JPH03173685A - 光学記録媒体 - Google Patents

光学記録媒体

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JPH03173685A
JPH03173685A JP1313139A JP31313989A JPH03173685A JP H03173685 A JPH03173685 A JP H03173685A JP 1313139 A JP1313139 A JP 1313139A JP 31313989 A JP31313989 A JP 31313989A JP H03173685 A JPH03173685 A JP H03173685A
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JP
Japan
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group
substituent
tables
alkyl group
formulas
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Pending
Application number
JP1313139A
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English (en)
Inventor
Takeshi Sato
威 佐藤
Shuji Miyazaki
修次 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP1313139A priority Critical patent/JPH03173685A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー光線によって、情報を書込んだり、
読み取ったりすることが可能な光学記録媒体に関する。
(従来の技術) 従来、レーザー光線を用いて、情報を記録し読み取る光
学記録媒体としては2種々のものが知られている。その
一つに、レーザー光線を基板上の記録層に照射して、照
射部分に融解、蒸発9分解などの変化を生じさせて記録
を行なうものがある。
このような光学記録媒体の記録層としては、As。
Te、Se、Tiなどの金属や合金の薄膜層が用いられ
てきた。これら金属や合金の薄膜層を記録層とする光学
記録媒体は、一般に、書込み感度が高く。
記録再生光学系を小型化できる半導体レーザーを適用で
きると言う特長があるが、熱伝導率が大であるなどの理
由により、記録時にレーザー光線のエネルギーを効率よ
く利用できないという欠点があった。
また、これらの記録層は、化学的に不安定であり劣化す
ることがあった。
このため、特開昭57−82093号公報、特開昭58
−56892号公報、特開昭60−89842号公報、
特開昭60−150243号公報などにより、記録層と
して有機薄膜層を用い、比較的長波長の例えば780n
m以上のレーザー光線により情報の書込みや読取りを行
なう光学記録媒体が提案された。このような光学記録媒
体では、記録再生光学系の小型化が可能な半導体レーザ
ーによる融解、蒸発1分解などによって、有機薄膜層に
容易に微小な凹部(ピント)を形成させることができる
ものの半導体レーザー光線に対する吸光係数が小さく、
記録感度が十分ではないなどの欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、従来の有機薄膜記録層を有する光学記録媒体
の種々の欠点をを改良し、化学的・物理的にできる1特
定のフタロシアニン系化合物を用いた光学記録媒体を提
供するものである。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明は、基板上に、下記一般式(1)で示されるフタ
ロシアニン系化合物の少なくとも1種以上を含存する有
機薄膜層を設けてなる光学記録媒体である。
(以下余白) Mは、Al、Ga、In、Si、Ge、またはSnを表
わす。
Xは、互いに同一でもあっても異なっていてもよく、置
換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい
アリール基、置換基を有してもよい複素環残基、置換基
を有してもよいフタルイミドメチル基、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基、−0R1,−8R
2−coOR3CHz  N HCOCHt  N  
 R”R1+ −NHCOR”、−N=NR’!、または−N=Cf(
R”を表わす。
R1,R2,R″、  R4,R5,R6,R8,R9
゜R10およびR”は、互いに同一であっても異なって
いてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアリール基。
置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル基、または置換基を有していて
もよいポリエーテル基を表わし、または一般式(1) 〔式中、環A I 、 A 4は、それぞれ独立に。
R6とR7とで R8とR9とで、あるいはRIGとR
1+とで、4〜7員環を形成していてもよく、これらの
4〜7員環は、さらにちっ素原子、酸素原子いおう原子
を含む複素環であってもよい。
R”I  R1″およびR”は、互いに同一であっても
異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基
、置換基を存してもよいシクロアルキル基、または置換
基を有してもよいアリール基を表わす。
Zは、水素、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有0 または−〇−3e−R”を表わす。
RI5. R16t R”、 R22,R2″、  R
”、  R25,R26R27およびR3tは、互いに
同一であっても異なっていてもよく、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置
換基を有してもよいアシル基5置換基を有してもよいシ
クロアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、
置換基を有してもよいアリロキシ基、置換基を有しても
よいポリエーテル基、水酸基、またはハロゲン原子を表
わす。
R1,RIa、  R19,RZo、  R211,R
29,R3GオヨびR”は、互いに同一であっても異な
っていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよい了り−ル基、置換基を有してもよい
アシル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置
換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよ
いアリロキシ基、置換基を有してもよいポリエーテル基
、水酸基、ハロゲン原子、または水素原子を表わす。
Wは、O,S、SeまたはTeを表わす。
k、j!、m、nは、それぞれ独立にO〜8の整数を表
わす。
pは、0または1を表わす。〕 本発明にかかわる一般式〔■〕で示される化合物におい
て、X、Z、およびR1ないしR3gを構成する原子お
よび基の代表例として、ハロゲン原子としては、塩素原
子、臭素原子、よう素原子、およびふっ素原子を、置換
基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、n−
ブチル基、 tert−ブチル基。
ステアリル基、トリクロロメチル基52−メトキシエチ
ル基などを、置換基を有してもよいアリール基としては
、フェニル基、クロロフェニル基、トルイル基、ナフチ
ル基、アントリル基、ジメチルアミノフェニル基、ヒド
ロキシフェニル基、ジエチルアミノナフチル基、ヒドロ
キシナフチル基などを、置換基を有してもよいシクロア
ルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロブチル基
などを、置換基を有してもよいアシル基としては、アセ
チル基、トリフルオロアセチル基などを、置換基を有し
てもよいポリエーテル基としては、ジエチレングリコー
ルモノエチル基、トリエチレングリコールモツプチル基
などを、置換基を有してもよい複素環基としては、ピ1 2 リジル基、フリル基、チアゾリル基、ピペラジニル基1
モルホリル基などを、また、置換基を有してもよいフタ
ルイミドメチル基としては、フタルイミドメチル基、ニ
トロフタルイミドメチル基、 tert−ブチルフタル
イミドメチル基、メトキシフタルイミドメチル基、ジク
ロロフタルイミドメチル基などをそれぞれあげることが
できるが、これらの基に限定されるものではない。
本発明において、一般式(1)で示される化合物は1例
えば、以下の方法により製造することができる。
すなわち、下記一般式(n)で示されるイソインドレニ
ン化合物と各種金属塩とから、あるいは、カルボン酸無
水物類、イミド類、またはニトリル類を出発原料として
常法により、一般式(I[l)で示されるフタロシアニ
ン系化合物を製造する。
一般式(n) H 1 〔式中 Al〜’ 、X、に、l、m、nは、一般式〔
I〕における意味と同じ意味を表わす。〕一般般式II
I) 〔式中、環A■〜’ 、 M、 X、 k、  l、 
m、 nおよびpは、一般式〔■]における意味と同じ
意味を表わす。〕 次に、得られた一般式(II)で示されるフタロシアニ
ン系化合物に2種々のりん化合物またはセレン化合物を
反応させることにより、一般式(T)で示されるフタロ
シアニン系化合物を製造することができる。
3 4 本発明において用いられる一般式CI)で示されるフタ
ロシアニン系化合物の代表例としては1次ぎのフタロシ
アニン系化合物(a)〜(S)をあげることができる。
(以下余白) 5 H (d) 7 (b) 18− 19 2 〇− 2 −24− 本発明において用いられる基板としては、信号の書き込
みや読み出しを行なうための光の透過率が。
好ましくは85%以上であり、かつ光学異方性の小さい
ものが望ましい。例えば、ガラス、またはアクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリス
チレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂(ポリ−4−メチル
ペンテンなど)、ポリエーテルスルホン樹脂などの熱可
塑性樹脂やエポキシ樹脂。
アリル樹脂などの熱硬化樹脂からなる基板があげられる
。これらの中で、成形のし・やすさ、案内溝・やアドレ
ス信号などの付与のしやすさなどから熱可塑性樹脂から
なるものが好ましく、さらに光学特性・や機械的特性か
らアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂からなるものが
特に望ましい。
本発明において、これらの透明な基板の厚さは。
特に制限がなく、板状でもフィルム状でもよい。また、
その形状は9円形状やカード状でもよく、その大きさに
は特に制限はない。
また、基板には1通常、記録および読み出しの際の位置
制御のための案内溝・やアドレス信号や各種マ6 −クなどのプリフォーマット用の凹凸があるが、これら
の凹凸は前記したような熱可塑性樹脂を成形(射出成形
、圧縮成形など)する際にスタンバ−などを用いて付与
することが、好ましい。
本発明の光学記録媒体において、フタロシアニン系化合
物を含有する有機薄膜層を基板上に形成する方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法1.−イオンプレー
ト法およびLB法(ラングミュアブロジェット法)など
の方法があるが、これらの方法は操作が燈雑であり、生
産性が低く、また、−能代(1)で示されるフタロシア
ニン系化合物は、従来の有機薄膜層を有する光学記録媒
体に用いられている有機色素に較べ、!常の有機溶媒に
対する溶解性がはるかに窩いので スピンコーク−など
を用いる塗布法が最も有利である。塗布法によって記録
層である有機薄膜層を形成する場合には、フタロシアニ
ン系化合物をアルコール類、ケトン類、アミド類スルホ
キシド類、エーテル類、エステル類、脂肪族ハロゲン化
炭化水素類、芳香族炭化水素類など通常の有機溶媒に分
散または溶解して塗布する。このとき、必要に応じて、
高分子バインダーを加えてもよい。高分子バインダーと
しては、塩化ビニル系樹脂。
アクリル樹脂 ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂ポリ
カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹Bu、
 6酸ビニル系樹脂、ニトロセルロース、フェノール樹
脂などがあげられる。高分子バインダーを用いる場合、
フタロシアニン系化合物に対する高分子バインダーの比
率は10重量に以下が好ましい。
また1本発明において、フタロシアニン系化合物に 他
の色素を混合分散あるいは混合溶解して使用することも
できる。混合して使用できる色素としては、すでに公知
の1例えば、芳香族または不飽和脂肪族ジアミン系金属
錯体、芳香族または不飽和脂肪族ジチオール系金属錯体
、フタロシアニン系錯体。
ナノクロシアニン系錯体。スクアリウム系色素、ナフト
キノン系錯体、アントラキノン系色素やポリメチン系色
素などがあげられる。
基板上に形成するフタロシアニン系化合物を含有する記
録層の厚さは、10μm以下、好ましくは500人〜2
μmである。また、塗布した後、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、トルエンなどの有機溶媒の蒸気にさらす
ことによって、有機薄膜層の吸7 8 収波長が長波長側にシフトし、半導体レーザーの発振波
長域の光に対する感度をいちじるしく向上させることが
できる場合もある。
また、これらの記録層を保護するために、 Affi。
03+ S r 02+ S s O,S n Oなど
の無機化合物を茶着して保8W層としてもよい。また、
保護層として。
高分子を塗布してもよい。
また、記録層の反射レベルを高くするために、記録層の
上に、金、銀、銅、白金、アルミニウム5コバルト、ス
ズ等の金属、 M g O、Z n O、S n O2
等の金属酸化物、SiN4.AIN、TiN等の窒化物
、および、Te、Se、Sなどを含むカルコゲン化合物
等の反射膜を設けてもよい。
上記のようにして得られた記録媒体への記録は基板上に
設けた記録層に1pm程度に集束したレーザー光、好ま
しくは半導体レーザー光を照射することにより行なわれ
る。記録層のレーザー光の照射された部分は、レーザー
エネルギーの吸収による分解。
蒸発、溶融などの熱的な状態変化が生じる。再生は。
熱的な変化を生じた部分と生じていない部分との反射率
の差を読み取ることによって行なわれる。−能代(1)
で示されるフタロシアニン系化合物は、従来の有機薄膜
層を有する光学記録媒体に用いられている有機色素に較
べ、記録前後の反射率の差がきわめて大きいので、きわ
めて有利である。
また、レーザーとしてはHe−Neレーザー、Arレー
ザー、半導体レーザーなどの各種レーザーを用いること
ができるが9価格、大きさの点で半導体レーザーが特に
好ましい。半導体レーザーとしては。
中心波長830nm、  780nmおよびそれより短
波長のレーザーを使用することができる。
(実 施 例) つぎに1本発明を実施例によりさらに具体的に説明する
が5本発明は、以下の実施例に限定されるものではない
。なお1例中1部とは重量部を表わす。
製 造 例 1:フタロシアニン系化合物(a)。
(f)、(+)、(k)、(1)。
(p)、(q)、(s)、(t) の製造 キノリン50部に式[A] 0 9 であるイソインドレニン7.8部および四塩化けい素5
.0部を加え、180〜200°Cで3時間加熱撹拌し
た後、冷却し、メタノール500部で希釈し、ろ過し、
メタノールおよびジメチルホルムアミドで洗浄し、乾燥
して、ジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合物
6.0部を得た。
得られたジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合
物5.0 部、クロロジフェニルホスフィン50部、ト
リーn−ブチルアミン50部、ピリジン300部を11
0’Cで2時間加熱撹拌した後、冷却しメタノール10
00部で希釈し、ろ過し、ろ液を得得られたろ液からメ
タノールを減圧上加熱留去させた。
このようにして得られた生成物全量を希塩酸500部に
加え、析出した沈殿をろ過し、水洗し180°Cで乾燥
して、フタロシアニン系化合物(a)2.2部を得た。
フタロシアニン系化合物(a)、  (f)、  (i
)(k)、  (1)、  (p)、  (q)、  
(s)、  (t)は、フタロシアニン系化合物(a)
の製造法に準じた方法により得た。
製 造 例 2:フタロシアニン系化合物(b)〜(d
)、(j)、(o)、(r) の製造 5.0部を加え、180〜200°Cで3時間加熱撹拌
した後、冷却し5メタノ一ル500部で希釈し、ろ過し
、メタノールおよびジメチルホルムアミドで洗浄し、乾
燥して、ジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合
物5.5部を得た。
得られたジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合
物5.0部、ジ(パラニトロフェニル)クロロホスフェ
ート50部、トリー〇−ブチルアミン50部、ピリジン
300部を110°Cで2時間加熱撹拌した後、冷却し
、メタノール1000部で希釈しろ過し、ろ液を得、得
られたろ液からメタノールを減圧上加熱留去させた。
このようにして得られた生成物全量を希塩酸501 2 0部に加え、析出した沈殿をろ過し、水洗し、80°C
で乾燥して、フタロシアニン系化合物(b)2.5部を
得た。
フタロシアニン系化合物(c)、  (d)、  N)
(o)、  (r)は、フタロシアニン系化合物(b)
の製造法に準じた方法により得た。
製 造 例 3:フタロシアニン系化合物(e)の製造 ピリジン300部を110°Cで2時間加熱撹拌した後
、冷却し、メタノール1000部で希釈し、ろ過し、ろ
液を得、得られたろ液からメタノールを減圧上加熱留去
させた。
このようにして得られた生成物全量を希塩酸500部に
加え、析出した沈殿をろ過し、水洗し、80°Cで乾燥
して、フタロシアニン系化合、物(−e)2.8部を得
た。
製 造 例 4;フタロシアニン系化合物(g)。
(h)、(m)、(n)の製造 であるイソインドレニン7.8部および四塩化けい素5
.0部を加え、180〜200°Cで3時間加熱撹拌し
た後、冷却し、メタノール500部で希釈し、ろ過し、
メタノールおよびジメチルホルムアミドで洗浄し、乾燥
して、ジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合物
5.5部を得た。
得られたジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合
物5.0部、ビス(ジエチルアミノ)ホスホリルクロリ
ド50部、トリーn−ブチルアミン50部。
5.0部を加え、180〜220°Cで3時間加熱撹拌
した後、冷却し、メタノール500部で希釈し、ろ過し
、メタノールおよびジメチルホルムアミドで洗浄し、乾
燥して、ジヒドロキシシリコンナフタロシアニン系化合
物5.8部を得た。
得られたジヒドロキシシリコンナフタロシアニン3 4− 系化合物5.0部、ベンゼンセレネニルクロリド50部
、トリー〇−ブチルアミン50部、ピリジン300部を
110°Cで2時間加熱撹拌した後、冷却し。
メタノール1000部で希釈し、ろ過し、ろ液を得。
得られたろ液からメタノールを減圧下加熱留去させた。
このようにして得られた生成物全量を希塩酸500部に
加え、析出した沈殿をろ過し、水洗し、80℃で乾燥し
て、フタロシアニン系化合物(g)2.7部を得た。
フタロシアニン系化合物(h)、(m)、(n)。
は、フタロシアニン系化合物(g)の製造法に準じた方
法により得た。
実施例1 ガラス製基板上に、フタロシアニン系化合物(e)3.
0部とクロロホルム97.0部とからなる溶液を滴下し
た後、120Orpmの速度で20秒間回転させ。
80°Cで20分間乾燥させて光学記録媒体を得た。
得られた光学記録媒体の記録層は、厚さ780人最大吸
収波長が745部m、波長780nmの光に対する反射
率が41%であった。
得られた光学記録媒体をターンテーブル上に取り付け、
ターンテーブルを180Orpmで回転させながら、1
.0μmに集束した830nh+のレーザー光を5mW
、8MHzで照射して記録を行なった。
記録後の光学記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡で観察
したところ、鮮明なピットの形成が認められた。また、
得られた光学記録媒体に780部m、 0.4mWのレ
ーザー光を照射し5反射光の検出を行なったところ、C
/N比が42dBであった。
実施例2 ポリカーボネート樹脂製基板上に、フタロシアニン系化
合物(g)2.5部とメチルセロソルブ97.5部とか
らなる溶液を滴下した後、800rpmの速度で30秒
間回転させ、減圧下80°Cで15分間乾燥させて光学
記録媒体を得た。
得られた光学記録媒体の記録層は、厚さ850人。
最大吸収波長が750部m、波長780nmの光に対す
る反射率が42%であった。
また、得られた光学記録媒体に、実施例1と同様にして
記録を行なったところ、記録層表面に鮮明なビット形成
が認められ、また、C/N比は40dBで5 6− あった・ 実施例3〜11 ガラス製基板上に、フタロシアニン系化合物(f)(h
)、(i)、(N、(k)、(o)、(p)。
(r)、(s)を、実施例1と同様にして塗布し。
乾燥させて光学記録媒体を得た。
得られた光学記録媒体の記録層の最大吸収波長および波
長780nmの光に対する反射率、および得られた光学
記録媒体に実施例1と同様な記録再生を行なったときの
C/N比を表1に示す。
C以下、余白) 表1 3      f     740     40  
     404      h     748  
   46       455      i   
  752     45       486   
  j     755     42      4
07     k、790     50      
558      o     775     46
       509     p     ?70 
    48      5210     r   
  765     45      5011   
  s     750     45      4
8〔発明の効果〕 本発明の光学記録媒体に用いられるフタロシアニン系化
合物は、前記のような通常の有m溶媒への溶解性がきわ
めて高いので、これらの有機溶媒に溶解させて、生産性
や作業性のよい塗布法により基板上に有機薄膜層として
設けることができ9本発明の光学記録媒体は、レーザー
光線による記録前後の反射率の差がきわめて大きいため
感度が高く、高感度の記録再生が可能であり、また、化
学的、物理的にも37 38 安定でである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板上に、下記一般式〔 I 〕で示されるフタロシ
    アニン系化合物の少なくとも1種以上を含有する有機薄
    膜層を設けてなる光学記録媒体。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、環A^1〜A^4は、それぞれ独立に、▲数式
    、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を表わす。 Mは、Al、Ga、In、Si、Ge、またはSnを表
    わす。 Xは、互いに同一でもあっても異なっていてもよく、置
    換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい
    アリール基、置換基を有してもよい複素環残基、置換基
    を有してもよいフタルイミドメチル基、ハロゲン原子、
    ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基、−OR^1、−S
    R^2、−COOR^3、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ −NHCOR^1^2、−N=NR^1^3、または−
    N=CHR^1^4を表わす。 R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R^6、R
    ^8、R^9、R^1^0およびR^1^1は、互いに
    同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基
    を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
    よいアリール基、置換基を有していてもよいアシル基、
    置換基を有していてもよいシクロアルキル基、または置
    換基を有していてもよいポリエーテル基を表わし、また
    は、R^6とR^7とで、R^8とR^9とで、あるい
    はR^1^0とR^1^1とで、4〜7員環を形成して
    いてもよく、これらの4〜7員環は、さらにちっ素原子
    、酸素原子、いおう原子を含む複素環であってもよい。 R^1^2、R^1^3およびR^1^4は、互いに同
    一であっても異なっていてもよく、買換基を有してもよ
    いアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基
    、または置換基を有してもよいアリール基を表わす。 Yは、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼または−O−Se−
    R^2^3を表わす。 Zは、水素、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有しても
    よいアルキル基、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ または−O−Se−R^3^2を表わす。 R^1^5、R^1^6、R^2^1、R^2^2、R
    ^2^3、R^2^4、R^2^5、R^2^6、R^
    2^7およびR^3^2は、互いに同一であっても異な
    っていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、置
    換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい
    アシル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置
    換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよ
    いアリロキシ基、置換基を有してもよいポリエーテル基
    、水酸基、またはハロゲン原子を表わす。 R^1^7、R^1^8、R^1^9、R^2^0、R
    ^2^8、R^2^9、R^3^0およびR^3^1は
    、互いに同一であっても異なっていてもよく、置換基を
    有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリー
    ル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有して
    もよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルコ
    キシ基、置換基を有してもよいアリロキシ基、置換基を
    有してもよいポリエーテル基、水酸基、ハロゲン原子、
    または水素原子を表わす。 Wは、O、S、SeまたはTeを表わす。 k、l、m、nは、それぞれ独立に0〜8の整数を表わ
    す。 pは、0または1を表わす。〕
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006015411A1 (en) * 2004-08-09 2006-02-16 Silverbrook Research Pty Ltd Hydrophilizable and hydrophilic cyanine dyes
JP2013088486A (ja) * 2011-10-13 2013-05-13 Adeka Corp 近赤外線吸収性合成樹脂組成物

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006015411A1 (en) * 2004-08-09 2006-02-16 Silverbrook Research Pty Ltd Hydrophilizable and hydrophilic cyanine dyes
US7138391B2 (en) 2004-08-09 2006-11-21 Silverbrook Research Pty Ltd Hydrophilizable and hydrophilic cyanine dyes
JP2013088486A (ja) * 2011-10-13 2013-05-13 Adeka Corp 近赤外線吸収性合成樹脂組成物

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