JPH04335696A - ホログラフィ露光装置 - Google Patents
ホログラフィ露光装置Info
- Publication number
- JPH04335696A JPH04335696A JP3135214A JP13521491A JPH04335696A JP H04335696 A JPH04335696 A JP H04335696A JP 3135214 A JP3135214 A JP 3135214A JP 13521491 A JP13521491 A JP 13521491A JP H04335696 A JPH04335696 A JP H04335696A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- exposed area
- screen
- alignment
- holographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001093 holography Methods 0.000 title abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば、ゾーンプレート
等の光学素子製造課程でホログラフィ露光を行う際に用
いるホログラフィ露光装置に関するものである。
等の光学素子製造課程でホログラフィ露光を行う際に用
いるホログラフィ露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ホログラフィ露光は、ホログラフィの干
渉縞によって生じるパターンをマスクなしに直接露光す
るものである。図３に、ホログラフィ露光の光路概念図
を示す。レーザー光源からの光をレンズ２１によってピ
ンホール２２に集光させた後、レンズ系２３によって前
焦点Ｆ１、後焦点Ｆ２に分ける。この２つの焦点に分け
られた光の干渉によるパターンがスクリーン２４上に形
成される。
渉縞によって生じるパターンをマスクなしに直接露光す
るものである。図３に、ホログラフィ露光の光路概念図
を示す。レーザー光源からの光をレンズ２１によってピ
ンホール２２に集光させた後、レンズ系２３によって前
焦点Ｆ１、後焦点Ｆ２に分ける。この２つの焦点に分け
られた光の干渉によるパターンがスクリーン２４上に形
成される。
【０００３】スクリーン２４にウエハのレジスト塗布面
を密着させると、レジストが感光され所望のパターンが
形成される。したがって露光の際には、被露光面におけ
るパターン像の露光されるべき部分とその近傍部（以下
、被露光領域と記す）が精度良く隙間のない状態で強く
スクリーンに押し付けられていなくてはならない。
を密着させると、レジストが感光され所望のパターンが
形成される。したがって露光の際には、被露光面におけ
るパターン像の露光されるべき部分とその近傍部（以下
、被露光領域と記す）が精度良く隙間のない状態で強く
スクリーンに押し付けられていなくてはならない。
【０００４】このようなホログラフィ露光においては、
像側の空間を利用したアライメント方法を用いることが
できないためウエハ被露光面の裏面側で位置合せをしな
ければならない。従来は、実施者の感覚で適当な位置に
くるようウエハを指で押した後軸で押えつける等の操作
を行っていた。
像側の空間を利用したアライメント方法を用いることが
できないためウエハ被露光面の裏面側で位置合せをしな
ければならない。従来は、実施者の感覚で適当な位置に
くるようウエハを指で押した後軸で押えつける等の操作
を行っていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来のアライメント法では、精度良く位置合せ
ができない。例えば、ウエハ裏面に開口部を設けて透過
窓を形成してなるゾーンプレートでは、被露光表面側の
透過窓に相当する位置にパターンが露光されなければな
らないが、従来法ではこのような位置合せを精度良く行
うことが困難であった。
たような従来のアライメント法では、精度良く位置合せ
ができない。例えば、ウエハ裏面に開口部を設けて透過
窓を形成してなるゾーンプレートでは、被露光表面側の
透過窓に相当する位置にパターンが露光されなければな
らないが、従来法ではこのような位置合せを精度良く行
うことが困難であった。
【０００６】また、レジスト塗布面をスクリーンに密着
させる際にはその間に浸液（純水または純水に界面活性
剤を添加したもの）を介しているため、ウエハ全体を押
しただけでは被露光領域を隙間や厚さむらのないフラッ
トな状態でスクリーンに密着させることができない。し
たがって被露光領域を中心に強く押し付ける必要がある
が、従来のアライメント法では適切な位置を維持したま
まウエハ中央を強く押し付けて固定することが困難であ
る等の問題があった。
させる際にはその間に浸液（純水または純水に界面活性
剤を添加したもの）を介しているため、ウエハ全体を押
しただけでは被露光領域を隙間や厚さむらのないフラッ
トな状態でスクリーンに密着させることができない。し
たがって被露光領域を中心に強く押し付ける必要がある
が、従来のアライメント法では適切な位置を維持したま
まウエハ中央を強く押し付けて固定することが困難であ
る等の問題があった。
【０００７】本発明は、上記問題を解消し、被露光領域
を隙間なくフラットな状態でスクリーンに押し付けて密
着させる共に、精度の良いアライメントを可能とするホ
ログラフィ露光装置を得ることを目的とする。
を隙間なくフラットな状態でスクリーンに押し付けて密
着させる共に、精度の良いアライメントを可能とするホ
ログラフィ露光装置を得ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本請求項１に記載の発明
に係るホログラフィ露光装置では、スクリーン上にホロ
グラフィによるパターンを形成し、前記スクリーンにウ
エハの被露光面を密着させて露光を行うホログラフィ露
光装置において、前記ウエハを露光光軸と平行な方向お
よび該軸と直交する平面内で移動させるステージと、前
記ウエハの被露光領域をスクリーンに密着させる押し付
け治具とを備えているものである。
に係るホログラフィ露光装置では、スクリーン上にホロ
グラフィによるパターンを形成し、前記スクリーンにウ
エハの被露光面を密着させて露光を行うホログラフィ露
光装置において、前記ウエハを露光光軸と平行な方向お
よび該軸と直交する平面内で移動させるステージと、前
記ウエハの被露光領域をスクリーンに密着させる押し付
け治具とを備えているものである。
【０００９】また、本請求項２に記載のホログラフィ露
光装置では、前記請求項１に記載のホログラフィ露光装
置において、前記ウエハの被露光領域の裏面に位置合せ
用マークが設けられ、該マークが基準位置と合うように
前記ステージを駆動して前記ホログラフィのパターン位
置と前記ウエハの被露光領域との位置合せを行うアライ
メント手段を更に備えているものである。
光装置では、前記請求項１に記載のホログラフィ露光装
置において、前記ウエハの被露光領域の裏面に位置合せ
用マークが設けられ、該マークが基準位置と合うように
前記ステージを駆動して前記ホログラフィのパターン位
置と前記ウエハの被露光領域との位置合せを行うアライ
メント手段を更に備えているものである。
【００１０】また、本請求項３に記載のホログラフィ露
光装置では、前記請求項２に記載のホログラフィ露光装
置において、前記押し付け治具に位置合せ用基準マーク
が設けられているものである。
光装置では、前記請求項２に記載のホログラフィ露光装
置において、前記押し付け治具に位置合せ用基準マーク
が設けられているものである。
【００１１】
【作用】本発明は、ウエハを露光光軸と平行な方向およ
び該軸と直交する平面内で移動させるステージと、ウエ
ハの被露光領域をスクリーンに密着させる押し付け治具
とを備えたホログラフィ露光装置であるため、ウエハを
適切な位置を保持したまま、被露光領域を隙間なくフラ
ットな状態でスクリーンに強く押し付けることができる
。
び該軸と直交する平面内で移動させるステージと、ウエ
ハの被露光領域をスクリーンに密着させる押し付け治具
とを備えたホログラフィ露光装置であるため、ウエハを
適切な位置を保持したまま、被露光領域を隙間なくフラ
ットな状態でスクリーンに強く押し付けることができる
。
【００１２】また、ウエハの裏面にアライメントマーク
を設け、そのマークが基準位置と合うようにステージを
駆動させるものであるので、被露光面の裏面側でしかア
ライメントができないホログラフィ露光であってもホロ
グラフィのパターン位置とウエハの被露光領域との位置
合せを精度良く行うことが可能である。さらに、押し付
け治具にも位置合せ用基準マークが設けてある場合、よ
りアライメント精度が向上する。
を設け、そのマークが基準位置と合うようにステージを
駆動させるものであるので、被露光面の裏面側でしかア
ライメントができないホログラフィ露光であってもホロ
グラフィのパターン位置とウエハの被露光領域との位置
合せを精度良く行うことが可能である。さらに、押し付
け治具にも位置合せ用基準マークが設けてある場合、よ
りアライメント精度が向上する。
【００１３】
【実施例】以下に図１，２を用いて本発明の一実施例に
係るホログラフィ露光装置を説明する。図１（ａ）にお
いて、チューブ４より減圧してウエハ固定台３をシリコ
ンウエハ２に吸着させる。露光光軸に平行方向及び光軸
に直交する平面内で移動可能なステージ５によって固定
台３を移動させてウエハを適切な位置に設定し、次に押
し付け治具６で被露光領域の裏面中央を強く押す。
係るホログラフィ露光装置を説明する。図１（ａ）にお
いて、チューブ４より減圧してウエハ固定台３をシリコ
ンウエハ２に吸着させる。露光光軸に平行方向及び光軸
に直交する平面内で移動可能なステージ５によって固定
台３を移動させてウエハを適切な位置に設定し、次に押
し付け治具６で被露光領域の裏面中央を強く押す。
【００１４】以上の操作によってレジスト塗布面１の被
露光領域は、浸液を介しながらも隙間なくフラットな状
態でスクリーン２４に密着させられる。ここで図２（ａ
）に示すように、ウエハ２の裏面の被露光領域に相当す
る位置にアライメントマーク１２を設け、顕微鏡８によ
ってマーク１２を基準位置に合せれば、ホログラフィの
パターン位置とウエハの被露光領域との位置合せが精度
良く行われる。さらに押し付け治具６にも図１（ｂ）に
ある十字線のような位置合せ基準マーク１１を設ければ
より位置合せ精度が向上する。
露光領域は、浸液を介しながらも隙間なくフラットな状
態でスクリーン２４に密着させられる。ここで図２（ａ
）に示すように、ウエハ２の裏面の被露光領域に相当す
る位置にアライメントマーク１２を設け、顕微鏡８によ
ってマーク１２を基準位置に合せれば、ホログラフィの
パターン位置とウエハの被露光領域との位置合せが精度
良く行われる。さらに押し付け治具６にも図１（ｂ）に
ある十字線のような位置合せ基準マーク１１を設ければ
より位置合せ精度が向上する。
【００１５】アライメントマークについては、ウエハ裏
面の後にエッチングして除去されるパターン内に備える
ことが望ましく、これによって、最終的に製造される光
学素子の仕上がりには影響がない。またアライメントマ
ークは、レジストをパターニングしたものやさらに若干
エッチングを行ったもの等が用いられ、図２（ａ）のよ
うなマークに限らず例えば図２の（ｂ）に示すような開
口用パターンの角等を利用することも可能である。
面の後にエッチングして除去されるパターン内に備える
ことが望ましく、これによって、最終的に製造される光
学素子の仕上がりには影響がない。またアライメントマ
ークは、レジストをパターニングしたものやさらに若干
エッチングを行ったもの等が用いられ、図２（ａ）のよ
うなマークに限らず例えば図２の（ｂ）に示すような開
口用パターンの角等を利用することも可能である。
【００１６】また、例えば製造したゾーンプレートをそ
のままＸ線顕微鏡等の光学系に組み込んで使用する場合
には、予めウエハ基板の所定位置に透過窓部が設けられ
ていればその光学系のアライメントが容易となるが、本
実施例で説明したアライメント手段を有するホログラフ
ィ露光装置ではそれが可能となる。即ち、ウエハを光学
系に設置したときの光軸と一致する位置に開口部用のパ
ターンを設け、その中心にアライメントマークを備えれ
ば、本発明の露光装置によって、所望の位置に精度良く
ゾーンプレートのパターンが露光できる。
のままＸ線顕微鏡等の光学系に組み込んで使用する場合
には、予めウエハ基板の所定位置に透過窓部が設けられ
ていればその光学系のアライメントが容易となるが、本
実施例で説明したアライメント手段を有するホログラフ
ィ露光装置ではそれが可能となる。即ち、ウエハを光学
系に設置したときの光軸と一致する位置に開口部用のパ
ターンを設け、その中心にアライメントマークを備えれ
ば、本発明の露光装置によって、所望の位置に精度良く
ゾーンプレートのパターンが露光できる。
【００１７】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、ウエハを
露光光軸と平行な方向および該軸と直交する平面内で移
動させるステージと、ウエハの被露光領域をスクリーン
に密着させる押し付け治具とを備えたホログラフィ露光
装置であるため、ウエハを適切な位置を保持したまま、
被露光領域を隙間なくフラットな状態でスクリーンに強
く押し付けることができる。
露光光軸と平行な方向および該軸と直交する平面内で移
動させるステージと、ウエハの被露光領域をスクリーン
に密着させる押し付け治具とを備えたホログラフィ露光
装置であるため、ウエハを適切な位置を保持したまま、
被露光領域を隙間なくフラットな状態でスクリーンに強
く押し付けることができる。
【００１８】また、ウエハの裏面にアライメントマーク
を設け、そのマークが基準位置と合うようにステージを
駆動させるものであるので、被露光面の裏面側でしかア
ライメントができないホログラフィ露光であってもホロ
グラフィのパターン位置とウエハの被露光領域との位置
合せを精度良く行うことが可能である。さらに、押し付
け治具にも位置合せ用基準マークが設けてある場合、よ
りアライメント精度が向上する。
を設け、そのマークが基準位置と合うようにステージを
駆動させるものであるので、被露光面の裏面側でしかア
ライメントができないホログラフィ露光であってもホロ
グラフィのパターン位置とウエハの被露光領域との位置
合せを精度良く行うことが可能である。さらに、押し付
け治具にも位置合せ用基準マークが設けてある場合、よ
りアライメント精度が向上する。
【００１９】また、このようなアライメント手段を用い
れば、例えばゾーンプレートを実際の光学系に組み込ん
だ際のアライメントを考慮し、任意の位置の開口部上に
予めパターンを形成しておくことができそれによって光
学系でのアライメントを容易にすることも可能となる等
の効果を有する。
れば、例えばゾーンプレートを実際の光学系に組み込ん
だ際のアライメントを考慮し、任意の位置の開口部上に
予めパターンを形成しておくことができそれによって光
学系でのアライメントを容易にすることも可能となる等
の効果を有する。
【図１】本発明の一実施例に係るホログラフィ露光装置
の概略側面図である。
の概略側面図である。
【図２】図１で説明したホログラフィ露光装置によって
露光されるシリコンウエハのアライメントマークの例を
示す図である。
露光されるシリコンウエハのアライメントマークの例を
示す図である。
【図３】従来のホログラフィ露光装置の概略の構成を示
す光路図である。
す光路図である。
１：レジスト塗布面
２：シリコンウエハ
３：ウエハ固定台
４：減圧用チューブ
５：駆動ステージ
６：押し付け治具
７：バネ
８：顕微鏡
９：固定治具
１０：ホログラフィ光学系
１１：位置合せ基準マーク
１２，１３：アライメントマーク
Ｆ１：前焦点
Ｆ２：後焦点
２４：スクリーン
Claims (3)
- 【請求項１】 スクリーン上にホログラフィによるパ
ターンを形成し、前記スクリーンにウエハの被露光面を
密着させて露光を行うホログラフィ露光装置において、
前記ウエハを露光光軸と平行な方向および該軸と直交す
る平面内で移動させるステージと、前記ウエハの被露光
領域をスクリーンに密着させる押し付け治具とを備えて
いることを特徴とするホログラフィ露光装置。 - 【請求項２】 前記ウエハの被露光領域の裏面に位置
合せ用マークが設けられ、該マークが基準位置と合うよ
うに前記ステージを駆動して前記ホログラフィのパター
ン位置と前記ウエハの被露光領域との位置合せを行うア
ライメント手段を更に備えていることを特徴とする前記
請求項１に記載のホログラフィ露光装置。 - 【請求項３】 前記押し付け治具に位置合せ用基準マ
ークが設けられていることを特徴とする前記請求項２に
記載のホログラフィ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3135214A JPH04335696A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホログラフィ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3135214A JPH04335696A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホログラフィ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04335696A true JPH04335696A (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=15146507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3135214A Pending JPH04335696A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホログラフィ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04335696A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004921A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Alps Electric Co Ltd | 高精度位置決め装置 |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP3135214A patent/JPH04335696A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004921A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Alps Electric Co Ltd | 高精度位置決め装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100427097B1 (ko) | 이면에얼라이먼트·마크가형성된작업편의투영노광방법및장치 | |
| US5160957A (en) | Alignment and exposure apparatus | |
| JP3445100B2 (ja) | 位置検出方法及び位置検出装置 | |
| JPS6324618A (ja) | 露光方法 | |
| JP4261849B2 (ja) | 近接場光を用いた露光方法及び、近接場光を用いる露光装置 | |
| JPS602772B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH08330222A (ja) | Ｘ線露光用マスク及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| JP3305188B2 (ja) | 原版、原版保持装置およびこれを用いた露光装置ならびにディバイス製造方法 | |
| KR19990045161A (ko) | 위치맞춤장치 및 투영노광장치 | |
| JP5652105B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH04335696A (ja) | ホログラフィ露光装置 | |
| JPH0729815A (ja) | マスクとワークとの位置合わせ装置およびそれを使用した位置合わせ方法 | |
| JPS61143759A (ja) | 見当合わせ孔を穿孔する前に版面を位置決めするための方法および該方法を実施するための装置 | |
| JPS6156868B2 (ja) | ||
| JPH1197327A (ja) | 露光装置のマスク取付機構 | |
| JPH07297115A (ja) | マスクとワークの位置合わせ方法および装置 | |
| JP2637412B2 (ja) | 位置あわせ方法 | |
| JPS60177982A (ja) | 両面マ−キング法 | |
| JPS60123028A (ja) | 露光装置 | |
| JP4331604B2 (ja) | 露光マスク装置及び露光マスクに多数の基板を整列する方法 | |
| JPS62248225A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2004045933A (ja) | 両面レジストパターン形成方法 | |
| JPH01120819A (ja) | 露光方法及びそれを用いた素子製造方法 | |
| JPH0142131B2 (ja) | ||
| JPH05224432A (ja) | マスクフィルムのアライメント装置 |