JPH03155636A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH03155636A JPH03155636A JP29551089A JP29551089A JPH03155636A JP H03155636 A JPH03155636 A JP H03155636A JP 29551089 A JP29551089 A JP 29551089A JP 29551089 A JP29551089 A JP 29551089A JP H03155636 A JPH03155636 A JP H03155636A
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- electrode
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- pads
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 2
- 241000331231 Amorphocerini gen. n. 1 DAD-2008 Species 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野1
本発明は、半導体装置の金属突起物を形成した電極構造
に関する。
に関する。
〔従来の技術1
従来の半導体装置の電極形状は、第2図に示すように、
XとYの長さが同じの正方形であった。
XとYの長さが同じの正方形であった。
[発明が解決しようとする課題1
しかし、前述の従来技術では、半導体の加工寸法の微細
化、多出力化などに伴なって、電極の寸法が短か(なる
と、例えば電極上に、金属突起物などを形成した際に、
半導体装置と金属突起物との接合面積が小さ(なるため
、接合強度が小さくなり、金属突起物がとれてしまうと
いう問題点を有する。そこで本発明は、このような問題
点を解決するもので、その目的とするところは、金属突
起物などを形成した際に、充分な接合強度が得られるよ
うな、電極形状を提供するところにある。
化、多出力化などに伴なって、電極の寸法が短か(なる
と、例えば電極上に、金属突起物などを形成した際に、
半導体装置と金属突起物との接合面積が小さ(なるため
、接合強度が小さくなり、金属突起物がとれてしまうと
いう問題点を有する。そこで本発明は、このような問題
点を解決するもので、その目的とするところは、金属突
起物などを形成した際に、充分な接合強度が得られるよ
うな、電極形状を提供するところにある。
(課題を解決するための手段1
本発明は、チップエツジに沿って複数の電極を有する半
導体装置において、チップエツジに対して、平行方向な
X方向、垂直方向なY方向としたとき、前記電極のうち
少なくとも1つ以上の形状を、X方向の電極の長さに対
して、Y方向の電極の長さを太き(することを特徴とす
るゆ[実 施 例] 第1図は、本発明の電極形状の一実施例を示す図である
。多出力のICの電極部を表面から見た図で、lはIC
のエツジライン、2は金属電極(以後パッドと呼ぶ)、
3は開口部を示している。パッドの形状は、エツジライ
ンに対して、平行方向をX方向、垂直方向をY方向とす
ると、X方向へ電極の長さに対して、Y方向の電極の長
さが大きくなっている。このICのエツジラインの長さ
Llは、8.45mmである。IC組立上最低限必要な
パッド間隔L2を50μm、L3=500umとすると
、例えばX=lOOμm、Y=400μmのパッドを5
0個並べることができる。又、このような電極形状にす
ることにより、パッド1個当りの面積は4.0XIO−
”m ”となる。 しかし、第2図に示すような、X
方向の電極の長さと、Y方向の電極の長さが同じになる
ような従来品では、本発明と同じように50個のパッド
を並べると、X=Y= 100μmとなり、パッド1個
当りの面積は、1.0xlO−’m”となり、本発明に
対し、4分の1になってしまう、したがって、接合強度
は接合面積に比例するので、接合強度も4分の1となっ
てしまう、又バッド−個当りの面積を同じにしようとす
ると、1辺に対し、30個しかパッドを並べることがで
きない。
導体装置において、チップエツジに対して、平行方向な
X方向、垂直方向なY方向としたとき、前記電極のうち
少なくとも1つ以上の形状を、X方向の電極の長さに対
して、Y方向の電極の長さを太き(することを特徴とす
るゆ[実 施 例] 第1図は、本発明の電極形状の一実施例を示す図である
。多出力のICの電極部を表面から見た図で、lはIC
のエツジライン、2は金属電極(以後パッドと呼ぶ)、
3は開口部を示している。パッドの形状は、エツジライ
ンに対して、平行方向をX方向、垂直方向をY方向とす
ると、X方向へ電極の長さに対して、Y方向の電極の長
さが大きくなっている。このICのエツジラインの長さ
Llは、8.45mmである。IC組立上最低限必要な
パッド間隔L2を50μm、L3=500umとすると
、例えばX=lOOμm、Y=400μmのパッドを5
0個並べることができる。又、このような電極形状にす
ることにより、パッド1個当りの面積は4.0XIO−
”m ”となる。 しかし、第2図に示すような、X
方向の電極の長さと、Y方向の電極の長さが同じになる
ような従来品では、本発明と同じように50個のパッド
を並べると、X=Y= 100μmとなり、パッド1個
当りの面積は、1.0xlO−’m”となり、本発明に
対し、4分の1になってしまう、したがって、接合強度
は接合面積に比例するので、接合強度も4分の1となっ
てしまう、又バッド−個当りの面積を同じにしようとす
ると、1辺に対し、30個しかパッドを並べることがで
きない。
第3図は、第1図の電極の上に、金属突起物を形成し、
フィンガーを接合した図である、lはエツジライン、4
は金属突起物、5はフィンガーを示す、又、第4図は第
3図をA−A断面で切った断面図である。接合強度は、
接合面積に比例するので、本発明は、フィンガーと金属
突起物の接合、金属突起物とパッドの接合において、従
来品に比べて、4倍の強度を持つ、同様にフィンガーに
金属突起物を形成し、パッドに接合した場合についても
同じことがいえる。
フィンガーを接合した図である、lはエツジライン、4
は金属突起物、5はフィンガーを示す、又、第4図は第
3図をA−A断面で切った断面図である。接合強度は、
接合面積に比例するので、本発明は、フィンガーと金属
突起物の接合、金属突起物とパッドの接合において、従
来品に比べて、4倍の強度を持つ、同様にフィンガーに
金属突起物を形成し、パッドに接合した場合についても
同じことがいえる。
第5図は、本発明の電極形状の別の一実施例を示す図で
ある。多出力のICの電極部を表面から見た図で、1は
ICのエツジライン、2は金属電極(以後パッドと呼ぶ
)、3は開口部を示している。パッドの形状は、エツジ
ラインに対して、平行方向なX方向、垂直方向をY方向
とすると、X方向の電極の長さに対して、Y方向の電極
の長さが大きくなっている。このICのエツジラインの
長さは、約5.98mmである。IC組立上最低限必要
なパッド間隔L2を50μm、L3=300gmとする
と1例えばX=100um、Y=200μmのパッドを
50個並べることができる。
ある。多出力のICの電極部を表面から見た図で、1は
ICのエツジライン、2は金属電極(以後パッドと呼ぶ
)、3は開口部を示している。パッドの形状は、エツジ
ラインに対して、平行方向なX方向、垂直方向をY方向
とすると、X方向の電極の長さに対して、Y方向の電極
の長さが大きくなっている。このICのエツジラインの
長さは、約5.98mmである。IC組立上最低限必要
なパッド間隔L2を50μm、L3=300gmとする
と1例えばX=100um、Y=200μmのパッドを
50個並べることができる。
又、このような電極形状にすることにより、パッド1個
当りの面積は、1.0XIO−”m”となる。
当りの面積は、1.0XIO−”m”となる。
しかし、第2図に示すような、X方向の電極の長さと、
Y方向の電極の長さが同じようになるような従来例では
、本発明と同じように、50個パッドを並べると、X=
Y=約58.58μmにしなければならないが、そうす
ると、パッド面積が0.34xlO″8m2と非常に小
さくなってしまい、本発明に対し、3分の1程度となっ
てしまう。したがって、接合強度は、接合面積に比例す
るので、接合強度も3分の1程度となってしまう、又、
パッド1個当りの面積を同じにしようとすると、1辺に
対し、36個のパッドしか並べることができない。
Y方向の電極の長さが同じようになるような従来例では
、本発明と同じように、50個パッドを並べると、X=
Y=約58.58μmにしなければならないが、そうす
ると、パッド面積が0.34xlO″8m2と非常に小
さくなってしまい、本発明に対し、3分の1程度となっ
てしまう。したがって、接合強度は、接合面積に比例す
るので、接合強度も3分の1程度となってしまう、又、
パッド1個当りの面積を同じにしようとすると、1辺に
対し、36個のパッドしか並べることができない。
以上述べたように発明によれば、加工寸法の微細化、多
出力化が行なわれても、電極形状なX方向に対してY方
向を大きくとってやることで、例えば、金属突起物など
を形成した際に、充分な接合面積と接合強度を得ること
ができる。又、TAB(テープ・オート・ボンディング
)にした場合、ICチップの発熱は、フィンガーを通じ
て放熱をするが、接合面積が大きくとれることで、熱伝
導率も大きくなり、放熱が多くなるという効果を有する
。又、第1図の実施例に対して、第5図の実施例では、
TABをする場合に、X方向のフィンガーのずれに対し
て、許容度が大きくなるという効果もある。
出力化が行なわれても、電極形状なX方向に対してY方
向を大きくとってやることで、例えば、金属突起物など
を形成した際に、充分な接合面積と接合強度を得ること
ができる。又、TAB(テープ・オート・ボンディング
)にした場合、ICチップの発熱は、フィンガーを通じ
て放熱をするが、接合面積が大きくとれることで、熱伝
導率も大きくなり、放熱が多くなるという効果を有する
。又、第1図の実施例に対して、第5図の実施例では、
TABをする場合に、X方向のフィンガーのずれに対し
て、許容度が大きくなるという効果もある。
第1図は、本発明のパッド形状の一実施例を示す平面図
。 第2図は、従来のパッド形状を示す平面図。 第3図は、第1図のパッドに、金属突起物を形成し、フ
ィンガーを接合した平面図。 第4図は、第3図をA−A断面で切った断面図。 第5図は1本発明のパッド形状の別の一実施例を示す平
面図。 ・ICのエツジライン ・アルミバッド電柵 ・パッド開口部 ・金属突起物 ・フィンガー 以 上
。 第2図は、従来のパッド形状を示す平面図。 第3図は、第1図のパッドに、金属突起物を形成し、フ
ィンガーを接合した平面図。 第4図は、第3図をA−A断面で切った断面図。 第5図は1本発明のパッド形状の別の一実施例を示す平
面図。 ・ICのエツジライン ・アルミバッド電柵 ・パッド開口部 ・金属突起物 ・フィンガー 以 上
Claims (1)
- チップエッジに沿って複数の金属突起物を形成した電極
を有する半導体装置において、チップエッジに対して、
平行方向をX方向、垂直方向をY方向としたとき、前記
金属突起物を形成した電極のうち少なくとも1つ以上の
形状を、X方向の電極の長さに対して、Y方向の電極の
長さを大きくすることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29551089A JPH03155636A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29551089A JPH03155636A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03155636A true JPH03155636A (ja) | 1991-07-03 |
Family
ID=17821550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29551089A Pending JPH03155636A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03155636A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100210711B1 (ko) * | 1996-10-01 | 1999-07-15 | 윤종용 | 반도체 칩 구조 |
US6525422B1 (en) | 1997-01-20 | 2003-02-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device including bump electrodes |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29551089A patent/JPH03155636A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100210711B1 (ko) * | 1996-10-01 | 1999-07-15 | 윤종용 | 반도체 칩 구조 |
US6525422B1 (en) | 1997-01-20 | 2003-02-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device including bump electrodes |
US6933607B2 (en) | 1997-01-20 | 2005-08-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with bumps on electrode pads oriented in given direction |
US7005741B2 (en) * | 1997-01-20 | 2006-02-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and/or circuit substrate including bump electrodes and electrode pads |
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