートに取付けられるときに
、突出端が下プレートに当接して上プレートの降下速度
を緩和する緩衝機構と、を設けたことを特徴とする露光
装置。