JPH03143506A - 精製装置及び精製方法 - Google Patents
精製装置及び精製方法Info
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- JPH03143506A JPH03143506A JP27852589A JP27852589A JPH03143506A JP H03143506 A JPH03143506 A JP H03143506A JP 27852589 A JP27852589 A JP 27852589A JP 27852589 A JP27852589 A JP 27852589A JP H03143506 A JPH03143506 A JP H03143506A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000007670 refining Methods 0.000 title claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims 3
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 12
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 5
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- AQFIDYYGNDVXHH-UHFFFAOYSA-N butyl(dimethyl)phosphane Chemical compound CCCCP(C)C AQFIDYYGNDVXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- -1 dimethylethylgallium Chemical compound 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVRLBUCVPWTGPB-UHFFFAOYSA-N CCC[Zn]C Chemical compound CCC[Zn]C VVRLBUCVPWTGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVZDVZZURJLJJ-UHFFFAOYSA-N C[Al](C1=C(C=CC=C1)C)C1=C(C=CC=C1)C Chemical compound C[Al](C1=C(C=CC=C1)C)C1=C(C=CC=C1)C AZVZDVZZURJLJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJJWWOUJWDTXJC-UHFFFAOYSA-N [Mn].N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 Chemical compound [Mn].N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 XJJWWOUJWDTXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- SINKOGOPEQSHQD-UHFFFAOYSA-N cyclopentadienide Chemical compound C=1C=C[CH-]C=1 SINKOGOPEQSHQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- VMZNTODJXPNZEI-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)indigane Chemical compound C[In](C)C1=CC=CC=C1 VMZNTODJXPNZEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- FBGKRDKNTJRUQJ-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)alumane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Al](C)C1=CC=CC=C1 FBGKRDKNTJRUQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば電子デバイスの分野において使用可能
な蒸気圧を有する有機金属固体化合物のような高純度を
要求される物質の精製装置及び精製方法に関する。
な蒸気圧を有する有機金属固体化合物のような高純度を
要求される物質の精製装置及び精製方法に関する。
CVD法(ケミカルペーパーデポジション、化学蒸着法
)は、元来、化学冶金に用いられてきた技術であるが、
最近の半導体素子及びその他の電子材料の作成に欠くこ
とができない技術となっている。特に反応温度、基板温
度、原料の供給量などを適宜選択することにより、目的
とする結晶の成長速度を制御でき、また量産に適する装
置を設計しうる点からも極めて有利であり、電子材料の
みならず、その他の分野においても、今後−層盛んに用
いられると考えられる。
)は、元来、化学冶金に用いられてきた技術であるが、
最近の半導体素子及びその他の電子材料の作成に欠くこ
とができない技術となっている。特に反応温度、基板温
度、原料の供給量などを適宜選択することにより、目的
とする結晶の成長速度を制御でき、また量産に適する装
置を設計しうる点からも極めて有利であり、電子材料の
みならず、その他の分野においても、今後−層盛んに用
いられると考えられる。
上記CVD法における、特に有機金属化合物を用いたM
OCVD法(メタルオーガニックケミカルベーパーデポ
ジション、有機金属化学蒸着法)は、シリコンあるいは
他の基板上に金属薄膜又は金属化合物のフィルムを形成
する方法として知られている。そして、蒸着形成された
薄g(フィルム)は基板中にドライビングされるドーピ
ング不純物の供給源となるか又はこのフィルム自体が基
板と異なる電気的又は光学的性質を有することになり、
このものはレーザーダイオード、太陽電池、フォトカソ
ード、電界効果トランジスタ及び光フアイバー通信、マ
イクロ波通信、ディジタルオーディオディスクシステム
及びその他の先端オプトエレクトロニクス技術において
用いられる。
OCVD法(メタルオーガニックケミカルベーパーデポ
ジション、有機金属化学蒸着法)は、シリコンあるいは
他の基板上に金属薄膜又は金属化合物のフィルムを形成
する方法として知られている。そして、蒸着形成された
薄g(フィルム)は基板中にドライビングされるドーピ
ング不純物の供給源となるか又はこのフィルム自体が基
板と異なる電気的又は光学的性質を有することになり、
このものはレーザーダイオード、太陽電池、フォトカソ
ード、電界効果トランジスタ及び光フアイバー通信、マ
イクロ波通信、ディジタルオーディオディスクシステム
及びその他の先端オプトエレクトロニクス技術において
用いられる。
なお、MOCVD法の特別の利点は、適度の温度におい
て対応する金属よりもはるかに高い蒸気圧を有し、製作
中に越えるべきではない550〜700℃の蒸着温度に
おいて分解し、対応する金属を析出する点である。この
ようなMOCVD法に用いられる有機金属化合物として
、例えばメチルプロピル亜鉛、ジメチルエチルガリウム
、ジメチルブチルリン、メチルジフェニルアルミニウム
、メチルジトリルアルミニウム、ジメチルフェニルイン
ジウム、ジメチルエチルタリウム、ジメチルブチルリン
、メチルキシリルセレン等の他、ジシクロペンタジェニ
ルストロンチウム、ジシクロペンタジェニルカルシウム
、マンガンフタロシアニン、マンガンポルフィリン、ジ
シクロペンタジェニルマンガン、ジシクロペンタジェニ
ルマグネシウム、トリシクロペンタジェニルセリウム、
トリシクロペンタジェニルエルビウム、トリシクロペン
タジェニルテルビウム、トリシクロペンタジェニルネオ
ジム、トリシクロペンタジェニルサマリウム、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウム、等が用いられると言
われている。しかしながらトリシクロペンタジェニルイ
ッテルビウムのようなMCP x (CPは例えば側鎖
にアルキル基を置換したメチルシクロペンタジェニル基
やエチルシクロペンタジェニル基等を含めたシクロペン
タジェニル基、Mは金属、Xは金属の価数)で表される
メタロセン化合物等の有機金属化合物の合成はこれまで
にも行われ、そして現実に得られてきたものの、実用的
な電子デバイスにおけるMOCVDの材料としては現実
に用いられていない。
て対応する金属よりもはるかに高い蒸気圧を有し、製作
中に越えるべきではない550〜700℃の蒸着温度に
おいて分解し、対応する金属を析出する点である。この
ようなMOCVD法に用いられる有機金属化合物として
、例えばメチルプロピル亜鉛、ジメチルエチルガリウム
、ジメチルブチルリン、メチルジフェニルアルミニウム
、メチルジトリルアルミニウム、ジメチルフェニルイン
ジウム、ジメチルエチルタリウム、ジメチルブチルリン
、メチルキシリルセレン等の他、ジシクロペンタジェニ
ルストロンチウム、ジシクロペンタジェニルカルシウム
、マンガンフタロシアニン、マンガンポルフィリン、ジ
シクロペンタジェニルマンガン、ジシクロペンタジェニ
ルマグネシウム、トリシクロペンタジェニルセリウム、
トリシクロペンタジェニルエルビウム、トリシクロペン
タジェニルテルビウム、トリシクロペンタジェニルネオ
ジム、トリシクロペンタジェニルサマリウム、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウム、等が用いられると言
われている。しかしながらトリシクロペンタジェニルイ
ッテルビウムのようなMCP x (CPは例えば側鎖
にアルキル基を置換したメチルシクロペンタジェニル基
やエチルシクロペンタジェニル基等を含めたシクロペン
タジェニル基、Mは金属、Xは金属の価数)で表される
メタロセン化合物等の有機金属化合物の合成はこれまで
にも行われ、そして現実に得られてきたものの、実用的
な電子デバイスにおけるMOCVDの材料としては現実
に用いられていない。
すなわち、MOCVDに用いられる原料としての有機金
属固体化合物は、純度が99.99%以上、望ましくは
99.9999%以上が要求されているにもかかわらず
、これら有機金属固体化合物は空気や湿度に鋭敏に反応
することから、従来のような再結晶法による一般的な精
製手段が採用できず、このため上記のような99.99
99%以上といった高純度な有機金属固体化合物は得ら
れなかったからである。
属固体化合物は、純度が99.99%以上、望ましくは
99.9999%以上が要求されているにもかかわらず
、これら有機金属固体化合物は空気や湿度に鋭敏に反応
することから、従来のような再結晶法による一般的な精
製手段が採用できず、このため上記のような99.99
99%以上といった高純度な有機金属固体化合物は得ら
れなかったからである。
あらゆる精製方法を検討した結果より、有機金属固体化
合物の性質に近い空気や湿度に鋭敏に反応する化合物の
例として、AlCl3の精製手段が知られている〔日本
化学全編、“新実験化学講座1、基本操作I”第425
頁、丸蓋(1975) ]。昇華を用いた精製技術が適
用できるのではないかとの啓示を得、この精製方法を例
えばトリシクロペンタジェニルイッテルビウムのような
メタロセン化合物の精製に適用してみた。
合物の性質に近い空気や湿度に鋭敏に反応する化合物の
例として、AlCl3の精製手段が知られている〔日本
化学全編、“新実験化学講座1、基本操作I”第425
頁、丸蓋(1975) ]。昇華を用いた精製技術が適
用できるのではないかとの啓示を得、この精製方法を例
えばトリシクロペンタジェニルイッテルビウムのような
メタロセン化合物の精製に適用してみた。
第4−1図は、前記文献による実験装置であり、まずこ
の精製装置によって精製を試みたが、すべての昇華物が
ホットブロックを出た部分に付着してしまい、分析の結
果得られた材料の純度は、満足すべき水準に達していな
いことが判明した。
の精製装置によって精製を試みたが、すべての昇華物が
ホットブロックを出た部分に付着してしまい、分析の結
果得られた材料の純度は、満足すべき水準に達していな
いことが判明した。
第4−2図は、第4−1図の装置を改良して原料の付着
部分に温度勾配をつけた装置であり、Aは所定の合成手
段で得られた粗製トリシクロペ、ンタジエニルイッテル
ビウム、1は加熱ヒーター 2は上記粗製トリシクロペ
ンタジェニルイッテルビウム八が一端に置かれたバイレ
ックスのガラス管(内径、例えば40mm)であり、こ
のガラス管2の先端側は三方向バルブ3を介して高真空
排気手段と高純度不活性ガス供給装置に連絡されたもの
である。
部分に温度勾配をつけた装置であり、Aは所定の合成手
段で得られた粗製トリシクロペ、ンタジエニルイッテル
ビウム、1は加熱ヒーター 2は上記粗製トリシクロペ
ンタジェニルイッテルビウム八が一端に置かれたバイレ
ックスのガラス管(内径、例えば40mm)であり、こ
のガラス管2の先端側は三方向バルブ3を介して高真空
排気手段と高純度不活性ガス供給装置に連絡されたもの
である。
ところがこの装置を使用して精製実験を行ったが結果も
無残なもので、高純度なトリシクロペンタジェニルイッ
テルビウムは得られず、とてもMOCVDの原料として
使えるものではなかった。
無残なもので、高純度なトリシクロペンタジェニルイッ
テルビウムは得られず、とてもMOCVDの原料として
使えるものではなかった。
本発明の目的は、固体物質、特に空気や湿度に鋭敏に反
応する有機金属固体化合物の99.9999%以上の高
純度な精製装置及び精製方法を提供することにある。
応する有機金属固体化合物の99.9999%以上の高
純度な精製装置及び精製方法を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は精製装置に
関する発明であって、固体物質を加熱精製する装置・に
おいて、発熱手段と、この発熱手段による所定のライン
に沿っての温度変化が、ほぼ単調に変化するように調製
する温度スムーザ−手段とを備えたことを特徴とする。
関する発明であって、固体物質を加熱精製する装置・に
おいて、発熱手段と、この発熱手段による所定のライン
に沿っての温度変化が、ほぼ単調に変化するように調製
する温度スムーザ−手段とを備えたことを特徴とする。
そして、本発明の第2の発明は精製方法に関する発明で
あって、固体物質を加熱精製する方法において、発熱手
段による所定のラインに沿っての温度変化がほぼ単調に
変化するように調整する温度スムーザ−手段に対して、
この温度スムーザ−手段に応じた所定長さを有し、一方
の側に試料物質を配置し、前記発熱手段を作動させるこ
とで容器内の試料物質を気化させ、それを、温度スムー
ザ−手段に応じた所定長さを有する容器内の側壁に付着
させることを特徴とする。
あって、固体物質を加熱精製する方法において、発熱手
段による所定のラインに沿っての温度変化がほぼ単調に
変化するように調整する温度スムーザ−手段に対して、
この温度スムーザ−手段に応じた所定長さを有し、一方
の側に試料物質を配置し、前記発熱手段を作動させるこ
とで容器内の試料物質を気化させ、それを、温度スムー
ザ−手段に応じた所定長さを有する容器内の側壁に付着
させることを特徴とする。
本発明者らは、温度勾配法を利用した精製技術が何故失
敗に終わったのかの研究を鋭意続行した結果、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウムの高純度精製が失敗し
たのは、温度勾配といっても高密に精度な温度勾配が長
時間(通常、100時間)7安定に実現されたものでは
ないからであることを見出すに至った。
敗に終わったのかの研究を鋭意続行した結果、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウムの高純度精製が失敗し
たのは、温度勾配といっても高密に精度な温度勾配が長
時間(通常、100時間)7安定に実現されたものでは
ないからであることを見出すに至った。
すなわち、第4−1図に示されるような温度勾配法を利
用した精製装置にあっては、第5図に示されるような温
度勾配分布を有したものであり、各部分の変動も起きや
すいため各物質の蒸気圧に応じて管内の各部分への選択
的な付着が阻害され99.9999%以上の高純度なト
リシクロペンタジェニルイッテルビウムが得うレなかっ
たことが判明した。なお、第5図は第4−1図の精製装
置の温度分布を距離(X 100mm、横軸)と温度(
℃、縦軸)との関係で示すグラフである。
用した精製装置にあっては、第5図に示されるような温
度勾配分布を有したものであり、各部分の変動も起きや
すいため各物質の蒸気圧に応じて管内の各部分への選択
的な付着が阻害され99.9999%以上の高純度なト
リシクロペンタジェニルイッテルビウムが得うレなかっ
たことが判明した。なお、第5図は第4−1図の精製装
置の温度分布を距離(X 100mm、横軸)と温度(
℃、縦軸)との関係で示すグラフである。
そして、高精度な(換言すれば例えばほぼ直線状といっ
た単調に変化する)温度勾配が長時間安定に達成できれ
ば、粗製トリシクロペンタジェニルイッテルビウムの9
9.99.99%以上の高純度な精製が可能となるので
はないかとの啓示を得た。
た単調に変化する)温度勾配が長時間安定に達成できれ
ば、粗製トリシクロペンタジェニルイッテルビウムの9
9.99.99%以上の高純度な精製が可能となるので
はないかとの啓示を得た。
そこで、第4−1図に示すタイプの温度勾配法を応用し
た精製装置に例えば8製バイブを配設した第1図に示す
タイプの精製装置を製作し、この装置の温度分布を測定
したところ、第2図に示すようなほぼ直線状の安定な温
度勾配を容易に実現することができた。
た精製装置に例えば8製バイブを配設した第1図に示す
タイプの精製装置を製作し、この装置の温度分布を測定
したところ、第2図に示すようなほぼ直線状の安定な温
度勾配を容易に実現することができた。
そして、この第2図に示されたようなほぼ直線状の温度
勾配を有する第1図の装置を用いて粗製トリシクロペン
タジェニルイッテルビウムの精製を試みたところ、これ
は予想以上の結果が得られた。
勾配を有する第1図の装置を用いて粗製トリシクロペン
タジェニルイッテルビウムの精製を試みたところ、これ
は予想以上の結果が得られた。
なお、第1図は本発明に係る精IM装置の概略図であり
、符号A、1〜3は第4−2図と同義であり、4は銅製
パイプ(内径、例えば60mmい全長、例えば1200
+n+++)である。また、第2図は第1図の精製装置
の温度分布を距離(0100mm、横軸)と温度(℃、
縦軸)との関係で示すグラフである。
、符号A、1〜3は第4−2図と同義であり、4は銅製
パイプ(内径、例えば60mmい全長、例えば1200
+n+++)である。また、第2図は第1図の精製装置
の温度分布を距離(0100mm、横軸)と温度(℃、
縦軸)との関係で示すグラフである。
なお、上記の精製装置は、その発熱量を調整できるよう
に構成された発熱手段がライン状に配置され、そして温
度スムーザ−手段はこのライーン状発熱手段の一方の側
に配設された熱伝導性の長杆な部材、例えば銅やアルミ
ニウムのような金属管で構成することもできる。
に構成された発熱手段がライン状に配置され、そして温
度スムーザ−手段はこのライーン状発熱手段の一方の側
に配設された熱伝導性の長杆な部材、例えば銅やアルミ
ニウムのような金属管で構成することもできる。
更に、例えば第6図に示すように、第1図に示した銅製
バイブ4を何ケ所かに分離することにより、熱伝導を抑
え、加熱ヒーターを適度に調節するようにしてもよい。
バイブ4を何ケ所かに分離することにより、熱伝導を抑
え、加熱ヒーターを適度に調節するようにしてもよい。
それによって例えば第7図に示すような温度分布を実現
することができた。なお第6図の各符号は第1図と同義
であり、第7図は、第6図の精製装置の温度分布を距離
(X 100mm5横軸)と温度(℃、縦軸)との関係
で示すグラフである。
することができた。なお第6図の各符号は第1図と同義
であり、第7図は、第6図の精製装置の温度分布を距離
(X 100mm5横軸)と温度(℃、縦軸)との関係
で示すグラフである。
また、本発明の精製方法によれば、昇華した所望の試料
と不純物は、それぞれ時間と共により低温側へ移動して
いくため、あらかじめ適当な設定温度が不明な試料につ
いて精製を行う場合も、移動の様子を観測していて、適
当な位置まで試料が移動した時点で昇華をやめればよい
という利点もある。
と不純物は、それぞれ時間と共により低温側へ移動して
いくため、あらかじめ適当な設定温度が不明な試料につ
いて精製を行う場合も、移動の様子を観測していて、適
当な位置まで試料が移動した時点で昇華をやめればよい
という利点もある。
以下、本発明による具体例について更に詳述するが、本
発明はこれら実施例に限定されない。
発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
通常の手段により脱水された三塩化イブテルビウムを、
テトラヒドロフラン中で合成されたナトリウム(又はリ
チウム、又はカリウム)シクロペンタジエニド3当量中
に加え4時間加熱還流後、溶媒のテトラヒドロフランを
減圧留去した。緑色の結晶が残った。ここで反応はすべ
て高純度不活性ガス雰囲気下で行われた。また、使用さ
れた試薬と溶媒は市販品で入手可能な最高純度のものを
更に精製して用いた。
テトラヒドロフラン中で合成されたナトリウム(又はリ
チウム、又はカリウム)シクロペンタジエニド3当量中
に加え4時間加熱還流後、溶媒のテトラヒドロフランを
減圧留去した。緑色の結晶が残った。ここで反応はすべ
て高純度不活性ガス雰囲気下で行われた。また、使用さ
れた試薬と溶媒は市販品で入手可能な最高純度のものを
更に精製して用いた。
テトラヒドロフランを留去した後のフラスコの昇華用抜
き出し口に、第3図に示すような昇華精製装置(第3図
中、11は熱媒体、12は加熱器、13はフラスコ、1
4はパイレックスガラス管、15は三方向バルブ)をア
ルゴン気流中で取付けた。そして、系内を約Q、 l
torr〜0、01 torrに減圧後、フラスコを徐
々に加熱した。170℃位から最終的に220℃まで昇
温させた。途中のガラス管内に緑色結晶の化合物が付着
した。
き出し口に、第3図に示すような昇華精製装置(第3図
中、11は熱媒体、12は加熱器、13はフラスコ、1
4はパイレックスガラス管、15は三方向バルブ)をア
ルゴン気流中で取付けた。そして、系内を約Q、 l
torr〜0、01 torrに減圧後、フラスコを徐
々に加熱した。170℃位から最終的に220℃まで昇
温させた。途中のガラス管内に緑色結晶の化合物が付着
した。
上記のようにして得られた粗製トリシクロペンタジェニ
ルイッテルビウムAを第1図に示した装置(2の内径4
0mm、、4の内径60mm、4の全長1200mm)
内に置き系内を10−’〜10−6torr減圧後、加
熱ヒーターを作動させ100時間保持したところ、加熱
ヒーター1の中央の位置(温度がほぼ中央部の120t
:の位置約30cmの範囲)にトリシクロペンタジェニ
ルイッテルビウムが昇華した。
ルイッテルビウムAを第1図に示した装置(2の内径4
0mm、、4の内径60mm、4の全長1200mm)
内に置き系内を10−’〜10−6torr減圧後、加
熱ヒーターを作動させ100時間保持したところ、加熱
ヒーター1の中央の位置(温度がほぼ中央部の120t
:の位置約30cmの範囲)にトリシクロペンタジェニ
ルイッテルビウムが昇華した。
前述の30cmの間に付着した精製されたトリシクロペ
ンタジェニルイッテルビウムについて、その不純物をフ
レーム ジーマン(Flame Zeeman)型原子
吸光分析装置で調べた結果を精製前の純度と共に表1に
示す。
ンタジェニルイッテルビウムについて、その不純物をフ
レーム ジーマン(Flame Zeeman)型原子
吸光分析装置で調べた結果を精製前の純度と共に表1に
示す。
表
(単位:
ppm)
実施例2
更に、第1図に示した装置の銅製パイプ4を第6図に示
したように2ケ所で切離すことによって、熱伝導を抑え
、加熱ヒーターを適度に調節することにより、第7図に
示すような温度分布を実現することができた。これは、
N4@1lflが多くなった際にも、この装置に上記の
ごとく改良を加えることにより充分対応できるものであ
ることを示している。
したように2ケ所で切離すことによって、熱伝導を抑え
、加熱ヒーターを適度に調節することにより、第7図に
示すような温度分布を実現することができた。これは、
N4@1lflが多くなった際にも、この装置に上記の
ごとく改良を加えることにより充分対応できるものであ
ることを示している。
以上説明したように、本発明によれば、目的固体物質を
高純度に精製することができる。
高純度に精製することができる。
第1図は本発明に係る精製装置の概略図、第2図は第1
図の精製装置の温度分布を示すグラフ、第3図は昇華装
置の概略図、第4−1図及び第4−2図は従来の精製装
置の概略図、第5図は第4−1図の精製装置の温度分布
を示すグラフ、第6図は第1図の装置で銅製パイプを2
ケ所で切り離した精製装置の概略図、第7図は第6図の
精製装置の温度分布を示すグラフである。 A:粗製トリ・シクロペンタジェニルイッテルビウム、
1:加熱ヒーター 2ニガラス管、3:二方向バルブ、
4:銅製バイブ(温度スムーザ−手段)
図の精製装置の温度分布を示すグラフ、第3図は昇華装
置の概略図、第4−1図及び第4−2図は従来の精製装
置の概略図、第5図は第4−1図の精製装置の温度分布
を示すグラフ、第6図は第1図の装置で銅製パイプを2
ケ所で切り離した精製装置の概略図、第7図は第6図の
精製装置の温度分布を示すグラフである。 A:粗製トリ・シクロペンタジェニルイッテルビウム、
1:加熱ヒーター 2ニガラス管、3:二方向バルブ、
4:銅製バイブ(温度スムーザ−手段)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、固体物質を加熱精製する装置において、発熱手段と
、この発熱手段による所定のラインに沿っての温度変化
が、ほぼ単調に変化するように調整する温度スムーザー
手段とを備えたことを特徴とする精製装置。 2、該発熱手段が、その発熱量を調整できるように構成
され、かつライン状に配置され、該温度スムーザー手段
が、このライン状発熱手段に沿って配置された熱伝導性
の良好な部材である請求項1記載の精製装置。 3、固体物質を加熱精製する方法において、発熱手段に
よる所定のラインに沿っての温度変化がほぼ単調に変化
するように調整する温度スムーザー手段に対して、この
温度スムーザー手段に応じた所定長さを有し、一方の側
に試料物質を配置し、前記発熱手段を作動させることで
容器内の試料物質を気化させ、それを、温度スムーザー
手段に応じた所定長さを有する容器内の側壁に付着させ
ることを特徴とする精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27852589A JPH03143506A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 精製装置及び精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27852589A JPH03143506A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 精製装置及び精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03143506A true JPH03143506A (ja) | 1991-06-19 |
Family
ID=17598493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27852589A Pending JPH03143506A (ja) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | 精製装置及び精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03143506A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002200401A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 高融点有機材料の蒸留精製方法及び装置 |
JP2007175698A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 精製装置 |
JP2008073580A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Shinshu Univ | 有機化合物の昇華精製装置 |
JP4866527B2 (ja) * | 2000-03-23 | 2012-02-01 | 新日鐵化学株式会社 | 昇華精製方法 |
JP2014061465A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Panasonic Corp | 昇華精製装置および昇華精製方法 |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP27852589A patent/JPH03143506A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4866527B2 (ja) * | 2000-03-23 | 2012-02-01 | 新日鐵化学株式会社 | 昇華精製方法 |
JP2002200401A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 高融点有機材料の蒸留精製方法及び装置 |
JP2007175698A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 精製装置 |
JP2008073580A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Shinshu Univ | 有機化合物の昇華精製装置 |
JP4701403B2 (ja) * | 2006-09-19 | 2011-06-15 | 国立大学法人信州大学 | 有機化合物の昇華精製装置 |
JP2014061465A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Panasonic Corp | 昇華精製装置および昇華精製方法 |
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