JPH03121150A - 塩素化ポリエチレン組成物 - Google Patents
塩素化ポリエチレン組成物Info
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- JPH03121150A JPH03121150A JP25860289A JP25860289A JPH03121150A JP H03121150 A JPH03121150 A JP H03121150A JP 25860289 A JP25860289 A JP 25860289A JP 25860289 A JP25860289 A JP 25860289A JP H03121150 A JPH03121150 A JP H03121150A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塩素化ポリエチレン組成物に関する。
更に詳しくは、架橋可能な塩素化ポリエチレン組成物に
関する。
関する。
〔従来の技術〕および〔発明が解決しようとする課題〕
従来、塩素化ポリエチレンの架橋には、チオウレア加硫
、アミン加硫、有機過酸化物加硫、ポリオール加硫、チ
オール化合物加硫などの加硫法が用いられている。
従来、塩素化ポリエチレンの架橋には、チオウレア加硫
、アミン加硫、有機過酸化物加硫、ポリオール加硫、チ
オール化合物加硫などの加硫法が用いられている。
本発明は、こうした従来の加硫法とは全く異なる加硫系
であって、架橋密度の増加をもたらし、これにより圧縮
永久歪や耐油性を改善させた加硫物を与える塩素化ポリ
エチレン組成物を提供することを目的としている。
であって、架橋密度の増加をもたらし、これにより圧縮
永久歪や耐油性を改善させた加硫物を与える塩素化ポリ
エチレン組成物を提供することを目的としている。
かかる目的を達成せしめる本発明の塩素化ポリエチレン
組成物は、塩素化ポリエチレン、第４Ｒホスホニウム塩
および受最剤を含有してなる。
組成物は、塩素化ポリエチレン、第４Ｒホスホニウム塩
および受最剤を含有してなる。
塩素化ポリエチレンとしては、塩素含有率約３０〜４０
％のものが一般に用いられているが、塩素含有率の高い
もの程耐熱性、圧縮永久歪は良好であるが、低温特性が
要求される場合には、塩素含有率が約３０〜３５％とよ
り低いものを用いることが好ましい。
％のものが一般に用いられているが、塩素含有率の高い
もの程耐熱性、圧縮永久歪は良好であるが、低温特性が
要求される場合には、塩素含有率が約３０〜３５％とよ
り低いものを用いることが好ましい。
これに添加される架橋剤としての第４級ホスホニウム塩
としては１例えばベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロライド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリフェ
ニルブチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルエチ
ルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウム
ブロマイド、テトラエチルホスホニウムブロマイドなど
の一般式Ｒ１Ｒ２Ｒ，Ｒ，ＰＸ（，１： 、：： テ、
Ｒ，〜Ｒ４は同一または異なるアルキル基、アリール基
またはアラルキル基であり、Ｘはハロゲン原子である）
で表わされる化合物が、塩素化ポリエチレン１００重量
部当り約０．１〜５重量部、好ましくは約０．５〜２重
量部の割合で用いられる。
としては１例えばベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロライド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリフェ
ニルブチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルエチ
ルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウム
ブロマイド、テトラエチルホスホニウムブロマイドなど
の一般式Ｒ１Ｒ２Ｒ，Ｒ，ＰＸ（，１： 、：： テ、
Ｒ，〜Ｒ４は同一または異なるアルキル基、アリール基
またはアラルキル基であり、Ｘはハロゲン原子である）
で表わされる化合物が、塩素化ポリエチレン１００重量
部当り約０．１〜５重量部、好ましくは約０．５〜２重
量部の割合で用いられる。
また、加硫反応で発生する金型腐食性物質を捕捉するた
めに用いられる受酸剤としては、２価金属の酸化物、水
酸化物またはこれらの両者が用いられ、好ましくは酸化
マグネシウム、水酸化カルシウムなどが、塩素化ポリエ
チレン１００重量部当り約１〜２０重量部、好ましくは
約３〜１０重量部の割合で用いられる。
めに用いられる受酸剤としては、２価金属の酸化物、水
酸化物またはこれらの両者が用いられ、好ましくは酸化
マグネシウム、水酸化カルシウムなどが、塩素化ポリエ
チレン１００重量部当り約１〜２０重量部、好ましくは
約３〜１０重量部の割合で用いられる。
組成物の調製は、以上の必須成分以外に、必要に応じて
カーボンブラックなどの充填剤、補強剤。
カーボンブラックなどの充填剤、補強剤。
ジオクチルセバケートなどの可塑剤その他の配合剤を添
加し、オープンロール、ニーダなと任意の混線方法によ
り混練することにより行われ、混練物はヒートブレスな
ど任意の加硫方法により加硫成形される。
加し、オープンロール、ニーダなと任意の混線方法によ
り混練することにより行われ、混練物はヒートブレスな
ど任意の加硫方法により加硫成形される。
第４級ホスホニウム塩を架橋剤とする新規な加硫系を形
成する本発明の塩素化ポリエチレン組成物は、キュラス
トメータトルクが高く、すぐれた加硫挙動を示し、それ
によって架橋密度の増加をもたらし、圧縮永久歪や耐油
性を改善させた加硫物を与える。
成する本発明の塩素化ポリエチレン組成物は、キュラス
トメータトルクが高く、すぐれた加硫挙動を示し、それ
によって架橋密度の増加をもたらし、圧縮永久歪や耐油
性を改善させた加硫物を与える。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例１〜６
塩素化ポリエチレン（昭和電工製品エラスレン３０１Ａ
） １００部（重量、以下同じ）、ＭＡＦカーボンブラ
ック（東海カーボン製品ジーストＧ−１１６）４５部、
ジオクチルセバケート（三建化工製品）２５部、水酸化
カルシウム（透性化学製品カルデイック＃１０００）５
部、酸化マグネシウム（協和化学製品キヨーマグ＃１５
０）５部および下記第４Ｒホスホニウム塩（北興化学製
品）１．５部を、３Ｑニーダおよび１２インチオープン
ロールで混練し、ＪＳＲキュラストメータ■型を用い、
測定温度１８０℃での加硫曲線を求めた。得られた結果
は、グラフに示される。
） １００部（重量、以下同じ）、ＭＡＦカーボンブラ
ック（東海カーボン製品ジーストＧ−１１６）４５部、
ジオクチルセバケート（三建化工製品）２５部、水酸化
カルシウム（透性化学製品カルデイック＃１０００）５
部、酸化マグネシウム（協和化学製品キヨーマグ＃１５
０）５部および下記第４Ｒホスホニウム塩（北興化学製
品）１．５部を、３Ｑニーダおよび１２インチオープン
ロールで混練し、ＪＳＲキュラストメータ■型を用い、
測定温度１８０℃での加硫曲線を求めた。得られた結果
は、グラフに示される。
（第４級ホスホニウム塩）
実施例１：ペンジルトリフェニルホスホニウムクロライ
ド〃 ２：ペンジルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド３：テトラフェニルホスホニウムブロマイド４ニトリ
フェニルエチルホスホニウムブロマイド〃 ５ニトリフ
エニルブチルホスホニウムブロマイド〃 ６：テトラブ
チルホスホニウムブロマイド比較例 実施例１〜６において、第４級ホスホニウム塩の代わり
に、同量の下記加硫促進剤（大阪曹達製品Ｍ１８１）が
用いられ、求められた加硫曲線はグラフに併記されてい
る。
ド〃 ２：ペンジルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド３：テトラフェニルホスホニウムブロマイド４ニトリ
フェニルエチルホスホニウムブロマイド〃 ５ニトリフ
エニルブチルホスホニウムブロマイド〃 ６：テトラブ
チルホスホニウムブロマイド比較例 実施例１〜６において、第４級ホスホニウム塩の代わり
に、同量の下記加硫促進剤（大阪曹達製品Ｍ１８１）が
用いられ、求められた加硫曲線はグラフに併記されてい
る。
また、加硫物の加硫物性、圧縮永久歪（１２０℃、７０
時間）および耐油性（１２０℃のＮα３オイル中に７０
時間浸漬後の硬さ変化および体積変化率）を、それぞれ
ＪＩＳ Ｋ−６３０１により測定した。得られた結果は
。
時間）および耐油性（１２０℃のＮα３オイル中に７０
時間浸漬後の硬さ変化および体積変化率）を、それぞれ
ＪＩＳ Ｋ−６３０１により測定した。得られた結果は
。
次の表に示される。
表
硬さ（ＪＩＳＡ） ７３ ７６ ７７ ７７ ７６ ７
６ ７１引１ｆｉさ（ｋｇｆ／ｃｉ）１７６ １８９
１６６ １７０ １６９ １６６ １６５
伸び （％） ５７０ ３８０ ３７０ ４００ ３３
０ ２４０ ７２０庇縮永火創 測定値 α） ５４ ３５ ４０ ４５
４１ ３６ ６７１釉也 硬さ変化 （Ｉインド） −２４−２１−２３−２１
−１９−１６−４０イ４にｆＪ駈３ｅΣ（ｔＪ （
％） ＋６１．２ ＋５２．０ ＋５５．４ ＋
５３．７ ＋５１．９ ＋４８．４ ＋８６．４
、図面の簡単な説明 図面は、実施例１〜６および比較例で測定された加硫曲
線を示すグラフである。
６ ７１引１ｆｉさ（ｋｇｆ／ｃｉ）１７６ １８９
１６６ １７０ １６９ １６６ １６５
伸び （％） ５７０ ３８０ ３７０ ４００ ３３
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４１ ３６ ６７１釉也 硬さ変化 （Ｉインド） −２４−２１−２３−２１
−１９−１６−４０イ４にｆＪ駈３ｅΣ（ｔＪ （
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５３．７ ＋５１．９ ＋４８．４ ＋８６．４
、図面の簡単な説明 図面は、実施例１〜６および比較例で測定された加硫曲
線を示すグラフである。
Claims (1)
- １、塩素化ポリエチレン、第４級ホスホニウム塩および
受酸剤を含有してなる架橋可能な塩素化ポリエチレン組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25860289A JPH03121150A (ja) | 1989-10-03 | 1989-10-03 | 塩素化ポリエチレン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25860289A JPH03121150A (ja) | 1989-10-03 | 1989-10-03 | 塩素化ポリエチレン組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03121150A true JPH03121150A (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=17322553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25860289A Pending JPH03121150A (ja) | 1989-10-03 | 1989-10-03 | 塩素化ポリエチレン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03121150A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5407982A (en) * | 1993-11-19 | 1995-04-18 | Shell Oil Company | Process for producing stabilized polyketone polymers and polymers produced therefrom |
-
1989
- 1989-10-03 JP JP25860289A patent/JPH03121150A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5407982A (en) * | 1993-11-19 | 1995-04-18 | Shell Oil Company | Process for producing stabilized polyketone polymers and polymers produced therefrom |
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