JPH0723559B2 - スタンパー洗浄装置 - Google Patents
スタンパー洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0723559B2 JPH0723559B2 JP1149229A JP14922989A JPH0723559B2 JP H0723559 B2 JPH0723559 B2 JP H0723559B2 JP 1149229 A JP1149229 A JP 1149229A JP 14922989 A JP14922989 A JP 14922989A JP H0723559 B2 JPH0723559 B2 JP H0723559B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- washing
- electrolytic degreasing
- water
- cleaning tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B11/02—Devices for holding articles during cleaning
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S204/00—Chemistry: electrical and wave energy
- Y10S204/13—Purification and treatment of electroplating baths and plating wastes
Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この発明はスタンパー洗浄装置に関し、更に詳しくは光
ディスクを成形するためのスタンパーを電解脱脂洗浄
し、水洗し、更に乾燥するためのスタンパー洗浄装置に
関する。
ディスクを成形するためのスタンパーを電解脱脂洗浄
し、水洗し、更に乾燥するためのスタンパー洗浄装置に
関する。
（ロ）従来の技術 スタンパー、すなわちLPディスク、光ディスクなどの情
報記録用ディスクを複製するためのマスター盤は、一般
に次のような工程で製造される。
報記録用ディスクを複製するためのマスター盤は、一般
に次のような工程で製造される。
まずガラス原盤を研磨し、その研磨面に感光性樹脂膜を
塗布し、光学的エッチング処理を施して所望の微細パタ
ーンを形成する。次いでその微細パターン面に金属薄膜
を設け、更にニッケル電気メッキにより所望の厚さまで
肉盛りした後、元のガラス原盤部分から分離してスタン
パーとする。
塗布し、光学的エッチング処理を施して所望の微細パタ
ーンを形成する。次いでその微細パターン面に金属薄膜
を設け、更にニッケル電気メッキにより所望の厚さまで
肉盛りした後、元のガラス原盤部分から分離してスタン
パーとする。
しかしながら、このスタンパーの表面には、感光性樹脂
膜が残留しており、この膜の除去に、アルカリ・界面活
性剤の混合溶液中で電解脱脂を行う電解脱脂洗浄法、有
機溶媒中で超音波によって洗浄する超音波洗浄法、又は
これらの併用洗浄法が採用されている。（特開昭62−21
4535号）。
膜が残留しており、この膜の除去に、アルカリ・界面活
性剤の混合溶液中で電解脱脂を行う電解脱脂洗浄法、有
機溶媒中で超音波によって洗浄する超音波洗浄法、又は
これらの併用洗浄法が採用されている。（特開昭62−21
4535号）。
（ハ）発明が解決しようとする課題 ところで情報記録用ディスクは、従来からのLPレコード
とは異なり最近では光によって記録情報を取り出す光デ
ィスクが飛躍的に他方面に使用されるようになってき
た。これらの光ディスクは、情報を記録するための溝幅
が、LPレコードの50mμに対しその1/100の0.5mμであ
る。
とは異なり最近では光によって記録情報を取り出す光デ
ィスクが飛躍的に他方面に使用されるようになってき
た。これらの光ディスクは、情報を記録するための溝幅
が、LPレコードの50mμに対しその1/100の0.5mμであ
る。
一方上述の各種洗浄法にて洗浄されたディスク成形用ス
タンパーに残留している微粒子は１〜10mμである。ま
たその後のスタンパーの使用（ディスクの成形）によっ
て付着する各種塵埃や微粒子もほぼ同様の大きさであ
る。
タンパーに残留している微粒子は１〜10mμである。ま
たその後のスタンパーの使用（ディスクの成形）によっ
て付着する各種塵埃や微粒子もほぼ同様の大きさであ
る。
従って従来のLPレコード成形用（又はアナログ用）スタ
ンパーでは、情報記録用の溝が上述のごとく50mμ程度
であるから、製造時の洗浄だけで十分であった。
ンパーでは、情報記録用の溝が上述のごとく50mμ程度
であるから、製造時の洗浄だけで十分であった。
これに対して光ディスク成形用（又はデジタル用）スタ
ンパーでは、情報記録用の溝が0.5mμ程度であるから、
1mμの微粒子でも、情報記録に致命的な影響がある。特
に光ディスク成形用スタンパーは、その情報記録用の溝
が細かく、しかも接近しているので、製造が難しく、高
価であり、一つのスタンパーで多数の光ディスクを成形
しなければならず、更に長期間の保存を要求される。
ンパーでは、情報記録用の溝が0.5mμ程度であるから、
1mμの微粒子でも、情報記録に致命的な影響がある。特
に光ディスク成形用スタンパーは、その情報記録用の溝
が細かく、しかも接近しているので、製造が難しく、高
価であり、一つのスタンパーで多数の光ディスクを成形
しなければならず、更に長期間の保存を要求される。
結局光ディスク成形用スタンパーは、成形作業中に付着
する塵埃や微粒子、長期間保存による腐食などのために
洗浄を必要とすることになる。
する塵埃や微粒子、長期間保存による腐食などのために
洗浄を必要とすることになる。
もちろん、このような光ディスク成形用スタンパーに対
する桁違いの洗浄を簡便に行うために、一般のスタンパ
ーの製造工程中で採用されている、上述の電解脱脂洗浄
法又は／及び超音波洗浄法の採用も考えられるが、いず
れも、洗浄度を従来の1/100に高めることは難しい。
する桁違いの洗浄を簡便に行うために、一般のスタンパ
ーの製造工程中で採用されている、上述の電解脱脂洗浄
法又は／及び超音波洗浄法の採用も考えられるが、いず
れも、洗浄度を従来の1/100に高めることは難しい。
またスタンパーに基づいて光ディスクを成形する作業環
境全体をクリーン化することも考えられるが、これに
は、例えば作業室中の0.1mμ以上の塵埃を除去する設備
や、使用する水中に分散する同様の大きさの微粒子を除
去する設備が必要となり、これらの設備は大規模になら
ざるを得ず実用的ではなかった。
境全体をクリーン化することも考えられるが、これに
は、例えば作業室中の0.1mμ以上の塵埃を除去する設備
や、使用する水中に分散する同様の大きさの微粒子を除
去する設備が必要となり、これらの設備は大規模になら
ざるを得ず実用的ではなかった。
（ニ）発明を解決するための手段及びその作用 この発明は、１つの枠本体内に、電解脱脂を行うための
電解脱脂洗浄槽と、この洗浄槽に隣接する水洗室とを備
え、更に枠本体内に移動可能に設置されたスタンパー支
持台と、この支持台を移動させ、それによってスタンパ
ーを水洗室から電解脱脂洗浄槽へ移動させて所定時間該
洗浄槽内に保持させ、次いでその電解脱脂洗浄槽内から
水洗室へ移動させて所定時間該水洗室内に保持させる支
持台移動手段と、水洗室の上方部及び水洗室と電解脱脂
洗浄槽との間に設置され、スタンパーが電解脱脂液でぬ
れている間に作動してスタンパーに水洗水を散布しスタ
ンパーの水洗を行う水洗水散布手段と、水洗室の下方部
に設置され、スタンパーの水洗後の水を集めて排水する
排水手段と、水洗室の上方部に設置され、スタンパーを
水洗室に保持する前記所定時間中で、前記水洗水供給手
段の作動後に作動してスタンパーを加熱乾燥する加熱手
段とを備えてなるスタンパー洗浄装置である。
電解脱脂洗浄槽と、この洗浄槽に隣接する水洗室とを備
え、更に枠本体内に移動可能に設置されたスタンパー支
持台と、この支持台を移動させ、それによってスタンパ
ーを水洗室から電解脱脂洗浄槽へ移動させて所定時間該
洗浄槽内に保持させ、次いでその電解脱脂洗浄槽内から
水洗室へ移動させて所定時間該水洗室内に保持させる支
持台移動手段と、水洗室の上方部及び水洗室と電解脱脂
洗浄槽との間に設置され、スタンパーが電解脱脂液でぬ
れている間に作動してスタンパーに水洗水を散布しスタ
ンパーの水洗を行う水洗水散布手段と、水洗室の下方部
に設置され、スタンパーの水洗後の水を集めて排水する
排水手段と、水洗室の上方部に設置され、スタンパーを
水洗室に保持する前記所定時間中で、前記水洗水供給手
段の作動後に作動してスタンパーを加熱乾燥する加熱手
段とを備えてなるスタンパー洗浄装置である。
すなわち、この発明は、特定の電解脱脂洗浄槽と水洗室
とをスタンパーが移動できるように並設し、かつその電
解脱脂洗浄槽と水洗室との間及び水洗室に特定の水洗水
散布手段と加熱手段とを設置して、更にその水洗水散布
手段を、スタンパーが電解脱脂液でぬれている間に作動
するよう構成することによって、大幅に水洗効果を上げ
ようとするものである。
とをスタンパーが移動できるように並設し、かつその電
解脱脂洗浄槽と水洗室との間及び水洗室に特定の水洗水
散布手段と加熱手段とを設置して、更にその水洗水散布
手段を、スタンパーが電解脱脂液でぬれている間に作動
するよう構成することによって、大幅に水洗効果を上げ
ようとするものである。
この発明において、採用可能な水洗水散布手段として
は、水洗室の上方部で、かつスタンパーが移動する電解
脱脂洗浄槽と水洗室との間に設置される、水洗水散布用
シャワー、スプレーなどが好ましいものとして挙げられ
る。そして水洗水としては、予め例えば0.1mμの限外濾
過膜などのフィルターを用いて約0.2mμ以上の微粒子が
除去された水が用いられ、通常ポンプによって上記シャ
ワー、スプレーなどに供給される。
は、水洗室の上方部で、かつスタンパーが移動する電解
脱脂洗浄槽と水洗室との間に設置される、水洗水散布用
シャワー、スプレーなどが好ましいものとして挙げられ
る。そして水洗水としては、予め例えば0.1mμの限外濾
過膜などのフィルターを用いて約0.2mμ以上の微粒子が
除去された水が用いられ、通常ポンプによって上記シャ
ワー、スプレーなどに供給される。
この発明のおいては、以上のような水洗水散布手段が、
スタンパーが電解脱脂洗浄を終えてまだ電解脱脂液でぬ
れている状態のときに、水洗水の散布を受けられるよう
に作動される。具体的にはスタンパーの電解脱脂液が自
然乾燥しない間に水洗水の散布を行えるように、水洗室
に静止しているスタンパーに水洗水を散布できるシャワ
ーのほかに、電解脱脂洗浄槽から水洗室へスタンパーが
移動している時にもスタンパーに水洗水を散布できるよ
うに別途シャワー、スプレーなどを付設するのが好まし
い。
スタンパーが電解脱脂洗浄を終えてまだ電解脱脂液でぬ
れている状態のときに、水洗水の散布を受けられるよう
に作動される。具体的にはスタンパーの電解脱脂液が自
然乾燥しない間に水洗水の散布を行えるように、水洗室
に静止しているスタンパーに水洗水を散布できるシャワ
ーのほかに、電解脱脂洗浄槽から水洗室へスタンパーが
移動している時にもスタンパーに水洗水を散布できるよ
うに別途シャワー、スプレーなどを付設するのが好まし
い。
この発明において採用可能な加熱手段としては、赤外線
ヒータ、0.1mμ以上の塵埃や微粒子を除去した約30〜50
℃程度の熱風を水洗室に供給できるファンなどが挙げら
れ、好ましくは塵埃や微粒子の除去の必要がない赤外線
ヒータが挙げられる。
ヒータ、0.1mμ以上の塵埃や微粒子を除去した約30〜50
℃程度の熱風を水洗室に供給できるファンなどが挙げら
れ、好ましくは塵埃や微粒子の除去の必要がない赤外線
ヒータが挙げられる。
（ホ）実施例 以下図に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。な
お、この発明はこれによって限定されるものではない。
お、この発明はこれによって限定されるものではない。
まず第１図において、スタンパー洗浄装置１は、１つの
枠本体２内に電解脱脂を行うための電解脱脂洗浄槽３
と、この洗浄槽に隣接する水洗室４とを備え、更に枠本
体２内に移動可能に設置されたスタンパー支持台（洗浄
電極治具）５と、支持台移動手段６と、水洗室の上方部
に設置された水洗水散布手段７と、排水手段８と、加熱
手段９とから主としてなる。
枠本体２内に電解脱脂を行うための電解脱脂洗浄槽３
と、この洗浄槽に隣接する水洗室４とを備え、更に枠本
体２内に移動可能に設置されたスタンパー支持台（洗浄
電極治具）５と、支持台移動手段６と、水洗室の上方部
に設置された水洗水散布手段７と、排水手段８と、加熱
手段９とから主としてなる。
電解脱脂洗浄槽３は、アルカリ・界面活性剤の混合溶液
を充填してなり、電極板10と、温度計11と、モータ12に
よって回転し、電解脱脂溶液を撹拌する羽根13と、ヒー
タ14とを具備している。なお、液面の降下は液面センサ
ー（図示省略）により検知し、液位が常に一定になるよ
う制御されている。
を充填してなり、電極板10と、温度計11と、モータ12に
よって回転し、電解脱脂溶液を撹拌する羽根13と、ヒー
タ14とを具備している。なお、液面の降下は液面センサ
ー（図示省略）により検知し、液位が常に一定になるよ
う制御されている。
支持台移動手段６は、特に第２図において、スタンパー
支持台５を保持するアングル15と、このアングルを上下
に傾斜移動可能に支持する第１移動台16と、この第１移
動台を水平に移動可能に支持する第２移動台17と、この
第２移動台を枠本体２に設置する基台18とから主として
なる。ここで19はモータ20によって回転するネジ軸で第
１移動台16に支持されている。なお、21,22はガイド軸
である。23はモータ24によって回転するネジ軸で、25,2
6はガイド軸である。
支持台５を保持するアングル15と、このアングルを上下
に傾斜移動可能に支持する第１移動台16と、この第１移
動台を水平に移動可能に支持する第２移動台17と、この
第２移動台を枠本体２に設置する基台18とから主として
なる。ここで19はモータ20によって回転するネジ軸で第
１移動台16に支持されている。なお、21,22はガイド軸
である。23はモータ24によって回転するネジ軸で、25,2
6はガイド軸である。
スタンパー支持台５は、特に第５図において、上記アン
グル15に一体支持された移動部27と、水洗室４内に適宜
固定された固定部28とからなり、前者の移動部27が字
状片29と、この字状片の両端から上方へ傾斜して延び
る２つの傾斜片30,31とからなる。
グル15に一体支持された移動部27と、水洗室４内に適宜
固定された固定部28とからなり、前者の移動部27が字
状片29と、この字状片の両端から上方へ傾斜して延び
る２つの傾斜片30,31とからなる。
一方、後者の固定部28は、字状片32と、この字状片
を水洗室４内に適宜固定する基片33と、その字状片の
両端から上方へ延びる２つの大きな立片34,35と、字
状32の対向片部分の途中より上方へ延びる２つの小さな
立片36,37とからなる。
を水洗室４内に適宜固定する基片33と、その字状片の
両端から上方へ延びる２つの大きな立片34,35と、字
状32の対向片部分の途中より上方へ延びる２つの小さな
立片36,37とからなる。
そして２つの傾斜片30,31は、相対向し、その対向間隔
が上方に向かって拡がる凹溝38,39を有する。
が上方に向かって拡がる凹溝38,39を有する。
水洗水散布手段７は、水洗室４の天井壁附近の四角に設
置された４つの主水洗シャワー40,41……と、水洗室４
の、天井壁附近で、電解脱脂洗浄槽３と水洗室４との間
の部分に対向して配置された２つの副水洗シャワー42,4
3（図示省略）とからなる。これらのシャワーで散布さ
れる水洗水は、脱イオン水を加圧下（約1.5気圧）で限
外濾過膜フィルター（酢酸セルロース、ポリエーテルス
ルホン、ポリスルホン、ポリアクリロニトリルなどの合
成樹脂製中空系）に全量通過させて得られる。
置された４つの主水洗シャワー40,41……と、水洗室４
の、天井壁附近で、電解脱脂洗浄槽３と水洗室４との間
の部分に対向して配置された２つの副水洗シャワー42,4
3（図示省略）とからなる。これらのシャワーで散布さ
れる水洗水は、脱イオン水を加圧下（約1.5気圧）で限
外濾過膜フィルター（酢酸セルロース、ポリエーテルス
ルホン、ポリスルホン、ポリアクリロニトリルなどの合
成樹脂製中空系）に全量通過させて得られる。
排水手段８は、中和槽44と、この中和槽に水洗室４の排
水を供給する第１排水管45と、中和槽44から電磁開閉弁
46を介して適宜下水路（図示省略）に延びる第２排水管
47と、中和槽44にポンプ48を介して連結され、中和用の
酸（例えば低濃度のリン酸、硫酸、硝酸など）を中和槽
44に供給する中和用液供給槽49とからなる。なお、50は
モータ51によって回転し、中和槽内液を撹拌する羽根、
52はpH検知器である。
水を供給する第１排水管45と、中和槽44から電磁開閉弁
46を介して適宜下水路（図示省略）に延びる第２排水管
47と、中和槽44にポンプ48を介して連結され、中和用の
酸（例えば低濃度のリン酸、硫酸、硝酸など）を中和槽
44に供給する中和用液供給槽49とからなる。なお、50は
モータ51によって回転し、中和槽内液を撹拌する羽根、
52はpH検知器である。
加熱手段９は、水洗室４の天井壁に設置された赤外線ヒ
ータより構成される。なお、53は排気ファン、54,55は
キャスターである。
ータより構成される。なお、53は排気ファン、54,55は
キャスターである。
次に、以上の構成を備えたスタンパー洗浄装置１の作動
を説明する。
を説明する。
まず、スタンパー５を、スタンパー支持台５の移動台27
にセットする。つまり２つの傾斜片30,31の凹溝38,39
に、スタンパーＳの外周縁を嵌め込む。
にセットする。つまり２つの傾斜片30,31の凹溝38,39
に、スタンパーＳの外周縁を嵌め込む。
次いで操作パネル（図示省略）のスタートボタン（図示
省略）を適宜押すと、次の各手段の作動が自動制御装置
（図示省略）により自動的に行われる。すなわち、まず
支持台移動手段６の各モータ20,24が作動し、スタンパ
ーＳを、第３図の経路及びを介して水洗室４から電
解脱脂洗浄槽３へ移動させる。
省略）を適宜押すと、次の各手段の作動が自動制御装置
（図示省略）により自動的に行われる。すなわち、まず
支持台移動手段６の各モータ20,24が作動し、スタンパ
ーＳを、第３図の経路及びを介して水洗室４から電
解脱脂洗浄槽３へ移動させる。
そしてスタンパーＳは、電解脱脂洗浄槽３内で、約５〜
６分保持され、電解脱脂洗浄に付される。
６分保持され、電解脱脂洗浄に付される。
続いて、支持台移動手段６の各モータ20,24が作動し、
第３図の経路から及びを経てに至り、スタンパ
ーＳを電解脱脂洗浄槽３から水洗室４へ移動させる。こ
の間、副水洗シャワー42,43が作動して、移動中のスタ
ンパーＳに、電解脱脂洗浄溶液が乾く前に水洗水を散布
する。そしてスタンパーＳは、更に水洗室４内で、約２
〜３分保持され、その間、主水洗シャワー40,41……が
作動して、スタンパーＳに水洗水を散布し、残っている
電解脱脂溶液を徹底的に洗い落とす。
第３図の経路から及びを経てに至り、スタンパ
ーＳを電解脱脂洗浄槽３から水洗室４へ移動させる。こ
の間、副水洗シャワー42,43が作動して、移動中のスタ
ンパーＳに、電解脱脂洗浄溶液が乾く前に水洗水を散布
する。そしてスタンパーＳは、更に水洗室４内で、約２
〜３分保持され、その間、主水洗シャワー40,41……が
作動して、スタンパーＳに水洗水を散布し、残っている
電解脱脂溶液を徹底的に洗い落とす。
次いで、加熱手段９が作動し、スタンパーＳを赤外線に
より加熱し、乾燥させる。以上の一連の作業が終了し、
乾燥したスタンパーＳを取り出して後、リセットボタン
（図示省略）を押してスタンパー支持台５の移動部27を
スタート位置にもどす。
より加熱し、乾燥させる。以上の一連の作業が終了し、
乾燥したスタンパーＳを取り出して後、リセットボタン
（図示省略）を押してスタンパー支持台５の移動部27を
スタート位置にもどす。
得られたスタンパーＳは、電解脱脂溶液でぬれている状
態で水洗に付されるので、溶液の洗い効果が高く、桁違
いの洗浄を可能にする。なお、電解脱脂溶液がスタンパ
ーＳの表面でいったん乾いた状態になると、溶液中の微
粒子が付着して乾燥し、シミの欠陥が発生して、極度に
除去が難しくなる。
態で水洗に付されるので、溶液の洗い効果が高く、桁違
いの洗浄を可能にする。なお、電解脱脂溶液がスタンパ
ーＳの表面でいったん乾いた状態になると、溶液中の微
粒子が付着して乾燥し、シミの欠陥が発生して、極度に
除去が難しくなる。
なお、スタンパーＳの水洗により水洗水の底部に集まっ
た、電解脱脂溶液を含んだ水洗水は、第１排水管45を介
して中和槽44に送られ、pH7に中和され、更に第２排水
管47を介して適宜排出される。
た、電解脱脂溶液を含んだ水洗水は、第１排水管45を介
して中和槽44に送られ、pH7に中和され、更に第２排水
管47を介して適宜排出される。
（ヘ）発明の効果 この発明によれば、特定の電解脱脂洗浄槽と水洗室とを
スタンパーが移動できるように並設し、かつその水洗室
に特定の水洗水散布手段と加熱手段とを設置し、更にそ
の水洗水散布手段を、スタンパーが水洗室内に位置して
いる間だけではなく、電解脱脂洗浄槽と水洗室との間に
おいても、作動するよう構成することによって、大幅に
水洗効果を上げることができる。つまり、スタンパーの
表面がいったん乾くと溶液中の微粒子が付着して極度に
除去が難しくなるという問題が解決できる。
スタンパーが移動できるように並設し、かつその水洗室
に特定の水洗水散布手段と加熱手段とを設置し、更にそ
の水洗水散布手段を、スタンパーが水洗室内に位置して
いる間だけではなく、電解脱脂洗浄槽と水洗室との間に
おいても、作動するよう構成することによって、大幅に
水洗効果を上げることができる。つまり、スタンパーの
表面がいったん乾くと溶液中の微粒子が付着して極度に
除去が難しくなるという問題が解決できる。
第１図はこの発明に係るスタンパー洗浄装置の一実施例
を示す概略機能説明図、第２図はその支持台移動手段の
傾斜図、第３図はスタンパー支持台の移動を説明する説
明図、第４図はスタンパー支持台を電解脱脂洗浄槽内に
保持した状態を示す概略機能説明図、第５図は支持台の
移動部と固定部の関係を説明する説明斜視図である。 １……スタンパー洗浄装置、 ２……枠本体、 ３……電解脱脂洗浄槽、 ４……水洗室、 ５……スタンパー支持台、 ６……支持台移動手段、 ７……水洗水散布手段、 ８……排水手段、 ９……加熱手段。
を示す概略機能説明図、第２図はその支持台移動手段の
傾斜図、第３図はスタンパー支持台の移動を説明する説
明図、第４図はスタンパー支持台を電解脱脂洗浄槽内に
保持した状態を示す概略機能説明図、第５図は支持台の
移動部と固定部の関係を説明する説明斜視図である。 １……スタンパー洗浄装置、 ２……枠本体、 ３……電解脱脂洗浄槽、 ４……水洗室、 ５……スタンパー支持台、 ６……支持台移動手段、 ７……水洗水散布手段、 ８……排水手段、 ９……加熱手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｄ 17/00 2126−4Ｆ
Claims (1)
- 【請求項１】１つの枠本体内に、電解脱脂を行うための
電解脱脂洗浄槽と、この洗浄槽に隣接する水洗室とを備
え、更に枠本体内に移動可能に設置されたスタンパー支
持台と、この支持台を移動させ、それによってスタンパ
ーを水洗室から電解脱脂洗浄槽へ移動させて所定時間該
洗浄槽内に保持させ、次いでその電解脱脂洗浄槽内から
水洗室へ移動させて所定時間該水洗室内に保持させる支
持台移動手段と、水洗室の上方部及び水洗室と電解脱脂
洗浄槽との間に設置され、スタンパーが電解脱脂液でぬ
れている間に作動してスタンパーに水洗水を散布してス
タンパーの水洗を行う水洗水散布手段と、水洗室の下方
部に設置され、スタンパーの水洗後の水を集めて排水す
る排水手段と、水洗室の上方部に設置され、スタンパー
を水洗室に保持する前記所定時間中で、前記水洗水供給
手段の作動後に作動してスタンパーを加熱乾燥する加熱
手段とを備えてるスタンパー洗浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149229A JPH0723559B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | スタンパー洗浄装置 |
| US07/535,839 US5024744A (en) | 1989-06-12 | 1990-06-11 | Stamper cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149229A JPH0723559B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | スタンパー洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0313600A JPH0313600A (ja) | 1991-01-22 |
| JPH0723559B2 true JPH0723559B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=15470693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1149229A Expired - Lifetime JPH0723559B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | スタンパー洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5024744A (ja) |
| JP (1) | JPH0723559B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61252593A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-11-10 | 沖電気工業株式会社 | 音声認識装置 |
| US5419347A (en) * | 1992-11-16 | 1995-05-30 | Ssi Medical Services, Inc. | Automated flushing module |
| US6045624A (en) * | 1996-09-27 | 2000-04-04 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for and method of cleaning objects to be processed |
| US6615852B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-09-09 | Aqua Sonic Service Co., Ltd. | Cleaning machine for die used for synthetic resin mould |
| DE60007123T2 (de) * | 2000-09-12 | 2004-09-30 | Aqua Sonic Service Co., Ltd., T. Bangchalong | Vorrichtung zum Reinigen von in der Kunststoffverarbeitung verwendeten Formen |
| US20070114693A1 (en) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Buckley Paul W | Methods for improving mold quality for use in the manufacture of liquid crystal display components |
| JP4521056B2 (ja) * | 2006-05-15 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理装置および記録媒体 |
| JP2008104904A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Shiga Yamashita:Kk | ワークに付着した異物を除去する洗浄装置 |
| JP4744425B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2011-08-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP4744426B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2011-08-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| WO2008082414A1 (en) * | 2007-01-04 | 2008-07-10 | General Electric Company | Methods for improving mold quality for use in the manufacture of light management film, manufactured film and corresponding mold |
| US20080237158A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-02 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Cleaning tray for electrical components and carrying tool with the same |
| WO2009011313A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Olympus Corporation | 撹拌判定装置、撹拌判定方法及び分析装置 |
| CN113601763A (zh) * | 2021-08-17 | 2021-11-05 | 广东贝洛新材料科技有限公司 | 一种硅橡胶成型模可回收重复利用自动清洗机 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1017643B (it) * | 1973-11-15 | 1977-08-10 | Ebara Udylite Kk | Metodo e apparecchio per tratta re soluzioni per il trattamento superficiale di metalli e liqui di di lavaggio |
| JPS5210069A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-26 | Seiko Epson Corp | Automatic apparatus for cleaning and drying wafer |
| JPS5456038A (en) * | 1977-10-12 | 1979-05-04 | Nippon Paint Co Ltd | Controlling method for acidic phosphate film forming liquid |
| JPS57145999A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-09 | Yamaha Motor Co Ltd | Plating device |
| US4561956A (en) * | 1984-05-29 | 1985-12-31 | Antonelli Plating Co. | Apparatus for rinsing electroplating solution from articles |
| JPS6282513A (ja) * | 1985-10-05 | 1987-04-16 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | デイスク部材の洗浄装置 |
| JPS62214534A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-21 | Toshiba Corp | デイスクスタンパの洗浄方法 |
| US4729940A (en) * | 1986-05-16 | 1988-03-08 | Cbs Inc. | Method of manufacturing master for optical information carrier |
| US4772357A (en) * | 1987-06-08 | 1988-09-20 | Robbins & Craig Welding & Mfg. Co. | System for automatically etching pieces |
| US4746414A (en) * | 1987-09-08 | 1988-05-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Zero discharge spray rinse system for electroplating operations |
| US4966673A (en) * | 1989-04-26 | 1990-10-30 | Carlo Accattato | Device for cleaning and polishing jewelry |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1149229A patent/JPH0723559B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-11 US US07/535,839 patent/US5024744A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5024744A (en) | 1991-06-18 |
| JPH0313600A (ja) | 1991-01-22 |
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