JPH03143506A - 精製装置及び精製方法 - Google Patents

精製装置及び精製方法

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JPH03143506A
JPH03143506A JP27852589A JP27852589A JPH03143506A JP H03143506 A JPH03143506 A JP H03143506A JP 27852589 A JP27852589 A JP 27852589A JP 27852589 A JP27852589 A JP 27852589A JP H03143506 A JPH03143506 A JP H03143506A
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JP
Japan
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temperature
smoother
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purification
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JP27852589A
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English (en)
Inventor
Kenichiro Takahei
高幣 謙一郎
Koichi Kiso
木曽 幸一
Takayuki Oshikiri
押切 貴之
Yukichi Takamatsu
勇吉 高松
Hideaki Machida
英明 町田
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TORIKEMIKARU KENKYUSHO KK
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
TORIKEMIKARU KENKYUSHO KK
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば電子デバイスの分野において使用可能
な蒸気圧を有する有機金属固体化合物のような高純度を
要求される物質の精製装置及び精製方法に関する。
〔従来の技術〕
CVD法(ケミカルペーパーデポジション、化学蒸着法
)は、元来、化学冶金に用いられてきた技術であるが、
最近の半導体素子及びその他の電子材料の作成に欠くこ
とができない技術となっている。特に反応温度、基板温
度、原料の供給量などを適宜選択することにより、目的
とする結晶の成長速度を制御でき、また量産に適する装
置を設計しうる点からも極めて有利であり、電子材料の
みならず、その他の分野においても、今後−層盛んに用
いられると考えられる。
上記CVD法における、特に有機金属化合物を用いたM
OCVD法(メタルオーガニックケミカルベーパーデポ
ジション、有機金属化学蒸着法)は、シリコンあるいは
他の基板上に金属薄膜又は金属化合物のフィルムを形成
する方法として知られている。そして、蒸着形成された
薄g(フィルム)は基板中にドライビングされるドーピ
ング不純物の供給源となるか又はこのフィルム自体が基
板と異なる電気的又は光学的性質を有することになり、
このものはレーザーダイオード、太陽電池、フォトカソ
ード、電界効果トランジスタ及び光フアイバー通信、マ
イクロ波通信、ディジタルオーディオディスクシステム
及びその他の先端オプトエレクトロニクス技術において
用いられる。
なお、MOCVD法の特別の利点は、適度の温度におい
て対応する金属よりもはるかに高い蒸気圧を有し、製作
中に越えるべきではない550〜700℃の蒸着温度に
おいて分解し、対応する金属を析出する点である。この
ようなMOCVD法に用いられる有機金属化合物として
、例えばメチルプロピル亜鉛、ジメチルエチルガリウム
、ジメチルブチルリン、メチルジフェニルアルミニウム
、メチルジトリルアルミニウム、ジメチルフェニルイン
ジウム、ジメチルエチルタリウム、ジメチルブチルリン
、メチルキシリルセレン等の他、ジシクロペンタジェニ
ルストロンチウム、ジシクロペンタジェニルカルシウム
、マンガンフタロシアニン、マンガンポルフィリン、ジ
シクロペンタジェニルマンガン、ジシクロペンタジェニ
ルマグネシウム、トリシクロペンタジェニルセリウム、
トリシクロペンタジェニルエルビウム、トリシクロペン
タジェニルテルビウム、トリシクロペンタジェニルネオ
ジム、トリシクロペンタジェニルサマリウム、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウム、等が用いられると言
われている。しかしながらトリシクロペンタジェニルイ
ッテルビウムのようなMCP x (CPは例えば側鎖
にアルキル基を置換したメチルシクロペンタジェニル基
やエチルシクロペンタジェニル基等を含めたシクロペン
タジェニル基、Mは金属、Xは金属の価数)で表される
メタロセン化合物等の有機金属化合物の合成はこれまで
にも行われ、そして現実に得られてきたものの、実用的
な電子デバイスにおけるMOCVDの材料としては現実
に用いられていない。
すなわち、MOCVDに用いられる原料としての有機金
属固体化合物は、純度が99.99%以上、望ましくは
99.9999%以上が要求されているにもかかわらず
、これら有機金属固体化合物は空気や湿度に鋭敏に反応
することから、従来のような再結晶法による一般的な精
製手段が採用できず、このため上記のような99.99
99%以上といった高純度な有機金属固体化合物は得ら
れなかったからである。
あらゆる精製方法を検討した結果より、有機金属固体化
合物の性質に近い空気や湿度に鋭敏に反応する化合物の
例として、AlCl3の精製手段が知られている〔日本
化学全編、“新実験化学講座1、基本操作I”第425
頁、丸蓋(1975) ]。昇華を用いた精製技術が適
用できるのではないかとの啓示を得、この精製方法を例
えばトリシクロペンタジェニルイッテルビウムのような
メタロセン化合物の精製に適用してみた。
第4−1図は、前記文献による実験装置であり、まずこ
の精製装置によって精製を試みたが、すべての昇華物が
ホットブロックを出た部分に付着してしまい、分析の結
果得られた材料の純度は、満足すべき水準に達していな
いことが判明した。
第4−2図は、第4−1図の装置を改良して原料の付着
部分に温度勾配をつけた装置であり、Aは所定の合成手
段で得られた粗製トリシクロペ、ンタジエニルイッテル
ビウム、1は加熱ヒーター 2は上記粗製トリシクロペ
ンタジェニルイッテルビウム八が一端に置かれたバイレ
ックスのガラス管(内径、例えば40mm)であり、こ
のガラス管2の先端側は三方向バルブ3を介して高真空
排気手段と高純度不活性ガス供給装置に連絡されたもの
である。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところがこの装置を使用して精製実験を行ったが結果も
無残なもので、高純度なトリシクロペンタジェニルイッ
テルビウムは得られず、とてもMOCVDの原料として
使えるものではなかった。
本発明の目的は、固体物質、特に空気や湿度に鋭敏に反
応する有機金属固体化合物の99.9999%以上の高
純度な精製装置及び精製方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は精製装置に
関する発明であって、固体物質を加熱精製する装置・に
おいて、発熱手段と、この発熱手段による所定のライン
に沿っての温度変化が、ほぼ単調に変化するように調製
する温度スムーザ−手段とを備えたことを特徴とする。
そして、本発明の第2の発明は精製方法に関する発明で
あって、固体物質を加熱精製する方法において、発熱手
段による所定のラインに沿っての温度変化がほぼ単調に
変化するように調整する温度スムーザ−手段に対して、
この温度スムーザ−手段に応じた所定長さを有し、一方
の側に試料物質を配置し、前記発熱手段を作動させるこ
とで容器内の試料物質を気化させ、それを、温度スムー
ザ−手段に応じた所定長さを有する容器内の側壁に付着
させることを特徴とする。
本発明者らは、温度勾配法を利用した精製技術が何故失
敗に終わったのかの研究を鋭意続行した結果、トリシク
ロペンタジェニルイッテルビウムの高純度精製が失敗し
たのは、温度勾配といっても高密に精度な温度勾配が長
時間(通常、100時間)7安定に実現されたものでは
ないからであることを見出すに至った。
すなわち、第4−1図に示されるような温度勾配法を利
用した精製装置にあっては、第5図に示されるような温
度勾配分布を有したものであり、各部分の変動も起きや
すいため各物質の蒸気圧に応じて管内の各部分への選択
的な付着が阻害され99.9999%以上の高純度なト
リシクロペンタジェニルイッテルビウムが得うレなかっ
たことが判明した。なお、第5図は第4−1図の精製装
置の温度分布を距離(X 100mm、横軸)と温度(
℃、縦軸)との関係で示すグラフである。
そして、高精度な(換言すれば例えばほぼ直線状といっ
た単調に変化する)温度勾配が長時間安定に達成できれ
ば、粗製トリシクロペンタジェニルイッテルビウムの9
9.99.99%以上の高純度な精製が可能となるので
はないかとの啓示を得た。
そこで、第4−1図に示すタイプの温度勾配法を応用し
た精製装置に例えば8製バイブを配設した第1図に示す
タイプの精製装置を製作し、この装置の温度分布を測定
したところ、第2図に示すようなほぼ直線状の安定な温
度勾配を容易に実現することができた。
そして、この第2図に示されたようなほぼ直線状の温度
勾配を有する第1図の装置を用いて粗製トリシクロペン
タジェニルイッテルビウムの精製を試みたところ、これ
は予想以上の結果が得られた。
なお、第1図は本発明に係る精IM装置の概略図であり
、符号A、1〜3は第4−2図と同義であり、4は銅製
パイプ(内径、例えば60mmい全長、例えば1200
+n+++)である。また、第2図は第1図の精製装置
の温度分布を距離(0100mm、横軸)と温度(℃、
縦軸)との関係で示すグラフである。
なお、上記の精製装置は、その発熱量を調整できるよう
に構成された発熱手段がライン状に配置され、そして温
度スムーザ−手段はこのライーン状発熱手段の一方の側
に配設された熱伝導性の長杆な部材、例えば銅やアルミ
ニウムのような金属管で構成することもできる。
更に、例えば第6図に示すように、第1図に示した銅製
バイブ4を何ケ所かに分離することにより、熱伝導を抑
え、加熱ヒーターを適度に調節するようにしてもよい。
それによって例えば第7図に示すような温度分布を実現
することができた。なお第6図の各符号は第1図と同義
であり、第7図は、第6図の精製装置の温度分布を距離
(X 100mm5横軸)と温度(℃、縦軸)との関係
で示すグラフである。
また、本発明の精製方法によれば、昇華した所望の試料
と不純物は、それぞれ時間と共により低温側へ移動して
いくため、あらかじめ適当な設定温度が不明な試料につ
いて精製を行う場合も、移動の様子を観測していて、適
当な位置まで試料が移動した時点で昇華をやめればよい
という利点もある。
〔実施例〕
以下、本発明による具体例について更に詳述するが、本
発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 通常の手段により脱水された三塩化イブテルビウムを、
テトラヒドロフラン中で合成されたナトリウム(又はリ
チウム、又はカリウム)シクロペンタジエニド3当量中
に加え4時間加熱還流後、溶媒のテトラヒドロフランを
減圧留去した。緑色の結晶が残った。ここで反応はすべ
て高純度不活性ガス雰囲気下で行われた。また、使用さ
れた試薬と溶媒は市販品で入手可能な最高純度のものを
更に精製して用いた。
テトラヒドロフランを留去した後のフラスコの昇華用抜
き出し口に、第3図に示すような昇華精製装置(第3図
中、11は熱媒体、12は加熱器、13はフラスコ、1
4はパイレックスガラス管、15は三方向バルブ)をア
ルゴン気流中で取付けた。そして、系内を約Q、 l 
torr〜0、01 torrに減圧後、フラスコを徐
々に加熱した。170℃位から最終的に220℃まで昇
温させた。途中のガラス管内に緑色結晶の化合物が付着
した。
上記のようにして得られた粗製トリシクロペンタジェニ
ルイッテルビウムAを第1図に示した装置(2の内径4
0mm、、4の内径60mm、4の全長1200mm)
内に置き系内を10−’〜10−6torr減圧後、加
熱ヒーターを作動させ100時間保持したところ、加熱
ヒーター1の中央の位置(温度がほぼ中央部の120t
:の位置約30cmの範囲)にトリシクロペンタジェニ
ルイッテルビウムが昇華した。
前述の30cmの間に付着した精製されたトリシクロペ
ンタジェニルイッテルビウムについて、その不純物をフ
レーム ジーマン(Flame Zeeman)型原子
吸光分析装置で調べた結果を精製前の純度と共に表1に
示す。
表 (単位: ppm) 実施例2 更に、第1図に示した装置の銅製パイプ4を第6図に示
したように2ケ所で切離すことによって、熱伝導を抑え
、加熱ヒーターを適度に調節することにより、第7図に
示すような温度分布を実現することができた。これは、
N4@1lflが多くなった際にも、この装置に上記の
ごとく改良を加えることにより充分対応できるものであ
ることを示している。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、目的固体物質を
高純度に精製することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る精製装置の概略図、第2図は第1
図の精製装置の温度分布を示すグラフ、第3図は昇華装
置の概略図、第4−1図及び第4−2図は従来の精製装
置の概略図、第5図は第4−1図の精製装置の温度分布
を示すグラフ、第6図は第1図の装置で銅製パイプを2
ケ所で切り離した精製装置の概略図、第7図は第6図の
精製装置の温度分布を示すグラフである。 A:粗製トリ・シクロペンタジェニルイッテルビウム、
1:加熱ヒーター 2ニガラス管、3:二方向バルブ、
4:銅製バイブ(温度スムーザ−手段)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、固体物質を加熱精製する装置において、発熱手段と
    、この発熱手段による所定のラインに沿っての温度変化
    が、ほぼ単調に変化するように調整する温度スムーザー
    手段とを備えたことを特徴とする精製装置。 2、該発熱手段が、その発熱量を調整できるように構成
    され、かつライン状に配置され、該温度スムーザー手段
    が、このライン状発熱手段に沿って配置された熱伝導性
    の良好な部材である請求項1記載の精製装置。 3、固体物質を加熱精製する方法において、発熱手段に
    よる所定のラインに沿っての温度変化がほぼ単調に変化
    するように調整する温度スムーザー手段に対して、この
    温度スムーザー手段に応じた所定長さを有し、一方の側
    に試料物質を配置し、前記発熱手段を作動させることで
    容器内の試料物質を気化させ、それを、温度スムーザー
    手段に応じた所定長さを有する容器内の側壁に付着させ
    ることを特徴とする精製方法。
JP27852589A 1989-10-27 1989-10-27 精製装置及び精製方法 Pending JPH03143506A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002200401A (ja) * 2000-12-28 2002-07-16 Nippon Steel Chem Co Ltd 高融点有機材料の蒸留精製方法及び装置
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