JPS5963727A - 試料保持用テ−ブル装置 - Google Patents
試料保持用テ−ブル装置Info
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- JPS5963727A JPS5963727A JP57174808A JP17480882A JPS5963727A JP S5963727 A JPS5963727 A JP S5963727A JP 57174808 A JP57174808 A JP 57174808A JP 17480882 A JP17480882 A JP 17480882A JP S5963727 A JPS5963727 A JP S5963727A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、試料の傾きを補正するためのθテーブルを備
えだ試料保持用テーブル装置の改良に関する。
えだ試料保持用テーブル装置の改良に関する。
ＩＣの製造において、マスターマスク或いはレグクルに
・母ターン断線等の欠陥が存在すると、所望する半導体
素子を得ることができず、歩留り低下のｂ；１因となる
。このため、従来マスターマスクやレチクル等のツヤタ
ーン欠陥を自ｄ０１的に検査するパターン欠陥検査装置
が用いられている。この装置では、マスターマスクやレ
チクル等の試料をテーブル上に固定保持し、このテーブ
ルをＸ方向及びＹ方向に移動すると共にθ方向に回動し
、基準マーク等に対する試料の位置及び傾きを補正した
のち、所望の検査が行われる。
・母ターン断線等の欠陥が存在すると、所望する半導体
素子を得ることができず、歩留り低下のｂ；１因となる
。このため、従来マスターマスクやレチクル等のツヤタ
ーン欠陥を自ｄ０１的に検査するパターン欠陥検査装置
が用いられている。この装置では、マスターマスクやレ
チクル等の試料をテーブル上に固定保持し、このテーブ
ルをＸ方向及びＹ方向に移動すると共にθ方向に回動し
、基準マーク等に対する試料の位置及び傾きを補正した
のち、所望の検査が行われる。
第１図及び第２図はとの種の装置に用いられる試料保持
用テーブル装置の概略構成を示すもので、第１図は平面
図、第２図は第１図の矢視Ａ−Ａ断面図である。Ｘ−Ｙ
テーブル１上には、試料２を固定保持したθテーブル３
が載置されている。θテーブル３は、予圧ノ々ネ４及び
押えローラ５によりＸ−Ｙテーブル１上に支持され、Ｘ
＝Ｙテーブル１上の案内面でのすべり摩擦によって固定
されている。また、ｘ−Ｙテーブル１上にはモータ６及
び臂イクロメータヘッド７からなる駆動部が設けられ、
この駆動部によりθテーブル３が回動せられるものとな
っている。
用テーブル装置の概略構成を示すもので、第１図は平面
図、第２図は第１図の矢視Ａ−Ａ断面図である。Ｘ−Ｙ
テーブル１上には、試料２を固定保持したθテーブル３
が載置されている。θテーブル３は、予圧ノ々ネ４及び
押えローラ５によりＸ−Ｙテーブル１上に支持され、Ｘ
＝Ｙテーブル１上の案内面でのすべり摩擦によって固定
されている。また、ｘ−Ｙテーブル１上にはモータ６及
び臂イクロメータヘッド７からなる駆動部が設けられ、
この駆動部によりθテーブル３が回動せられるものとな
っている。
ソシテ、Ｘ−Ｙテーブル１の移動により試料２の位置が
規定され、θテーブル３の回動により試料２の傾きが補
正されるものとなっている・ところで、このような従来
のテーブル装置にあっては、θテーブル３の高い位置決
め精度と、位置決め後の高い安定性とを同時に得ること
ができないと云う問題があった。すなわち、θテーブル
３の高い位置決め精度を出すためには前記案内面での摩
擦係数を極めて小さくしなければならず、一方位置決め
後の高い安定性を得るには案内面での摩擦係数が大きい
程望ましい。
規定され、θテーブル３の回動により試料２の傾きが補
正されるものとなっている・ところで、このような従来
のテーブル装置にあっては、θテーブル３の高い位置決
め精度と、位置決め後の高い安定性とを同時に得ること
ができないと云う問題があった。すなわち、θテーブル
３の高い位置決め精度を出すためには前記案内面での摩
擦係数を極めて小さくしなければならず、一方位置決め
後の高い安定性を得るには案内面での摩擦係数が大きい
程望ましい。
前記した押えローラ５によるθテーブル３の保持では、
固定時及び回動時における案内面での摩擦係数は一定で
ある。このため、θテーブル３の位置決め精度或いは位
置決め後の安定性のいずれかを犠牲にしているのが現状
である。したがって、このようなテーブル装備をツクタ
ーン欠陥検査装置に用いた場合、位置決め誤差やＸ−Ｙ
テーブルの移動に伴うθテーブル３のすべり争によって
、試料の傾き誤差が発生し、検査精度の低下を招くこと
になる。なお、上記した問題は・ぐターン欠陥検査用の
テーブル装備に限らず、試料の傾きを補正する必要のあ
る各種のテーブル装置についても云えることである。
固定時及び回動時における案内面での摩擦係数は一定で
ある。このため、θテーブル３の位置決め精度或いは位
置決め後の安定性のいずれかを犠牲にしているのが現状
である。したがって、このようなテーブル装備をツクタ
ーン欠陥検査装置に用いた場合、位置決め誤差やＸ−Ｙ
テーブルの移動に伴うθテーブル３のすべり争によって
、試料の傾き誤差が発生し、検査精度の低下を招くこと
になる。なお、上記した問題は・ぐターン欠陥検査用の
テーブル装備に限らず、試料の傾きを補正する必要のあ
る各種のテーブル装置についても云えることである。
本発明の目的は、θテーブルの高い位置決め′ＪＦＮ度
及び位置決め後の高い安定性を得ることができ、パター
ン欠陥検査装置の朴査精度向上等に寄与し得る試料保持
用テーブル装置を提供することにある。
及び位置決め後の高い安定性を得ることができ、パター
ン欠陥検査装置の朴査精度向上等に寄与し得る試料保持
用テーブル装置を提供することにある。
本発明の骨子は、圧縮気体によるテーブルの浮上作用と
真空チャックとを利用し、θテーブルの案内面での摩擦
係数を固定時と回動時とで可変することにある。
真空チャックとを利用し、θテーブルの案内面での摩擦
係数を固定時と回動時とで可変することにある。
すなわち本発明は、試料を固定保持するθテーブルをペ
ース上に載置してなシ、かつθテーブルをペース上に固
定する機能及びθテーブルを回動せしめる機能を備えた
試料保持用テーブル装置において、上記ペースにこのペ
ース内を貫通し該ペースのθテーブルとの接触部に開口
する給排気孔を設け、θテーブルの固定時には上記給排
気孔を真空引きしてθテーブルをペース上に真空チャッ
クし、θテーブルの回動時には上記給排気孔に圧縮気体
を導入してθテーブルを浮上させるようにしたものであ
る。
ース上に載置してなシ、かつθテーブルをペース上に固
定する機能及びθテーブルを回動せしめる機能を備えた
試料保持用テーブル装置において、上記ペースにこのペ
ース内を貫通し該ペースのθテーブルとの接触部に開口
する給排気孔を設け、θテーブルの固定時には上記給排
気孔を真空引きしてθテーブルをペース上に真空チャッ
クし、θテーブルの回動時には上記給排気孔に圧縮気体
を導入してθテーブルを浮上させるようにしたものであ
る。
本発明によれば、θテーブルの回動［Ｔ４にはこのテー
ブルを浮上させることによシ極めて小さた摩擦力でθテ
ーブルをペース上に保持できるので、スティックスリッ
プ等の々いスムーズな動きでθテーブルを回動すること
ができる。このため、θテーブルの位置決め精度の向上
をはかり得、試料の傾き補正を高精度に行うことができ
る。また、θテーブルの固定時には真空チャックの真空
力によシ極めて大きな摩擦力でθ′テーブルをペース上
に固定保持できるので、ペースの移動停止に伴う加減速
度による慣性力に対してθテーブルが動くのを確実に防
止することができる。つまシ、θテーブルの位置合わせ
後の安定性の向上をはかシ得る。また、・母ターン欠陥
検査装置等には、オートフォカスのための空気ライン及
び真空チャ、りのための真空ラインが使用されており、
本発明をこの種の装置に適用した場合ペース内の給排気
孔への空気導入着しくは真空引きに上記各ラインを共用
できる等の効果がある。
ブルを浮上させることによシ極めて小さた摩擦力でθテ
ーブルをペース上に保持できるので、スティックスリッ
プ等の々いスムーズな動きでθテーブルを回動すること
ができる。このため、θテーブルの位置決め精度の向上
をはかり得、試料の傾き補正を高精度に行うことができ
る。また、θテーブルの固定時には真空チャックの真空
力によシ極めて大きな摩擦力でθ′テーブルをペース上
に固定保持できるので、ペースの移動停止に伴う加減速
度による慣性力に対してθテーブルが動くのを確実に防
止することができる。つまシ、θテーブルの位置合わせ
後の安定性の向上をはかシ得る。また、・母ターン欠陥
検査装置等には、オートフォカスのための空気ライン及
び真空チャ、りのための真空ラインが使用されており、
本発明をこの種の装置に適用した場合ペース内の給排気
孔への空気導入着しくは真空引きに上記各ラインを共用
できる等の効果がある。
第３図及び第４図はそれぞれ本発明の一実施例の概略構
成を示すもので、第３図は平面図、＠４図は第３図の矢
視Ｂ−Ｂ断面図である、図中１１は中央部を切欠された
ペースであり、このペース１１上にはθテーブル１２が
載置されている。ペース１１の内部には給排気用の透孔
（給排気孔）１３が設けられておシ、この給排気孔１３
はペース１１上面の上記θテーブル１２との接触部で４
個所開口し、さらにペース１１の側面で開口している。
成を示すもので、第３図は平面図、＠４図は第３図の矢
視Ｂ−Ｂ断面図である、図中１１は中央部を切欠された
ペースであり、このペース１１上にはθテーブル１２が
載置されている。ペース１１の内部には給排気用の透孔
（給排気孔）１３が設けられておシ、この給排気孔１３
はペース１１上面の上記θテーブル１２との接触部で４
個所開口し、さらにペース１１の側面で開口している。
ペース１１上面のθテーブル１２との接触部には上記開
口１３を含む凹部１４が形成されている。そして、給排
気口１３はペース１１の側面開口から圧縮空気を導入さ
れ、或いは真空引きされるものとなっている。θテーブ
ル１２は円板体の中央部を矩はその土面及び側面で開口
する排気孔１５が設けられている。そして、排気孔１５
をθテーブル１２の側面開口から真空引きすることにょ
シ、θテーブル１２上に試料１６が真空チャックされる
ものとなっている。
口１３を含む凹部１４が形成されている。そして、給排
気口１３はペース１１の側面開口から圧縮空気を導入さ
れ、或いは真空引きされるものとなっている。θテーブ
ル１２は円板体の中央部を矩はその土面及び側面で開口
する排気孔１５が設けられている。そして、排気孔１５
をθテーブル１２の側面開口から真空引きすることにょ
シ、θテーブル１２上に試料１６が真空チャックされる
ものとなっている。
一方、ペース１１の上面には、前記θテーブル１２を案
内保持する４個の案内部１７及びθテーブル１２を回動
する駆動部１８がそれぞれ設見られている。案内部ノ２
は第５図に第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面を示す如く固定軸１
９．ステ２０がθテーブル１２の側面に当接されてθテ
ーブル１２がペース１１上に保持されている。
内保持する４個の案内部１７及びθテーブル１２を回動
する駆動部１８がそれぞれ設見られている。案内部ノ２
は第５図に第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面を示す如く固定軸１
９．ステ２０がθテーブル１２の側面に当接されてθテ
ーブル１２がペース１１上に保持されている。
駆動部１８はノ４ルスモータ２３及びこのモータ２３の
回転を直進運動に変換するマイクロメータヘッド２４等
から々るもので、上記マイクロメータへ、ド２４はθテ
ーブル１２の側面に取府されたアーム２５に当接されて
いる。そして、このマイクロメータヘッド２４の伸縮に
ょシーθテーブル１２は回動するものとなっている。
回転を直進運動に変換するマイクロメータヘッド２４等
から々るもので、上記マイクロメータへ、ド２４はθテ
ーブル１２の側面に取府されたアーム２５に当接されて
いる。そして、このマイクロメータヘッド２４の伸縮に
ょシーθテーブル１２は回動するものとなっている。
−Ｉｌｂ、図中２６はモータ２３とマイクロメータヘッ
ド２４とを連結するだめのカップリング、２７はマイク
ロメータヘッド２４とアーム２５とを当接状態に保持す
るノ々ネを示している。
ド２４とを連結するだめのカップリング、２７はマイク
ロメータヘッド２４とアーム２５とを当接状態に保持す
るノ々ネを示している。
このような構成であれば、θテーブル１２の位置合わせ
時に前記給排気孔１３に圧縮空気を導入することにより
、θテーブル１２とペース１１との間に空気膜が形成さ
れ、θテーブル１２は僅かに浮上することになる。した
がって、θテーブル１２とペース１１と９摩擦は極めて
小さくなシ、駆動部１８によるθテーブル１２０回動ヲ
スムーズに行うことができる。このため・ θテーブル
１２の位置決りを高精度に行うことができ、試料１６の
傾きを確実に補正するとにより、θテーブル１２がペー
ス１ノ上に真空チャ、りされることになる。したがって
、θテーブル１２とペース１１との摩擦を極めて大きく
するととができ、ベースノ１の移動停止に伴う加減速度
による慣性力に対してもθテーブル１２が動く等の不都
合は生じない。このため、θテア％ル１２の位置合わせ
後の安定性向上をはかシ得る。また、従来装置に比して
、給排気孔１３を付加するのみの簡易な構造で実現し、
得る等の利点もある。
時に前記給排気孔１３に圧縮空気を導入することにより
、θテーブル１２とペース１１との間に空気膜が形成さ
れ、θテーブル１２は僅かに浮上することになる。した
がって、θテーブル１２とペース１１と９摩擦は極めて
小さくなシ、駆動部１８によるθテーブル１２０回動ヲ
スムーズに行うことができる。このため・ θテーブル
１２の位置決りを高精度に行うことができ、試料１６の
傾きを確実に補正するとにより、θテーブル１２がペー
ス１ノ上に真空チャ、りされることになる。したがって
、θテーブル１２とペース１１との摩擦を極めて大きく
するととができ、ベースノ１の移動停止に伴う加減速度
による慣性力に対してもθテーブル１２が動く等の不都
合は生じない。このため、θテア％ル１２の位置合わせ
後の安定性向上をはかシ得る。また、従来装置に比して
、給排気孔１３を付加するのみの簡易な構造で実現し、
得る等の利点もある。
第６図は本発明をパターン欠陥検査装置に適用した他の
実施例を示す概略構成図である。力お、第３図及び第４
図と同一部分には同一符号を伺して、その詳しい説明は
省略する。この実施例では、前記ペース１１に設けた給
排気孔１３及びθテーブル１２に設けた排気孔１５の側
面開口はそれぞれ１個所とした。また、試料１６として
はレチクルを用いた。さらに、ペース１ノは図に於いて
は簡略して示したがＸ方向（紙面左右方向）に移動可能
なＸテーブル上にＹ方向（紙面左右方向）に移動可能な
Ｙテーブルを載置した、所謂Ｘ−Ｙテーブルで構成され
たものとする。
実施例を示す概略構成図である。力お、第３図及び第４
図と同一部分には同一符号を伺して、その詳しい説明は
省略する。この実施例では、前記ペース１１に設けた給
排気孔１３及びθテーブル１２に設けた排気孔１５の側
面開口はそれぞれ１個所とした。また、試料１６として
はレチクルを用いた。さらに、ペース１ノは図に於いて
は簡略して示したがＸ方向（紙面左右方向）に移動可能
なＸテーブル上にＹ方向（紙面左右方向）に移動可能な
Ｙテーブルを載置した、所謂Ｘ−Ｙテーブルで構成され
たものとする。
レチクル１６の上方には、対物レンズ３１及び光検出素
子３２等を晒えた光学鏡筒３３が配植され、この光学鏡
筒３３は弾性部月３４を介して固定端に固定されている
。さらに、光学鏡筒３３はモータ３５．ウオーム３６．
ウヵームホイール３７及びネジ３８等からｋる駆動機構
によシ上下動されるものとかっている。光学鏡筒３３の
下部には空気の導入孔３９及び導出孔４０が設けられ、
導入孔３９には圧カセンザ４ノを備えた空気室４２を介
して圧縮空気ぎンペ４３から圧縮空気が導入されている
。空気室４２の入口には絞ｐｓｏが設けられている。そ
して、上記導入孔３９．導出孔４０．空気室４１及び圧
力センサ４２等からなる、所謂空気マイクロメータによ
シレチクル１６と光学鏡筒３３の下面との距離が検出さ
れるものとなっている。
子３２等を晒えた光学鏡筒３３が配植され、この光学鏡
筒３３は弾性部月３４を介して固定端に固定されている
。さらに、光学鏡筒３３はモータ３５．ウオーム３６．
ウヵームホイール３７及びネジ３８等からｋる駆動機構
によシ上下動されるものとかっている。光学鏡筒３３の
下部には空気の導入孔３９及び導出孔４０が設けられ、
導入孔３９には圧カセンザ４ノを備えた空気室４２を介
して圧縮空気ぎンペ４３から圧縮空気が導入されている
。空気室４２の入口には絞ｐｓｏが設けられている。そ
して、上記導入孔３９．導出孔４０．空気室４１及び圧
力センサ４２等からなる、所謂空気マイクロメータによ
シレチクル１６と光学鏡筒３３の下面との距離が検出さ
れるものとなっている。
一方、前記Ｘ−Ｙテーブル１ノの給排気孔Ｊ３には電磁
バルブ４４を介して前記圧縮空気デンペ４３が接続され
ると共に、電磁バルブ４５を介して真空ポンプ４６に接
続されている。
バルブ４４を介して前記圧縮空気デンペ４３が接続され
ると共に、電磁バルブ４５を介して真空ポンプ４６に接
続されている。
また前記θテーブル１２の排気孔１５には電磁バルブ４
７を介して上記真空ポンプ４６が接続され−ている。な
お、図中４８は光源、４９は集光レンズを示している。
７を介して上記真空ポンプ４６が接続され−ている。な
お、図中４８は光源、４９は集光レンズを示している。
このように構成された・やターン欠陥検査装置では、ま
ずＸ−Ｙテーブル１ノ及びθテーブル１２の移動により
レチクル１６の位置及び傾きが補正される。すなわち、
Ｘ−Ｙテーブル１１をＸ方向及びＹ方向に移動したのち
電磁バルブ４４．４７を開き、電磁バルブ４５を閉じた
状態でレチクル１６をθテーブル１２上に固定保持する
と共に、θテーブル１２を浮上させる。
ずＸ−Ｙテーブル１ノ及びθテーブル１２の移動により
レチクル１６の位置及び傾きが補正される。すなわち、
Ｘ−Ｙテーブル１１をＸ方向及びＹ方向に移動したのち
電磁バルブ４４．４７を開き、電磁バルブ４５を閉じた
状態でレチクル１６をθテーブル１２上に固定保持する
と共に、θテーブル１２を浮上させる。
そして、先の￥雄側と同様にしてθテーブル１２を回動
し、レチクル１２の傾きを補正する。
し、レチクル１２の傾きを補正する。
レチクル１６の傾きが補正されたのちは、前記電磁バル
ブ４４を閉じ、電磁バルブ４５を開く。
ブ４４を閉じ、電磁バルブ４５を開く。
これによシθテーブル１２はＸ−Ｙテーブル１ノ上に真
空チャ、りされることになる。これ以降は通常の操作に
よシ・やターン欠陥検査が行われる。すなわち、レチク
ル１６上に光源４８からの光をスポ１．ト照射し；その
透過光を対物レン５ｃ３１によシ光検出素子３２の受光
面に結像することによって、レチクル１６上の・母ター
ンが検査される。そして、レチクル１６に反り等の上下
動がある場合、この変位を前記空気マイクロメータにて
検出し、前記駆動機構によシ光学鏡筒３３を上下動する
ことによって、レチクル１６の反り等に追従して自動焦
点合わせが行われる。
空チャ、りされることになる。これ以降は通常の操作に
よシ・やターン欠陥検査が行われる。すなわち、レチク
ル１６上に光源４８からの光をスポ１．ト照射し；その
透過光を対物レン５ｃ３１によシ光検出素子３２の受光
面に結像することによって、レチクル１６上の・母ター
ンが検査される。そして、レチクル１６に反り等の上下
動がある場合、この変位を前記空気マイクロメータにて
検出し、前記駆動機構によシ光学鏡筒３３を上下動する
ことによって、レチクル１６の反り等に追従して自動焦
点合わせが行われる。
したがって、レチクル１６に反り等の上下動があっても
・母ターン検査を精度良く行うことができる。また、レ
チクル１６の傾きを補正する場合θテーブル１２を浮上
させることにょシ、さらにＸ−Ｙテーブル１ノを移動す
る場合このテーブル１１上にθテーブル１２を真空チャ
ックすることにより、先の実施例と同様にθテーブル１
２の位置決め精度及び位置決め後の安定性の向上を共に
達成することができる。また、本実施例では、θテーブ
ル１２の回動時に給排気孔１３に空気を導入するために
格別の空気ライン等を設ける必要はなく、・母ターン欠
陥検査装置に通常用いられている空気マイクロメータに
空気を導入するための圧縮空気ゼンペ４３を共用するこ
とができる。同様に、θテーブル１２の固定時に給排気
孔１３を真空引きするために格別の真空ライン等を設け
る必要々く、レチクル１６の真空チャックのための真空
ポンプ４６を共用することができる。
・母ターン検査を精度良く行うことができる。また、レ
チクル１６の傾きを補正する場合θテーブル１２を浮上
させることにょシ、さらにＸ−Ｙテーブル１ノを移動す
る場合このテーブル１１上にθテーブル１２を真空チャ
ックすることにより、先の実施例と同様にθテーブル１
２の位置決め精度及び位置決め後の安定性の向上を共に
達成することができる。また、本実施例では、θテーブ
ル１２の回動時に給排気孔１３に空気を導入するために
格別の空気ライン等を設ける必要はなく、・母ターン欠
陥検査装置に通常用いられている空気マイクロメータに
空気を導入するための圧縮空気ゼンペ４３を共用するこ
とができる。同様に、θテーブル１２の固定時に給排気
孔１３を真空引きするために格別の真空ライン等を設け
る必要々く、レチクル１６の真空チャックのための真空
ポンプ４６を共用することができる。
な卦、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記案内部としては、前記θテーブルの
側面に肖接し該テーブルをペース上に外内保持できるも
のであればよく、第７図に示す如き構成としてもよい。
ない。例えば、前記案内部としては、前記θテーブルの
側面に肖接し該テーブルをペース上に外内保持できるも
のであればよく、第７図に示す如き構成としてもよい。
又、テーブルを軸を中心として回動させる機構であって
もよい。さらに、前記ペースに設けた給排気孔の個数や
ペース上面での開口の個数等は、仕様に応じて適宜定め
ればよい。さらに、θテーブルによる試料の固定保持は
真空チャックに限るものでは々く、固定部材を用いたシ
、静電１チャックを用いてもよい。また、θテーブルの
形状や大へさ等は、仕様に応じて適宜変更ｂ］能である
。
もよい。さらに、前記ペースに設けた給排気孔の個数や
ペース上面での開口の個数等は、仕様に応じて適宜定め
ればよい。さらに、θテーブルによる試料の固定保持は
真空チャックに限るものでは々く、固定部材を用いたシ
、静電１チャックを用いてもよい。また、θテーブルの
形状や大へさ等は、仕様に応じて適宜変更ｂ］能である
。
さらに、鉋、６図の実施例に於いて、鏝部３３及びその
支持部材等をテーブル１２の下方に配＆ｆし〜光源４８
や集光レンズ４９をデープル１２の上方に配置し上下逆
としてもよい。そして、本発明は・ぐターン欠陥検査用
に限らず、試料の傾きを補正する必要のある各種のテー
ブル装ｆバに適用することが可能である。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施するこ
とができる。
支持部材等をテーブル１２の下方に配＆ｆし〜光源４８
や集光レンズ４９をデープル１２の上方に配置し上下逆
としてもよい。そして、本発明は・ぐターン欠陥検査用
に限らず、試料の傾きを補正する必要のある各種のテー
ブル装ｆバに適用することが可能である。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施するこ
とができる。
第１図は従来の試旧保持用テーブル氾バーの概略構成を
示す平面図、第２図は第１しＩの矢視Ａ−Ａ断面を示す
図、第３しＩＵ、本発明の一実施例の概略構成を示す平
面図、第４図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ貼面を示す図、第５
りＩは第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面を示す図、第６図は本発
明を・２ターン転写装置に適用した他の実施例を示す概
略拾成図、卯、７図は変形例を説明するための断面図で
ある。 １ノ・・・ベース（ｘ−ｙステージ）、１２・・・θテ
ーブル、１３・・・給排気孔、１４・・・凹部、１５・
・・排気孔、１６・・・試料（レチクル）、１７・・・
案内部、１８・・・駆動部、４３・・・圧縮空気日？ン
ペ、４４ｅ４５．４７・・・電磁バルブ、４６・・・真
空ポンプ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦矛１図 矛２図 矛３図 矛４図 矛６図 η
示す平面図、第２図は第１しＩの矢視Ａ−Ａ断面を示す
図、第３しＩＵ、本発明の一実施例の概略構成を示す平
面図、第４図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ貼面を示す図、第５
りＩは第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面を示す図、第６図は本発
明を・２ターン転写装置に適用した他の実施例を示す概
略拾成図、卯、７図は変形例を説明するための断面図で
ある。 １ノ・・・ベース（ｘ−ｙステージ）、１２・・・θテ
ーブル、１３・・・給排気孔、１４・・・凹部、１５・
・・排気孔、１６・・・試料（レチクル）、１７・・・
案内部、１８・・・駆動部、４３・・・圧縮空気日？ン
ペ、４４ｅ４５．４７・・・電磁バルブ、４６・・・真
空ポンプ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦矛１図 矛２図 矛３図 矛４図 矛６図 η
Claims (3)
- （１） ベース上に載置され試料を固宗保持するテー
ブルと、前記ベースに設けられ上記テーブルを回動方向
に案内保持する案内部と、前記ペース上に設けられ前記
テーブルを回動せしめる回動駆動部と、前記ベース内を
目通して設けられ該ベースの前記テーブルとの接触部に
開［コする給排気孔とを具備し、前記テーブルの固定面
には前記給排気孔を真空引きして上記テーブルを真空チ
ャックし、かつ前記デープルの回ル１１時には前記給排
気孔に圧縮気体を尋人して上記テーブルを浮上せしめる
ことを特徴とする試料保持用テーブル装置。 - （２）前記ベースは、Ｘ方向に移動可能なＸテーブル及
びとのＸテーブル上に載１直されたＹ方向に移動可能な
Ｙテーブルからなるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の試料保持用テーブル装置。 - （３） 前記テーブルは前記試料を固定保持するだめ
の排気孔を備えたものであり、この排気孔は前記へ−ス
に設けられた給排気孔と共に同一の真空ポンプに接続さ
れたものであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の試料保持用テーブル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174808A JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174808A JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5963727A true JPS5963727A (ja) | 1984-04-11 |
| JPH0473294B2 JPH0473294B2 (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=15985021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57174808A Granted JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5963727A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0317633U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-21 | ||
| JP2007019429A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5066174A (ja) * | 1973-10-12 | 1975-06-04 | ||
| JPS54762U (ja) * | 1977-06-06 | 1979-01-06 | ||
| JPS5435652U (ja) * | 1977-08-15 | 1979-03-08 | ||
| JPS5687318A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Toshiba Corp | Finely movable table |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP57174808A patent/JPS5963727A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5066174A (ja) * | 1973-10-12 | 1975-06-04 | ||
| JPS54762U (ja) * | 1977-06-06 | 1979-01-06 | ||
| JPS5435652U (ja) * | 1977-08-15 | 1979-03-08 | ||
| JPS5687318A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Toshiba Corp | Finely movable table |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0317633U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-21 | ||
| JP2007019429A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
| JP4606956B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2011-01-05 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0473294B2 (ja) | 1992-11-20 |
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