JPH0313587A - 二段エッチング加工法用バックコート材 - Google Patents
二段エッチング加工法用バックコート材Info
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- JPH0313587A JPH0313587A JP14759189A JP14759189A JPH0313587A JP H0313587 A JPH0313587 A JP H0313587A JP 14759189 A JP14759189 A JP 14759189A JP 14759189 A JP14759189 A JP 14759189A JP H0313587 A JPH0313587 A JP H0313587A
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はシャドウマスク、リードクレーム、蛍光表示用
メツシュ、各種フィルター、各種電極、エンコーダー等
フォトエツチング法ヲ用いて金属を微細加工する二段エ
ツチング加工法に際して使用するバックコート材に関す
る。
メツシュ、各種フィルター、各種電極、エンコーダー等
フォトエツチング法ヲ用いて金属を微細加工する二段エ
ツチング加工法に際して使用するバックコート材に関す
る。
(従来の技術)
カラーブラウン管に用いられるシャドウマスクは、25
μm〜0.3mmの板厚の脱炭したアルミキルド鋼やア
ンバー材を基板として用い、第1図に示すようにレジス
ト膜を形成し、露光し、エツチングするエツチング工程
を経て製造される。フォトレジスト(以下レジストと称
す)としては、カゼインやポリビニルアルコール、グリ
ユー等の水溶液に重クロム酸アンモンを数%添加して感
光特性をもたせた水溶液のネガタイプのレジストが使用
される。
μm〜0.3mmの板厚の脱炭したアルミキルド鋼やア
ンバー材を基板として用い、第1図に示すようにレジス
ト膜を形成し、露光し、エツチングするエツチング工程
を経て製造される。フォトレジスト(以下レジストと称
す)としては、カゼインやポリビニルアルコール、グリ
ユー等の水溶液に重クロム酸アンモンを数%添加して感
光特性をもたせた水溶液のネガタイプのレジストが使用
される。
シャドウマスクの孔は、−点から発せられた電子ビーム
がシャドウマスクによって反射し蛍光体を叩くことを防
ぐため、裏径と高径を意図的に変化させることによりテ
ーパー形状にエツチング加工する。
がシャドウマスクによって反射し蛍光体を叩くことを防
ぐため、裏径と高径を意図的に変化させることによりテ
ーパー形状にエツチング加工する。
エツチングは、通常両面からの塩化第二鉄液のスプレー
によって行われる。
によって行われる。
エツチングに使用されるノズルの数はトータルで数百個
であり、エツチング液のスプレー圧、バンクの振り回数
、角度などを調整することで、均一でかつ所定の断面形
状を有するシャドウマスクを製造している。
であり、エツチング液のスプレー圧、バンクの振り回数
、角度などを調整することで、均一でかつ所定の断面形
状を有するシャドウマスクを製造している。
ところが、高精細のシャドウマスクのように板厚に対し
てそれよりも小さい孔径の孔を均一にあけるためには、
第2図に示すような理論から表のエツチングと裏からの
エツチングを別々に行う二段エツチングが行われている
。第2図おいて、Aは基板lの両面からほぼ同程度にエ
ツチングを施した場合に基′1F11に形成される孔4
の形状を示し、Bは図の下面側を最初に少しエツチング
した後上面側より孔4が貫通するまでエツチングしたと
きにできる孔4の形状を示し、Cは二段エツチング法を
示す図で、下面側を最初に少しエツチングした後バック
コート材3を塗布し上面側より孔4が貫通するまでエツ
チングしたときにできる孔4の形状を示す、なお、図中
2はレジスト膜を示す、第3図は、第2図A、B及びC
の方法で得られるエツチング時間と孔径の大きさとの関
係を示すグラフである。
てそれよりも小さい孔径の孔を均一にあけるためには、
第2図に示すような理論から表のエツチングと裏からの
エツチングを別々に行う二段エツチングが行われている
。第2図おいて、Aは基板lの両面からほぼ同程度にエ
ツチングを施した場合に基′1F11に形成される孔4
の形状を示し、Bは図の下面側を最初に少しエツチング
した後上面側より孔4が貫通するまでエツチングしたと
きにできる孔4の形状を示し、Cは二段エツチング法を
示す図で、下面側を最初に少しエツチングした後バック
コート材3を塗布し上面側より孔4が貫通するまでエツ
チングしたときにできる孔4の形状を示す、なお、図中
2はレジスト膜を示す、第3図は、第2図A、B及びC
の方法で得られるエツチング時間と孔径の大きさとの関
係を示すグラフである。
図に示すように、二段エツチング法はレジスト2の硬化
まではA、Bの工程と同一の工程であるが、初めは片面
あるいは両面から所定の深さまでのハーフエツチングを
行い、次にその片面のエツチング部にエツチング液及び
スプレー圧、エツチング温度等に耐える樹脂(以下バッ
クコート材と称す)を均一に充填し、次に反対側からエ
ツチングを行って貫通させ、剥膜工程でレジスト2とバ
ックコート材3を除去することで基板lの板厚より小さ
な孔4が均一にあけられる。
まではA、Bの工程と同一の工程であるが、初めは片面
あるいは両面から所定の深さまでのハーフエツチングを
行い、次にその片面のエツチング部にエツチング液及び
スプレー圧、エツチング温度等に耐える樹脂(以下バッ
クコート材と称す)を均一に充填し、次に反対側からエ
ツチングを行って貫通させ、剥膜工程でレジスト2とバ
ックコート材3を除去することで基板lの板厚より小さ
な孔4が均一にあけられる。
シャドウマスクにおいては均一な孔(場所によっては大
きさは異るように設計されているが狭い範囲においては
、はぼ同じ大きさとなっている)が数十五個から200
万個程度あけられているため、数ミクロン以下の大きさ
の異常まで目視においても確認されてしまう。
きさは異るように設計されているが狭い範囲においては
、はぼ同じ大きさとなっている)が数十五個から200
万個程度あけられているため、数ミクロン以下の大きさ
の異常まで目視においても確認されてしまう。
ハーフエツチング後の数十五個から200万個程度の深
さ30〜40LLの孔にバックコート材を均一に充填す
るには、従来メチルエチルケトンやトリクロロエチェレ
ン等に溶解した硝化綿やアクリル樹脂の溶液をスプレー
塗布し、熱乾燥してバックコートを形成した。又溶剤を
使用しないホットメルトタイプの樹脂や紫外線硬化樹脂
をロール塗布して冷却あるいは紫外線照射してバックコ
ート層を形成していた。
さ30〜40LLの孔にバックコート材を均一に充填す
るには、従来メチルエチルケトンやトリクロロエチェレ
ン等に溶解した硝化綿やアクリル樹脂の溶液をスプレー
塗布し、熱乾燥してバックコートを形成した。又溶剤を
使用しないホットメルトタイプの樹脂や紫外線硬化樹脂
をロール塗布して冷却あるいは紫外線照射してバックコ
ート層を形成していた。
剥膜は、トリクレンや塩化メチレン等の溶剤でバックコ
ート材を剥離した後、レジストを60℃以上に加温した
5〜lO%の苛性ソーダ水によって剥離していた。又、
ホットメルトタイプの樹脂や紫外線硬化樹脂を使用した
バックコート材の剥離は、0.5〜2%程度の苛性ソー
ダ水でまずバックコートを剥離した後レジストを上記の
条件で剥離する2段方式をとっていた。
ート材を剥離した後、レジストを60℃以上に加温した
5〜lO%の苛性ソーダ水によって剥離していた。又、
ホットメルトタイプの樹脂や紫外線硬化樹脂を使用した
バックコート材の剥離は、0.5〜2%程度の苛性ソー
ダ水でまずバックコートを剥離した後レジストを上記の
条件で剥離する2段方式をとっていた。
(発明が解決しようとする課題)
これら従来使用しているバックコート材は溶剤使用によ
る溶剤毒性及びそれによる環境汚染、又溶剤の使用によ
る火災の危険並びに溶剤コスト等の問題があった。
る溶剤毒性及びそれによる環境汚染、又溶剤の使用によ
る火災の危険並びに溶剤コスト等の問題があった。
又、ホットメルト樹脂や紫外線硬化樹脂を使用したバッ
クコート材は高粘度による孔の埋め込みにくさ、塗布時
のはじき泡の発生により数十五個から200万個程度の
孔に樹脂を完全に充填することが非常に困難であった。
クコート材は高粘度による孔の埋め込みにくさ、塗布時
のはじき泡の発生により数十五個から200万個程度の
孔に樹脂を完全に充填することが非常に困難であった。
ホットメルト樹脂を使用したバックコート材は、エツチ
ング温度が70℃近くまで上るので樹脂が溶融して剥れ
る等の問題もあった。
ング温度が70℃近くまで上るので樹脂が溶融して剥れ
る等の問題もあった。
そのため取り扱い、引火性、コスト面から水性のバック
コート材の開発が望まれていた。
コート材の開発が望まれていた。
カゼインやポリビニルアルコール等の水活性樹脂を20
〜30%程度に水に溶解しバックコート材に使用しよう
としたが、高粘性で濡れ性が悪くハーフエツチングした
孔に充填しにくい。又エツチング時に膨潤して剥れ易い
。
〜30%程度に水に溶解しバックコート材に使用しよう
としたが、高粘性で濡れ性が悪くハーフエツチングした
孔に充填しにくい。又エツチング時に膨潤して剥れ易い
。
ロジン変性マレイン酸樹脂やスチレン−マレイン酸共重
合体のアンモニア水溶液は、金属への接着が悪く又硬く
て脆いためか乾燥すると剥れをおこしてしまう。
合体のアンモニア水溶液は、金属への接着が悪く又硬く
て脆いためか乾燥すると剥れをおこしてしまう。
ポリ酢酸ビニル水性エマルジョンも濡れ性が悪く、ハー
フエツチングした孔に充填しにくい、又エツチング時に
膨潤して剥れ易い。
フエツチングした孔に充填しにくい、又エツチング時に
膨潤して剥れ易い。
(課題を解決するための手段)
本発明者らはこのような状況に鑑み、取り扱い性、引火
性、コスト面及び濡れ性、耐エツチング性、剥離性等か
ら水性のバックコート材を開発すべく鋭意検討した結果
、金属板の板厚に対しそれより小さい孔径の孔を均一に
あけるためにフォトエツチング法を用いてレジスト膜を
形成した後、まず片面あるいは両面からハーフエツチン
グを行い、次にそのエツチング部、に樹脂をムラなく充
填し反対側からエツチングを行って孔を貫通させた後、
レジスト及び該樹脂を剥離する二段エツチング加工法に
おいて、該樹脂(バックコート材)に半水溶性乃至水分
散性重合体を使用することにより、上記目標とした水性
のバックコート材が得られることを見い出した。
性、コスト面及び濡れ性、耐エツチング性、剥離性等か
ら水性のバックコート材を開発すべく鋭意検討した結果
、金属板の板厚に対しそれより小さい孔径の孔を均一に
あけるためにフォトエツチング法を用いてレジスト膜を
形成した後、まず片面あるいは両面からハーフエツチン
グを行い、次にそのエツチング部、に樹脂をムラなく充
填し反対側からエツチングを行って孔を貫通させた後、
レジスト及び該樹脂を剥離する二段エツチング加工法に
おいて、該樹脂(バックコート材)に半水溶性乃至水分
散性重合体を使用することにより、上記目標とした水性
のバックコート材が得られることを見い出した。
本発明で使用する半水溶性乃至水分散性重合体としては
、適当な親水性基を分子中に有する半水溶性乃至水分散
性のポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂が使用で
き、バックコート材はこれらを主成分とするものである
。
、適当な親水性基を分子中に有する半水溶性乃至水分散
性のポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂が使用で
き、バックコート材はこれらを主成分とするものである
。
より具体的には、半水溶性乃至水分散性重合体は、第四
アンモニウム塩、カルボキシル基、ホスホニウム基、ス
ルホニウム基、スルホナート基、ホスホナート基または
ポリエチレンオキシド基により半水溶性乃至水分散性を
付与されたポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂を
主成分とする水分散剤でありこれらをバックコート材に
使用した場合、アリカリ水溶液を主成分とする剥離液で
レジストと同時に剥離することができる。
アンモニウム塩、カルボキシル基、ホスホニウム基、ス
ルホニウム基、スルホナート基、ホスホナート基または
ポリエチレンオキシド基により半水溶性乃至水分散性を
付与されたポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂を
主成分とする水分散剤でありこれらをバックコート材に
使用した場合、アリカリ水溶液を主成分とする剥離液で
レジストと同時に剥離することができる。
本発明に使用される「半水溶性乃至水分散性重合体」と
は、基材重合体に親水性基が結合していてその基によっ
て乳化剤を使用しなくても(あるいは疎水性重合体の乳
化にくらべれば少量の乳化剤の使用によって)半水溶性
液乃至水性エマルジョンを形成し得る重合体を意味する
。親水性基は、基材重合体の重合体鎖内に存在しても、
重合体主鎖から垂下していてもよい。親水性基はカチオ
ン性、アニオン性、ノニオン性またはこれらの組み合せ
のいずれであってもよく、具体的には第四アンモニア基
、カルボキシル基、ホスホニウム基、スルホニウム基、
スルホナート基、ホスホナート基またはポリエチレンオ
キシド基その他がある。
は、基材重合体に親水性基が結合していてその基によっ
て乳化剤を使用しなくても(あるいは疎水性重合体の乳
化にくらべれば少量の乳化剤の使用によって)半水溶性
液乃至水性エマルジョンを形成し得る重合体を意味する
。親水性基は、基材重合体の重合体鎖内に存在しても、
重合体主鎖から垂下していてもよい。親水性基はカチオ
ン性、アニオン性、ノニオン性またはこれらの組み合せ
のいずれであってもよく、具体的には第四アンモニア基
、カルボキシル基、ホスホニウム基、スルホニウム基、
スルホナート基、ホスホナート基またはポリエチレンオ
キシド基その他がある。
これらのうちで好ましいのはアニオン性の基であり、特
にカルボキシル基およびスルホナート基が適当である。
にカルボキシル基およびスルホナート基が適当である。
このような半水溶性乃至水分散性重合体の具体例として
は、基体重合体がポリエステル系ウレタン及びポリエス
テル樹脂であり特にその水分散液がある。
は、基体重合体がポリエステル系ウレタン及びポリエス
テル樹脂であり特にその水分散液がある。
本発明に使用される水分散性重合体はスーパーフレック
ス100(第一工業製薬KK製ポリウレタンエマルジョ
ン)、デスモコールKA−8100(住友バイエルウレ
タンKK製ポリウレタンエマルジョン)、ハイトランH
W−140,ハイトランHW−760B (大日本イン
キ化学工業KK製水性ウレタン樹脂ニアイオノマー型)
、ファインテックスES−611(大日本インキ化学工
業KK製水性芳香族ポリエステル:アイオノマー型)、
ファインテックスES−650(大日本インキ化学工業
KK製水性芳香族ポリエステル:アイオノマー型)等が
市販されている。
ス100(第一工業製薬KK製ポリウレタンエマルジョ
ン)、デスモコールKA−8100(住友バイエルウレ
タンKK製ポリウレタンエマルジョン)、ハイトランH
W−140,ハイトランHW−760B (大日本イン
キ化学工業KK製水性ウレタン樹脂ニアイオノマー型)
、ファインテックスES−611(大日本インキ化学工
業KK製水性芳香族ポリエステル:アイオノマー型)、
ファインテックスES−650(大日本インキ化学工業
KK製水性芳香族ポリエステル:アイオノマー型)等が
市販されている。
これらの水分散性重合体は従来の乳化剤により水中に分
散させたいわゆるエマルジョンタイプと異なり、イオン
性を有するウレタン樹脂やイオン性を有する芳香族ポリ
エステル、すなわちウレタンアイオノマーや芳香族ポリ
エステルアイオノマーである。
散させたいわゆるエマルジョンタイプと異なり、イオン
性を有するウレタン樹脂やイオン性を有する芳香族ポリ
エステル、すなわちウレタンアイオノマーや芳香族ポリ
エステルアイオノマーである。
その親水性であるイオン基により乳化剤や有機溶剤なし
で水中に溶解乃至極めて微細な粒子状に分散したコロイ
ド分散型の水性ウレタン樹脂や水性芳香族ポリエステル
である。
で水中に溶解乃至極めて微細な粒子状に分散したコロイ
ド分散型の水性ウレタン樹脂や水性芳香族ポリエステル
である。
これらの水性ウレタン樹脂や水性芳香族ポリエステルは
、固型分が高いにもかかわらず粘度が低く、25〜30
%水溶液で8〜12cps/20℃であるため、流動性
がよく深さ30〜40μの孔に充填し易い。
、固型分が高いにもかかわらず粘度が低く、25〜30
%水溶液で8〜12cps/20℃であるため、流動性
がよく深さ30〜40μの孔に充填し易い。
その乾燥皮膜は、耐水性、耐熱性が良く又金属への密着
性は抜群である。特に、脱脂していない金属やハーフエ
ツチングした後のレジスト皮膜に水性ウレタン樹脂や水
性芳香族ポリエステルの水分散液を塗布した場合、水性
ウレタン樹脂や水性芳香族ポリエステルの化学構造上の
界面活性剤効果による洗浄作用があるために、油脂分や
エツチングで生成するスカム等を樹脂中に包み込んでし
まうので、その乾燥皮膜はレジストや金属に対して密着
性がよく、空気中に放置した時やエツチング時に剥離す
ることがない。
性は抜群である。特に、脱脂していない金属やハーフエ
ツチングした後のレジスト皮膜に水性ウレタン樹脂や水
性芳香族ポリエステルの水分散液を塗布した場合、水性
ウレタン樹脂や水性芳香族ポリエステルの化学構造上の
界面活性剤効果による洗浄作用があるために、油脂分や
エツチングで生成するスカム等を樹脂中に包み込んでし
まうので、その乾燥皮膜はレジストや金属に対して密着
性がよく、空気中に放置した時やエツチング時に剥離す
ることがない。
そのために、シャドウマスク製作時のレジストとハーフ
エツチング後の金属部にも、均一にこれら水分散性重合
体が塗布できると考えられる。
エツチング後の金属部にも、均一にこれら水分散性重合
体が塗布できると考えられる。
これら水分散性重合体は、塗布後50℃〜200℃で数
分加熱するだけでエツチングに耐える皮膜を形成できる
。
分加熱するだけでエツチングに耐える皮膜を形成できる
。
これら水分散性重合体は、塗布方法に応じて増粘剤、消
泡剤、レベリング剤、はじき防止剤等を添加して使用す
る。塗布は、かけ流し塗布、回転塗布、浸漬塗布、ロー
ル塗布、電着塗布等が可能である。
泡剤、レベリング剤、はじき防止剤等を添加して使用す
る。塗布は、かけ流し塗布、回転塗布、浸漬塗布、ロー
ル塗布、電着塗布等が可能である。
又、その乾燥皮膜は、メラミン樹脂やエポキシ樹脂を添
加して架橋を促進することもてきる。
加して架橋を促進することもてきる。
本発明によるバックコート材は10%苛性ソーダ水溶液
を85〜95°Cに加熱して膨潤剥離することができる
。
を85〜95°Cに加熱して膨潤剥離することができる
。
又苛性ソーダ、苛性カリ水溶液にフェニルグリコール、
ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、メチルカルピ
トール、エタノールアミン等の溶剤を少量添加して85
〜95℃に加熱することにより容易に溶解剥離すること
ができる。
ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、メチルカルピ
トール、エタノールアミン等の溶剤を少量添加して85
〜95℃に加熱することにより容易に溶解剥離すること
ができる。
本発明の半水溶性乃至水分散性重合体は、ボッビニルア
ルコール、ゼラチン、グルー カゼイン水溶液との相溶
性がよく、そのためこれらの水溶性高分子を1〜50%
添加して塗布粘度を調節して使用することができる。
ルコール、ゼラチン、グルー カゼイン水溶液との相溶
性がよく、そのためこれらの水溶性高分子を1〜50%
添加して塗布粘度を調節して使用することができる。
本発明によるバックコート材はシャドウマスクの製作だ
けでなく、リードフレーム、蛍光表示用メツシュ、各種
フィルター、各種電極、エンコーダー等フォトエツチン
グ法を用いて金属を微細加工する二段エツチング加工法
に使用するバックコート材にも適している。
けでなく、リードフレーム、蛍光表示用メツシュ、各種
フィルター、各種電極、エンコーダー等フォトエツチン
グ法を用いて金属を微細加工する二段エツチング加工法
に使用するバックコート材にも適している。
(発明の効果)
本発明のバックコート材を用いて高精細シャドウマスク
のような板厚に対し孔径がその80%以下であるような
微細な孔をあける場合には、フォトエツチング法を用い
てレジスト膜を形成した後、まず片面あるいは両面から
所定の深さまでハーフエツチングを行い、次にそのエツ
チング部に本発明のバックコートを均一に充填乾燥し、
次に反対側からエツチングを行って孔を貫通させことが
できる。剥離工程では、レジストとバックコートをアリ
カリ水溶液を主成分とする熱水溶液で、溶解剥離させて
欠点ムラのない金属の微細加工を行うことができた。
のような板厚に対し孔径がその80%以下であるような
微細な孔をあける場合には、フォトエツチング法を用い
てレジスト膜を形成した後、まず片面あるいは両面から
所定の深さまでハーフエツチングを行い、次にそのエツ
チング部に本発明のバックコートを均一に充填乾燥し、
次に反対側からエツチングを行って孔を貫通させことが
できる。剥離工程では、レジストとバックコートをアリ
カリ水溶液を主成分とする熱水溶液で、溶解剥離させて
欠点ムラのない金属の微細加工を行うことができた。
そのため、従来の溶剤による剥離工程と異なり、毒性及
びそれによる環境汚染や火災の危険性を無くしたことは
、量産化において絶大な効果を発揮する。
びそれによる環境汚染や火災の危険性を無くしたことは
、量産化において絶大な効果を発揮する。
(実施例)
次に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例によって何ら限定されるものでない
。
明はこれらの実施例によって何ら限定されるものでない
。
実施例1
板厚0.15mmのアルミキルト鋼をジャスコクリーン
No、5(日本表面処理KK製)の3%水溶液に70°
C5分浸漬し、脱脂水洗乾燥した。10%重ク重クロム
酸アンマン光性を付与したカゼイン水溶液PR−17(
富士薬品工業KK製)を、脱脂したアルミキルド鋼板に
ホイラーを用いて両面にレジスト膜厚5μになるように
塗布し、60℃にて5分間熱風乾燥した。
No、5(日本表面処理KK製)の3%水溶液に70°
C5分浸漬し、脱脂水洗乾燥した。10%重ク重クロム
酸アンマン光性を付与したカゼイン水溶液PR−17(
富士薬品工業KK製)を、脱脂したアルミキルド鋼板に
ホイラーを用いて両面にレジスト膜厚5μになるように
塗布し、60℃にて5分間熱風乾燥した。
横265mm、縦198mmの面積に表面の孔径0.2
5mm、裏面の孔径0.12nuoのドツト 150万
個有するシャドウマスク用ガラスマスクを、レジスト膜
を形成した上記鋼板に密着させしてIKW超高圧水銀灯
距離1mより1分両面露光し、水で30秒現像し、7%
無水クロム酸水に40秒浸漬して硬膜後、シャワー水洗
し最後にメタノールをかけて流してリンス後、ドライヤ
ーで乾燥した。
5mm、裏面の孔径0.12nuoのドツト 150万
個有するシャドウマスク用ガラスマスクを、レジスト膜
を形成した上記鋼板に密着させしてIKW超高圧水銀灯
距離1mより1分両面露光し、水で30秒現像し、7%
無水クロム酸水に40秒浸漬して硬膜後、シャワー水洗
し最後にメタノールをかけて流してリンス後、ドライヤ
ーで乾燥した。
180℃で10分間ボストベークした後、45” B5
の塩化第二鉄液60℃で2分両面よりスプレーエツチン
グし、水洗乾燥した。このハーフエツチングした鋼板の
裏面にファインテックスES−611100gと Me
GAFAC−812(フッ素系界面活性剤、大日本イン
キ工業製) 0.1gからなる混合物を0,8μの孔
を有するポリサルフオン製のフィルターで濾過した水溶
液をかけ流して全面に拡げて塗布し、 140°C3分
間加熱処理をした。
の塩化第二鉄液60℃で2分両面よりスプレーエツチン
グし、水洗乾燥した。このハーフエツチングした鋼板の
裏面にファインテックスES−611100gと Me
GAFAC−812(フッ素系界面活性剤、大日本イン
キ工業製) 0.1gからなる混合物を0,8μの孔
を有するポリサルフオン製のフィルターで濾過した水溶
液をかけ流して全面に拡げて塗布し、 140°C3分
間加熱処理をした。
バックコートの表面は光沢ある樹脂表面を呈していた。
更に、表面より45°B6の塩化第二鉄液60℃で5分
スプレーエツチングして孔を貫通させ、水洗乾燥させた
。
スプレーエツチングして孔を貫通させ、水洗乾燥させた
。
シャドウマスクの両面を顕微鏡100倍で観察したとこ
ろ、レジストのかけ及びバックコートのやぶれもなく、
特にバックコートがハーフエツチング後の孔の中に完全
に充填されているのがみられた。
ろ、レジストのかけ及びバックコートのやぶれもなく、
特にバックコートがハーフエツチング後の孔の中に完全
に充填されているのがみられた。
更に、レジスト及びバックコートが付着されているシャ
ドウマスクをFPER剥膜液隨8(冨士薬品工業KK製
:苛性カリを主成分とするアリカリ水溶液)を85℃以
上に加熱した中に2分間浸漬したところ、カゼイン硬化
皮膜及びバックコートが完全に溶解剥離した。水洗乾燥
後、顕微鏡で観察しても有機物の残渣は全くみもれなか
った。又、裏面の孔径0.12mmはそのままサイドエ
ッチがなく保たれた。
ドウマスクをFPER剥膜液隨8(冨士薬品工業KK製
:苛性カリを主成分とするアリカリ水溶液)を85℃以
上に加熱した中に2分間浸漬したところ、カゼイン硬化
皮膜及びバックコートが完全に溶解剥離した。水洗乾燥
後、顕微鏡で観察しても有機物の残渣は全くみもれなか
った。又、裏面の孔径0.12mmはそのままサイドエ
ッチがなく保たれた。
実施例2
板厚0.25mmの4.2合金をネオキュブロン(富士
薬品工業KK製)を用いて脱脂水洗乾燥した。
薬品工業KK製)を用いて脱脂水洗乾燥した。
10%重ク重クロム酸アンマン光性を付与したカゼイン
水溶液PR−16(富士薬品工業KK製)を、脱脂した
4、2合金板にホイラーを用いて両面にレジスト厚が7
.0LLになるように塗布し、60℃にて10分間熱風
乾燥した。リードフレームの最小線巾が0.1mmを有
するポリエステルマスクを密着して、IK■超高圧水銀
灯距離1mより3分露光し、水で30秒現像し、7%無
水クロム酸水に40秒浸漬して硬膜後、シャワー水洗し
メタノールをかけ流してリンス後、ドライヤーで乾燥し
た。 180°Cで10分間ボストベーク後45°B6
の塩化第二鉄液40℃10分両面よりスプレーエツチン
グし、水洗乾燥した。このハーフエッチングした片面に
、ハイトランHW−140100gと MEGAFAC
−8120,1gからなる混合物をホイラーを用いて塗
布し、 140°C3分熱風乾燥した。更に、反対側よ
り45°Be塩化第二鉄液40℃で20分スプレーエツ
チングして貫通させて、水洗乾燥した。
水溶液PR−16(富士薬品工業KK製)を、脱脂した
4、2合金板にホイラーを用いて両面にレジスト厚が7
.0LLになるように塗布し、60℃にて10分間熱風
乾燥した。リードフレームの最小線巾が0.1mmを有
するポリエステルマスクを密着して、IK■超高圧水銀
灯距離1mより3分露光し、水で30秒現像し、7%無
水クロム酸水に40秒浸漬して硬膜後、シャワー水洗し
メタノールをかけ流してリンス後、ドライヤーで乾燥し
た。 180°Cで10分間ボストベーク後45°B6
の塩化第二鉄液40℃10分両面よりスプレーエツチン
グし、水洗乾燥した。このハーフエッチングした片面に
、ハイトランHW−140100gと MEGAFAC
−8120,1gからなる混合物をホイラーを用いて塗
布し、 140°C3分熱風乾燥した。更に、反対側よ
り45°Be塩化第二鉄液40℃で20分スプレーエツ
チングして貫通させて、水洗乾燥した。
両面を顕微鏡100倍で観察したところレジストの欠は
及びバックコートのやぶれもなく、特にバックコートが
細部においてはレジストの下にみられた。片面のサイド
エッチは完全に進行していないのが見られた。
及びバックコートのやぶれもなく、特にバックコートが
細部においてはレジストの下にみられた。片面のサイド
エッチは完全に進行していないのが見られた。
FPER剥膜液No、 8を85〜95℃まで加熱した
中へ2分間浸漬したところ、カゼインの硬化皮膜及びバ
ックコートが完全に剥離した。
中へ2分間浸漬したところ、カゼインの硬化皮膜及びバ
ックコートが完全に剥離した。
第1図は二段エツチング法の工程を示すフローチャート
図、 第2図A、B及びCは各エツチング法によって得られる
孔の形状を示す断面図、 第3図は各エツチング法によって得られる孔のエツチン
グ時間と孔径との関係を示すグラフである。 図中 1・・・・基板 2・・・・レジスト 3・・・・バックコート材 4・・・・孔
図、 第2図A、B及びCは各エツチング法によって得られる
孔の形状を示す断面図、 第3図は各エツチング法によって得られる孔のエツチン
グ時間と孔径との関係を示すグラフである。 図中 1・・・・基板 2・・・・レジスト 3・・・・バックコート材 4・・・・孔
Claims (5)
- (1) 金属板に小さい孔径の孔を均一にあけるために
フォトエッチング法を用いてレジスト膜を形成した後、
片面あるいは両面から所定の深さまでハーフエッチング
を行い、その片面のエッチング部にバックコート材とし
て樹脂をムラなく充填し、次に反対側からエッチングを
行って孔を貫通させた後レジスト及び該樹脂を剥離する
二段エッチング加工法に使用するための前記該樹脂が、
半水溶性乃至水散性重合体よりなることを特徴とする二
段エッチング加工法用バックコート材。 - (2) 半水溶性乃至水分散性重合体が半水溶性乃至水
分散性のポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂を主
成分とするものであることを特徴とする請求項第1項記
載のバックコート材。 - (3) 半水溶性乃至水分散性重合体が第四アンモニウ
ム基、カルボキシル基、ホスホニウム 基、スルホニウム基、スルホナート基、ホスホナート基
またはポリエチレンオキシド基により水分散性を付与さ
れたポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂を主成分
とする請求項第2項記載のバックコート材。 - (4) レジスト及び該樹脂塗膜をアリカリ水溶液を主
成分とする剥膜液で剥離することを特徴とする請求項第
1項記載のバックコート材。 - (5) 金属板の板厚に対しそれより小さい孔径を有す
る孔を均一にあけるためにフォトエッチング法を用いて
レジスト膜を形成した後、片面あるいは両面から所定の
深さまでハーフ エッチングを行い、その片面のエッチング部に樹脂をム
ラなく充填し、次に反対側からエッチングを行って孔を
貫通させた後レジスト及び該樹脂を剥離する二段エッチ
ング加工法において、該樹脂に半水溶性乃至水分散性重
合体を使用することを特徴とする二段エッチング加工法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14759189A JPH0313587A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 二段エッチング加工法用バックコート材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14759189A JPH0313587A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 二段エッチング加工法用バックコート材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0313587A true JPH0313587A (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=15433818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14759189A Pending JPH0313587A (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 二段エッチング加工法用バックコート材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0313587A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007063655A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Toyo Aluminium Kk | エッチング用金属箔積層体及びエッチド金属箔の製造方法 |
-
1989
- 1989-06-09 JP JP14759189A patent/JPH0313587A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007063655A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Toyo Aluminium Kk | エッチング用金属箔積層体及びエッチド金属箔の製造方法 |
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