JPH03144768A - プリント板ｃａｄシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明はプリント板のレイアウト設計を行うプリント
板ＣＡＤシステムに関する。

（従来の技術） プリント板レイアウトのＣＡＤシステムは、デイスプレ
ィに向かってキーボード、マウス又はタブレットを使用
して信号の結線情報をプリント仮に配線していくもので
ある。

プリント板のレイアウト設計を行う場合、多層基板の電
源／グランド層では、第３図に示すようにパターンが配
線されない部分にパターンを配置し、基板製造用のフィ
ルムを作成する際に、フィルムの反転処理を行い基板を
作成するリバース設計法と呼ばれる手法を使用すること
が多い。

（発明が解決しようとする課題） リバース設計法を使用し設計された基板に対してパター
ンの接続検査等を行う場合、データベース上でパターン
の反転処理を行い、データベース上に実際にパターンが
配線される状態を作り出す必要がある。従来、この反転
処理には第４図に示すビットマスクを使用した手法が使
用されることが多かった。

しかしながら、上記の手段ではより細かなビックマスク
の格子が必要とされる場合、メモリーの使用量と処理時
間が膨大なものとなり、高密度実装基板の反転処理の反
転処理には応用することができなかった。

この発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、リバ
ース設計されたプリント板の配線パターンを、従来のビ
ットマスクを使用する手法に較べ、メモリーの使用量の
削減を計り、且つ、高速に反転処理を行うことのできる
プリント板ＣＡＤシステムを提供することを目的とする
。

［発明の構成１ （課題を解決するための手段） 本発明は、パターンが配線されていない部分にパターン
を配置し、基板製造用のフィルムを作成する際に、フィ
ルムのノバース処理を行い基板を作成するプリント板Ｃ
ＡＤシステムにおいて、リバース設計された基板の配線
パターンを反時計回りの外形線ベクトルに近似する手段
とこの外形線ベクトルで表された図形を幾何学的に合成
する手段と、合成された図形の外形線ベクトルの回転方
向が時計回りか反時計回りかを判定する手段を具備し、
リバース設計された基板のパターンデータを高速に反転
することを特徴とする。

（作　用） 上記構成において、リバース設計された基板の配線パタ
ーンを反時計方向の外形線ベクトルで近似し、個々のパ
ターンに対して図形の合成処理を行う。具体的には全て
の外形線ベクトルの組合わせに対しての交点を求めこの
交点でベクトルを分割する。そして分割された外形線ベ
クトルの中点が相手側のパターン内に含まれるか判定を
行う。

このことにより合成後の図形の外形ベクトルを求めるこ
とができる。これを全ての配線パターンに対して図形の
合成処理を行い、合成された全ての図形に対してその外
形線ベクトルの回転方向を判定する。リバース設計され
たパターンの外形線ベクトルは反時計回りと定義されて
いるため、反転処理を行った場合、外形線ベクトルが時
計回りである図形がプリント板上ではパターンとして作
画されると判定することができる。

このことにより、メモリ使用量の削減をはかりつつ高速
に反転処理が実現できる。

（実施例） 以下、図面を使用して本発明実施例について詳細に説明
する。第１図は本発明の実施例を示すブロック図である
。図において、１は本発明システムの制御中枢となるＣ
ＰＵである。２．３．４は本発明により付加されるソフ
トウェアモジュールである。このうち、２は外形線ベク
トル近似処理モジュール、３は図形合成処理モジュール
、４は回転方向判定処理モジュールであり、それぞれ主
記憶１０に格納される。５は図形データベース、６は反
転されたパターンデータが格納される領域、７は外形線
ベクトルデータベースであり、共に磁気ディスク等、外
部記憶２０に格納される。

第２図は本発明実施例の動作を説明するために引用した
図であり、同図（ａ）はパターンの外形線ベクトルへの
近似例、同図（ｂ）は図形データの合成例、同図（ｃ）
は図形データの合成結果を示す図、同図（ｄ）は外形線
ベクトルの回転方向の判定例、同図（ｅ）は３角形の外
形線ベクトルの回転方向の判定例を示す。

以下、本発明実施例の動作について詳細に説明する。先
ず、反転処理の概要を手順を追って説明する。リバース
された基板の配線パターンを外形線ベクトル近似モジュ
ール２にて第２図（ａ）に示すように反時計方向の外形
線ベクトルで近似する。また、データベース５上に外形
線ベクトルの図形データを登録する。次に、個々の配線
パターンに対して第２図（ｂ）に示すように図形の合成
処理を行う。これは図形合成処理モジュール３により行
われる。

この図形を合成する手順を２つのパターンを合成する場
合を例に説明する。第２図（Ｃ）に示すように全ての外
形線ベクトルの組合せに対しての交点を求め、この交点
でベクトルを分割する。分割された外形線ベクトルの中
点が相手側のパターン内に含まれるか判定を行う。相手
パターンに含まれた場合、そのベクトルはデータベース
上から削除される。上記の処理により、第２図（ｄ）に
示すように合成後の図形の外形線ベクトルを求めること
ができる。全ての配線パターンに対して上記の図形の合
成処理を行う。合成された全ての図形に対してその外形
線ベクトルの回転方向を判定する。

上記の処理にてリバース設計されたパターンの外形線ベ
クトルは反時計回りと定義されているため反転処理を行
った場合、外形線ベクトルが時計回りである図形が、プ
リント板上ではパターントシテ作画されると判定するこ
とができる。このベクトルの回転方向は、例えば図形の
外形線ベクトルからその図形の面積を求め、その値が正
か負か判定することにより求めることができる。三角形
を例に説明を行うと、第２図（ｅ）の三角形の面積は所
定の行列式にて求めることができるがこの時、ベクトル
の回転方向が反時計回りの場合圧の値となり、時計回り
の場合負の値をとる。幾何学的な説明は省略する。

上記の手順により、プリント板上でパターンとして作画
される領域と、パターンとして作画されない領域の判断
を行うことができる。

［発明の効果］ 以上説明のように本発明によれば、プリント板上でパタ
ーンとして作画される領域とパターンとして作画されな
い領域の判定を行うことができ、これにより、従来のビ
ットマスクを使用する手法に比べ、メモリ使用量を削減
でき、かつ高速反転処理が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示すブロック図、第２図は本
発明実施例の動作を説明するために引用した図、第３図
はリバース設計された基板のレイアウト設計の工程を示
す図、第４図はビットマツプを使用した場合の判定処理
の概要を示す図である。 １・・・ＣＰＵ、２・・・外形線ベクトル近似処理モジ
ュール、３・・・図形合成処理モジュール、４・・・回
転方向判定処理モジュール、５・・・図形データベース
、７・・・外形線ベクトルデータベース。 （ａ） 合成前 合成後 （Ｃ） ベクトル （ｄ） （ｅ） 第 図 反転前 反転前 反転後 第３図 反転後 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. パターンが配線されていない部分にパターンを配置し、
   基板製造用のフィルムを作成する際に、フィルムのリバ
   ース処理を行い基板を作成するプリント板ＣＡＤシステ
   ムにおいて、リバース設計された基板の配線パターンを
   反時計回りの外形線ベクトルに近似する手段と、この外
   形線ベクトルで表わされた図形を幾何学的に合成する手
   段と、合成された図形の外形線ベクトルの回転方向が時
   計回りか反時計回りかを判定する手段を具備し、リバー
   ス処理された基板のパターンデータを高速反転すること
   を特徴とするプリント板ＣＡＤシステム。