JPH03140380A - 表面保護膜形成用組成物 - Google Patents
表面保護膜形成用組成物Info
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- JPH03140380A JPH03140380A JP1279501A JP27950189A JPH03140380A JP H03140380 A JPH03140380 A JP H03140380A JP 1279501 A JP1279501 A JP 1279501A JP 27950189 A JP27950189 A JP 27950189A JP H03140380 A JPH03140380 A JP H03140380A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光カード、フレキシブルディスク等における
表面保護膜形成用組成物に関する。
表面保護膜形成用組成物に関する。
従来、この種表面保護膜形成用組成物としては、常温及
び熱硬化型のシリコーン樹脂、メラミン樹脂、更に紫外
線又は電子線硬化型のウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、多官能性アクリレートが知られている。
び熱硬化型のシリコーン樹脂、メラミン樹脂、更に紫外
線又は電子線硬化型のウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、多官能性アクリレートが知られている。
しかしながら、常温硬化型の場合には、硬化に時間を要
し、基材積載時にプロンキング等の問題を有しており、
また熱硬化型の場合は硬化に100℃以上の温度を必要
とするため、基材としてアクリル樹脂等の熱に弱い樹脂
を使用できない問題がある。
し、基材積載時にプロンキング等の問題を有しており、
また熱硬化型の場合は硬化に100℃以上の温度を必要
とするため、基材としてアクリル樹脂等の熱に弱い樹脂
を使用できない問題がある。
一方、紫外線又は電子線硬化型樹脂を使用する場合には
、一般に粘度の高い樹脂が使用されているために膜厚が
厚くなり、カード、ディスク等の表面保護層に適用した
場合に、折り曲げによりひびがはいるという問題がある
。そのため粘度を低下させることによりこの問題を回避
する試みもなされているが、低粘度モノマーにより希釈
されて使用されているため、低粘度モノマーが樹脂硬化
後も残存するために保護層の硬度を低下させるという問
題がある。
、一般に粘度の高い樹脂が使用されているために膜厚が
厚くなり、カード、ディスク等の表面保護層に適用した
場合に、折り曲げによりひびがはいるという問題がある
。そのため粘度を低下させることによりこの問題を回避
する試みもなされているが、低粘度モノマーにより希釈
されて使用されているため、低粘度モノマーが樹脂硬化
後も残存するために保護層の硬度を低下させるという問
題がある。
そのため、本発明は薄膜に表面保護層を形成することが
でき、高硬度で、かつ折り曲げ等によりひび等が生じな
い表面保護膜形成用組成物の捉供を課題とする。
でき、高硬度で、かつ折り曲げ等によりひび等が生じな
い表面保護膜形成用組成物の捉供を課題とする。
〔課題を解決するための手段]
そのため本発明の表面保護膜形成用組成物は、基材表面
に塗布され、電層性放射線照射により硬化される表面保
護膜形成用組成物であって、アクリル当量(−分子量/
アクリル官能基数)130以下で、アクリル官能基数が
3以上であるアクリル酸、又はメタクリル酸のエステル
モノマー、又はオリゴマーと、その低沸点溶剤とからな
ることを特徴とする。
に塗布され、電層性放射線照射により硬化される表面保
護膜形成用組成物であって、アクリル当量(−分子量/
アクリル官能基数)130以下で、アクリル官能基数が
3以上であるアクリル酸、又はメタクリル酸のエステル
モノマー、又はオリゴマーと、その低沸点溶剤とからな
ることを特徴とする。
本発明の表面保護膜形成用組成物におけるアクリル酸エ
ステルモノマーとしては、アクリル当量130以下で、
アクリル官能基数が3以上のものであり、例えば下記の
構造式を有するものである。
ステルモノマーとしては、アクリル当量130以下で、
アクリル官能基数が3以上のものであり、例えば下記の
構造式を有するものである。
また上記モノマーのみでなく、オリゴマーを使用するこ
とができる。
とができる。
■、ジペンタエリスリトールへキサアクリレニド(以下
、D P HAという) 分子量/官能基数 96、官能基数 6■、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート(以下、DPPAとい
う) CHzOCO(JbCHz CHzOCOCH−CH
z分子量/官能基数 105、官能基数 5■、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレートCHzOCOCLC
L CIh□CHCOOCHz−CCHzOCOCll−C
LCl1zOCOCIbClh 分子量/官能基数 88、官能基数 4■、ペンタエリ
スリトールトリアクリレートCHzOCOCtl−CI
Iz tlOcHz−C−CLOCOCH=CLCHzOCO
CH=CL 分子量/官能基数 99、官能基数 3■、 (但し、Rはアクリレート、又はメタクリレート)分子
量/官能基数 210〜124、官能基数また、本発明
の表面保護膜形成用組成物における低沸点溶剤としては
、上記モノマー又はオリゴマーを溶解することができる
ものであり、−船釣なアルコール類、ケトン類、エステ
ル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エー
テル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、
ケトンエーテル類、エステルエーテルLBdHA%炭化
水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等の
革独、又は混合して使用することができ、具体的にはエ
タノール、トルエン、酢酸エチル、メチルセロソルブ、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、エチルセロソルブ、イソプロピルアルコール等を使
用するとよい。尚、基材をポリカーボネートとする場合
にはケトン系の〆8剤を使用すると白化するので好まし
くない。
、D P HAという) 分子量/官能基数 96、官能基数 6■、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート(以下、DPPAとい
う) CHzOCO(JbCHz CHzOCOCH−CH
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エリスリトールテトラアクリレートCHzOCOCLC
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スリトールトリアクリレートCHzOCOCtl−CI
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CH=CL 分子量/官能基数 99、官能基数 3■、 (但し、Rはアクリレート、又はメタクリレート)分子
量/官能基数 210〜124、官能基数また、本発明
の表面保護膜形成用組成物における低沸点溶剤としては
、上記モノマー又はオリゴマーを溶解することができる
ものであり、−船釣なアルコール類、ケトン類、エステ
ル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エー
テル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、
ケトンエーテル類、エステルエーテルLBdHA%炭化
水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等の
革独、又は混合して使用することができ、具体的にはエ
タノール、トルエン、酢酸エチル、メチルセロソルブ、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、エチルセロソルブ、イソプロピルアルコール等を使
用するとよい。尚、基材をポリカーボネートとする場合
にはケトン系の〆8剤を使用すると白化するので好まし
くない。
本発明における溶剤は、その沸点が高すぎるとコーテイ
ング後に乾燥工程が必要となり、また残留溶剤が多くな
るので、その沸点は1.50℃以下、できれば100℃
以下が好ましい。
ング後に乾燥工程が必要となり、また残留溶剤が多くな
るので、その沸点は1.50℃以下、できれば100℃
以下が好ましい。
添加剤としては、表面保2i欣形成用組成物の表面エネ
ルギーを下げ、付着物が付きにくくするシリコーン樹脂
、弗素p4脂等を全体の0.2〜1゜0重量%、好まし
くは0.3〜0.5重量%添加ある。
ルギーを下げ、付着物が付きにくくするシリコーン樹脂
、弗素p4脂等を全体の0.2〜1゜0重量%、好まし
くは0.3〜0.5重量%添加ある。
本発明の表面保護膜形成用組成物を塗膜する基材として
は、光カード、フレキシブルディスク基材である、例え
ばポリメチルメタクリレ−1・1.ポリカーボネート、
ポリエステル、エボキノ、ボ゛ノオレフィン、ポリスチ
レン等からなる可とう性を有するプラスチックフィルム
に使用されるとよく、その膜厚には特に制限はない。
は、光カード、フレキシブルディスク基材である、例え
ばポリメチルメタクリレ−1・1.ポリカーボネート、
ポリエステル、エボキノ、ボ゛ノオレフィン、ポリスチ
レン等からなる可とう性を有するプラスチックフィルム
に使用されるとよく、その膜厚には特に制限はない。
また本発明の表面保護膜形成用組成物は、メガネ、窓ガ
ラス、車等のガラス等の可とう性を要しない場合の保護
膜として使用してもよく、高硬度な保護膜とすることが
できる。この場合には表面保護膜形成用組成物における
溶剤の量を少なくして厚膜に塗布形成するとよい。
ラス、車等のガラス等の可とう性を要しない場合の保護
膜として使用してもよく、高硬度な保護膜とすることが
できる。この場合には表面保護膜形成用組成物における
溶剤の量を少なくして厚膜に塗布形成するとよい。
コーティング法としては、スピンナー法、ローラーコー
ト法、デイツプ法等の一般的な方法を採用することがで
き、膜厚1−10μm、好ましく108mを越えると硬
化収縮により基材との密着性が悪くなったり、曲げた時
にヒビが入りやすくなるという問題がある。
ト法、デイツプ法等の一般的な方法を採用することがで
き、膜厚1−10μm、好ましく108mを越えると硬
化収縮により基材との密着性が悪くなったり、曲げた時
にヒビが入りやすくなるという問題がある。
本発明の表面保護膜形成用組成物を基材上に塗布後、硬
化させる手段としては、電離性放射線、例えば紫外線、
電子線、XU等の照射により硬化させるもので、表面保
護膜形成用組成物におけるアクリレートを硬化させるこ
とができるものである。紫外線を使用する場合には、光
開始剤としてベンゾフェノン類、チオキサンソン類、ケ
トン類、ケタール類等のラジカル発生剤やカチオン、ア
ニオン系の通常使用されるものを適宜、本発明の表面保
護膜形成用組成物に含有させて用いるとよい。
化させる手段としては、電離性放射線、例えば紫外線、
電子線、XU等の照射により硬化させるもので、表面保
護膜形成用組成物におけるアクリレートを硬化させるこ
とができるものである。紫外線を使用する場合には、光
開始剤としてベンゾフェノン類、チオキサンソン類、ケ
トン類、ケタール類等のラジカル発生剤やカチオン、ア
ニオン系の通常使用されるものを適宜、本発明の表面保
護膜形成用組成物に含有させて用いるとよい。
本発明の表面保護膜形成用組成物は、基材上に塗布され
る表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当量13
0以下で、アクリル官能基数が3以上であるアクリル酸
、又はメタクリル酸のエステルモノマー、又はオリゴマ
ー、及びその低沸点溶剤とから構成されることにより、
基材上に塗布後、溶剤を容易に除去でき、保護層中に溶
剤が残存することがなく、又薄膜状に膜形成ができ、か
つ高硬度のものとすることができるので、折り曲げ等に
よりひびの生じないものとすることができることを見出
したものである。
る表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当量13
0以下で、アクリル官能基数が3以上であるアクリル酸
、又はメタクリル酸のエステルモノマー、又はオリゴマ
ー、及びその低沸点溶剤とから構成されることにより、
基材上に塗布後、溶剤を容易に除去でき、保護層中に溶
剤が残存することがなく、又薄膜状に膜形成ができ、か
つ高硬度のものとすることができるので、折り曲げ等に
よりひびの生じないものとすることができることを見出
したものである。
アクリレート(又はメタクリレート)のアクリル当量は
、130以下、好ましくは100以下で、アクリル官能
基数が3以上、好ましくは5以上のものであり、アクリ
ル当量が130を越えると架橋密度が小さくなり、硬度
が低下するという問題が生じる0例えば基材がポリカー
ボネートの場合、ヘイズ値20%以上、スチールウール
硬度(#0000)200g以下、鉛筆硬度B以下であ
る。
、130以下、好ましくは100以下で、アクリル官能
基数が3以上、好ましくは5以上のものであり、アクリ
ル当量が130を越えると架橋密度が小さくなり、硬度
が低下するという問題が生じる0例えば基材がポリカー
ボネートの場合、ヘイズ値20%以上、スチールウール
硬度(#0000)200g以下、鉛筆硬度B以下であ
る。
またアクリル官能基数が3未満であると、硬度が低下す
るのみでなく、硬化時間が長い、また酸素による重合阻
害により表面が硬化しない等の問題が生じるので好まし
くない。
るのみでなく、硬化時間が長い、また酸素による重合阻
害により表面が硬化しない等の問題が生じるので好まし
くない。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、使用
量は重量部を示す。
量は重量部を示す。
〔実施例1〕
組成物
・DPPA (モノマー) ・・・40
・エタノール(溶剤) ・・・49・
メヂルセロソルプ(〃) ・・・10・
l−ヒドロキシシクロヘキシル フヱニルケトン(光開始剤) ・・・0.9・弗素樹
脂(商品名LF−40、住友 3M製) ・・・0.1を、0
.4InIlrg−のポリカーボネートフィルム(奇人
パンライト製)上に、スピンナーによりコーティングし
、UV照射(700mJ/cm”) L、膜厚5μmの
塗膜を得た。
・エタノール(溶剤) ・・・49・
メヂルセロソルプ(〃) ・・・10・
l−ヒドロキシシクロヘキシル フヱニルケトン(光開始剤) ・・・0.9・弗素樹
脂(商品名LF−40、住友 3M製) ・・・0.1を、0
.4InIlrg−のポリカーボネートフィルム(奇人
パンライト製)上に、スピンナーによりコーティングし
、UV照射(700mJ/cm”) L、膜厚5μmの
塗膜を得た。
この膜の性能を、下記に示す。
尚、上記試験における鉛筆引っ掻き試験硬度はJI3
5400により、スチールウール摩耗#0000は、ス
チールウール#0000を用いて一定荷重のもとに10
往復させ、傷がついた時の荷重(g)を評価値とした。
5400により、スチールウール摩耗#0000は、ス
チールウール#0000を用いて一定荷重のもとに10
往復させ、傷がついた時の荷重(g)を評価値とした。
またテーパー摩耗I kg 100回転ヘイズ値は、A
merican 5ociety forTestin
g and Material (AST)LM) D
−1044に定められた試験、曲げテス)R=13+m
は、外径131の円筒に沿わせて基+fdtyrり曲げ
、顕微鏡で観察してヒビ割れのないことをもって合格と
する。
merican 5ociety forTestin
g and Material (AST)LM) D
−1044に定められた試験、曲げテス)R=13+m
は、外径131の円筒に沿わせて基+fdtyrり曲げ
、顕微鏡で観察してヒビ割れのないことをもって合格と
する。
又高温、高湿下での耐久試験(60℃、90%I?H)
は、高温、高湿下、一定時間(例えば1000時間)保
存後の欠陥(ゲル化物、クランク、炭化物等)、複屈折
の変化、色の変化、基材との密着性の劣化がないことを
もって合格とした。
は、高温、高湿下、一定時間(例えば1000時間)保
存後の欠陥(ゲル化物、クランク、炭化物等)、複屈折
の変化、色の変化、基材との密着性の劣化がないことを
もって合格とした。
また上記塗膜を、光カード(基材、600μm膜厚のポ
リカーボネートフィルム上に記録層としてTeOうを5
00人の膜厚で積層したもの)の基材上に塗布し、上記
実施例同線に硬化させ、実用試験として一般にN行われ
ている耐久試験、書き込み読み取り試験、携帯試験(胸
ポケツト中、及び尻ポケット中各半年)、複屈折の測定
を実施したが、本発明の表面保護膜形成用組成物により
形成された保護膜は、傷が付きにくく、また折り曲げに
際してもヒビが入らなく、複屈折の増加も無いものであ
った。
リカーボネートフィルム上に記録層としてTeOうを5
00人の膜厚で積層したもの)の基材上に塗布し、上記
実施例同線に硬化させ、実用試験として一般にN行われ
ている耐久試験、書き込み読み取り試験、携帯試験(胸
ポケツト中、及び尻ポケット中各半年)、複屈折の測定
を実施したが、本発明の表面保護膜形成用組成物により
形成された保護膜は、傷が付きにくく、また折り曲げに
際してもヒビが入らなく、複屈折の増加も無いものであ
った。
〔実施例2〕
組成物
・ペンタエリスリトールトリアクリレート (モノマー
) ・・・50アセトン
(ン会則) ・・・25・メチルイソ
ブチルケトン(〃) ・・・24・シリコーン樹
脂(商品名X〜22− 5002、信越化学製) ・・・ lを、1.2
■厚ポリメチルメタクリレート(日東樹脂製)上にロー
ラーコーターによりコーティングし、電子線を照射(5
M rad)して、膜厚7μmの塗膜を得、実施例1
と同様の試験をしたところ実施例1における被膜同様の
優れた収を製造することができた。
) ・・・50アセトン
(ン会則) ・・・25・メチルイソ
ブチルケトン(〃) ・・・24・シリコーン樹
脂(商品名X〜22− 5002、信越化学製) ・・・ lを、1.2
■厚ポリメチルメタクリレート(日東樹脂製)上にロー
ラーコーターによりコーティングし、電子線を照射(5
M rad)して、膜厚7μmの塗膜を得、実施例1
と同様の試験をしたところ実施例1における被膜同様の
優れた収を製造することができた。
(比較例1〕
・千ツマ−
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート(日本化薬@製、商品名カヤランドDPCA−
20)(官能基数6、分子量/官能基数134) にし、実施例I同IMの試験を実施した。
リレート(日本化薬@製、商品名カヤランドDPCA−
20)(官能基数6、分子量/官能基数134) にし、実施例I同IMの試験を実施した。
上記比較例1.2の試験使用結果を下記に示す。
(MW806 式中m==1、a−2、b=4)・エ
タノール(溶剤) ・・・49・メチル
セロソルブ(−) ・・・10・1−ヒド
ロキシシクロヘキシル フェニルケトン(光開始剤) ・・・0.9・弗素樹
脂(商品名LF−40.住友 3M製) ・・・0.1を、実施例1
同様に基材上に塗膜し、実施例1同様の試験を実施した
。
タノール(溶剤) ・・・49・メチル
セロソルブ(−) ・・・10・1−ヒド
ロキシシクロヘキシル フェニルケトン(光開始剤) ・・・0.9・弗素樹
脂(商品名LF−40.住友 3M製) ・・・0.1を、実施例1
同様に基材上に塗膜し、実施例1同様の試験を実施した
。
〔比較例2〕
上記比較例1においてモノマーとして、1.6−ヘキサ
ンジオールジアクリレート(日本化薬[相]製、商品名
カヤラッドHDDA) (官鮨基戟2、分子量/官能
基数114) CIlz=CIlCOO(CHi) *0COCH=C
Ilzを40重思部使用した以外は、比較例1と同(p
生 表かられ力)るように、アクリル当量力(130を越え
る7クリレートの場合には鉛筆引っ掻き試験硬度、スチ
ールウール摩耗#0OOO、テーパー合には、高硬度な
値が得られないのみでなく、表面硬化不足のため耐久試
験でも欠陥を生じることがわかる。
ンジオールジアクリレート(日本化薬[相]製、商品名
カヤラッドHDDA) (官鮨基戟2、分子量/官能
基数114) CIlz=CIlCOO(CHi) *0COCH=C
Ilzを40重思部使用した以外は、比較例1と同(p
生 表かられ力)るように、アクリル当量力(130を越え
る7クリレートの場合には鉛筆引っ掻き試験硬度、スチ
ールウール摩耗#0OOO、テーパー合には、高硬度な
値が得られないのみでなく、表面硬化不足のため耐久試
験でも欠陥を生じることがわかる。
本発明の表面保護膜形成用組成物を、可とう性基材の表
面に塗布し、電離性放射線照射により硬化させて形成さ
れる保護膜は、1−1oμmと薄膜に形成することがで
き、しかも可とう性、高硬度の膜を形成することかでき
るので、折り曲げ等によりひび等の生じないものとする
ことができる。
面に塗布し、電離性放射線照射により硬化させて形成さ
れる保護膜は、1−1oμmと薄膜に形成することがで
き、しかも可とう性、高硬度の膜を形成することかでき
るので、折り曲げ等によりひび等の生じないものとする
ことができる。
特に可とう性を有する光カード、フレキシブルディスク
等の表面保l膜形成用組成物としての使用に適したもの
である。
等の表面保l膜形成用組成物としての使用に適したもの
である。
また保護膜を薄く形成することができるので、例えば光
カードとした場合に、その情報再生時の光による複屈折
等の問題を生じにくいものとすることができる。
カードとした場合に、その情報再生時の光による複屈折
等の問題を生じにくいものとすることができる。
Claims (2)
- (1)基材表面に塗布され、電離性放射線照射により硬
化される表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当
量130以下で、アクリル官能基数が3以上であるアク
リル酸、又はメタクリル酸のエステルモノマー又はオリ
ゴマー、及びその低沸点溶剤とからなる表面保護膜形成
用組成物。 - (2)前記基材が、光カード、フレキシブルディスクで
ある請求項1記載の表面保護膜形成用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279501A JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279501A JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140380A true JPH03140380A (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=17611929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1279501A Pending JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03140380A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0598575A2 (en) * | 1992-11-16 | 1994-05-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and production thereof |
US5885717A (en) * | 1998-01-15 | 1999-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Circuit protection film |
JP2014181320A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化性組成物及び硬化物 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6234926A (ja) * | 1985-08-07 | 1987-02-14 | Toyobo Co Ltd | 表面処理されたプラスチツク成形品 |
JPS6246689A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-02-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 昇華型感熱転写記録方式の被記録体用コ−テイング組成物 |
JPS6284446A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光デイスク基板 |
JPS6292233A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS62109226A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS6367189A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 昇華型感熱転写記録方式の被記録体 |
JPH02255772A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-16 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型被覆組成物 |
JPH0379674A (ja) * | 1989-05-12 | 1991-04-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光ディスク用活性エネルギー線硬化型コーティング剤 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP1279501A patent/JPH03140380A/ja active Pending
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EP0598575A3 (en) * | 1992-11-16 | 1995-03-22 | Canon Kk | Optical recording medium and method for the production thereof. |
US5503889A (en) * | 1992-11-16 | 1996-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and production thereof |
US5885717A (en) * | 1998-01-15 | 1999-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Circuit protection film |
JP2014181320A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化性組成物及び硬化物 |
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