JPH03155119A - 反射型x線露光マスク - Google Patents
反射型x線露光マスクInfo
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- JPH03155119A JPH03155119A JP1294624A JP29462489A JPH03155119A JP H03155119 A JPH03155119 A JP H03155119A JP 1294624 A JP1294624 A JP 1294624A JP 29462489 A JP29462489 A JP 29462489A JP H03155119 A JPH03155119 A JP H03155119A
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- Japan
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- ray
- film
- substrate
- mirror
- exposure mask
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- Pending
Links
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新しいX線露光マスクに関する。
従来、X線露光マスクは、シリコン膜やポリイミド膜あ
るいはチタン膜等から成る厚工数μmの極めて薄いメン
プラン膜上にタングステン膜や金膜を図形状に形成して
成るのが通例であり、該従来技術によるX線露光マクス
は、メンプラン膜部をX線を透過させ、X線阻止能を有
する膜を図形状に形成して成るX線透過型の露光マスク
として用いられているものである。
るいはチタン膜等から成る厚工数μmの極めて薄いメン
プラン膜上にタングステン膜や金膜を図形状に形成して
成るのが通例であり、該従来技術によるX線露光マクス
は、メンプラン膜部をX線を透過させ、X線阻止能を有
する膜を図形状に形成して成るX線透過型の露光マスク
として用いられているものである。
しかし、上記従来技術によると、メンプラン膜が破損し
易く、図形歪が出来易い等の課題があった。
易く、図形歪が出来易い等の課題があった。
本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、マスク基材
の破損の無い、且つ、図形歪も発生しない新しいX線露
光マスクを提供する事を目的とする。
の破損の無い、且つ、図形歪も発生しない新しいX線露
光マスクを提供する事を目的とする。
上記課題を解決する為に本発明はX線露光マスクに関し
、反射型X線露光用として、X線透過材から成る基板の
鏡面加工した表面に、X線反射能を有する膜を図形状に
形成する手段をとる事を基本とする。
、反射型X線露光用として、X線透過材から成る基板の
鏡面加工した表面に、X線反射能を有する膜を図形状に
形成する手段をとる事を基本とする。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図及び第2図は、本発明の実施例を示す反射型X線
露光マスクの断面図である。すなわち、第1図では、角
形あるいは丸形の厚さ1mm程度から1cm程度かそれ
以上から成るX線透過能を有するシリコン、石英あるい
はチタンあるいはアルミ合金、あるいは、液晶ポリマー
合成樹脂等やGaAsやSiC等の半導体等から成る基
板11の一主面を鏡面研摩により鏡面となし、該鏡面表
面上に、モリブデン膜やタングステン膜、金膜あるいは
多層膜等から成るX線反1・J能を有するX線反射膜1
2をスパッタ法等により厚さ1μm〜数μmに形成し、
ホトエツチングにより図形状となしたもので、X線は、
基板11の表面に角度をもって照射され、X線反射膜1
2から図形状の反射X線を用いて露光するものである。
露光マスクの断面図である。すなわち、第1図では、角
形あるいは丸形の厚さ1mm程度から1cm程度かそれ
以上から成るX線透過能を有するシリコン、石英あるい
はチタンあるいはアルミ合金、あるいは、液晶ポリマー
合成樹脂等やGaAsやSiC等の半導体等から成る基
板11の一主面を鏡面研摩により鏡面となし、該鏡面表
面上に、モリブデン膜やタングステン膜、金膜あるいは
多層膜等から成るX線反1・J能を有するX線反射膜1
2をスパッタ法等により厚さ1μm〜数μmに形成し、
ホトエツチングにより図形状となしたもので、X線は、
基板11の表面に角度をもって照射され、X線反射膜1
2から図形状の反射X線を用いて露光するものである。
尚、基板11の表面を凹又は、凸としてレンズ効果をも
たせる事ができることは言うまでもない。
たせる事ができることは言うまでもない。
第2図では、基板21の表面にX線反射膜22を埋め込
んで形成したもので、基板21及びX線反射゛膜22の
材料は、前記第1の例に示したものと同じものであり、
又、応用法も同じである。ただ、X線反射膜22の基板
21への埋め込みは、例えば、基板21の一主面をホト
、エツチングにより溝を図形状に形成した後、X線反射
膜22の材料膜をスパッタ法等により形成後、全面鏡面
研摩を行ない、X線反射膜22を溝部に残す方法等の方
法により行なうことができる。
んで形成したもので、基板21及びX線反射゛膜22の
材料は、前記第1の例に示したものと同じものであり、
又、応用法も同じである。ただ、X線反射膜22の基板
21への埋め込みは、例えば、基板21の一主面をホト
、エツチングにより溝を図形状に形成した後、X線反射
膜22の材料膜をスパッタ法等により形成後、全面鏡面
研摩を行ない、X線反射膜22を溝部に残す方法等の方
法により行なうことができる。
本発明により破損や図形歪の無い反射型のX線露光用マ
スクが容易に作成できる効果がある。
スクが容易に作成できる効果がある。
第1図及び第2図は、本発明の実施例を示す。
反射型X線露光マスクの断面図である。
11.21・・・基板
12.22・・・X線反射膜
以上
Claims (1)
- シリコン、石英あるいはチタンあるいはアルミ合金等の
X線透過材から成る基板鏡面表面には、モリブデン膜、
タングステン膜、金膜あるいは多層膜等から成るX線反
射能を有する膜が図形状に形成されて成る事を特徴とす
る反射型X線露光マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1294624A JPH03155119A (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | 反射型x線露光マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1294624A JPH03155119A (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | 反射型x線露光マスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03155119A true JPH03155119A (ja) | 1991-07-03 |
Family
ID=17810166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1294624A Pending JPH03155119A (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | 反射型x線露光マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03155119A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012517620A (ja) * | 2009-09-02 | 2012-08-02 | ダブリュアイ−エー・コーポレーション | レーザ反射型マスク及びその製造方法 |
JP2014068019A (ja) * | 2008-09-24 | 2014-04-17 | Wi-A Corp | レーザ反射型マスクの製造方法 |
JP2014096483A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型マスクおよびその製造方法 |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1294624A patent/JPH03155119A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014068019A (ja) * | 2008-09-24 | 2014-04-17 | Wi-A Corp | レーザ反射型マスクの製造方法 |
JP2012517620A (ja) * | 2009-09-02 | 2012-08-02 | ダブリュアイ−エー・コーポレーション | レーザ反射型マスク及びその製造方法 |
JP2014096483A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型マスクおよびその製造方法 |
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