JPH04290587A - 紫外線による洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
紫外線による洗浄方法および洗浄装置Info
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線による洗浄方法
および装置、特に紫外線照射によって重合しない有機物
質たとえばポジレジスト残渣や指紋の跡が付着している
被洗浄体の洗浄方法及び装置に関する。
および装置、特に紫外線照射によって重合しない有機物
質たとえばポジレジスト残渣や指紋の跡が付着している
被洗浄体の洗浄方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置の高密度化および小型
化に対する要求がますます増大している。半導体装置の
製造においてパターニングの微小化を達成するために、
ポジ型レジストの使用が有利である。一般に、レジスト
をウェハに被覆するときに使用するカップは、ウェハか
ら過剰のレジストを振切るときに、レジストが周囲に飛
散することを防止するものである。カップにレジストの
残渣が付着すると、これがゴミとなってウエハに付着し
たり、またカップ内の気流が不均一になり、それに伴っ
てレジスト膜厚の均一性が損われるので、カップの使用
周期は２〜７回／週である。ステンレス鋼製のものは洗
浄して再使用するが、樹脂製のものは使捨てとしている
ので、産業廃棄物となっている。一方、再使用の場合に
は洗浄液として、アセトン、メチルエチルケトンのよう
な揮発性有機溶剤を使用する。洗浄作業は人手を介し繁
雑であって時間もかかるので、常時、補充用のカップを
２倍以上保持することが必要である。また溶剤が揮発す
るので、作業保健（防火対策）上の問題および環境汚染
の問題を生じる。
化に対する要求がますます増大している。半導体装置の
製造においてパターニングの微小化を達成するために、
ポジ型レジストの使用が有利である。一般に、レジスト
をウェハに被覆するときに使用するカップは、ウェハか
ら過剰のレジストを振切るときに、レジストが周囲に飛
散することを防止するものである。カップにレジストの
残渣が付着すると、これがゴミとなってウエハに付着し
たり、またカップ内の気流が不均一になり、それに伴っ
てレジスト膜厚の均一性が損われるので、カップの使用
周期は２〜７回／週である。ステンレス鋼製のものは洗
浄して再使用するが、樹脂製のものは使捨てとしている
ので、産業廃棄物となっている。一方、再使用の場合に
は洗浄液として、アセトン、メチルエチルケトンのよう
な揮発性有機溶剤を使用する。洗浄作業は人手を介し繁
雑であって時間もかかるので、常時、補充用のカップを
２倍以上保持することが必要である。また溶剤が揮発す
るので、作業保健（防火対策）上の問題および環境汚染
の問題を生じる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、非重
合性有機物質、たとえばポジレジスト残渣や指紋の跡が
付着した被洗浄体を、有機溶剤を使用しないと共に、人
手を介すことなく、簡単かつ確実な洗浄を行うことであ
る。
合性有機物質、たとえばポジレジスト残渣や指紋の跡が
付着した被洗浄体を、有機溶剤を使用しないと共に、人
手を介すことなく、簡単かつ確実な洗浄を行うことであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、非重合性有
機物質が付着した被洗浄体に紫外線を照射して付着物を
可溶化し、アルカリ洗浄を行うことを特徴とする洗浄方
法、ならびに、円筒形の被洗浄体を線形紫外線ランプに
共軸的に配置して、アルカリ液に浸漬させる洗浄室を有
することを特徴とする、紫外線による洗浄装置、および
少なくとも１つの紫外線照射洗浄装置と、少なくとも１
つのすすぎ装置と、赤外線乾燥装置と、被洗浄体を各装
置に順次移動させる移送装置とを有し、紫外線照射洗浄
装置が循環ポンプを介して再生装置に連通しかつ洗浄液
補給源に連通していることを特徴とする、紫外線による
連続的洗浄装置によって解決することができる。
機物質が付着した被洗浄体に紫外線を照射して付着物を
可溶化し、アルカリ洗浄を行うことを特徴とする洗浄方
法、ならびに、円筒形の被洗浄体を線形紫外線ランプに
共軸的に配置して、アルカリ液に浸漬させる洗浄室を有
することを特徴とする、紫外線による洗浄装置、および
少なくとも１つの紫外線照射洗浄装置と、少なくとも１
つのすすぎ装置と、赤外線乾燥装置と、被洗浄体を各装
置に順次移動させる移送装置とを有し、紫外線照射洗浄
装置が循環ポンプを介して再生装置に連通しかつ洗浄液
補給源に連通していることを特徴とする、紫外線による
連続的洗浄装置によって解決することができる。
【０００５】
【作用】有機物質は、紫外線照射によって、重合するも
のを除き、多少とも分解などの作用によりアルカリ可溶
性に改質される。特に半導体製造用部材、なかでもレジ
スト被覆に使用するカップに付着したポジレジストの残
渣は、紫外線照射によって容易に可溶化される。このカ
ップはステンレス鋼製でもよいが、フッ素樹脂（特にＰ
ＦＡ）もしくはポリエチレン樹脂製であれば紫外線透過
性を有しており照射角度の影響を少なくする利点がある
。紫外線は、ポジレジスト露光用紫外線より波長が短か
いことが好ましく、これによって照射時間を短縮するこ
とができる。一般に、紫外線ランプは効率をあげるため
に冷却する必要があるが、洗浄液に浸漬すれば自然に冷
却することができる。
のを除き、多少とも分解などの作用によりアルカリ可溶
性に改質される。特に半導体製造用部材、なかでもレジ
スト被覆に使用するカップに付着したポジレジストの残
渣は、紫外線照射によって容易に可溶化される。このカ
ップはステンレス鋼製でもよいが、フッ素樹脂（特にＰ
ＦＡ）もしくはポリエチレン樹脂製であれば紫外線透過
性を有しており照射角度の影響を少なくする利点がある
。紫外線は、ポジレジスト露光用紫外線より波長が短か
いことが好ましく、これによって照射時間を短縮するこ
とができる。一般に、紫外線ランプは効率をあげるため
に冷却する必要があるが、洗浄液に浸漬すれば自然に冷
却することができる。
【０００６】アルカリ洗浄は紫外線照射の後に効果を発
生するが、照射と同時に行えば作業上便宜である。この
洗浄液はアルカリ溶液であるが、紫外線パターニングに
おいて使用する現像液、たとえばトリメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド（コリン）またはテトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡ）の使用後の廃
液を利用することもできる。また洗浄液はフィルタ、限
界濾過または分離によって再生して、循環させることが
有利である。もし洗浄液に溶解残渣が混入しても、紫外
線の照射によって可溶化されるので、濾過して再生する
工程で膜を詰まらすことがない。
生するが、照射と同時に行えば作業上便宜である。この
洗浄液はアルカリ溶液であるが、紫外線パターニングに
おいて使用する現像液、たとえばトリメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド（コリン）またはテトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡ）の使用後の廃
液を利用することもできる。また洗浄液はフィルタ、限
界濾過または分離によって再生して、循環させることが
有利である。もし洗浄液に溶解残渣が混入しても、紫外
線の照射によって可溶化されるので、濾過して再生する
工程で膜を詰まらすことがない。
【０００７】紫外線照射および洗浄の後、純水ですすぎ
、乾燥する。この工程を順次行うには、１つの洗浄装置
で行うこともできる。これにより小さなスペースで洗浄
することが可能となり、クリーンルーム設置面積が少な
くてすむ。特に円筒形カップには有効となる。また、そ
れぞれの工程すなわち照射および洗浄、すすぎ、乾燥を
別々の装置で行い、被洗浄体を自動的に移動させれば、
多数の被洗浄体の処理に有利である。
、乾燥する。この工程を順次行うには、１つの洗浄装置
で行うこともできる。これにより小さなスペースで洗浄
することが可能となり、クリーンルーム設置面積が少な
くてすむ。特に円筒形カップには有効となる。また、そ
れぞれの工程すなわち照射および洗浄、すすぎ、乾燥を
別々の装置で行い、被洗浄体を自動的に移動させれば、
多数の被洗浄体の処理に有利である。
【０００８】
【実施例】〔例１〕被洗浄体として、紫外線透過性であ
るフッ素樹脂から成形したポジレジスト被覆用カップを
使用した。このカップは、図３に示すように円筒形であ
り、レジストを塗布するときにウェハ７を載せる回転台
８を囲むものである。常法により、パターニングすべき
層を成膜したウェハ７を回転台８に載せ、ポジレジスト
を塗布した後、ウェハ７を回転させて過剰のポジレジス
トを振切って均一な厚みとした。このときポジレジスト
は飛散ってカップ６の内面に付着した。
るフッ素樹脂から成形したポジレジスト被覆用カップを
使用した。このカップは、図３に示すように円筒形であ
り、レジストを塗布するときにウェハ７を載せる回転台
８を囲むものである。常法により、パターニングすべき
層を成膜したウェハ７を回転台８に載せ、ポジレジスト
を塗布した後、ウェハ７を回転させて過剰のポジレジス
トを振切って均一な厚みとした。このときポジレジスト
は飛散ってカップ６の内面に付着した。
【０００９】カップ６を取外し、図１に示すように、波
長３６００Åの線形紫外線ランプ１を中央に直立させた
洗浄室２内にランプ１と共軸的に配置し、洗浄液として
２％アルカリ液に浸漬して、この液はフィルタ４を介し
て循環させた。洗浄後は循環液を浄水に切換えて、すす
ぎを行い、次に、すすぎ液を排出し、洗浄室を開放して
上方から赤外線ヒータ５で加熱して乾燥させた。なお洗
浄液および浄水は、それぞれの貯蔵タンク３および９か
ら供給した。こうしてポジレジスト残渣を除去すること
ができた。
長３６００Åの線形紫外線ランプ１を中央に直立させた
洗浄室２内にランプ１と共軸的に配置し、洗浄液として
２％アルカリ液に浸漬して、この液はフィルタ４を介し
て循環させた。洗浄後は循環液を浄水に切換えて、すす
ぎを行い、次に、すすぎ液を排出し、洗浄室を開放して
上方から赤外線ヒータ５で加熱して乾燥させた。なお洗
浄液および浄水は、それぞれの貯蔵タンク３および９か
ら供給した。こうしてポジレジスト残渣を除去すること
ができた。
【００１０】〔例２〕被洗浄体として、紫外線透過性で
あるポリエチレン樹脂から成形したカップを使用し、洗
浄液として有機アルカリであるポジレジスト現像液のト
リメチルアンモニウムハイドロオキサイドの廃液を使用
したことの他は、例１と同様にして、カップに付着した
ポジレジスト残渣を可溶化して除去することができた。
あるポリエチレン樹脂から成形したカップを使用し、洗
浄液として有機アルカリであるポジレジスト現像液のト
リメチルアンモニウムハイドロオキサイドの廃液を使用
したことの他は、例１と同様にして、カップに付着した
ポジレジスト残渣を可溶化して除去することができた。
【００１１】〔例３〕本発明の洗浄方法は、例１のよう
に単一の洗浄室で行うこともできるが、例３では連続的
洗浄装置を使用した。この装置は図２に示すように、紫
外線照射洗浄装置１０と、すすぎ装置１４と、乾燥装置
１５とを有する。紫外線照射洗浄装置１０は、３室から
なり、すすぎ装置１４は２室から構成され、別に被洗浄
体を各処理室に順次移送する移送装置１３が設けられて
いる。
に単一の洗浄室で行うこともできるが、例３では連続的
洗浄装置を使用した。この装置は図２に示すように、紫
外線照射洗浄装置１０と、すすぎ装置１４と、乾燥装置
１５とを有する。紫外線照射洗浄装置１０は、３室から
なり、すすぎ装置１４は２室から構成され、別に被洗浄
体を各処理室に順次移送する移送装置１３が設けられて
いる。
【００１２】紫外線照射洗浄装置１０は、その底部に紫
外線発生装置１１を備え、各洗浄室内の被洗浄体に洗浄
液を透して紫外線を照射できるように設けられている。 なお、この紫外線洗浄装置１０は、ポンプを備えた限外
濾過装置を洗浄液再生装置１２として連通させ、洗浄液
を循環させながら濾過して、洗浄液に浮遊するポジレジ
スト残渣を除去し、被洗浄体に常に新鮮な洗浄液を接触
させる。
外線発生装置１１を備え、各洗浄室内の被洗浄体に洗浄
液を透して紫外線を照射できるように設けられている。 なお、この紫外線洗浄装置１０は、ポンプを備えた限外
濾過装置を洗浄液再生装置１２として連通させ、洗浄液
を循環させながら濾過して、洗浄液に浮遊するポジレジ
スト残渣を除去し、被洗浄体に常に新鮮な洗浄液を接触
させる。
【００１３】被洗浄体は、移送装置１３により各洗浄室
を順次通過して、すすぎ装置１４に入る。ここでは２つ
のすすぎ室に純水を流して、被洗浄体から洗浄液を洗落
す。 さらに移送装置１３により被洗浄体を乾燥装置１５に移
送する。この乾燥装置１５は、赤外線加熱により被処理
体を乾燥する。こうしてポジレジスト残渣を除去するこ
とができた。
を順次通過して、すすぎ装置１４に入る。ここでは２つ
のすすぎ室に純水を流して、被洗浄体から洗浄液を洗落
す。 さらに移送装置１３により被洗浄体を乾燥装置１５に移
送する。この乾燥装置１５は、赤外線加熱により被処理
体を乾燥する。こうしてポジレジスト残渣を除去するこ
とができた。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、非重合性有機物質特に
ポジレジストを紫外線の照射によって可溶化するので、
アルカリ洗浄により短時間でポジレジスト残渣を除去す
ることができ、揮発性有機溶剤を使用しないので、クリ
ーンルーム内で安全な作業を行い、かつ作業を単純化す
ることができ、しかも被洗浄体を容易に再利用すること
ができる。
ポジレジストを紫外線の照射によって可溶化するので、
アルカリ洗浄により短時間でポジレジスト残渣を除去す
ることができ、揮発性有機溶剤を使用しないので、クリ
ーンルーム内で安全な作業を行い、かつ作業を単純化す
ることができ、しかも被洗浄体を容易に再利用すること
ができる。
【図１】本発明による紫外線照射による洗浄装置の模式
図である。
図である。
【図２】本発明による連続的洗浄装置の模式図である。
【図３】ポジレジスト被覆用カップの断面図である。
１…紫外線ランプ
２…洗浄室
３…洗浄液タンク
４…フィルタ
５…赤外線ヒータ
６…カップ
７…ウェハ
８…回転台
９…浄水タンク
１１…紫外線照射洗浄装置
１２…洗浄液再生装置
１３…移送装置
１４…すすぎ装置
１５…乾燥装置
Claims (6)
- 【請求項１】 非重合性有機物質が付着した被洗浄体
に、紫外線を照射して付着物を可溶化し、アルカリ洗浄
することを特徴とする、洗浄方法。 - 【請求項２】 被洗浄体がポジレジスト被覆用カップ
である、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 被洗浄体がフッ素樹脂もしくはポリエ
チレン樹脂またはステンレス鋼から成形されたポジレジ
スト被覆用カップである、請求項１または２に記載の方
法。 - 【請求項４】 紫外線ランプを洗浄液に浸漬して洗浄
しながら照射する、請求項１〜３のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項５】 円筒形の被洗浄体を線形の紫外線ラン
プに共軸的に配置して、アルカリ液に浸漬させる洗浄室
を有することを特徴とする、紫外線による洗浄装置。 - 【請求項６】 少なくとも１つの紫外線照射洗浄装置
と、少なくとも１つのすすぎ装置と、赤外線乾燥装置と
、被洗浄体を各装置に順次移動させる移送装置とを有し
、紫外線照射洗浄装置が循環ポンプを介して再生装置に
連通しかつ洗浄液補給源に連通していることを特徴とす
る、紫外線による連続的洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5231891A JPH04290587A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 紫外線による洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5231891A JPH04290587A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 紫外線による洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04290587A true JPH04290587A (ja) | 1992-10-15 |
Family
ID=12911442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5231891A Withdrawn JPH04290587A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 紫外線による洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04290587A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110773A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置、洗浄システム、処理装置及び洗浄方法 |
| EP1574265A2 (en) * | 2004-03-12 | 2005-09-14 | Romaco S.r.l. | A wash booth for containers |
-
1991
- 1991-03-18 JP JP5231891A patent/JPH04290587A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110773A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置、洗浄システム、処理装置及び洗浄方法 |
| EP1574265A2 (en) * | 2004-03-12 | 2005-09-14 | Romaco S.r.l. | A wash booth for containers |
| EP1574265A3 (en) * | 2004-03-12 | 2005-11-09 | Romaco S.r.l. | A wash booth for containers |
| US7617831B2 (en) | 2004-03-12 | 2009-11-17 | Romaco S.R.L. | Wash booth for containers |
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