JP2004327487A - マスク洗浄システム付き近接場露光装置 - Google Patents
マスク洗浄システム付き近接場露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004327487A JP2004327487A JP2003115935A JP2003115935A JP2004327487A JP 2004327487 A JP2004327487 A JP 2004327487A JP 2003115935 A JP2003115935 A JP 2003115935A JP 2003115935 A JP2003115935 A JP 2003115935A JP 2004327487 A JP2004327487 A JP 2004327487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- cleaning
- dust
- exposure
- cleaning system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】近接場マスクリソでは、ゴミによりマスクとレジストの接触が阻害され、そのゴミの周辺を含め欠陥の原因となる。
【解決手段】露光マスクは薄膜で強度が弱いため、そのゴミの種類や付着の状態に応じた洗浄ツールを用い、露光膜を破壊しない必要最小限の洗浄範囲、洗浄力によるコントロール洗浄が必要である。本発明は、このゴミをマスクにダメージを与える事無く除去する方法を考案する。本露光装置従来の露光装置に検査、清掃、乾燥までの一連の自動システムを追加構成し、特にインクジェットノズルによる清掃方式を採用したことを特徴とした。
【選択図】 図１
【解決手段】露光マスクは薄膜で強度が弱いため、そのゴミの種類や付着の状態に応じた洗浄ツールを用い、露光膜を破壊しない必要最小限の洗浄範囲、洗浄力によるコントロール洗浄が必要である。本発明は、このゴミをマスクにダメージを与える事無く除去する方法を考案する。本露光装置従来の露光装置に検査、清掃、乾燥までの一連の自動システムを追加構成し、特にインクジェットノズルによる清掃方式を採用したことを特徴とした。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はデバイスの製造装置の中の露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来シャワーノズルを利用したマスクの洗浄方法は行なわれていたがシャワー圧力の微妙な制御が可能でかつゴミ検査装置を組み入れることによりゴミの種類、ゴミの場所を特定出来、さらにインクジェット方式の複数の洗浄液を突出可能なマルチノズルによりそのゴミにあった適切な液を突出することにより必要最小限の力でマスク表面を傷つける事無く洗浄することが可能となった。すなわち本発明はインクジェット方式のマルチノズルを採用することによりプログラマブルな化学的でかつ機械的な両面から同時に洗浄することが可能となった。
【０００３】
この洗浄システムは新規に露光装置を制作するのではなくほとんどの場合、従来の露光装置の追加改造程度ですみスペース面で最小のスペースしかとらず、かつコスト面でも安価で導入することが可能である。
【０００４】
作業面においてのメリットとしては露光中にマスクが汚れた場合でも、マスクを着脱あるいは交換する事無くその場でクリーニングが可能であるため時間的なロスが無い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近接場露光によるリソでは、ゴミによりマスクとレジスト間の接触が阻害され、そのゴミの個所だけにとどまらず、その周辺を含め欠陥の原因となるため露光の最中においてもマスク露光面の検査とクリーニングを短時間でかつ完全に行なえる洗浄システムの導入が必要であり、望まれている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本出願に係る第一の発明は露光装置と電気的に連動しかつ露光装置の露光ステージの動きに同期し可能な限り露光マスク近傍にコンパクトなゴミ検査機、洗浄機、乾燥機の機能を持った一連の自動システム装置を設けた。
【０００７】
また、露光マスクが極薄で強度が弱いため、そのゴミの種類や付着の状態に応じた洗浄ツール、洗浄液を用い、露光膜を破壊しない必要最小限の洗浄力による繊細かつスポット的な選択的制御が可能である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１は今回発明したマスク洗浄システム付き近接場露光装置の標準的な構成図である。（１）は露光基板（ウエハー）を自動供給を行なう基板供給ユニットである。（２）は同じく露光マスクを自動搬送から装置のマスクチャックへ供給取り付けまでを行なうマスク供給ユニットを示す。さらに装置内への外部からのゴミの流入を押えるために装置全体を箱型とし装置上部へサブμレベルのゴミをフィルターリングできるクリーンユニットを設け気流の流れを上から下へ流れるＤＯＷＮフロータイプとした。また図１の露光方式は近接場露光を行なうための構成の一例を示す。構成は露光マスクを支持するマスクチャック、マスクを露光基板に密着さすための（８）（９）の加圧部、露光エネルギーを照射するための（６）光源と効率的に光源を照射を行なうための（７）光学系で構成されている。
【０００９】
この実用例ではウエハーをセットしマルチ露光を行なうためのパルスモーター等により任意の位置に移動の可能なステージ上（５）の一部に洗浄システムである（１７）ゴミの検査装置、検査の結果に対応して洗浄液を突出する（１３）のインクジェットマルチノズル、洗浄後乾燥を行なうブロー装置さらに洗浄マスクより落下したゴミ、廃液等を処理し外部へ排出する機能の付いた（１４）処理トレーから構成されている。
【００１０】
図２は本露光装置の工程フローと装置の各作業ポジションを示す図である。ａ．は検査ポジションでゴミ等の露光時欠陥となりうる異物をプログラムに基づき全面検査を行なう。
【００１１】
ｂ．ゴミが無い場合は露光原点に復帰した後に露光ステップにもとづき露光を開始する。一方ゴミを発見した場合はｂ’ポジションは同じく原点に復帰をするが、前記検査でゴミの情報（種別、サイズ等）、ゴミの位置データをもとに順次洗浄（複数箇所の場合）を行なう。洗浄完了後は（１７）のブロワーにより洗浄個所の乾燥を行なう。ここで純水で洗浄した場合はアルコールにより置換をするとさらに乾燥時間を短縮することが可能である。
【００１２】
ｃ’ポジションは洗浄後／乾燥後の検査原点を示す図である。前ｂ’で洗浄した個所データに基づきその周辺を含め自動検査を行なう。
【００１３】
ｄ’ポジションは前記検査で洗浄個所に異物が無い場合、露光原点に復帰した後プログラムに基づき露光を開始する。一方異物が再度発見された場合は再度ｃ’に戻り洗浄／乾燥を行なう。この際に洗浄前の状態と比較して形状等の情報に変化が殆どないと判断された場合は埋め込まれたゴミの可能性があるため新しいマスクと交換するシステムとした。なおシステムをどのような内容にするかに関してはプログラムの書き換えにより自由に行なえる。
【００１４】
マスク交換時の装置動作
（２）のマスク供給ユニットにて不良マスクを取り外し、使用済みマスクを使用済みカセットに収納する。新しいマスクを取り付ける準備として装置のマスクチャックの取り付け面の検査、清掃をマスク面の検査〜清掃の手順と同じ要領のプログラムにて行なった後新しいマスクを供給ユニットにて所定位置に位置だしセットを行なう。新しいマスクに交換した場合は最初の検査から再度繰り返し行なうようにした。
【００１５】
【発明の効果】
本発明はインクジェット方式のノズルの採用で従来良く採用されているシャワーノズルの洗浄方式に比べ繊細で電子制御が可能となりよりきめ細かな制御がおこなえるようになった。
【００１６】
ほとんどの場合新規に洗浄システムを設ける必要はなく従来の装置の改造程度ですみスペース面でも有効に使え、かつコスト面においても安価に導入することが可能である。
【００１７】
露光中に、マスクが汚れた場合でも、マスクを着脱することなくその場で洗浄が可能であるため、時間的の無駄が全く発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】マスク洗浄システム付き近接場露光装置の基本機能構成を示す図である。
【図２】本近接場露光装置の作業シーケンスとその機械的はポジションを示す図である。
【符号の説明】
１ 基板供給ユニット
２ マスク供給ユニット
３ クリーンユニット
４ Ｘ軸ステージユニット
５ Ｙ軸ステージユニット
６ 光源
７ 光学系
８ 圧力タンク
９ マスク密着用加圧機
１０ マスクチャック
１１ 露光基板チャック
１２ ブロワー
１３ インクジェットノズル
１４ 吸引機能付き回収トレー（ゴミ、液）
１５ 露光マスク
１６ 露光基板
１７ ゴミ検査機
１８ バルブ
【発明の属する技術分野】
本発明はデバイスの製造装置の中の露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来シャワーノズルを利用したマスクの洗浄方法は行なわれていたがシャワー圧力の微妙な制御が可能でかつゴミ検査装置を組み入れることによりゴミの種類、ゴミの場所を特定出来、さらにインクジェット方式の複数の洗浄液を突出可能なマルチノズルによりそのゴミにあった適切な液を突出することにより必要最小限の力でマスク表面を傷つける事無く洗浄することが可能となった。すなわち本発明はインクジェット方式のマルチノズルを採用することによりプログラマブルな化学的でかつ機械的な両面から同時に洗浄することが可能となった。
【０００３】
この洗浄システムは新規に露光装置を制作するのではなくほとんどの場合、従来の露光装置の追加改造程度ですみスペース面で最小のスペースしかとらず、かつコスト面でも安価で導入することが可能である。
【０００４】
作業面においてのメリットとしては露光中にマスクが汚れた場合でも、マスクを着脱あるいは交換する事無くその場でクリーニングが可能であるため時間的なロスが無い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近接場露光によるリソでは、ゴミによりマスクとレジスト間の接触が阻害され、そのゴミの個所だけにとどまらず、その周辺を含め欠陥の原因となるため露光の最中においてもマスク露光面の検査とクリーニングを短時間でかつ完全に行なえる洗浄システムの導入が必要であり、望まれている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本出願に係る第一の発明は露光装置と電気的に連動しかつ露光装置の露光ステージの動きに同期し可能な限り露光マスク近傍にコンパクトなゴミ検査機、洗浄機、乾燥機の機能を持った一連の自動システム装置を設けた。
【０００７】
また、露光マスクが極薄で強度が弱いため、そのゴミの種類や付着の状態に応じた洗浄ツール、洗浄液を用い、露光膜を破壊しない必要最小限の洗浄力による繊細かつスポット的な選択的制御が可能である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１は今回発明したマスク洗浄システム付き近接場露光装置の標準的な構成図である。（１）は露光基板（ウエハー）を自動供給を行なう基板供給ユニットである。（２）は同じく露光マスクを自動搬送から装置のマスクチャックへ供給取り付けまでを行なうマスク供給ユニットを示す。さらに装置内への外部からのゴミの流入を押えるために装置全体を箱型とし装置上部へサブμレベルのゴミをフィルターリングできるクリーンユニットを設け気流の流れを上から下へ流れるＤＯＷＮフロータイプとした。また図１の露光方式は近接場露光を行なうための構成の一例を示す。構成は露光マスクを支持するマスクチャック、マスクを露光基板に密着さすための（８）（９）の加圧部、露光エネルギーを照射するための（６）光源と効率的に光源を照射を行なうための（７）光学系で構成されている。
【０００９】
この実用例ではウエハーをセットしマルチ露光を行なうためのパルスモーター等により任意の位置に移動の可能なステージ上（５）の一部に洗浄システムである（１７）ゴミの検査装置、検査の結果に対応して洗浄液を突出する（１３）のインクジェットマルチノズル、洗浄後乾燥を行なうブロー装置さらに洗浄マスクより落下したゴミ、廃液等を処理し外部へ排出する機能の付いた（１４）処理トレーから構成されている。
【００１０】
図２は本露光装置の工程フローと装置の各作業ポジションを示す図である。ａ．は検査ポジションでゴミ等の露光時欠陥となりうる異物をプログラムに基づき全面検査を行なう。
【００１１】
ｂ．ゴミが無い場合は露光原点に復帰した後に露光ステップにもとづき露光を開始する。一方ゴミを発見した場合はｂ’ポジションは同じく原点に復帰をするが、前記検査でゴミの情報（種別、サイズ等）、ゴミの位置データをもとに順次洗浄（複数箇所の場合）を行なう。洗浄完了後は（１７）のブロワーにより洗浄個所の乾燥を行なう。ここで純水で洗浄した場合はアルコールにより置換をするとさらに乾燥時間を短縮することが可能である。
【００１２】
ｃ’ポジションは洗浄後／乾燥後の検査原点を示す図である。前ｂ’で洗浄した個所データに基づきその周辺を含め自動検査を行なう。
【００１３】
ｄ’ポジションは前記検査で洗浄個所に異物が無い場合、露光原点に復帰した後プログラムに基づき露光を開始する。一方異物が再度発見された場合は再度ｃ’に戻り洗浄／乾燥を行なう。この際に洗浄前の状態と比較して形状等の情報に変化が殆どないと判断された場合は埋め込まれたゴミの可能性があるため新しいマスクと交換するシステムとした。なおシステムをどのような内容にするかに関してはプログラムの書き換えにより自由に行なえる。
【００１４】
マスク交換時の装置動作
（２）のマスク供給ユニットにて不良マスクを取り外し、使用済みマスクを使用済みカセットに収納する。新しいマスクを取り付ける準備として装置のマスクチャックの取り付け面の検査、清掃をマスク面の検査〜清掃の手順と同じ要領のプログラムにて行なった後新しいマスクを供給ユニットにて所定位置に位置だしセットを行なう。新しいマスクに交換した場合は最初の検査から再度繰り返し行なうようにした。
【００１５】
【発明の効果】
本発明はインクジェット方式のノズルの採用で従来良く採用されているシャワーノズルの洗浄方式に比べ繊細で電子制御が可能となりよりきめ細かな制御がおこなえるようになった。
【００１６】
ほとんどの場合新規に洗浄システムを設ける必要はなく従来の装置の改造程度ですみスペース面でも有効に使え、かつコスト面においても安価に導入することが可能である。
【００１７】
露光中に、マスクが汚れた場合でも、マスクを着脱することなくその場で洗浄が可能であるため、時間的の無駄が全く発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】マスク洗浄システム付き近接場露光装置の基本機能構成を示す図である。
【図２】本近接場露光装置の作業シーケンスとその機械的はポジションを示す図である。
【符号の説明】
１ 基板供給ユニット
２ マスク供給ユニット
３ クリーンユニット
４ Ｘ軸ステージユニット
５ Ｙ軸ステージユニット
６ 光源
７ 光学系
８ 圧力タンク
９ マスク密着用加圧機
１０ マスクチャック
１１ 露光基板チャック
１２ ブロワー
１３ インクジェットノズル
１４ 吸引機能付き回収トレー（ゴミ、液）
１５ 露光マスク
１６ 露光基板
１７ ゴミ検査機
１８ バルブ
Claims (5)
- ホトマスクを利用してウエハー等に露光を行なう近接場露光装置においてホトマスクのゴミ、汚れ等を検査、清掃、乾燥までを行なう、一連の清掃システムを装置内に設けた近接場露光装置。
- 清掃ノズルはインクジェット方式による複数本のノズルを備える。
- 各ノズルはゴミの種類、付着の状態に対応して選択可能な一種類以上の洗浄液を備える。
- 各ノズルからは予め設定したプログラムにより突出スピード、突出時間、突出順番、繰り返しかつそれぞれの組み合わせ等が可能。
- マスクセット時および交換時もマスク面洗浄と同様にマスク取り付け面の検査、洗浄を同じシステムにより行なえることを特徴とする。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003115935A JP2004327487A (ja) | 2003-04-21 | 2003-04-21 | マスク洗浄システム付き近接場露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003115935A JP2004327487A (ja) | 2003-04-21 | 2003-04-21 | マスク洗浄システム付き近接場露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004327487A true JP2004327487A (ja) | 2004-11-18 |
Family
ID=33496342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003115935A Withdrawn JP2004327487A (ja) | 2003-04-21 | 2003-04-21 | マスク洗浄システム付き近接場露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004327487A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10699894B2 (en) | 2008-08-29 | 2020-06-30 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
-
2003
- 2003-04-21 JP JP2003115935A patent/JP2004327487A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10699894B2 (en) | 2008-08-29 | 2020-06-30 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
| US10854443B2 (en) | 2008-08-29 | 2020-12-01 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
| US11610772B2 (en) | 2008-08-29 | 2023-03-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6000822B2 (ja) | 基板洗浄方法および基板洗浄システム | |
| JP4582654B2 (ja) | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、ノズル洗浄プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| JP2005072404A (ja) | 露光装置および半導体装置の製造方法 | |
| WO2017141737A1 (ja) | 現像ユニット、基板処理装置、現像方法および基板処理方法 | |
| JP5677603B2 (ja) | 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | |
| JP6279037B2 (ja) | 基板洗浄方法および基板洗浄システム | |
| JP2009212335A (ja) | 搬送アーム洗浄装置、搬送アーム洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
| KR102614546B1 (ko) | 리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법 | |
| JP6726575B2 (ja) | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 | |
| US20010018167A1 (en) | Method of and apparatus for developing exposed photoresist to prevent impurity from being attached to wafer surface | |
| JP2004327487A (ja) | マスク洗浄システム付き近接場露光装置 | |
| TWI588624B (zh) | 負顯影處理方法及負顯影處理裝置 | |
| JP4043039B2 (ja) | 現像方法及び現像装置 | |
| JP2006231185A (ja) | 洗浄方法および洗浄システム | |
| JP3453022B2 (ja) | 現像装置 | |
| KR100783730B1 (ko) | 포토마스크 건식세정장치 및 건식세정방법 | |
| JP7258196B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR200195133Y1 (ko) | 반도체 웨이퍼 노광장비의 웨이퍼척 이물질 제거장치 | |
| JP2002280292A (ja) | 基板処理方法および現像処理方法 | |
| JPH11212249A (ja) | フォトマスクの洗浄装置 | |
| JP2021126631A (ja) | 液体吐出装置、液体吐出方法、インプリント装置、物品の製造方法及びコンピュータプログラム | |
| KR20070068902A (ko) | 펠리클 부착 상태에서 포토 마스크 후면의 오염을 제거할수 있는 장치 | |
| JP2003091885A (ja) | フォトレジスト層除去装置 | |
| JP2005345502A (ja) | 印刷版製造装置 | |
| JPH04290587A (ja) | 紫外線による洗浄方法および洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060704 |