JPH059755A - 金属薄板への微細透孔形成方法 - Google Patents
金属薄板への微細透孔形成方法Info
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- JPH059755A JPH059755A JP3270323A JP27032391A JPH059755A JP H059755 A JPH059755 A JP H059755A JP 3270323 A JP3270323 A JP 3270323A JP 27032391 A JP27032391 A JP 27032391A JP H059755 A JPH059755 A JP H059755A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属薄板を2段階のエッチングにより、かつ
その両面側からエッチングして金属薄板に微細透孔を形
成する方法において、1回目のエッチングにより微細凹
窩部が形成された片面をエッチング抵抗層によって被覆
する前に、微細凹窩部の周縁よりその中心方向へ張り出
すレジスト膜の庇を簡単な方法で除去し、最終的に所望
通りの形状の微細透孔を形成する。 【構成】 金属薄板1の表面に対し高圧スプレイノズル
11から高圧流動体12を吹き付け、微細凹窩部5の周縁よ
りその中心方向へ張り出したレジスト膜2の庇9を除去
する。
その両面側からエッチングして金属薄板に微細透孔を形
成する方法において、1回目のエッチングにより微細凹
窩部が形成された片面をエッチング抵抗層によって被覆
する前に、微細凹窩部の周縁よりその中心方向へ張り出
すレジスト膜の庇を簡単な方法で除去し、最終的に所望
通りの形状の微細透孔を形成する。 【構成】 金属薄板1の表面に対し高圧スプレイノズル
11から高圧流動体12を吹き付け、微細凹窩部5の周縁よ
りその中心方向へ張り出したレジスト膜2の庇9を除去
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、金属薄板をその両面
側からエッチングすることにより金属薄板に微細な透孔
を形成する方法に関し、例えばカラーCRT(Cathode
Ray Tube)用のシャドウマスクやアパーチャグリルを製
造する場合などに利用されるものである。
側からエッチングすることにより金属薄板に微細な透孔
を形成する方法に関し、例えばカラーCRT(Cathode
Ray Tube)用のシャドウマスクやアパーチャグリルを製
造する場合などに利用されるものである。
【0002】
【従来の技術】カラーCRTは、図18に示したよう
に、3本の電子ビームBを放射する電子銃30と、この電
子銃30から放射された電子ビームBを受けて三原色に発
光する蛍光体31と、この蛍光体31と電子銃30との間に配
置され、各電子ビームBのうちの必要な方向の電子ビー
ムだけを選択的に通過させて不要な方向の電子ビームを
遮断するための透孔が多数形成されたシャドウマスク32
とを備えて構成されている。
に、3本の電子ビームBを放射する電子銃30と、この電
子銃30から放射された電子ビームBを受けて三原色に発
光する蛍光体31と、この蛍光体31と電子銃30との間に配
置され、各電子ビームBのうちの必要な方向の電子ビー
ムだけを選択的に通過させて不要な方向の電子ビームを
遮断するための透孔が多数形成されたシャドウマスク32
とを備えて構成されている。
【0003】また、トリニトロン(ソニー(株)所有の
登録商標)型カラーCRTは、図19に示すように、ガ
ラスチューブ53内に設けられた電子銃50と、ガラスチュ
ーブ53前面の蛍光体51に近接して配置されたアパーチャ
グリル52とを備えている。アパーチャグリル52は、図2
0に示すように、多数のスリット54が形成された金属薄
板からなり、電子銃50から照射される3本の電子ビーム
Bのうちの所望の方向の電子ビームのみスリット54を透
過させ、不要な方向の電子ビームを金属部分55に衝突さ
せるようにして蛍光体51まで到達させないようにする。
登録商標)型カラーCRTは、図19に示すように、ガ
ラスチューブ53内に設けられた電子銃50と、ガラスチュ
ーブ53前面の蛍光体51に近接して配置されたアパーチャ
グリル52とを備えている。アパーチャグリル52は、図2
0に示すように、多数のスリット54が形成された金属薄
板からなり、電子銃50から照射される3本の電子ビーム
Bのうちの所望の方向の電子ビームのみスリット54を透
過させ、不要な方向の電子ビームを金属部分55に衝突さ
せるようにして蛍光体51まで到達させないようにする。
【0004】ところで、近年、カラーCRTは、一般の
テレビジョン放送受信用のカラーテレビ受像管以外に、
コンピュータ等のディスプレイ用やモニター用などとし
て広く利用されるようになっており、このような用途の
多様化とともに、それらのカラーCRTに対しては極め
て高精細な画質への要求が強い。このため、ディスプレ
イやモニターに利用されるカラーCRT(以下、「高解
像度CRT」という)において使用されるシャドウマス
クやアパーチャグリルは、微細でかつ形状にばらつきの
無い透孔やスリットを有していることが要求される。
テレビジョン放送受信用のカラーテレビ受像管以外に、
コンピュータ等のディスプレイ用やモニター用などとし
て広く利用されるようになっており、このような用途の
多様化とともに、それらのカラーCRTに対しては極め
て高精細な画質への要求が強い。このため、ディスプレ
イやモニターに利用されるカラーCRT(以下、「高解
像度CRT」という)において使用されるシャドウマス
クやアパーチャグリルは、微細でかつ形状にばらつきの
無い透孔やスリットを有していることが要求される。
【0005】ここで、シャドウマスクは、一般に、図2
1に示したような工程を経ることにより製造されてい
る。すなわち、板厚が0.1〜0.3mm程度の低炭素ア
ルミキルド鋼、或いはアンバー(Invar)合金(ニ
ッケル含有率が36%の鉄−ニッケル合金)をシャドウ
マスク材として用い、まず、このシャドウマスク材の表
面を脱脂し水洗した後、そのシャドウマスク材の両面に
感光液を塗布し乾燥させて、シャドウマスク材の両面に
数μmの厚みのフォトレジスト膜をそれぞれ被着形成す
る。次に、シャドウマスク材の両面の各フォトレジスト
膜の表面に、形成しようとする電子ビーム通過孔に対応
したパターン状画像を有する露光用マスクを、表・裏で
画像位置を一致させてそれぞれ密着させ、その各マスク
を介して露光を行なった後、現像し、続いて硬膜処理を
施すことにより、シャドウマスク材の表裏両面にパター
ン状画像の耐食性皮膜(レジスト膜)をそれぞれ形成す
る。そして、塩化第二鉄水溶液を用いてスプレイエッチ
ングを行なって、レジスト膜で被覆されずに露出してい
る金属部分を腐食することにより、板材に所望の形状の
多数の透孔を形成し、エッチング終了後に板材の表裏両
面からレジスト膜を剥離し、水洗、乾燥を行なった後、
板材を所定形状に切断して、所望のシャドウマスクが得
られる。
1に示したような工程を経ることにより製造されてい
る。すなわち、板厚が0.1〜0.3mm程度の低炭素ア
ルミキルド鋼、或いはアンバー(Invar)合金(ニ
ッケル含有率が36%の鉄−ニッケル合金)をシャドウ
マスク材として用い、まず、このシャドウマスク材の表
面を脱脂し水洗した後、そのシャドウマスク材の両面に
感光液を塗布し乾燥させて、シャドウマスク材の両面に
数μmの厚みのフォトレジスト膜をそれぞれ被着形成す
る。次に、シャドウマスク材の両面の各フォトレジスト
膜の表面に、形成しようとする電子ビーム通過孔に対応
したパターン状画像を有する露光用マスクを、表・裏で
画像位置を一致させてそれぞれ密着させ、その各マスク
を介して露光を行なった後、現像し、続いて硬膜処理を
施すことにより、シャドウマスク材の表裏両面にパター
ン状画像の耐食性皮膜(レジスト膜)をそれぞれ形成す
る。そして、塩化第二鉄水溶液を用いてスプレイエッチ
ングを行なって、レジスト膜で被覆されずに露出してい
る金属部分を腐食することにより、板材に所望の形状の
多数の透孔を形成し、エッチング終了後に板材の表裏両
面からレジスト膜を剥離し、水洗、乾燥を行なった後、
板材を所定形状に切断して、所望のシャドウマスクが得
られる。
【0006】ところで、高解像度CRT用のシャドウマ
スクでは、シャドウマスク材の板厚より透孔の直径が小
さくなることが多いが、このようなシャドウマスクを、
1回のエッチングで透孔を形成する方法によって製作す
ると、所望の設計通りの形状に透孔を形成することが極
めて困難であり、実用に供し得ないようなシャドウマス
クしか得られないことが経験的に知られている。
スクでは、シャドウマスク材の板厚より透孔の直径が小
さくなることが多いが、このようなシャドウマスクを、
1回のエッチングで透孔を形成する方法によって製作す
ると、所望の設計通りの形状に透孔を形成することが極
めて困難であり、実用に供し得ないようなシャドウマス
クしか得られないことが経験的に知られている。
【0007】この対策の一つとして、例えばUSP.
3,679,500や特公昭57−26345号公報等
には、エッチングを2回に分けて段階的に行なう方法が
開示されている。この方法について、図22及び図23
を参照しながら説明する。
3,679,500や特公昭57−26345号公報等
には、エッチングを2回に分けて段階的に行なう方法が
開示されている。この方法について、図22及び図23
を参照しながら説明する。
【0008】図22(a)に示すように、表裏両面にパ
ターン状画像のレジスト膜2、2’がそれぞれ被着形成
された金属薄板(シャドウマスク材)1に対し、図22
(b)に示すように、スプレイノズル3からエッチング
液(塩化第二鉄水溶液)4を金属薄板1の片面側に吹き
付け、或いは、図22(b’)に示すように、スプレイ
ノズル3、3’からエッチング液(塩化第二鉄水溶液)
4を金属薄板1の両面に吹き付けて1回目のエッチング
を行ない、金属薄板1に貫通孔が形成される前の段階で
一旦エッチングを中止し、水洗、乾燥を行なうことによ
り、図22(c)に示すように、金属薄板1の片面側に
微細凹窩部5を形成し、或いは、図22(c’)に示す
ように、金属薄板1の両面に微細凹窩部5、5’を形成
する。そして、片面エッチングした場合は、図22
(d)に示すように、そのエッチングした面をエッチン
グ抵抗層6によって被覆し、両面エッチングした場合
は、図22(d’)に示すように、何れか一方の面をエ
ッチング抵抗層6によって被覆する。このエッチング抵
抗層6を形成するには、パラフィン、アスファルト、ラ
ッカー、UV樹脂等をスプレイ、ロールコータ等によ
り、レジスト膜2の表面を含めて金属薄板1の片面側全
面に塗布するようにする。次に、図23(e)、
(e’)に示すように、金属薄板1に対し、スプレイノ
ズル3’からエッチング液4を、エッチング抵抗層6で
被覆されていない側に吹き付けて2回目のエッチングを
行ない、図23(f)、(f’)に示すように、その片
面側に形成される微細凹窩部7(5’)と他方面側の微
細凹窩部5とを互いに連通させる。そして、エッチング
終了後に、金属薄板1の表面からエッチング抵抗層6及
びレジスト膜2、2’をそれぞれ剥離し、水洗、乾燥を
行なうことにより、図23(g)に示すように、表裏で
貫通した微細透孔8が形成された金属薄板1が得られ
る。
ターン状画像のレジスト膜2、2’がそれぞれ被着形成
された金属薄板(シャドウマスク材)1に対し、図22
(b)に示すように、スプレイノズル3からエッチング
液(塩化第二鉄水溶液)4を金属薄板1の片面側に吹き
付け、或いは、図22(b’)に示すように、スプレイ
ノズル3、3’からエッチング液(塩化第二鉄水溶液)
4を金属薄板1の両面に吹き付けて1回目のエッチング
を行ない、金属薄板1に貫通孔が形成される前の段階で
一旦エッチングを中止し、水洗、乾燥を行なうことによ
り、図22(c)に示すように、金属薄板1の片面側に
微細凹窩部5を形成し、或いは、図22(c’)に示す
ように、金属薄板1の両面に微細凹窩部5、5’を形成
する。そして、片面エッチングした場合は、図22
(d)に示すように、そのエッチングした面をエッチン
グ抵抗層6によって被覆し、両面エッチングした場合
は、図22(d’)に示すように、何れか一方の面をエ
ッチング抵抗層6によって被覆する。このエッチング抵
抗層6を形成するには、パラフィン、アスファルト、ラ
ッカー、UV樹脂等をスプレイ、ロールコータ等によ
り、レジスト膜2の表面を含めて金属薄板1の片面側全
面に塗布するようにする。次に、図23(e)、
(e’)に示すように、金属薄板1に対し、スプレイノ
ズル3’からエッチング液4を、エッチング抵抗層6で
被覆されていない側に吹き付けて2回目のエッチングを
行ない、図23(f)、(f’)に示すように、その片
面側に形成される微細凹窩部7(5’)と他方面側の微
細凹窩部5とを互いに連通させる。そして、エッチング
終了後に、金属薄板1の表面からエッチング抵抗層6及
びレジスト膜2、2’をそれぞれ剥離し、水洗、乾燥を
行なうことにより、図23(g)に示すように、表裏で
貫通した微細透孔8が形成された金属薄板1が得られ
る。
【0009】ところが、上記した方法では、1回目のエ
ッチングの際に、サイドエッチングによりレジスト膜の
下面の開孔部周縁まで微細凹窩部の周縁部分が拡がり
(図22(c)、(c’)に示した状態に相当)、図2
4に示したように、レジスト膜2が微細凹窩部5の周縁
より凹窩部5の中心方向へ僅かに張り出す。このため、
エッチング抵抗層6により金属薄板1の片面側を被覆す
る工程で、レジスト膜2の張り出し部分(以下、「庇」
という)9の下部に図24に示すような空気溜り10を生
じる。そして、この空気溜り10の部分における金属薄板
1の表面は、エッチング抵抗層6によって被覆されない
ため、2回目のエッチングの際に、図25に示したよう
にエッチング側でない面に形成された微細凹窩部5の内
面までエッチングされてその微細凹窩部5が大きく拡が
ってしまい、最終的に所望通りの形状の微細透孔を形成
することができず、シャドウマスクに欠陥を生じる、と
いった問題点がある。尚、アパーチャグリルの製造工程
も上記したシャドウマスクの製造工程と基本的に何ら変
わるところがなく、アパーチャグリルの製造について
も、シャドウマスクの製造における場合と全く同様の上
記問題点がある。
ッチングの際に、サイドエッチングによりレジスト膜の
下面の開孔部周縁まで微細凹窩部の周縁部分が拡がり
(図22(c)、(c’)に示した状態に相当)、図2
4に示したように、レジスト膜2が微細凹窩部5の周縁
より凹窩部5の中心方向へ僅かに張り出す。このため、
エッチング抵抗層6により金属薄板1の片面側を被覆す
る工程で、レジスト膜2の張り出し部分(以下、「庇」
という)9の下部に図24に示すような空気溜り10を生
じる。そして、この空気溜り10の部分における金属薄板
1の表面は、エッチング抵抗層6によって被覆されない
ため、2回目のエッチングの際に、図25に示したよう
にエッチング側でない面に形成された微細凹窩部5の内
面までエッチングされてその微細凹窩部5が大きく拡が
ってしまい、最終的に所望通りの形状の微細透孔を形成
することができず、シャドウマスクに欠陥を生じる、と
いった問題点がある。尚、アパーチャグリルの製造工程
も上記したシャドウマスクの製造工程と基本的に何ら変
わるところがなく、アパーチャグリルの製造について
も、シャドウマスクの製造における場合と全く同様の上
記問題点がある。
【0010】このような問題点を解決する方法として、
特開昭59−73834号公報には、第1のエッチング
工程の後に、エッチング抵抗層を形成しようとする面の
レジスト膜を金属薄板表面から除去してから、そのレジ
スト膜が除去された面にエッチング抵抗層を形成するよ
うにする方法が開示されている。また、特開昭61−1
30492号公報には、第1のエッチング工程の後に、
レジスト膜の庇の部分のみを、金属薄板全体を超音波浴
に浸漬して超音波により除去し、その後にエッチング抵
抗層を形成する方法が開示されている。
特開昭59−73834号公報には、第1のエッチング
工程の後に、エッチング抵抗層を形成しようとする面の
レジスト膜を金属薄板表面から除去してから、そのレジ
スト膜が除去された面にエッチング抵抗層を形成するよ
うにする方法が開示されている。また、特開昭61−1
30492号公報には、第1のエッチング工程の後に、
レジスト膜の庇の部分のみを、金属薄板全体を超音波浴
に浸漬して超音波により除去し、その後にエッチング抵
抗層を形成する方法が開示されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
59−73834号公報に開示されているような方法で
は、第1のエッチング工程後にレジスト膜を除去するに
際して、反対面側のレジスト膜が同時に除去されないよ
うにするため、その反対面側のレジスト膜をシート等に
よって保護しておかなければならないが、そのために、
保護シートを用意する必要があり、また、シートの貼着
及び剥離装置も必要となってくる。さらに、レジスト膜
をアルカリ液等のスプレイによって除去するようにした
ときは、そのレジスト膜除去装置の他に洗浄装置も必要
になるなど、シャドウマスク製造装置全体の構成が複雑
化する、といった問題点がある。
59−73834号公報に開示されているような方法で
は、第1のエッチング工程後にレジスト膜を除去するに
際して、反対面側のレジスト膜が同時に除去されないよ
うにするため、その反対面側のレジスト膜をシート等に
よって保護しておかなければならないが、そのために、
保護シートを用意する必要があり、また、シートの貼着
及び剥離装置も必要となってくる。さらに、レジスト膜
をアルカリ液等のスプレイによって除去するようにした
ときは、そのレジスト膜除去装置の他に洗浄装置も必要
になるなど、シャドウマスク製造装置全体の構成が複雑
化する、といった問題点がある。
【0012】一方、特開昭61−130492号公報に
開示されているような方法では、1回目のエッチング後
に、金属薄板に形成された微細凹窩部内にエッチング液
が僅かに残存し、通常の洗浄ではその残存したエッチン
グ液を完全に除去することは非常に困難であるため、金
属薄板を超音波浴に浸漬した際に超音波浴中でその残留
エッチング液により微細凹窩部が腐食されて拡がってし
まう、といった問題点がある。また、レジスト膜の庇を
切除することができる程度の超音波を金属薄板に対して
付与すると、超音波により金属薄板とレジスト膜との密
着不良を引き起こし、第2のエッチング工程において所
望部位以外のエッチングが起こり、却ってシャドウマス
クに欠陥が発生する原因となる、といった問題点があ
る。
開示されているような方法では、1回目のエッチング後
に、金属薄板に形成された微細凹窩部内にエッチング液
が僅かに残存し、通常の洗浄ではその残存したエッチン
グ液を完全に除去することは非常に困難であるため、金
属薄板を超音波浴に浸漬した際に超音波浴中でその残留
エッチング液により微細凹窩部が腐食されて拡がってし
まう、といった問題点がある。また、レジスト膜の庇を
切除することができる程度の超音波を金属薄板に対して
付与すると、超音波により金属薄板とレジスト膜との密
着不良を引き起こし、第2のエッチング工程において所
望部位以外のエッチングが起こり、却ってシャドウマス
クに欠陥が発生する原因となる、といった問題点があ
る。
【0013】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、複雑な装置や工程を必要とせず、か
つ、超音波浴などを使用しないで、少なくともレジスト
膜の庇の部分を除去することができる方法を提供するこ
とを技術的課題とする。
されたものであり、複雑な装置や工程を必要とせず、か
つ、超音波浴などを使用しないで、少なくともレジスト
膜の庇の部分を除去することができる方法を提供するこ
とを技術的課題とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決するための手段として、金属薄板をその両面側から
エッチングする方法であって、そのエッチングを2回に
分けて段階的に行ない、第1のエッチング工程後に金属
薄板の片面をエッチング抵抗層によって被覆してから、
第2のエッチング工程を行なうようにして、金属薄板に
微細な透孔を形成する方法において、エッチング抵抗層
の被覆工程に先立ち、エッチング抵抗層によって被覆し
ようとする金属薄板の片面側に、流動体を高圧噴出流と
して金属薄板表面に対し吹き付け、少なくとも第1のエ
ッチング工程によって生じた前記微細凹窩部の周縁より
凹窩部中心方向へ張り出した部分の前記耐食性皮膜を除
去するようにすることを構成の要旨とする。
解決するための手段として、金属薄板をその両面側から
エッチングする方法であって、そのエッチングを2回に
分けて段階的に行ない、第1のエッチング工程後に金属
薄板の片面をエッチング抵抗層によって被覆してから、
第2のエッチング工程を行なうようにして、金属薄板に
微細な透孔を形成する方法において、エッチング抵抗層
の被覆工程に先立ち、エッチング抵抗層によって被覆し
ようとする金属薄板の片面側に、流動体を高圧噴出流と
して金属薄板表面に対し吹き付け、少なくとも第1のエ
ッチング工程によって生じた前記微細凹窩部の周縁より
凹窩部中心方向へ張り出した部分の前記耐食性皮膜を除
去するようにすることを構成の要旨とする。
【0015】上記構成の、金属薄板への微細透孔形成方
法においては、第1のエッチング工程後、エッチング抵
抗層の被覆工程前に、エッチング抵抗層を形成しようと
する金属薄板の片面側に対し高圧スプレイノズルなどを
用いて高圧流動体を噴出流として吹き付けるようにして
いる。この場合、第1のエッチング工程により形成され
た金属薄板の微細凹窩部の周縁部分に生成したレジスト
膜の庇の部分は、レジスト膜の他の部分のように金属薄
板と接合しておらず支えが無いため、高圧流動体の噴出
流による物理的衝撃力によってその庇の根の部分を中心
としてレジスト膜が折れ、根の庇の部分を中心とするレ
ジスト膜が除去される。従って、続いて行なわれるエッ
チング抵抗層の被覆工程において、従来のように空気溜
りを生じることがなく、金属薄板の片面はエッチング抵
抗層によって完全に被覆されるので、2回目のエッチン
グの際に、エッチング側でない面に形成された微細凹窩
部の内面がエッチングされることがなくなる。
法においては、第1のエッチング工程後、エッチング抵
抗層の被覆工程前に、エッチング抵抗層を形成しようと
する金属薄板の片面側に対し高圧スプレイノズルなどを
用いて高圧流動体を噴出流として吹き付けるようにして
いる。この場合、第1のエッチング工程により形成され
た金属薄板の微細凹窩部の周縁部分に生成したレジスト
膜の庇の部分は、レジスト膜の他の部分のように金属薄
板と接合しておらず支えが無いため、高圧流動体の噴出
流による物理的衝撃力によってその庇の根の部分を中心
としてレジスト膜が折れ、根の庇の部分を中心とするレ
ジスト膜が除去される。従って、続いて行なわれるエッ
チング抵抗層の被覆工程において、従来のように空気溜
りを生じることがなく、金属薄板の片面はエッチング抵
抗層によって完全に被覆されるので、2回目のエッチン
グの際に、エッチング側でない面に形成された微細凹窩
部の内面がエッチングされることがなくなる。
【0016】以上の通り、この発明は、従来、エッチン
グの後工程として行なわれる水洗工程での水圧を、レジ
スト膜が部分的に剥がれたり或いはレジスト膜に亀裂が
生じて金属薄板との部分的密着不良が発生しないよう、
さらにはまた金属薄板そのものに折れが生じたりしない
よう、例えば0.5〜1.5kgf/cm2のような低圧に抑
えなければならないという固定観念から離れ、むしろ積
極的に高圧の流動体を加えることにより庇の除去が可能
であることに想到し、さらに実験によりこれを確認する
ことにより完成したものである。
グの後工程として行なわれる水洗工程での水圧を、レジ
スト膜が部分的に剥がれたり或いはレジスト膜に亀裂が
生じて金属薄板との部分的密着不良が発生しないよう、
さらにはまた金属薄板そのものに折れが生じたりしない
よう、例えば0.5〜1.5kgf/cm2のような低圧に抑
えなければならないという固定観念から離れ、むしろ積
極的に高圧の流動体を加えることにより庇の除去が可能
であることに想到し、さらに実験によりこれを確認する
ことにより完成したものである。
【0017】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【0018】この発明に係る金属薄板への微細透孔形成
方法は、図22及び図23に基づいて説明した上記各工
程を経る点で一般に行なわれている方法と基本的には同
じであるが、この発明に係る方法では、第1のエッチン
グ工程(図22(b)、(c)又は(b’)、
(c’))の終了後、エッチング抵抗層の被覆工程(図
22(d)又は(d’))に先立ち、金属薄板1の微細
凹窩部5の周縁部分に生成した少なくともレジスト膜の
庇9(図24参照)を除去する(以下、「庇除去」とい
う)ようにした点に特徴がある。
方法は、図22及び図23に基づいて説明した上記各工
程を経る点で一般に行なわれている方法と基本的には同
じであるが、この発明に係る方法では、第1のエッチン
グ工程(図22(b)、(c)又は(b’)、
(c’))の終了後、エッチング抵抗層の被覆工程(図
22(d)又は(d’))に先立ち、金属薄板1の微細
凹窩部5の周縁部分に生成した少なくともレジスト膜の
庇9(図24参照)を除去する(以下、「庇除去」とい
う)ようにした点に特徴がある。
【0019】高圧スプレイノズルなどを用いた高圧流動
体の噴出流は、エッチング抵抗層を形成しようとする金
属薄板の片面側全体にわたって均一に吹き付けられるよ
うにする。このためには、図1(a)〜(c)に示した
ように、1個又は複数個の高圧スプレイノズル11を金属
薄板1の表面と平行に相対移動させ、金属薄板1の片側
全面を走査するようにするか、或いは多数個の高圧スプ
レイノズルを列設して固定しておき、金属薄板の片側全
面に漏れなく流動体の噴出流が当たるようにする。
体の噴出流は、エッチング抵抗層を形成しようとする金
属薄板の片面側全体にわたって均一に吹き付けられるよ
うにする。このためには、図1(a)〜(c)に示した
ように、1個又は複数個の高圧スプレイノズル11を金属
薄板1の表面と平行に相対移動させ、金属薄板1の片側
全面を走査するようにするか、或いは多数個の高圧スプ
レイノズルを列設して固定しておき、金属薄板の片側全
面に漏れなく流動体の噴出流が当たるようにする。
【0020】使用する流動体としては、高圧スプレイノ
ズルから噴射することができ、その噴出流により物理的
衝撃をレジスト膜に与えることができるものであればよ
く、水、酸、アルカリ水、各種薬品、有機溶剤等の液
体、氷粒、砂、酸化チタン粉末、石英粉等の粉粒物、或
いはそれら液体と粉粒物との混合物などが使用される。
ズルから噴射することができ、その噴出流により物理的
衝撃をレジスト膜に与えることができるものであればよ
く、水、酸、アルカリ水、各種薬品、有機溶剤等の液
体、氷粒、砂、酸化チタン粉末、石英粉等の粉粒物、或
いはそれら液体と粉粒物との混合物などが使用される。
【0021】以上の工程は、1回目のエッチングを終え
た後、エッチング抵抗層形成前の乾燥工程までの間に、
適当な方法により実施すればよい。例えば、1回目のエ
ッチングを終えて水洗工程の後に、庇の除去を(独立し
た工程として)行なってもよい。この場合には、水洗工
程により金属薄板の表面は清浄になっているため、噴射
水等を循環させて繰り返し使用することができる。ま
た、1回目のエッチングを終えた後に、水洗工程と兼ね
て庇の除去を行なってもよい。この場合には、水洗装置
のスプレイノズルからの噴射水を利用して庇の除去を同
時に行なうようにするため、庇の除去のみを目的とする
専用装置が不要となる。尚、場合によっては、庇の除去
工程に続いて、切除されたレジスト膜切片の排除を目的
として水洗工程を追加してもよい。
た後、エッチング抵抗層形成前の乾燥工程までの間に、
適当な方法により実施すればよい。例えば、1回目のエ
ッチングを終えて水洗工程の後に、庇の除去を(独立し
た工程として)行なってもよい。この場合には、水洗工
程により金属薄板の表面は清浄になっているため、噴射
水等を循環させて繰り返し使用することができる。ま
た、1回目のエッチングを終えた後に、水洗工程と兼ね
て庇の除去を行なってもよい。この場合には、水洗装置
のスプレイノズルからの噴射水を利用して庇の除去を同
時に行なうようにするため、庇の除去のみを目的とする
専用装置が不要となる。尚、場合によっては、庇の除去
工程に続いて、切除されたレジスト膜切片の排除を目的
として水洗工程を追加してもよい。
【0022】尚、実験では、高圧水の噴射時における水
圧によってもウェブ状シャドウマスク材の変形はみられ
なかったが、安全のために、ステージ上に金属薄板を支
承してその上面を移動させながら、高圧水等を金属薄板
の上面に対して噴射し、或いは回転ロールにウェブ状金
属薄板を巻き掛けて移動させながら、ロールで支持され
た部分へ高圧水等を噴射するようにしてもよい。
圧によってもウェブ状シャドウマスク材の変形はみられ
なかったが、安全のために、ステージ上に金属薄板を支
承してその上面を移動させながら、高圧水等を金属薄板
の上面に対して噴射し、或いは回転ロールにウェブ状金
属薄板を巻き掛けて移動させながら、ロールで支持され
た部分へ高圧水等を噴射するようにしてもよい。
【0023】次に、この発明を実際に適用した実験及び
それらの結果について図2ないし図10並びに表1を参
照して説明する。
それらの結果について図2ないし図10並びに表1を参
照して説明する。
【0024】試料としては、第1回目のエッチング工程
を終え両面側に孔径が約100μmの丸孔凹窩部が形成
され、その後水洗乾燥を行なったウェブ状シャドウマス
ク材14(低炭素アルミキルド鋼)を対象とし、図2に示
したように、このシャドウマスク材14を定盤ステージ
(図示せず)の上面に沿って搬送するとともに、高圧流
動体噴射用スプレイシステム18をシャドウマスク材14の
搬送方向に対し直交する方向にかつシャドウマスク材14
の上面と平行にガイド19に沿って移動させ、シャドウマ
スク材14の幅方向に移動するスプレイシステム18からシ
ャドウマスク材14の全面にわたって均等に流動体が噴射
されるようにした。
を終え両面側に孔径が約100μmの丸孔凹窩部が形成
され、その後水洗乾燥を行なったウェブ状シャドウマス
ク材14(低炭素アルミキルド鋼)を対象とし、図2に示
したように、このシャドウマスク材14を定盤ステージ
(図示せず)の上面に沿って搬送するとともに、高圧流
動体噴射用スプレイシステム18をシャドウマスク材14の
搬送方向に対し直交する方向にかつシャドウマスク材14
の上面と平行にガイド19に沿って移動させ、シャドウマ
スク材14の幅方向に移動するスプレイシステム18からシ
ャドウマスク材14の全面にわたって均等に流動体が噴射
されるようにした。
【0025】高圧流動体噴射用スプレイシステム18とし
ては、ノードソン(株)製A7A型エアレス自動ガンを
用い、噴射される流動体としては23.2℃の常温水を
用いて、その噴射水径は約2mmφであった。また、シャ
ドウマスク材14の搬送速度は1mm/sec、スプレイシス
テム18の移動速度は400mm/sec、シャドウマスク材1
4の幅は600mmであった。そして、表1に示すように
スプレイシステム18のスプレイ圧を変化させながら、そ
れぞれの圧力ごとにシャドウマスク材14の表面から2cm
離間させた高さから垂直に常温水を噴射して実験を行な
った。尚、スプレイ圧の測定には、富士フィルム(株)
製超低圧用(ツーシートタイプ)富士フィルムプレスケ
ールを用いて行なった。
ては、ノードソン(株)製A7A型エアレス自動ガンを
用い、噴射される流動体としては23.2℃の常温水を
用いて、その噴射水径は約2mmφであった。また、シャ
ドウマスク材14の搬送速度は1mm/sec、スプレイシス
テム18の移動速度は400mm/sec、シャドウマスク材1
4の幅は600mmであった。そして、表1に示すように
スプレイシステム18のスプレイ圧を変化させながら、そ
れぞれの圧力ごとにシャドウマスク材14の表面から2cm
離間させた高さから垂直に常温水を噴射して実験を行な
った。尚、スプレイ圧の測定には、富士フィルム(株)
製超低圧用(ツーシートタイプ)富士フィルムプレスケ
ールを用いて行なった。
【0026】次に、上記のように、高圧流動体の噴射工
程を経たシャドウマスク材14の第1回目のエッチング工
程によって複数の凹窩部が形成されている一方の側の表
面に、エッチング抵抗層として約1,000cPのUV
樹脂をロールコータによって約10μmの厚さに塗布し
た。
程を経たシャドウマスク材14の第1回目のエッチング工
程によって複数の凹窩部が形成されている一方の側の表
面に、エッチング抵抗層として約1,000cPのUV
樹脂をロールコータによって約10μmの厚さに塗布し
た。
【0027】続いて、図23に示したように、スプレイ
ノズルからエッチング液を、エッチング抵抗層で被覆さ
れていない方の片面側に吹き付けて第2回目のエッチン
グを行ない、その片面側に形成される微細凹窩部と、第
1回目のエッチング工程で形成されている微細凹窩部と
を互いに連通させ、その後、図21に示したフローチャ
ートの工程順に従って、シャドウマスク材表面からエッ
チング抵抗層及びレジスト膜をそれぞれ剥離し、さらに
水洗、乾燥を行なった。上記第1回目と第2回目のエッ
チング工程には、40℃、45ボーメ度の塩化第二鉄水
溶液を用いた。
ノズルからエッチング液を、エッチング抵抗層で被覆さ
れていない方の片面側に吹き付けて第2回目のエッチン
グを行ない、その片面側に形成される微細凹窩部と、第
1回目のエッチング工程で形成されている微細凹窩部と
を互いに連通させ、その後、図21に示したフローチャ
ートの工程順に従って、シャドウマスク材表面からエッ
チング抵抗層及びレジスト膜をそれぞれ剥離し、さらに
水洗、乾燥を行なった。上記第1回目と第2回目のエッ
チング工程には、40℃、45ボーメ度の塩化第二鉄水
溶液を用いた。
【0028】実験結果の評価方法としては、庇除去の効
果に関しては、スプレイシステム18による常温水噴射工
程を経た後のシャドウマスク材14表面を光学顕微鏡で観
察し、庇が完全に除去されているか否かを判断した。図
3は、庇除去工程以前の、複数の凹窩部が形成されたシ
ャドウマスク材14表面を撮影した倍率100倍の電子顕
微鏡写真、図4は、庇除去工程を経て庇除去されたシャ
ドウマスク材14表面の同じく100倍の電子顕微鏡写真
である。また、図5は、庇除去工程以前のシャドウマス
ク材14表面の500倍の電子顕微鏡写真、図6及び図7
はそれぞれ、庇除去工程の途中のシャドウマスク材14表
面の500倍の電子顕微鏡写真、図8は、庇除去工程の
最終段階のシャドウマスク材14表面の400倍の電子顕
微鏡写真である。さらに、図9及び図10はそれぞれ、
庇除去工程を経たシャドウマスク材14表面の500倍及
び2,500倍の写真である。図9及び図10からは、
第1回目のエッチング工程によって形成された庇の部分
だけでなく、この根の庇部分を中心にした周囲のレジス
ト膜もわずかに除去されていることが分かる。
果に関しては、スプレイシステム18による常温水噴射工
程を経た後のシャドウマスク材14表面を光学顕微鏡で観
察し、庇が完全に除去されているか否かを判断した。図
3は、庇除去工程以前の、複数の凹窩部が形成されたシ
ャドウマスク材14表面を撮影した倍率100倍の電子顕
微鏡写真、図4は、庇除去工程を経て庇除去されたシャ
ドウマスク材14表面の同じく100倍の電子顕微鏡写真
である。また、図5は、庇除去工程以前のシャドウマス
ク材14表面の500倍の電子顕微鏡写真、図6及び図7
はそれぞれ、庇除去工程の途中のシャドウマスク材14表
面の500倍の電子顕微鏡写真、図8は、庇除去工程の
最終段階のシャドウマスク材14表面の400倍の電子顕
微鏡写真である。さらに、図9及び図10はそれぞれ、
庇除去工程を経たシャドウマスク材14表面の500倍及
び2,500倍の写真である。図9及び図10からは、
第1回目のエッチング工程によって形成された庇の部分
だけでなく、この根の庇部分を中心にした周囲のレジス
ト膜もわずかに除去されていることが分かる。
【0029】また、空気溜りの有無に関しては、上記の
ように高圧流動体噴射用スプレイシステム18による庇除
去工程の後UV樹脂が塗布されたシャドウマスク材14表
面における塗布状態を光学顕微鏡により観察し、空気溜
りが1つでも存在するか否かを判定した。
ように高圧流動体噴射用スプレイシステム18による庇除
去工程の後UV樹脂が塗布されたシャドウマスク材14表
面における塗布状態を光学顕微鏡により観察し、空気溜
りが1つでも存在するか否かを判定した。
【0030】さらに、エッチング仕上がり状態に関して
は、庇除去、エッチング抵抗層被覆、第2回目のエッチ
ング、レジスト膜及びエッチング抵抗層剥離、水洗、乾
燥の各工程を経て最終的にシャドウマスク材14に形成さ
れた微細透孔を視認によって判断し、所望通りの形状で
微細透孔が形成されているか否かを判定した。それらの
判定の結果を表1に示す。
は、庇除去、エッチング抵抗層被覆、第2回目のエッチ
ング、レジスト膜及びエッチング抵抗層剥離、水洗、乾
燥の各工程を経て最終的にシャドウマスク材14に形成さ
れた微細透孔を視認によって判断し、所望通りの形状で
微細透孔が形成されているか否かを判定した。それらの
判定の結果を表1に示す。
【0031】
【表1】
【0032】以上の実験結果により、高圧流動体噴射用
スプレイシステム18のスプレイ圧を10kgf/cm2以上、
例えば15kgf/cm2とすることにより、庇部が完全に除
去され、従ってエッチング抵抗層を被覆しても空気溜り
が存在せず、最終的に所望の形状の微細透孔が形成され
ることが分かる。
スプレイシステム18のスプレイ圧を10kgf/cm2以上、
例えば15kgf/cm2とすることにより、庇部が完全に除
去され、従ってエッチング抵抗層を被覆しても空気溜り
が存在せず、最終的に所望の形状の微細透孔が形成され
ることが分かる。
【0033】次に、上記の実験結果によって明らかにな
った庇除去条件を満足することのできる、高圧流動体を
金属薄板表面に対して噴射する工程の実施方法を幾つか
例示する。
った庇除去条件を満足することのできる、高圧流動体を
金属薄板表面に対して噴射する工程の実施方法を幾つか
例示する。
【0034】まず、図11に示した例は、第1のエッチ
ング工程を終えたウェブ状シャドウマスク材14を定盤ス
テージ(図示せず)の上面に沿って搬送するとともに、
スプレイノズル48を3個設けてそれをシャドウマスク材
14の搬送方向に対し直交する方向にかつシャドウマスク
材14の上面と平行にガイド19に沿って移動させ、シャド
ウマスク材14の幅方向に移動する3個のスプレイノズル
48からシャドウマスク材14の全面にわたって均等に流動
体が噴射されるように構成したものである。
ング工程を終えたウェブ状シャドウマスク材14を定盤ス
テージ(図示せず)の上面に沿って搬送するとともに、
スプレイノズル48を3個設けてそれをシャドウマスク材
14の搬送方向に対し直交する方向にかつシャドウマスク
材14の上面と平行にガイド19に沿って移動させ、シャド
ウマスク材14の幅方向に移動する3個のスプレイノズル
48からシャドウマスク材14の全面にわたって均等に流動
体が噴射されるように構成したものである。
【0035】上記スプレイノズル48としては、(株)い
けうち製型番1/4MVEP11519を用いた。このス
プレイノズル48は、シャドウマスク材14の表面より7cm
離間した高さからシャドウマスク材14の搬送方向に約8
cmの範囲で噴出流が扇形に吹き付けられるようにする。
また、噴射される流動体としては常温水を用い、シャド
ウマスク材14の搬送速度は3m/min、各スプレイノズ
ル48の移動速度は250mm/sec以上、例えば300mm
/secの場合でシャドウマスク材14の幅方向に200mm
往復移動させる。シャドウマスク材14の幅は600mmで
ある。このとき、シャドウマスク材表面には10kgf/c
m2以上、例えば15kgf/cm2のスプレイ圧で流動体が噴
射され得る。
けうち製型番1/4MVEP11519を用いた。このス
プレイノズル48は、シャドウマスク材14の表面より7cm
離間した高さからシャドウマスク材14の搬送方向に約8
cmの範囲で噴出流が扇形に吹き付けられるようにする。
また、噴射される流動体としては常温水を用い、シャド
ウマスク材14の搬送速度は3m/min、各スプレイノズ
ル48の移動速度は250mm/sec以上、例えば300mm
/secの場合でシャドウマスク材14の幅方向に200mm
往復移動させる。シャドウマスク材14の幅は600mmで
ある。このとき、シャドウマスク材表面には10kgf/c
m2以上、例えば15kgf/cm2のスプレイ圧で流動体が噴
射され得る。
【0036】次に、図12に示した例は、第1のエッチ
ング工程を終えて搬送されてくるウェブ状シャドウマス
ク材14の搬送方向に対し直交する方向にスプレイ管15を
配設し、スプレイ管15に一列に設けられた複数の固定ノ
ズル16から、シャドウマスク材14の幅方向の全体にわた
って均等に流動体が噴射されるようにする。このとき、
噴射される流動体としては常温水を用い、シャドウマス
ク材14の表面に対して加えられるスプレイ圧は10kgf
/cm2以上、例えば15kgf/cm2とし、シャドウマスク
材14の搬送速度は必要に応じて適宜、例えば0.5〜4
m/minとする。そして、シャドウマスク材14の裏面側
を支持するために定盤ステージ(図示せず)を搬送路に
配設し、その定盤ステージの上面に沿ってシャドウマス
ク材14を搬送する。
ング工程を終えて搬送されてくるウェブ状シャドウマス
ク材14の搬送方向に対し直交する方向にスプレイ管15を
配設し、スプレイ管15に一列に設けられた複数の固定ノ
ズル16から、シャドウマスク材14の幅方向の全体にわた
って均等に流動体が噴射されるようにする。このとき、
噴射される流動体としては常温水を用い、シャドウマス
ク材14の表面に対して加えられるスプレイ圧は10kgf
/cm2以上、例えば15kgf/cm2とし、シャドウマスク
材14の搬送速度は必要に応じて適宜、例えば0.5〜4
m/minとする。そして、シャドウマスク材14の裏面側
を支持するために定盤ステージ(図示せず)を搬送路に
配設し、その定盤ステージの上面に沿ってシャドウマス
ク材14を搬送する。
【0037】さらに、図13は、シャドウマスク材14の
裏面側を支持するために定盤ステージに代えて回転ロー
ラ17を搬送路中に配設し、その回転ローラ17で支持され
た部分へ常温水を噴射するようにした例である。回転ロ
ーラ17としては、ゴム被覆ローラ或いは金属ローラの何
れを用いてもよい。また、スプレイ圧及びシャドウマス
ク材14の搬送速度は、上記と同一条件にする。
裏面側を支持するために定盤ステージに代えて回転ロー
ラ17を搬送路中に配設し、その回転ローラ17で支持され
た部分へ常温水を噴射するようにした例である。回転ロ
ーラ17としては、ゴム被覆ローラ或いは金属ローラの何
れを用いてもよい。また、スプレイ圧及びシャドウマス
ク材14の搬送速度は、上記と同一条件にする。
【0038】上記した何れの場合にも、良好な結果が得
られた。
られた。
【0039】尚、上記の実験例及び高圧流動体噴射工程
の実施例では、丸孔形状の凹窩部の場合について説明し
てきたが、本願発明はこの形状のみに限定されるわけで
はなく、スロット型の透孔をシャドウマスク材に形成す
る場合にも適用できることは言うまでもない。
の実施例では、丸孔形状の凹窩部の場合について説明し
てきたが、本願発明はこの形状のみに限定されるわけで
はなく、スロット型の透孔をシャドウマスク材に形成す
る場合にも適用できることは言うまでもない。
【0040】また、上述の実施例では、この発明をカラ
ーCRT用のシャドウマスクを製造する場合に適用した
例について説明してきたが、この発明は、アパーチャグ
リルの多数の微小なスリットを形成する場合にも同様に
適用することができる。ここで、アパーチャグリルの製
造工程は、シャドウマスクの製造工程と基本的に同じで
あって、アパーチャグリルのスリットを形成する際に使
用する露光用マスクのパターン状画像がシャドウマスク
の透孔形成用のものと異なるだけであるので、アパーチ
ャグリルのスリット形成工程についての説明は省略す
る。
ーCRT用のシャドウマスクを製造する場合に適用した
例について説明してきたが、この発明は、アパーチャグ
リルの多数の微小なスリットを形成する場合にも同様に
適用することができる。ここで、アパーチャグリルの製
造工程は、シャドウマスクの製造工程と基本的に同じで
あって、アパーチャグリルのスリットを形成する際に使
用する露光用マスクのパターン状画像がシャドウマスク
の透孔形成用のものと異なるだけであるので、アパーチ
ャグリルのスリット形成工程についての説明は省略す
る。
【0041】図14ないし図17は、この発明をアパー
チャグリルのスリットの形成に適用した実験の結果を示
す顕微鏡写真である。
チャグリルのスリットの形成に適用した実験の結果を示
す顕微鏡写真である。
【0042】図14は、第1回目のエッチング工程によ
り、金属薄板の片面側に複数本の細長い溝が形成され
た、庇除去工程以前の薄板材表面を撮影した倍率100
倍の電子顕微鏡写真、図15は、同じく500倍の電子
顕微鏡写真である。金属薄板の厚みは0.1mm、金属薄
板に形成された溝の幅は約65μmであった。一方、図
16は、この発明に係る方法によって図14及び図15
に示した金属薄板の表面を処理した後の薄板材表面の1
00倍の電子顕微鏡写真であり、図17は、その500
倍の電子顕微鏡写真である。
り、金属薄板の片面側に複数本の細長い溝が形成され
た、庇除去工程以前の薄板材表面を撮影した倍率100
倍の電子顕微鏡写真、図15は、同じく500倍の電子
顕微鏡写真である。金属薄板の厚みは0.1mm、金属薄
板に形成された溝の幅は約65μmであった。一方、図
16は、この発明に係る方法によって図14及び図15
に示した金属薄板の表面を処理した後の薄板材表面の1
00倍の電子顕微鏡写真であり、図17は、その500
倍の電子顕微鏡写真である。
【0043】図14及び図15と図16及び図17とを
比較すると分かるように、この発明に係る方法によって
処理した金属薄板材では、溝の両側に沿って溝の中心方
向へ張り出したレジスト膜の庇が除去されている。実際
に、この発明に係る方法に従ってアパーチャグリルを製
造したところ、スリットの形状にばらつきが無い良好な
品質のものを得ることができた。
比較すると分かるように、この発明に係る方法によって
処理した金属薄板材では、溝の両側に沿って溝の中心方
向へ張り出したレジスト膜の庇が除去されている。実際
に、この発明に係る方法に従ってアパーチャグリルを製
造したところ、スリットの形状にばらつきが無い良好な
品質のものを得ることができた。
【0044】さらに、この発明は、カラーCRT用のシ
ャドウマスクやアパーチャグリルの製造への適用に限定
されるわけではなく、例えば半導体素子を外部へ電気的
に接続するためのリードフレーム等の精密電子部品の製
造におけるエッチング穿孔工程にも適用することができ
るのは言うまでもない。
ャドウマスクやアパーチャグリルの製造への適用に限定
されるわけではなく、例えば半導体素子を外部へ電気的
に接続するためのリードフレーム等の精密電子部品の製
造におけるエッチング穿孔工程にも適用することができ
るのは言うまでもない。
【0045】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、金属薄板をその両面側からエッチン
グし、そのエッチングを2回に分けて、第1のエッチン
グ工程後に金属薄板の片面をエッチング抵抗層で被覆し
てから第2のエッチング工程を行なう場合に、この発明
に係る金属薄板への微細透孔形成方法によると、第2の
エッチング工程においてエッチング側でない面がエッチ
ングされることを有効に防止することができ、所望通り
の形状の微細透孔を形成することができるため、欠陥の
無い高精細度のシャドウマスクやアパーチャグリルを製
造することが可能になる。そして、この発明に係る方法
によれば、レジスト膜の庇の部分を除去するのに、比較
的簡易な設備を付設するだけで済む。
かつ作用するので、金属薄板をその両面側からエッチン
グし、そのエッチングを2回に分けて、第1のエッチン
グ工程後に金属薄板の片面をエッチング抵抗層で被覆し
てから第2のエッチング工程を行なう場合に、この発明
に係る金属薄板への微細透孔形成方法によると、第2の
エッチング工程においてエッチング側でない面がエッチ
ングされることを有効に防止することができ、所望通り
の形状の微細透孔を形成することができるため、欠陥の
無い高精細度のシャドウマスクやアパーチャグリルを製
造することが可能になる。そして、この発明に係る方法
によれば、レジスト膜の庇の部分を除去するのに、比較
的簡易な設備を付設するだけで済む。
【図1】この発明に係る、エッチングによる金属薄板へ
の微細透孔形成方法における特徴部分の構成及び作用を
説明するための部分拡大縦断面図である。
の微細透孔形成方法における特徴部分の構成及び作用を
説明するための部分拡大縦断面図である。
【図2】この発明を実際に適用した実験において行なわ
れた高圧流動体噴射工程の実施
れた高圧流動体噴射工程の実施
【図3】〜
【図10】それぞれ、実験に係るシャドウマスク材表面
の金属組織を示す拡大電子顕微鏡写真である。
の金属組織を示す拡大電子顕微鏡写真である。
【図11】〜
【図13】それぞれ、この発明の実施方法を例示する概
略斜視図である。
略斜視図である。
【図14】〜
【図17】それぞれ、この発明をアパーチャグリルのス
リットの形成工程に適用した場合の実験結果について説
明するための、金属薄板材表面の金属組織を示す拡大電
子顕微鏡写真である。
リットの形成工程に適用した場合の実験結果について説
明するための、金属薄板材表面の金属組織を示す拡大電
子顕微鏡写真である。
【図18】カラーCRTの概略構成を示す図である。
【図19】別の型のカラーCRTの概略構成を示す図で
ある。
ある。
【図20】図19に示した型のカラーCRTに使用され
るアパーチャグリルの部分拡大正面図である。
るアパーチャグリルの部分拡大正面図である。
【図21】シャドウマスクの製造工程の1例を説明する
ための図である。
ための図である。
【図22】、
【図23】従来方法によるエッチング工程について説明
するための部分拡大縦断面図である。
するための部分拡大縦断面図である。
【図24】、
【図25】従来のエッチング方法における問題点につい
て説明するための部分拡大縦断面図である。
て説明するための部分拡大縦断面図である。
1 金属薄板 2、2’ レジスト膜 5、5’ 微細凹窩部 6 エッチング抵抗層 8 微細透孔 9 レジスト膜の庇 11 高圧スプレイノズル 12 流動体 13 レジスト膜 14 シャドウマスク材 15 スプレイ管 16 固定ノズル 48 スプレイノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 雅伸 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 稲垣 昭紘 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 外海 正司 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 尾本 貢一 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 金属薄板の両面に、表裏両面で互いに対
応したパターン状画像を有する耐食性皮膜をそれぞれ被
着形成する工程と、前記金属薄板の表面の、前記耐食性
皮膜で被覆されていない露呈部分を両面側からもしくは
片面側からエッチングして、金属薄板の両面もしくは片
面に微細凹窩部を形成する第1のエッチング工程と、前
記金属薄板の、前記微細凹窩部が形成された片面をエッ
チング抵抗層によって被覆する工程と、前記金属薄板
の、前記エッチング抵抗層で被覆されていない片面側か
らエッチングして、その片面側から他方面側の前記微細
凹窩部まで貫通した微細透孔を形成する第2のエッチン
グ工程とを備えてなる、金属薄板への微細透孔形成方法
において、前記エッチング抵抗層の被覆工程に先立ち、
エッチング抵抗層によって被覆しようとする金属薄板の
片面側に、高圧流動体を噴出流として金属薄板表面に対
し吹き付け、少なくとも前記微細凹窩部の周縁より凹窩
部中心方向へ張り出した部分の前記耐食性皮膜を除去す
るようにすることを特徴とする、金属薄板への微細透孔
形成方法。
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