JPH10134425A - スタンパーの表面処理方法及び装置 - Google Patents
スタンパーの表面処理方法及び装置Info
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- JPH10134425A JPH10134425A JP28841896A JP28841896A JPH10134425A JP H10134425 A JPH10134425 A JP H10134425A JP 28841896 A JP28841896 A JP 28841896A JP 28841896 A JP28841896 A JP 28841896A JP H10134425 A JPH10134425 A JP H10134425A
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- Japan
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 清浄性に優れ、酸化膜の均一性に優れたスタ
ンパーを提供する。 【解決手段】 スタンパーをアルカリ洗浄処理したのち
電解槽中で電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理するスタ
ンパーの表面処理方法であって、該電解槽は液抜出方式
を備えるとともに、該電解槽においてスタンパーの極性
を切り換えることにより電解脱脂洗浄処理および電解酸
化処理を連続して行うスタンパーの表面処理方法。
ンパーを提供する。 【解決手段】 スタンパーをアルカリ洗浄処理したのち
電解槽中で電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理するスタ
ンパーの表面処理方法であって、該電解槽は液抜出方式
を備えるとともに、該電解槽においてスタンパーの極性
を切り換えることにより電解脱脂洗浄処理および電解酸
化処理を連続して行うスタンパーの表面処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクなどの樹
脂基板の成形に用いられるスタンパーの表面処理（洗浄
処理及び酸化処理）方法及び装置に関する。
脂基板の成形に用いられるスタンパーの表面処理（洗浄
処理及び酸化処理）方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクなどに用いる基板は、フォー
マット情報などを凹凸情報として形成したガラス原盤か
らマスタースタンパー（原スタンパー）、マザースタン
パー（第１転写スタンパー）、サンスタンパー（第２転
写スタンパー）などの金属スタンパーを作製するマスタ
リング工程と、マスタリングによって得られたスタンパ
ーを用いて、情報を転写した基板を大量成形（複製）す
るレプリケーション工程とにより製造される。レプリケ
ーション方法としてはポリカーボネート樹脂などを用い
る射出成形が代表的であるが、放射線硬化樹脂を用いる
方法もある。
マット情報などを凹凸情報として形成したガラス原盤か
らマスタースタンパー（原スタンパー）、マザースタン
パー（第１転写スタンパー）、サンスタンパー（第２転
写スタンパー）などの金属スタンパーを作製するマスタ
リング工程と、マスタリングによって得られたスタンパ
ーを用いて、情報を転写した基板を大量成形（複製）す
るレプリケーション工程とにより製造される。レプリケ
ーション方法としてはポリカーボネート樹脂などを用い
る射出成形が代表的であるが、放射線硬化樹脂を用いる
方法もある。
【０００３】マスタリングによるスタンパー製造は以下
のように行われる。まず、表面を研磨したガラス原盤に
フォトレジストを均一の厚さに塗布し、フォトレジスト
層を形成する。次いで、このフォトレジスト層のピット
及びグルーブ対応部にレーザー光を照射する。レーザー
光が照射された部分は非照射部に比較してアルカリ液に
溶解しやすくなるため、フォトレジスト層を所定のアル
カリ液で現像すると、レーザー光が照射された部分にピ
ット及びグルーブに相当する凹部が形成される。
のように行われる。まず、表面を研磨したガラス原盤に
フォトレジストを均一の厚さに塗布し、フォトレジスト
層を形成する。次いで、このフォトレジスト層のピット
及びグルーブ対応部にレーザー光を照射する。レーザー
光が照射された部分は非照射部に比較してアルカリ液に
溶解しやすくなるため、フォトレジスト層を所定のアル
カリ液で現像すると、レーザー光が照射された部分にピ
ット及びグルーブに相当する凹部が形成される。
【０００４】その後、フォトレジスト層上に、導電性を
付与する金属膜をスパッタリング、蒸着、化学メッキ等
により形成する。金属膜としては、たとえばニッケル、
銀などが用いられる。次いで、金属膜を電極として、ニ
ッケルなどの金属を電鋳し、金属膜上にニッケル電鋳体
を形成する。このニッケル電鋳体を金属膜とともに、ガ
ラス原盤から剥離して金属スタンパーとする。
付与する金属膜をスパッタリング、蒸着、化学メッキ等
により形成する。金属膜としては、たとえばニッケル、
銀などが用いられる。次いで、金属膜を電極として、ニ
ッケルなどの金属を電鋳し、金属膜上にニッケル電鋳体
を形成する。このニッケル電鋳体を金属膜とともに、ガ
ラス原盤から剥離して金属スタンパーとする。
【０００５】しかしながら、上記で得られたスタンパー
の表面にはガラス原盤から剥離した際、フォトレジスト
成分が残留付着している。この付着物を除去する方法と
して、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄、
電解脱脂洗浄等の手段を単独で、またはこれらを組み合
わせて行う方法が知られている。なかでも、アルカリ脱
脂液を電解液として用いる電解脱脂洗浄法は、上記付着
物除去に対する洗浄力が強いことから最も有効な方法で
あり、好適に使用されている。
の表面にはガラス原盤から剥離した際、フォトレジスト
成分が残留付着している。この付着物を除去する方法と
して、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄、
電解脱脂洗浄等の手段を単独で、またはこれらを組み合
わせて行う方法が知られている。なかでも、アルカリ脱
脂液を電解液として用いる電解脱脂洗浄法は、上記付着
物除去に対する洗浄力が強いことから最も有効な方法で
あり、好適に使用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら電解脱脂
洗浄法は、上記のように付着物に対する洗浄力が強いと
いう特徴を有している一方で、電解脱脂洗浄液が汚れや
すく、そのためスタンパー表面が再汚染されやすいとい
う問題がある。さらに、上記スタンパーはその複製のた
め、表面を酸化する必要があるが、その表面酸化は通
常、上記洗浄後のスタンパー表面を酸化処理して表面特
性を改善しているが、上記洗浄処理から酸化処理まで処
理工程が長くコスト的には有利と言えず、簡略化した処
理プロセスが望まれる。さらに、その操作に際してはハ
ンドリング操作の回数が増加し、人由来によるダストや
ゴミによりスタンパー表面を汚してしまうという問題が
ある。
洗浄法は、上記のように付着物に対する洗浄力が強いと
いう特徴を有している一方で、電解脱脂洗浄液が汚れや
すく、そのためスタンパー表面が再汚染されやすいとい
う問題がある。さらに、上記スタンパーはその複製のた
め、表面を酸化する必要があるが、その表面酸化は通
常、上記洗浄後のスタンパー表面を酸化処理して表面特
性を改善しているが、上記洗浄処理から酸化処理まで処
理工程が長くコスト的には有利と言えず、簡略化した処
理プロセスが望まれる。さらに、その操作に際してはハ
ンドリング操作の回数が増加し、人由来によるダストや
ゴミによりスタンパー表面を汚してしまうという問題が
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
なスタンパー表面処理（洗浄及び酸化処理）における問
題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達
した。すなわち、本発明の要旨は、スタンパーをアルカ
リ洗浄処理したのち電解槽中で電解脱脂洗浄処理及び電
解酸化処理するスタンパーの表面処理方法であって、該
電解槽は液抜出方式を備えるとともに、該電解槽におい
てスタンパーの極性を切り換えることにより電解脱脂洗
浄処理および電解酸化処理を連続して行うことを特徴と
するスタンパーの表面処理方法に存する。
なスタンパー表面処理（洗浄及び酸化処理）における問
題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達
した。すなわち、本発明の要旨は、スタンパーをアルカ
リ洗浄処理したのち電解槽中で電解脱脂洗浄処理及び電
解酸化処理するスタンパーの表面処理方法であって、該
電解槽は液抜出方式を備えるとともに、該電解槽におい
てスタンパーの極性を切り換えることにより電解脱脂洗
浄処理および電解酸化処理を連続して行うことを特徴と
するスタンパーの表面処理方法に存する。
【０００８】また、スタンパーをアルカリ洗浄処理する
ための洗浄槽と、電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理す
るための電解槽とを有するスタンパーの表面処理装置で
あって、該電解槽は液抜出手段とスタンパー極性切り換
え手段とを備えることを特徴とするスタンパーの表面処
理装置に存する。
ための洗浄槽と、電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理す
るための電解槽とを有するスタンパーの表面処理装置で
あって、該電解槽は液抜出手段とスタンパー極性切り換
え手段とを備えることを特徴とするスタンパーの表面処
理装置に存する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明につきさらに詳細に
説明する。本発明は光ディスク等のディスク用樹脂基板
の成形に用いられるスタンパー表面に付着した付着物、
例えば上記したマスタリングにより得られるスタンパー
表面に残留して付着しているフォトレジスト成分の付着
物やレプリケーションで使用したスタンパー表面に付着
している樹脂成分の付着物などを洗浄処理してスタンパ
ーから除去し、次いでスタンパー表面を酸化処理するス
タンパーの表面処理方法に適用される。
説明する。本発明は光ディスク等のディスク用樹脂基板
の成形に用いられるスタンパー表面に付着した付着物、
例えば上記したマスタリングにより得られるスタンパー
表面に残留して付着しているフォトレジスト成分の付着
物やレプリケーションで使用したスタンパー表面に付着
している樹脂成分の付着物などを洗浄処理してスタンパ
ーから除去し、次いでスタンパー表面を酸化処理するス
タンパーの表面処理方法に適用される。
【００１０】本発明においてはまずスタンパー表面に付
着している付着物をアルカリ洗浄及び電解脱脂洗浄によ
って除去し、次いで電解酸化処理してスタンパー表面特
性を改善することに特徴を有するものである。アルカリ
洗浄によって付着物のほとんどは除去されるので、その
後の電解脱脂洗浄において洗浄液が汚れるのを防ぐこと
ができる。
着している付着物をアルカリ洗浄及び電解脱脂洗浄によ
って除去し、次いで電解酸化処理してスタンパー表面特
性を改善することに特徴を有するものである。アルカリ
洗浄によって付着物のほとんどは除去されるので、その
後の電解脱脂洗浄において洗浄液が汚れるのを防ぐこと
ができる。
【００１１】洗浄処理は、スタンパーをアルカリ洗浄槽
に浸漬して所定時間、例えば５〜３０分間保持して洗浄
処理を行いスタンパー付着物の大部分を除去する。アル
カリ洗浄処理に用いる洗浄液としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、メタケイ酸ナト
リウム、リン酸三ナトリウム等のアルカリ成分が用いら
れる。
に浸漬して所定時間、例えば５〜３０分間保持して洗浄
処理を行いスタンパー付着物の大部分を除去する。アル
カリ洗浄処理に用いる洗浄液としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、メタケイ酸ナト
リウム、リン酸三ナトリウム等のアルカリ成分が用いら
れる。
【００１２】ここで、アルカリ洗浄液槽を２槽以上設け
ると、付着物の除去効果が高まりより好ましい。次いで
このスタンパーを電解槽に浸漬してスタンパー側を負
極、電極側を正極に設定して所定時間、例えば３〜１０
分間保持して電解脱脂洗浄処理を行い、スタンパー表面
の付着物を完全に除去する。
ると、付着物の除去効果が高まりより好ましい。次いで
このスタンパーを電解槽に浸漬してスタンパー側を負
極、電極側を正極に設定して所定時間、例えば３〜１０
分間保持して電解脱脂洗浄処理を行い、スタンパー表面
の付着物を完全に除去する。
【００１３】電解脱脂洗浄処理に用いる電解液として
は、上記アルカリ洗浄と同様のアルカリ成分の洗浄液が
用いられる。電解液として、上記アルカリ洗浄液に界面
活性剤を添加した混合液を用いると洗浄効果がさらに向
上するので望ましい。次に、このスタンパー表面を電解
酸化処理して表面酸化させるが、この電解酸化処理は、
上記電解脱脂処理後連続して、電解槽中において極性の
切り換えを行い、電極側を負極に、スタンパー側を正極
に設定して引き続き電解処理することで行うことを特徴
とする。極性の切り換えは、自動切り換え器により行う
と、時間を短縮でき、電解脱脂と電解酸化とを連続して
処理することができ、望ましい。
は、上記アルカリ洗浄と同様のアルカリ成分の洗浄液が
用いられる。電解液として、上記アルカリ洗浄液に界面
活性剤を添加した混合液を用いると洗浄効果がさらに向
上するので望ましい。次に、このスタンパー表面を電解
酸化処理して表面酸化させるが、この電解酸化処理は、
上記電解脱脂処理後連続して、電解槽中において極性の
切り換えを行い、電極側を負極に、スタンパー側を正極
に設定して引き続き電解処理することで行うことを特徴
とする。極性の切り換えは、自動切り換え器により行う
と、時間を短縮でき、電解脱脂と電解酸化とを連続して
処理することができ、望ましい。
【００１４】電解脱脂と電解酸化とを連続処理により行
うと次のような利点がある。清浄化されたスタンパーは
空気中の酸素により表面酸化を受けてしまう。しかもこ
のような表面酸化膜は均一でなくムラが生じてしまう。
このようなスタンパーに酸化処理を施すと、均一性に欠
けた酸化膜が形成されたり、スタンパー毎に表面の酸化
状態が異なったりする恐れがある。
うと次のような利点がある。清浄化されたスタンパーは
空気中の酸素により表面酸化を受けてしまう。しかもこ
のような表面酸化膜は均一でなくムラが生じてしまう。
このようなスタンパーに酸化処理を施すと、均一性に欠
けた酸化膜が形成されたり、スタンパー毎に表面の酸化
状態が異なったりする恐れがある。
【００１５】電解脱脂と電解酸化とを連続処理により行
うと、スタンパーを空気に晒すことがないため、清浄な
表面に酸化膜を均一に形成することができるのである。
本発明においてはさらに、電解槽の洗浄液について液抜
出方式を採用することに特徴を有する。これにより洗浄
液中に持ち込まれた汚れや不純物が液中に残留しなくな
り、洗浄液の汚れが少なくなり、それゆえスタンパー表
面の汚れも少なくなる。
うと、スタンパーを空気に晒すことがないため、清浄な
表面に酸化膜を均一に形成することができるのである。
本発明においてはさらに、電解槽の洗浄液について液抜
出方式を採用することに特徴を有する。これにより洗浄
液中に持ち込まれた汚れや不純物が液中に残留しなくな
り、洗浄液の汚れが少なくなり、それゆえスタンパー表
面の汚れも少なくなる。
【００１６】液の抜き出しは例えばオーバーフロー、す
なわち槽の上部から洗浄液を常にあふれさせることで行
う。抜き出した液は、液の清浄度が特に要求される場合
にはそのまま排出することもできるが、フィルターで濾
過して循環させ（液循環濾過方式）、再使用することも
できる。また、別の槽にある程度貯めておいてから再使
用してもよい。この液抜出方式は、電解槽だけでなくア
ルカリ洗浄槽、温純水洗浄槽、乾燥槽の各槽に設けるの
が好ましい。
なわち槽の上部から洗浄液を常にあふれさせることで行
う。抜き出した液は、液の清浄度が特に要求される場合
にはそのまま排出することもできるが、フィルターで濾
過して循環させ（液循環濾過方式）、再使用することも
できる。また、別の槽にある程度貯めておいてから再使
用してもよい。この液抜出方式は、電解槽だけでなくア
ルカリ洗浄槽、温純水洗浄槽、乾燥槽の各槽に設けるの
が好ましい。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明は、その要旨を越えない限り、これら実
施例によって、何ら限定されるものではない。図１は本
発明のスタンパーの表面処理装置の模式図の一例を示す
ものであり、アルカリ洗浄槽１及び２、純水シャワー槽
３、電解槽４、温純水洗浄槽５、乾燥槽６を組み合わせ
てなる。
するが、本発明は、その要旨を越えない限り、これら実
施例によって、何ら限定されるものではない。図１は本
発明のスタンパーの表面処理装置の模式図の一例を示す
ものであり、アルカリ洗浄槽１及び２、純水シャワー槽
３、電解槽４、温純水洗浄槽５、乾燥槽６を組み合わせ
てなる。
【００１８】まず、アルカリ洗浄槽１及び２で洗浄処理
してスタンパー表面の付着物を大部分除去する。次に、
スタンパー表面の汚れを純水シャワー槽３で水洗して除
去する。これにより電解槽４中の電解液の汚染が少なく
なるので望ましい。その後、スタンパーを電解槽４に浸
漬し、電解脱脂洗浄処理および電解酸化処理電極を連続
して行う。
してスタンパー表面の付着物を大部分除去する。次に、
スタンパー表面の汚れを純水シャワー槽３で水洗して除
去する。これにより電解槽４中の電解液の汚染が少なく
なるので望ましい。その後、スタンパーを電解槽４に浸
漬し、電解脱脂洗浄処理および電解酸化処理電極を連続
して行う。
【００１９】ここで、電解槽４への浸漬を行う前にスタ
ンパー表面に紫外線照射を行うと、表面付着物がオゾン
酸化されて除去され、スタンパー表面の清浄性が増すた
め好ましい。酸化処理後、温純水洗浄槽５において温水
洗浄する。最後に、乾燥槽６において、スタンパーを温
純水に浸漬しゆっくり引き上げつつ乾燥させる。これに
よって乾きじみを防ぐことができる。
ンパー表面に紫外線照射を行うと、表面付着物がオゾン
酸化されて除去され、スタンパー表面の清浄性が増すた
め好ましい。酸化処理後、温純水洗浄槽５において温水
洗浄する。最後に、乾燥槽６において、スタンパーを温
純水に浸漬しゆっくり引き上げつつ乾燥させる。これに
よって乾きじみを防ぐことができる。
【００２０】各槽及び配管はポリプロピレンやポリフッ
化ビニリデン等の合成樹脂製のものを使用することによ
り、各槽及び配管からの金属粉や金属イオンの混入を防
止できるためスタンパー表面の汚れを防止でき、且つ電
解液の安定性を保持できるので望ましい。また各洗浄液
の寿命を知り、液の入れ替え時期や頻度を管理するため
に、各洗浄液の洗浄回数をカウントするカウンターを取
り付けると、液の汚れた状態での使用を防止できるので
望ましい。
化ビニリデン等の合成樹脂製のものを使用することによ
り、各槽及び配管からの金属粉や金属イオンの混入を防
止できるためスタンパー表面の汚れを防止でき、且つ電
解液の安定性を保持できるので望ましい。また各洗浄液
の寿命を知り、液の入れ替え時期や頻度を管理するため
に、各洗浄液の洗浄回数をカウントするカウンターを取
り付けると、液の汚れた状態での使用を防止できるので
望ましい。
【００２１】各槽間のスタンパーの移動や各槽での処理
を自動化してもよい。例えば、図示しない移動ハンドを
用いて予め定めたプログラムに従って自動的にスタンパ
ーを各槽へ順次移動させて連続処理することにより、人
が介在するハンドリング作業が大幅に減少でき、人体か
らのダストやゴミによる発塵が防止でき、これに基因し
たスタンパーの汚れが防止できるので望ましい。
を自動化してもよい。例えば、図示しない移動ハンドを
用いて予め定めたプログラムに従って自動的にスタンパ
ーを各槽へ順次移動させて連続処理することにより、人
が介在するハンドリング作業が大幅に減少でき、人体か
らのダストやゴミによる発塵が防止でき、これに基因し
たスタンパーの汚れが防止できるので望ましい。
【００２２】図２は図１の電解槽４をさらに詳しく説明
した図である。電解槽４に満たした電解液７中に、導電
性ホルダー８で保持したスタンパー９と対向電極１０と
をセットする。ホルダー８はスタンパー側の電極を兼ね
ており、両電極の極性は極性切り換えスイッチ１１にて
行う。まず、対向電極側を正極（＋）に、スタンパー側
を負極（−）に設定し、電解処理してスタンパー表面の
付着物を洗浄除去する。次いで極性を切り換え、スタン
パー側を正極（＋）に、対向電極側を負極（−）に設定
して電解処理を行って、スタンパー表面酸化を行う。
した図である。電解槽４に満たした電解液７中に、導電
性ホルダー８で保持したスタンパー９と対向電極１０と
をセットする。ホルダー８はスタンパー側の電極を兼ね
ており、両電極の極性は極性切り換えスイッチ１１にて
行う。まず、対向電極側を正極（＋）に、スタンパー側
を負極（−）に設定し、電解処理してスタンパー表面の
付着物を洗浄除去する。次いで極性を切り換え、スタン
パー側を正極（＋）に、対向電極側を負極（−）に設定
して電解処理を行って、スタンパー表面酸化を行う。
【００２３】本電解槽においてはオーバーフロー式の液
循環濾過方式を採用している。電解液は給液バルブ１５
により流量を調節され給液パイプ１４を通って電解槽４
に供給される。電解槽４の液面が仕切り板１２を超える
と電解液はオーバーフロー槽１３に流れ込む。さらに電
解液は排液循環パイプ１６を流れ、循環ポンプ１７を通
り、フィルター１８により濾過された後、電解槽４に戻
される。
循環濾過方式を採用している。電解液は給液バルブ１５
により流量を調節され給液パイプ１４を通って電解槽４
に供給される。電解槽４の液面が仕切り板１２を超える
と電解液はオーバーフロー槽１３に流れ込む。さらに電
解液は排液循環パイプ１６を流れ、循環ポンプ１７を通
り、フィルター１８により濾過された後、電解槽４に戻
される。
【００２４】また、オーバーフロー槽１３には液面調節
パイプ１９が設けられ、液面がパイプ頂部を超えるとパ
イプ内に電解液が流れ込み、排液パイプ２０を通って排
出される。これにより、オーバーフロー槽１３の電解液
が電解槽４に逆に流れ込むのを防ぐことができる。ま
た、電解液を全て入れ替える場合は、排液弁２１、２２
を開くことで配液循環パイプ１６より電解液を排出す
る。
パイプ１９が設けられ、液面がパイプ頂部を超えるとパ
イプ内に電解液が流れ込み、排液パイプ２０を通って排
出される。これにより、オーバーフロー槽１３の電解液
が電解槽４に逆に流れ込むのを防ぐことができる。ま
た、電解液を全て入れ替える場合は、排液弁２１、２２
を開くことで配液循環パイプ１６より電解液を排出す
る。
【００２５】このような液循環濾過方式は、図１のアル
カリ洗浄槽１及び２の各洗浄液にも採用するのが好まし
い。また、図２に示すようにホルダーに２枚のスタンパ
ーを裏面を向かい合わせてセットし、その両側に対向電
極を設置すると２枚のスタンパーを同時に電解処理でき
るので望ましい。
カリ洗浄槽１及び２の各洗浄液にも採用するのが好まし
い。また、図２に示すようにホルダーに２枚のスタンパ
ーを裏面を向かい合わせてセットし、その両側に対向電
極を設置すると２枚のスタンパーを同時に電解処理でき
るので望ましい。
【００２６】２枚のスタンパーの同時処理は次の点から
も有利である。すなわち、スタンパーの複製処理を行っ
た場合、電鋳後には、マスタースタンパーとマザースタ
ンパー、あるいはマザースタンパーとサンスタンパーの
２枚の処理すべきスタンパーが同時に発生する。従っ
て、仕掛品の滞留を避けるためには２枚を同時に処理で
きることが望ましい。
も有利である。すなわち、スタンパーの複製処理を行っ
た場合、電鋳後には、マスタースタンパーとマザースタ
ンパー、あるいはマザースタンパーとサンスタンパーの
２枚の処理すべきスタンパーが同時に発生する。従っ
て、仕掛品の滞留を避けるためには２枚を同時に処理で
きることが望ましい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
清浄性に優れ、均一な酸化膜の形成されたスタンパーを
得ることができる。
清浄性に優れ、均一な酸化膜の形成されたスタンパーを
得ることができる。
【図１】 本発明実施例のスタンパーの表面処理装置の
模式図
模式図
【図２】 本発明実施例の電解槽の模式図
１ アルカリ洗浄槽 ２ アルカリ洗浄槽 ３ 純水シャワー槽 ４ 電解槽 ５ 温純水洗浄槽 ６ 乾燥槽 ７ 電解液 ８ 導電性ホルダー ９ スタンパー １０ 対向電極 １１ 極性切り換えスイッチ １２ 仕切り板 １３ オーバーフロー槽 １４ 給液パイプ １５ 給液バルブ １６ 排液循環パイプ １７ 循環ポンプ １８ フィルター １９ 液面調節パイプ ２０ 排液パイプ ２１、２２ 排液弁
Claims (3)
- 【請求項１】 スタンパーをアルカリ洗浄処理したのち
電解槽中で電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理するスタ
ンパーの表面処理方法であって、該電解槽は液抜出方式
を備えるとともに、該電解槽においてスタンパーの極性
を切り換えることにより電解脱脂洗浄処理および電解酸
化処理を連続して行うことを特徴とするスタンパーの表
面処理方法。 - 【請求項２】 液抜出方式が液循環濾過方式であること
を特徴とする請求光１に記載のスタンパーの表面処理方
法。 - 【請求項３】 スタンパーをアルカリ洗浄処理するため
の洗浄槽と、電解脱脂洗浄処理及び電解酸化処理するた
めの電解槽とを有するスタンパーの表面処理装置であっ
て、該電解槽は液抜出手段とスタンパー極性切り換え手
段とを備えることを特徴とするスタンパーの表面処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28841896A JPH10134425A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | スタンパーの表面処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28841896A JPH10134425A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | スタンパーの表面処理方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10134425A true JPH10134425A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17729966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28841896A Pending JPH10134425A (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | スタンパーの表面処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10134425A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003041070A1 (fr) * | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Tdk Corporation | Procede et dispositif de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'information |
| WO2005108041A1 (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Somax Co., Ltd. | 金型洗浄液、金型洗浄方法および金型洗浄装置 |
| US7297472B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
| JP2011000805A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Tokyo Electron Ltd | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
-
1996
- 1996-10-30 JP JP28841896A patent/JPH10134425A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003041070A1 (fr) * | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Tdk Corporation | Procede et dispositif de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'information |
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