JPH03202156A - 高温排ガス用脱硝触媒 - Google Patents
高温排ガス用脱硝触媒Info
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- JPH03202156A JPH03202156A JP1338733A JP33873389A JPH03202156A JP H03202156 A JPH03202156 A JP H03202156A JP 1338733 A JP1338733 A JP 1338733A JP 33873389 A JP33873389 A JP 33873389A JP H03202156 A JPH03202156 A JP H03202156A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物(以下、N
OXという)を無害な窒素に還元する触媒に関し、更に
詳しくはボイラーやガスタービン排ガス、各種工業炉な
どから排出される燃焼排ガス中のNOXを500℃以上
の高温でアンモニアの存在下に還元分解する触媒に関す
る。
OXという)を無害な窒素に還元する触媒に関し、更に
詳しくはボイラーやガスタービン排ガス、各種工業炉な
どから排出される燃焼排ガス中のNOXを500℃以上
の高温でアンモニアの存在下に還元分解する触媒に関す
る。
現在、燃焼排ガス中のNOxの除去法としては、排ガス
中にアンモニアを添加し、触媒の存在下に無害な窒素に
する乾式接触還元法が主流となっており数多くの触媒が
知られている。例えば酸化チタンを主成分とし、活性金
属成分にバナジウム、タングステン、モリブデンなどを
用いたものがある。これらの触媒は実用的には200℃
〜450℃の排ガス温度の範囲で使用されており、それ
以上の温度では添加したアンモニアの酸化分解等によっ
て必ずしも十分な活性を示さない欠点がある。
中にアンモニアを添加し、触媒の存在下に無害な窒素に
する乾式接触還元法が主流となっており数多くの触媒が
知られている。例えば酸化チタンを主成分とし、活性金
属成分にバナジウム、タングステン、モリブデンなどを
用いたものがある。これらの触媒は実用的には200℃
〜450℃の排ガス温度の範囲で使用されており、それ
以上の温度では添加したアンモニアの酸化分解等によっ
て必ずしも十分な活性を示さない欠点がある。
これに対して、ガスタービン排ガスやガラス溶解炉など
のように排ガス温度が500℃以上で排出されるものが
ある。ガスタービン排ガスは一般に500〜600℃で
あり、ガラス溶解炉では450〜650℃のガスが排出
されるといわれている。そのためこのようなガスを従来
の触媒で処理するためには、−度、熱交換器等で排ガス
温度を下げてやる必要があり、脱硝システムが複雑にな
るという欠点があった。
のように排ガス温度が500℃以上で排出されるものが
ある。ガスタービン排ガスは一般に500〜600℃で
あり、ガラス溶解炉では450〜650℃のガスが排出
されるといわれている。そのためこのようなガスを従来
の触媒で処理するためには、−度、熱交換器等で排ガス
温度を下げてやる必要があり、脱硝システムが複雑にな
るという欠点があった。
本発明の目的は上記欠点をなくすため、500℃以上の
高温においてもNOxの除去率が高く実用的な触媒を提
供するところにある。
高温においてもNOxの除去率が高く実用的な触媒を提
供するところにある。
本発明は窒素酸化物を含有する排ガスにアンモニアガス
を添加し、反応温度500〜700℃の範囲において接
触的に窒素酸化物を還元除去する触媒であって、5I0
2/A1□03モル比が20以上である高シリカ型ゼオ
ライトにC8203換算でセリウムを0.5〜10wt
%担持してなることを特徴とする高温排ガス用脱硝触媒
である。
を添加し、反応温度500〜700℃の範囲において接
触的に窒素酸化物を還元除去する触媒であって、5I0
2/A1□03モル比が20以上である高シリカ型ゼオ
ライトにC8203換算でセリウムを0.5〜10wt
%担持してなることを特徴とする高温排ガス用脱硝触媒
である。
すなわち、本発明触媒は、触媒担体として従来触媒が酸
化チタンを用いているのに対して、耐熱安定性のすぐれ
た高シリカ型ゼオライトを用い、活性成分としてはセリ
ウムを用いた点にある。
化チタンを用いているのに対して、耐熱安定性のすぐれ
た高シリカ型ゼオライトを用い、活性成分としてはセリ
ウムを用いた点にある。
高シリカ型ゼオライトは、その結晶構造がZSM−5型
のもので、その組成が5I02/A1103モル比で2
5以上が耐熱及び耐SOx性の面で好ましく、活性成分
のセリウムはC8J]+換算で0.5wt%〜10wt
%の添加量が性能面から好ましい範囲である。
のもので、その組成が5I02/A1103モル比で2
5以上が耐熱及び耐SOx性の面で好ましく、活性成分
のセリウムはC8J]+換算で0.5wt%〜10wt
%の添加量が性能面から好ましい範囲である。
触媒の調製はセリウムの硝酸塩、ハロゲン化物、硫酸塩
水溶液を高シリカゼオライト担体に含浸あるいはイオン
交換し乾燥した後、300〜600℃の温度で焼成して
行う。触媒の形状は粒状、円柱状、ハニカム形状などに
目的に応じて成型して用い、触媒の強度を得るため、グ
ラスファイバーや無機粘土などを添加してもよい。
水溶液を高シリカゼオライト担体に含浸あるいはイオン
交換し乾燥した後、300〜600℃の温度で焼成して
行う。触媒の形状は粒状、円柱状、ハニカム形状などに
目的に応じて成型して用い、触媒の強度を得るため、グ
ラスファイバーや無機粘土などを添加してもよい。
本発明の触媒が500℃以上の高温で高活性を達成する
理由は、必ずしも明確ではないが、一つには触媒担体に
用いた高シリカゼオライトの固体酸性に起因しているも
のと思われる。
理由は、必ずしも明確ではないが、一つには触媒担体に
用いた高シリカゼオライトの固体酸性に起因しているも
のと思われる。
NLを添加して接触的に排ガス中のNOXを除去する触
媒として高シリカ型のゼオライトを用いたものとしては
、例えば特開昭61−38225号公報にZSM−5型
高シリカゼオライトに白金あるいはニッケルを含有させ
た触媒の提案があるが、このものはその実施例において
ガス温度が最高427℃までのデータしり\示されてお
らず、500℃以上の高温下での効果については言及さ
れていない。
媒として高シリカ型のゼオライトを用いたものとしては
、例えば特開昭61−38225号公報にZSM−5型
高シリカゼオライトに白金あるいはニッケルを含有させ
た触媒の提案があるが、このものはその実施例において
ガス温度が最高427℃までのデータしり\示されてお
らず、500℃以上の高温下での効果については言及さ
れていない。
第1図に従来触媒に用いられている酸化チタンと本発明
触媒に用いた高シリカゼオライトの固体酸性度を、ピリ
ジン吸着TPD法によって調べたTPDクロマトグラム
を示したが、高シリカゼオライトは酸化チタンに比べて
酸量も多く、また、強い酸点が多いことがわかる。アン
モニアによるNOXの接触還元は触媒に吸着したアンモ
ニアとガス側のNOXが反応するRedealBusy
機構によるとされており、第1図にみられる高シリカゼ
オライトの強酸点の存在により、これを適用した本発明
の触媒は500℃以上の高温になってもアンモニアの触
媒への吸着が有効に生じることにより、高活性を維持す
るものと思われる。
触媒に用いた高シリカゼオライトの固体酸性度を、ピリ
ジン吸着TPD法によって調べたTPDクロマトグラム
を示したが、高シリカゼオライトは酸化チタンに比べて
酸量も多く、また、強い酸点が多いことがわかる。アン
モニアによるNOXの接触還元は触媒に吸着したアンモ
ニアとガス側のNOXが反応するRedealBusy
機構によるとされており、第1図にみられる高シリカゼ
オライトの強酸点の存在により、これを適用した本発明
の触媒は500℃以上の高温になってもアンモニアの触
媒への吸着が有効に生じることにより、高活性を維持す
るものと思われる。
(実施例−1〜7)
Si02/Al2O3モル比=35のZSM−5型構造
をした高シリカゼオライトに、硝酸セリウム水溶液を含
浸し、100℃で乾燥後、600℃、3時間電気炉で焼
成し、セリウム含有量がCe2O3換算で0.3wt%
、0.5wt%、1wt%、3wt%、5wt%、10
wt%、15wt%の触媒粉末を得た。
をした高シリカゼオライトに、硝酸セリウム水溶液を含
浸し、100℃で乾燥後、600℃、3時間電気炉で焼
成し、セリウム含有量がCe2O3換算で0.3wt%
、0.5wt%、1wt%、3wt%、5wt%、10
wt%、15wt%の触媒粉末を得た。
得られた触媒粉末をそれぞれ実施例−1、実施例−2、
実施例−3、実施例−4、実施例−5、実施例−6、実
施例−7とする。
実施例−3、実施例−4、実施例−5、実施例−6、実
施例−7とする。
(実施例−8〜14)
SiO□/Al2O3モル比=25のZSM−5型構造
をした高シリカゼオライトを用いた以外は実施例−1と
同様にしてセリウム含有率がCeJ3換算で0.3wt
%、0.5vit%、1wt%、31Iit%、5wt
%、10wt%、15wt%の触媒粉末を得た。
をした高シリカゼオライトを用いた以外は実施例−1と
同様にしてセリウム含有率がCeJ3換算で0.3wt
%、0.5vit%、1wt%、31Iit%、5wt
%、10wt%、15wt%の触媒粉末を得た。
それぞれ実施例−8、実施例−9、実施例10、実施例
−11、実施例−12、実施例13、実施例−14とす
る。
−11、実施例−12、実施例13、実施例−14とす
る。
(実験例)
得られた触媒粉末を次に示す条件で脱硝性能を調べた。
ガス温度 500℃、550℃
触媒量 10mg
ガス量 100 Ncc/min
ガス組成
No 500 ppm
NL 500ppm
02 5%
残 He
比較例として従来型のTi0z ML (8wt%)粉
末についても測定を行った。
末についても測定を行った。
結果を表1に示した。
比較例の従来型触媒に比べて、実施例のセリウム0.5
wt% (Ce2L換算) 以上の触媒は特に550℃
で性能がすぐれていることがわかる。
wt% (Ce2L換算) 以上の触媒は特に550℃
で性能がすぐれていることがわかる。
またセリウムの含有量は10wt% (CB203換算
)を越えてもあまり性能向上の効果はない。
)を越えてもあまり性能向上の効果はない。
本発明によって500〜700℃のような高温下におい
ても、NH,による選択還元によって、NOXを無害化
する触媒が提供される。
ても、NH,による選択還元によって、NOXを無害化
する触媒が提供される。
第1図は本発明の実施例に用いた高シリカゼオライト及
び従来触媒担体である酸化チタンの固体酸特性を示すピ
リジン吸着TPDクロマトグラムを示す図表である。
び従来触媒担体である酸化チタンの固体酸特性を示すピ
リジン吸着TPDクロマトグラムを示す図表である。
Claims (1)
- 窒素酸化物を含有する排ガスにアンモニアガスを添加し
、反応温度500〜700℃の範囲において接触的に窒
素酸化物を還元除去する触媒であって、SiO_2/A
l_2O_3モル比が20以上である高シリカ型ゼオラ
イトにCe_2O_3換算でセリウムを0.5〜10w
t%担持してなることを特徴とする高温排ガス用脱硝触
媒。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338733A JPH03202156A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
EP19900250315 EP0435412B1 (en) | 1989-12-28 | 1990-12-19 | Denitration catalyst for high-temperature exhaust gas |
DK90250315T DK0435412T3 (da) | 1989-12-28 | 1990-12-19 | Denitreringskatalysator til højtemperaturrøggas |
DE1990626054 DE69026054T2 (de) | 1989-12-28 | 1990-12-19 | Entstickungskatalysator für Abgase hoher Temperatur |
CA 2033291 CA2033291C (en) | 1989-12-28 | 1990-12-27 | Denitration catalyst for high-temperature exhaust gas |
US07/961,116 US5271913A (en) | 1989-12-28 | 1992-10-14 | Denitration catalyst for high-temperature exhaust gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338733A JPH03202156A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03202156A true JPH03202156A (ja) | 1991-09-03 |
Family
ID=18320951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1338733A Pending JPH03202156A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03202156A (ja) |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP1338733A patent/JPH03202156A/ja active Pending
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