JPH0313192B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0313192B2
JPH0313192B2 JP60210086A JP21008685A JPH0313192B2 JP H0313192 B2 JPH0313192 B2 JP H0313192B2 JP 60210086 A JP60210086 A JP 60210086A JP 21008685 A JP21008685 A JP 21008685A JP H0313192 B2 JPH0313192 B2 JP H0313192B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
melting point
silicide
point metal
target
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60210086A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPS6270270A (ja
Inventor
Susumu Sawada
Junichi Anami
Masami Kuroki
Akio Yasuoka
Osamu Kanano
Shoichi Kanzaki
Ryuji Kaneko
Jota Kominami
Original Assignee
Nippon Mining Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co filed Critical Nippon Mining Co
Priority to JP60210086A priority Critical patent/JPS6270270A/ja
Publication of JPS6270270A publication Critical patent/JPS6270270A/ja
Publication of JPH0313192B2 publication Critical patent/JPH0313192B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
JP60210086A 1985-09-25 1985-09-25 高融点金属シリサイド製ターゲットの製造方法 Granted JPS6270270A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60210086A JPS6270270A (ja) 1985-09-25 1985-09-25 高融点金属シリサイド製ターゲットの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60210086A JPS6270270A (ja) 1985-09-25 1985-09-25 高融点金属シリサイド製ターゲットの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6270270A JPS6270270A (ja) 1987-03-31
JPH0313192B2 true JPH0313192B2 (enrdf_load_stackoverflow) 1991-02-21

Family

ID=16583585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60210086A Granted JPS6270270A (ja) 1985-09-25 1985-09-25 高融点金属シリサイド製ターゲットの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6270270A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62171911A (ja) * 1986-01-27 1987-07-28 Nippon Mining Co Ltd モリプデン或いはタングステンシリサイドの製造方法
JP2590091B2 (ja) * 1987-03-26 1997-03-12 株式会社東芝 高融点金属シリサイドターゲットとその製造方法
JP2594794B2 (ja) * 1987-08-06 1997-03-26 株式会社ジャパンエナジー シリサイドターゲットとその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6176664A (ja) * 1984-09-05 1986-04-19 Hitachi Metals Ltd スパツタリング装置用タ−ゲツト及びその製造方法
JPS61141673A (ja) * 1984-12-13 1986-06-28 東京タングステン株式会社 モリブデンシリサイド合金焼結体及びその製造方法
JPS61141674A (ja) * 1984-12-13 1986-06-28 東京タングステン株式会社 タングステンシリサイド合金焼結体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6270270A (ja) 1987-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5618397A (en) Silicide targets for sputtering
KR910003884B1 (ko) 고융점 금속 실리사이드 스퍼터링 타게트 및 이의 제조방법
JP4432015B2 (ja) 薄膜配線形成用スパッタリングターゲット
CN105593399B (zh) 钽溅射靶
JP3974945B2 (ja) チタンスパッタリングターゲット
JPWO2004016825A1 (ja) ハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法
JP2594794B2 (ja) シリサイドターゲットとその製造方法
JPH0313192B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JPH05214521A (ja) チタンスパッタリングターゲット
JPH05222525A (ja) 半導体用タングステンターゲットの製造方法
JP2590091B2 (ja) 高融点金属シリサイドターゲットとその製造方法
JPH03173704A (ja) スパッタリング用ターゲットの製造方法
JPH042540B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2997075B2 (ja) スパッタリング用シリサイドターゲット
JPH0247261A (ja) シリサイドターゲットおよびその製造方法
JPH06280009A (ja) スパッタリング用ターゲット及びその製造方法
JPH02166276A (ja) 高融点金属シリサイド製ターゲットおよびその製造方法
JPH01131073A (ja) 高融点金属シリサイド製ターゲットとその製造方法
JPH0360914B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JPS62100403A (ja) 高純度六方晶窒化硼素微粉末の製造方法
JPH04218912A (ja) Ｌｓｉ電極用の高純度モリブデンターゲットの製造方法
JPH0159209B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2000064032A (ja) チタンシリサイドターゲットおよびその製造方法
JPH02247379A (ja) シリサイドターゲットの製造方法
JPS63179061A (ja) 高融点金属シリサイドタ−ゲツトとその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term