JPH0313600A - スタンパー洗浄装置 - Google Patents

スタンパー洗浄装置

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JPH0313600A
JPH0313600A JP1149229A JP14922989A JPH0313600A JP H0313600 A JPH0313600 A JP H0313600A JP 1149229 A JP1149229 A JP 1149229A JP 14922989 A JP14922989 A JP 14922989A JP H0313600 A JPH0313600 A JP H0313600A
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明はスタンパ−洗浄装置に関し、更に詳しくは光
ディスクを成形するためのスタンパ−を電解脱脂洗浄し
、水洗し、更に乾燥するためのスタンパ−洗浄装置に関
する。
(ロ)従来の技術 スタンパ−1すなわちLPディスク、光ディスクなどの
情報記録用ディスクを複製するためのマスター盤は、一
般に次のような工程で製造される。
まずガラス原盤を研磨し、その研磨面に感光性衝脂膜を
塗布し、光学的エツチング九理を施して所望の微細パタ
ーンを形成する。次いでその微細パターン面に金属薄膜
を設け、更にニッケル電気メツキにより所望の厚さまで
肉盛りした後、元のガラス原盤部分から分離してスタン
パ−とする。
しかしながら、このスタンパ−の表面には、感光性樹脂
膜が残留しており、この膜の除去に、アルカリ・界面活
性剤の混合溶液中で電解脱脂を行う電解脱脂洗浄法、有
機溶媒中で超音波によって洗浄する超音波洗浄法、又は
これらの併用洗浄法が採用されている(特開昭62−2
14535号)。
(ハ)発明が解決しようとする課題 ところで情報記録用ディスクは、従来からのLPレコー
ドとは異なり最近では光によって記録情報を取り出す光
ディスクが飛躍的に他方面に使用されるようになってき
た。これらの光ディスクは、情報を記録するための溝幅
が、LPレコードの50mμに対しその1/100の0
.5111μである。
一方上述の各種洗浄法にて洗浄されたディスク成形用ス
タンパ−に残留している微粒子は1〜10mμである。
またその後のスタンパ−の使用(デ4スクの成形)によ
って付着する各種塵埃や微粒子もほぼ同様の大きさであ
る。
従って従来のLPレコード成形用(又はアナログ用)ス
タンパ−では、情報記録用の溝が上述のごとく50mμ
程度であるから、製造時の洗浄だけで十分であった。
これに対して光デイスク成形用(又はデジタル用)スタ
ンパ−では、情報記録用の溝が0.5mμ程度であるか
ら、1mμの微粒子でも、情報記録に致命的な影響があ
る。特に光デイスク成形用スタンパ−は、その情報記録
用の溝が細かく、シかも接近しているので、製造が難し
く、高価であり、一つの゛スタンパーで多数の光ディス
クを成形しなければならず、更に長期間の保存を要求さ
れる。
結局光デイスク成形用スタンパ−は、成形作業中に付着
する塵埃や微粒子、長期間保存による腐食などのために
洗浄を必要とすることになる。
もちろん、このような光デイスク成形用スタンパ−に対
する桁違いの洗浄を**に行うために、一般のスタンパ
−の製造工程中で採用されている、上述の電解脱脂洗浄
法又は/及び超音波洗浄法の採用も考えられるが、いず
れも、洗浄度を従来の1/100に高めることは難しい
またスタンパ−に基づいて光ディスクを成形する作業環
境全体をクリーン化することも考えられるが、これには
、例えば作業室中の0.1mμ以上の塵埃を除去する設
備や、使用する水中に分散する同様の大きさの微粒子を
除去する設備が必要となり、これらの設備は大規模にな
らざるを得す実用的ではなかった。
(ニ)発明を解決するための手段及びその作用この発明
は、1つの枠本体内に、電解脱脂を行うための電解脱脂
洗浄槽と、この洗浄槽に隣接する水洗室とを備え、更に
枠本体内に移動可能に設置されたスタンパ−支持台と、
この支持台を移動させ、それによってスタンパ−を水洗
室から電解脱脂洗浄槽へ移動させて所定時間該洗浄槽内
に保持させ、次いでその電解脱脂洗浄槽内から水洗室へ
移動させて所定時間該水洗室内に保持させる支持台移動
手段と、水洗室の上方部に設置され、スタンパ−が水洗
室内に位置し、かつ電解脱脂液でぬれている間に作動し
てスタンパ−に水洗水を散布しスタンパ−の水洗を行う
水洗水散布手段と、水洗室の下方部に設置され、スタン
パ−の水洗後の水を集めて排水する排水手段と、水洗室
の上方部に設置され、スタンパ−を水洗室に保持する前
記所定時間中で、前記水洗水供給手段の作動後に作動し
てスタンパ−を加熱乾燥する加熱手段とを備えてなるス
タンパ−洗浄装置である。
すなわち、この発明は、特定の電解脱脂洗浄槽と水洗室
とをスタンパ−が移動できるように並設し、かつその水
洗室に特定の水洗水散布手段と加熱手段とを設置して、
更にその水洗水散布手段を、スタンパ−が水洗室内に位
置し、かつ電解脱脂液でぬれている間に作動するよう構
成することによって、大幅に水洗効果を上げようとする
ものである。
この発明において、採用可能な水洗水散布手段としては
、水洗室の上方部で、かつスタンパ−が移動する電解脱
脂洗浄槽と水洗室との間に設置される、水洗水散布用シ
ャワー、スプレーなどが好ましいものとして挙げられる
。そして水洗水としては、予め例えば0.1mμの限外
濾過膜などのフィルターを用いて約0.2mμ以上の微
粒子が除去された水が用いられ、通常ポンプによって上
記ジャワ、スプレーなどに供給される。
この発明においては、以上のような水洗水散布手段が、
スタンバ−が電解脱脂洗浄を終えてまだ電解脱脂液でぬ
れている状態のときに、水洗水の散布を受けられるよう
に作動される。具体的にはスタンバ−の電解脱脂液が自
然乾燥しない間に水洗水の散布を行えるように、水洗室
に静止しているスタンバ−に水洗水を散布できるシャワ
ーのほかに、電解脱脂洗浄槽から水洗室へスタンバ−が
移動している時にもスタンバ−に水洗水を散布できるよ
うに別途シャワー、スプレーなどを付設するのが好まし
い。
この発明において採用可能な加熱手段としては、赤外線
ヒータ、0.1mμ以上の塵埃や微粒子を除去した約3
0〜50℃程度の熱風を水洗室に供給できるファンなど
が挙げられ、好ましくは塵埃や微粒子の除去の必要がな
い赤外線ヒータが挙げられる。
(ホ)実施例 以下図に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。な
お、この発明はこれによって限定されるものではない。
まず第1図において、スタンバ−洗浄装置1は、1つの
枠本体2内に電解脱脂を行うための電解脱脂洗浄槽3と
、この洗浄槽に隣接する水洗室4とを備え、更に枠本体
2内に移動可能に設置されたスタンバ−支持台(洗浄電
極治具)5と、支持台移動手段6と、水洗室の上方部に
設置された水洗水散布手段7と、排水手段8と、加熱手
段9とから主としてなる。
電解脱脂洗浄槽3は、アルカリ・界面活性剤の混合溶液
を充填してなり、電極板lOと、温度計11と、モータ
12によって回転し、電解脱脂溶液を撹拌する羽根13
と、ヒータ14とを具備している。なお、液面の降下は
液面センサー(図示省略)により検知し、液位が常に一
定になるよう制御されている。
支持台移動手段6は、特に第2図において、スタンバ−
支持台5を保持するアングル15と、このアングルを上
下に傾斜移動可能に支持する第1移動台16と、この第
1移動台を水平に移動可能に支持する第2移動台17と
、この第2移動台を枠本体2に設置する基台18とから
主としてなる。
ここで19はモータ20によって回転するネジ軸で第1
移動台16に支持されている。なお、21゜22はガイ
ド軸である。23はモータ24によって回転するネジ軸
で、25.26はガイド軸である。
スタンバ−支持台5は、特に第5図において、上記アン
グル15に一体支持された移動部27と、水洗室4内に
適宜固定された固定部28とからなり、前者の移動部2
7がコ字状片29と、このコ字状片の両端から上方へ傾
斜して延びる2つの傾斜片30.31とからなる。
一方、後者の固定部28は、コ字状片32と、このコ字
状片を水洗室4内に適宜固定する基片33と、そのコ字
状片の両端から上方へ延びる2つの大きな立片34,3
5と、コ字状32の対向片部分の途中より上方へ延びる
2つの小さな立片36.37とからなる。
そして2つの傾斜片30.31は、相対向し、その対向
間隔が上方に向かって拡がる凹溝38゜39を有する。
水洗水散布手段7は、水洗室4の天井壁附近の四角に設
置された4つの主水洗シャワー40゜41・・・・・・
と、水洗室4の、天井壁附近で、電解脱脂洗浄槽3と水
洗室4との間の部分に対向して配置された2つの副水洗
シャワー42.43 (図示省略)とからなる。これら
のシャワーで散布される水洗水は、脱イオン水を加圧下
(約1.5気圧)で限外濾過膜フィルター(酢酸セルロ
ース、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアク
リロニトリルなどの合成樹脂製中空系)に全量通過させ
て得られる。
排水手段8は、中和槽44と、この中和槽に水洗室4の
排水を供給する第1排水管45と、中和槽44から電磁
開閉弁46を介して適宜下水路(図示省略)に延びる第
2排水管47と、中和槽44にポンプ48を介して連結
され、中和用のM(例えば低濃度のリン酸、硫酸、硝酸
など)を中和槽44に供給する中和用液供給槽49とか
らなる。
なお、50はモータ51によって回転し、中和槽内液を
撹拌する羽根、52はp+(検知器である。
加熱手段9は、水洗室4の天井壁に設置された赤外線ヒ
ータより構成される。なり153は排気ファン、54.
55はキャスターである。
次に、以上の構成を備えたスタンパ−洗浄装置lの作動
を説明する。
まず、スタンパ−5を、スタンパ−支持台5の移動台2
7にセットする。つまり2つの傾斜片30.31の凹溝
38.39に、スタンパ−5の外周縁を嵌め込む。
次いで操作パネル(図示省略)のスタートボタン(図示
省略)を適宜押すと、次の各手段の作動が自動制御装R
(図示省略)により自動的に行われる。すなわち、まず
支持台移動手段6の各モータ20,24が作動し、スタ
ンパ−8を、第3図の経路■及び■を介して水洗室4か
ら電解脱脂洗浄槽3へ移動させる。
そしてスタンパ−8は、電解脱脂洗浄槽3内で、約5〜
6分保持され、電解脱脂洗浄に付される。
続いて、支持台移動手段6の各モータ20,24が作動
し、第3図の経路■から■及び■を経て■に至り、スタ
ンパ−5を電解脱脂洗浄槽3から水洗室4へ移動させる
。この間、副水洗シャワー42.43が作動して、移動
中のスタンパ−8に、電解脱脂洗浄溶液が乾く前に水洗
水を散布する。
そしてスタンパ−8は、更に水洗室4内で、約2〜3分
保持され、その間、主水洗シャワー40゜41・・・・
・・が作動して、スタンパ−5に水洗水を散布し、残っ
ている電解脱脂溶液を徹底的に洗い落とす。
次いで、加熱手段9が作動し、スタンパ−5を赤外線に
より加熱し、乾燥させる。以上の一連のrPiIが終了
し、乾燥したスタンパ−8を取り出して後、リセットボ
タン(図示省略)を押してスタンパ−支持台5の移動部
27をスタート位置にもどす。
得られたスタンパ−8は、電解脱脂溶液でぬれている状
態で水洗に付されるので、溶液の洗い効果が高く、桁違
いの洗浄を可能にする。なお、電解脱脂溶液がスタンパ
−8の表面でいったん乾いた状態になると、溶液中の微
粒子が付着して乾燥し、シミの欠陥が発生して、極度に
除去が難しくなる。
なお、スタンパ−5の水洗により水洗水の底部に集まっ
た、電解脱脂溶液を含んだ水洗水は、第1排水管45を
介して中和槽44に送られ、pH7に中和され、更に第
2排水管47を介して適宜排出される。
(へ)発明の効果 この発明によれば、特定の電解脱脂洗浄槽と水洗室とを
スタンパ−が移動できるように並設し、かつその水洗室
に特定の水洗水散布手段と加熱手段とを設置し、更にそ
の水洗水散布手段を、スタンパ−が水洗室内に位置し、
かつ電解脱脂液でぬれている間に、作動するよう構成す
ることによって、大幅に水洗効果を上げることができる
。つまり、スタンパ−の表面がいったん乾くと溶液中の
微粒子が付着して極度に除去が難しくなるという問題が
解決でさる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係るスタンパ−洗浄装置の一実施例
を示す概略機能説明図、第2図はその支持台移動手段の
傾斜図、第3図はスタンパ−支持台の移動を説明する説
明図、第4図はスタンパ−支持台を電解脱脂洗浄槽内に
保持した状態を示す概略機能説明図、第5図は支持台の
移動部と固定部の関係を説明する説明斜視図である。 ■・・・・・・スタンパ−洗浄装置、 2・・・・−・枠本体、 3・・・・・・電解脱脂洗浄槽、 4・・・・・・水洗室、 5・・・・・・スタンパ−支持台、 6・・・・・・支持台移動手段、 7・・・・・・水洗水散布手段、 8・・・・・・排水手段、 9・・・・・・加熱手段。 第 1 図 第 図 第 図 0−リミ・ソトスイ、子 ■−タイマー 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1つの枠本体内に、電解脱脂を行うための電解脱脂
    洗浄槽と、この洗浄槽に隣接する水洗室とを備え、 更に枠本体内に移動可能に設置されたスタンパー支持台
    と、この支持台を移動させ、それによってスタンパーを
    水洗室から電解脱脂洗浄槽へ移動させて所定時間該洗浄
    槽内に保持させ、次いでその電解脱脂洗浄槽内から水洗
    室へ移動させて所定時間該水洗室内に保持させる支持台
    移動手段と、水洗室の上方部に設置され、スタンパーが
    水洗室内に位置し、かつ電解脱脂液でぬれている間に作
    動してスタンパーに水洗水を散布しスタンパーの水洗を
    行う水洗水散布手段と、水洗室の下方部に設置され、ス
    タンパーの水洗後の水を集めて排水する排水手段と、水
    洗室の上方部に設置され、スタンパーを水洗室に保持す
    る前記所定時間中で、前記水洗水供給手段の作動後に作
    動してスタンパーを加熱乾燥する加熱手段とを備えてな
    るスタンパー洗浄装置。
JP1149229A 1989-06-12 1989-06-12 スタンパー洗浄装置 Expired - Lifetime JPH0723559B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61252593A (ja) * 1985-05-02 1986-11-10 沖電気工業株式会社 音声認識装置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5419347A (en) * 1992-11-16 1995-05-30 Ssi Medical Services, Inc. Automated flushing module
US6045624A (en) * 1996-09-27 2000-04-04 Tokyo Electron Limited Apparatus for and method of cleaning objects to be processed
US6615852B1 (en) 1999-12-27 2003-09-09 Aqua Sonic Service Co., Ltd. Cleaning machine for die used for synthetic resin mould
ATE256003T1 (de) * 2000-09-12 2003-12-15 Aqua Sonic Service Co Ltd Vorrichtung zum reinigen von in der kunststoffverarbeitung verwendeten formen
US20070114693A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Buckley Paul W Methods for improving mold quality for use in the manufacture of liquid crystal display components
JP4521056B2 (ja) * 2006-05-15 2010-08-11 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置および記録媒体
JP2008104904A (ja) * 2006-10-23 2008-05-08 Shiga Yamashita:Kk ワークに付着した異物を除去する洗浄装置
JP4744426B2 (ja) * 2006-12-27 2011-08-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP4744425B2 (ja) * 2006-12-27 2011-08-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
WO2008082414A1 (en) * 2007-01-04 2008-07-10 General Electric Company Methods for improving mold quality for use in the manufacture of light management film, manufactured film and corresponding mold
US20080237158A1 (en) * 2007-04-02 2008-10-02 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Cleaning tray for electrical components and carrying tool with the same
EP2180324B1 (en) * 2007-07-18 2013-11-20 Beckman Coulter, Inc. Analyzer comprising a stirring determination device and stirring determination method
CN113601763A (zh) * 2021-08-17 2021-11-05 广东贝洛新材料科技有限公司 一种硅橡胶成型模可回收重复利用自动清洗机

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5210069A (en) * 1975-07-14 1977-01-26 Seiko Epson Corp Automatic apparatus for cleaning and drying wafer
JPS6282513A (ja) * 1985-10-05 1987-04-16 Hitachi Electronics Eng Co Ltd デイスク部材の洗浄装置
JPS62214534A (ja) * 1986-03-17 1987-09-21 Toshiba Corp デイスクスタンパの洗浄方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1017643B (it) * 1973-11-15 1977-08-10 Ebara Udylite Kk Metodo e apparecchio per tratta re soluzioni per il trattamento superficiale di metalli e liqui di di lavaggio
JPS5456038A (en) * 1977-10-12 1979-05-04 Nippon Paint Co Ltd Controlling method for acidic phosphate film forming liquid
JPS57145999A (en) * 1981-03-03 1982-09-09 Yamaha Motor Co Ltd Plating device
US4561956A (en) * 1984-05-29 1985-12-31 Antonelli Plating Co. Apparatus for rinsing electroplating solution from articles
US4729940A (en) * 1986-05-16 1988-03-08 Cbs Inc. Method of manufacturing master for optical information carrier
US4772357A (en) * 1987-06-08 1988-09-20 Robbins & Craig Welding & Mfg. Co. System for automatically etching pieces
US4746414A (en) * 1987-09-08 1988-05-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Zero discharge spray rinse system for electroplating operations
US4966673A (en) * 1989-04-26 1990-10-30 Carlo Accattato Device for cleaning and polishing jewelry

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5210069A (en) * 1975-07-14 1977-01-26 Seiko Epson Corp Automatic apparatus for cleaning and drying wafer
JPS6282513A (ja) * 1985-10-05 1987-04-16 Hitachi Electronics Eng Co Ltd デイスク部材の洗浄装置
JPS62214534A (ja) * 1986-03-17 1987-09-21 Toshiba Corp デイスクスタンパの洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61252593A (ja) * 1985-05-02 1986-11-10 沖電気工業株式会社 音声認識装置
JPH0567037B2 (ja) * 1985-05-02 1993-09-24 Oki Electric Ind Co Ltd

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0723559B2 (ja) 1995-03-15
US5024744A (en) 1991-06-18

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