JPH0312080B2 - - Google Patents

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JPH0312080B2
JPH0312080B2 JP58016624A JP1662483A JPH0312080B2 JP H0312080 B2 JPH0312080 B2 JP H0312080B2 JP 58016624 A JP58016624 A JP 58016624A JP 1662483 A JP1662483 A JP 1662483A JP H0312080 B2 JPH0312080 B2 JP H0312080B2
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JP
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deoxydesmycosine
deformyl
acetyl
reduced pressure
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JP58016624A
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JPS59141596A (ja
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Tatsuro Fujiwara
Kazuyo Oota
Takao Hirano
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Toyo Jozo KK
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Toyo Jozo KK
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Priority to DE3403656A priority patent/DE3403656C2/de
Priority to GB08402836A priority patent/GB2137983B/en
Priority to FR8401613A priority patent/FR2541288B1/fr
Priority to CH521/84A priority patent/CH658660A5/de
Publication of JPS59141596A publication Critical patent/JPS59141596A/ja
Priority to US06/782,591 priority patent/US4652638A/en
Publication of JPH0312080B2 publication Critical patent/JPH0312080B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H17/00Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H17/04Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
    • C07H17/08Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な3−O−アシル−4″−デオキ
シデスマイコシン誘導体およびその製法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、式 (式中、R1は低級アルキル、フエニルまたは
フエニル−低級アルキル基、R2は水素原子また
は−CHO基、R3は水素原子または水酸基を示す)
で表わされる化合物またはその塩である。本発明
は、また式 (式中、R5は水素原子または−OR4基、R4
水酸基の保護基を示し、R2は前記と同じ意味を
有する)で表わされる化合物を不活性有機溶媒
中、式 R1−COOH 〔4〕 (式中、R1は前記と同じ意味を有する)で表
わされるカルボン酸またはその反応性誘導体で3
位の水酸基をアシル化し、次いで水酸基の保護基
を脱離化することを特徴とする化合物〔1〕また
はその塩の製造法も包含される。 上記の塩としては医薬上許容できる塩である。
このような適当な塩としては、塩酸、硫酸、リン
酸などの無機酸との塩、酢酸、プロピオン酸、酒
石酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸などの有機酸との塩が包含
される。その他の非毒性塩も包含される。 上記の新規化合物〔1〕は、グラム陽性菌に対
して既知のエリスロマイシンとの同程度の抗菌活
性を有するばかりでなく、一部の耐性菌に対して
も有効であり、生体内でも比較的安定であるので
臨床上優れた感染治療効果の期待される抗菌剤で
ある。また、動物用感染治療剤、感染予防あるい
は生育促進のための飼料添加剤としても有用であ
る。 本発明で使用される出発物質〔3〕は、式 (式中、R2およびR3は前記と同じ意味を有す
る)で表わされる化合物、即ちR2が−CHO基、
R3が水酸基である場合には、4″−デオキシデス
マイコシン(特開昭57−154197号)、R2が−CHO
基、R3が水素原子である場合には、4′,4″−ジ−
デオキシデスマイコシン(特開昭57−154197号)、
R2が水素原子、R3が水酸基である場合には、19
−デホルミル−4″−デオキシデスマイコシン(特
開昭58−13596号)またはR2が水素原子、R3が水
素原子である場合には、前記4′,4″−ジ−デオキ
シデスマイコシンを不活性有機溶媒中加熱下
〔(C6H53P〕3RhClで脱ホルミル化した19−デホ
ルミル−4′−4″−ジ−デオキシデスマイコシン
〔特願昭56−211648号(特開昭58−121299号公報〕
を製造する工程において、反応に関与してはなら
ない2′位および4′位の水酸基または2′位の水酸基
を予め適当な保護基で保護し、最終段階でこれら
の保護基を脱離化する前の中間化合物である。 上記の保護基としては、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリルなどの低級アルカノイル基、クロロ
アセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルなどのハロゲン化アセ
チル基などが挙げられるが、特にアセチル基が好
ましい。 例えば、2′位および4′位の水酸基または2′位の
水酸基がアセチル基で保護された出発物質〔3〕
は各々次の方法で製造される。 R2が−CHO基、R3が水酸基である出発物質
〔3〕、即ち2′,4′−ジ−O−アセチル−4″−デオ
キシデスマイコシン(前記4″−デオキシデスマイ
コシンの製造中間体)は、デスマイコシンを2′,
4′−ジ−O−アセチル化し、4″−O−トリフルオ
ロメタンスルホニル化し、4″−ヨード化し、次い
で脱4″−ヨード化することにより得られる(特開
昭57−154197号)。 R2が−CHO基、R3が水素原子である出発物質
〔3〕、即ち2′−O−アセチル−4′,4″−ジ−デオ
キシデスマイコシン(前記4′,4″−ジ−デオキシ
デスマイコシンの製造中間体)は、タイロシンを
2′−O−アセチル化し、4′−デマイカロシル化
し、4″−O−アセチル化し、4′−O−トリフルオ
ロメタンスルホニル化し、4′−ヨード化し、脱
4″−O−アセチル化し、4″−O−トリフルオロメ
タンスルホニル化し、4″−ヨード化し、次いで脱
4′,4″−ジヨード化することにより得られる(特
開昭57−154197号)。 R2が水素原子、R3が水酸基である出発物質
〔3〕、即ち2′−4′−ジ−O−アセチル−19−デホ
ルミル−4″−デオキシデスマイコシン(前記19−
デホルミル−4″−デオキシデスマイコシンの製造
中間体)は、デスマイコシンを不活性有機溶媒中
加熱下〔(C6H53P〕3RhClで脱ホルミル化して得
た19−デホルミルデスマイコシン(特開昭56−
55399号)を2′,4′−ジ−O−アセチル化し、4″−
O−トリフルオロメタンスルホニル化し、4″−ヨ
ード化し、次いで脱4″−ヨード化することにより
得られる(特開昭58−13596号)。 R2が水素原子、R3が水素原子である出発物質
〔3〕、即ち2′−O−アセチル−19−デホルミル−
4′,4″−ジ−デオキシデスマイコシン(前記19−
デホルミル−4′,4″−ジ−デオキシデスマイコシ
ンの製造中間体)は、前記2′−O−アセチル−
4′,4″−ジ−デオキシデスマイコシン(特開昭57
−154197号)を不活性有機溶媒中加熱下
〔(C6H53P〕3RhClで脱ホルミル化することによ
り得られる〔特願昭56−211648号(特開昭58−
121299号公報)〕。上記の脱ホルミル化に使用する
不活性有機溶媒としては、ベンゼンなどのベンゼ
ン系溶媒が好ましい。脱ホルミル反応は、通常不
活性有機溶媒の加熱還流下で行われる。反応時間
はシリカゲルなどのTLC、HPLCにより追跡で
きるので、2′−O−アセチル−4′,4″−ジ−デオ
キシデスマイコシンの消失を待つて適宜反応を終
了すればよい。反応液から反応生成物を採取する
場合には、反応液を水中にあけ、アンモニア水な
どのアルカリでPHを8〜9.5に調節した後、非親
水性有機溶媒、例えばクロロホルムなどで抽出す
ることにより得られる。 本発明においては、前記化合物〔3〕の3位の
水酸基をアシル化(以下単に3−アシル化という
ことがある)するのであるが、上基カルボン酸
〔4〕は、そのまゝか、またはその反応性誘導体
として化合物〔3〕の3位の水酸基のアシル化剤
として使用される。 上記カルボン酸〔4〕としては、低級脂肪酸、
例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉
草酸、イソ吉草酸、置換基を有していてもよい安
息香酸、置換基を有していてもよいフエニル−低
級脂肪酸、例えばフエニル酢酸、2−フエニルプ
ロピオン酸、3−フエニルプロピオン酸、2−フ
エニル酪酸、2−フエニルイソ吉草酸などが挙げ
られる。 上記の反応性誘導体としては、一般に有機化学
の分野において水酸基のアシル化に用いられるア
シル化剤が用いられる。例えば酸プロマイド、酸
クロライドなどの酸ハライド、酸無水物、混合酸
無水物、活性エステル、酸アジドなどが挙げられ
る。カルボン酸〔4〕をそのまゝで使用する場合
には、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド(DCC)、N−シクロヘキシル−N′−2−(モ
ルホリル−4)−エチルカルボジイミド、N−エ
チル−N′−ジメチルアミノプロピル−カルボジ
イミドなどの公知のジイミド、N,N′−カルボ
ニル−ビスイミダゾール、イソオキサゾリウム塩
などの縮合剤を使用して3−アシル化してもよ
い。 上記の3−アシル化反応は、通常不活性有機溶
媒中で行われる。適当な有機溶媒の例は、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、ピリジンなどである。上
記アシル化反応において、酸を生成する場合には
トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、コリジ
ン、キノリン、イソキノリン、N−メチルピペラ
ジン、N−メチルモルホリン、ジメチルアニリ
ン、ジメチルアミノピリジン、トリベンジルアミ
ンなどの第3級有機塩基を共存させるのが好まし
い。アシル化反応は、特に反応が遅くならない限
りは室温でも進行する。加熱しても精々50〜60℃
程度である。反応経過はTLC、HPLCなどによ
り追跡できるので、出発物質〔3〕の消失を待つ
て適宜反応を終了すればよい。反応液から生成し
た式 (式中、R2、R4およびR5は前記と同じ意味を
有する)で表わされる化合物を採取するには反応
液に水を加え、PH8〜9.5のアルカリ性下非親水
性有機溶媒、例えばクロロホルム、ジクロロエタ
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル酢酸ブ
チルなどで抽出することにより行われる。さらに
精製を必要とする場合には、前記の出発物質
〔3〕の精製方法において記載された方法に従つ
て行うことができる。 次に、反応生成物〔5〕の2′位および4′位の水
酸基または2′位の水酸基の保護基、特にアセチル
基を脱離化するのであるが、この脱離化は含水し
ていてもよい低級アルコール中で加熱処理するこ
とにより行われる。低級アルコールとしてはメタ
ノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメ
タノールが好ましい。上記の反応はTLC、
HPLCなどにより追跡できるので、化合物〔5〕
の消失を待つて適宜反応を終了すればよい。 このようにして得られた目的化合物〔1〕を反
応液から採取するには、低級アルコールを留去
し、PH8〜9.5のアルカリ性下非親水性有機溶媒、
例えばクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどで抽出することにより行われる。
さらに精製を必要とする場合には、シリカゲル、
活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いるカ
ラムクロマトグラフイーの手段を用いることによ
り精製することができる。 次に、本発明の目的化合物〔1〕の微生物生育
最少阻止濃度(MIC)を測定した結果は、第1
表および第2表の通りである。尚、※の試験菌
は、エリスロマイシン、オレアンドマイシン、16
員環マクロライド系抗生物質耐性患者分離株(マ
クロライド耐性A群菌)である。
【表】
【表】
【表】
【表】 次に、参考例および実施例を挙げて、本発明の
製造例を具体的に説明する。尚、参考例および実
施例中のRf値は、特記しない限り次の担体およ
び展開溶媒を用いるTLCにより測定したもので
ある。 担体;メルク社製DC−Fertigplatten Kiesel
gel 60F254,Art5715 展開溶媒; a:クロロホルム−メタノール−濃アンモニア水
(150:10:1) b:ベンゼン−アセトン(3:1) 実施例 1 3−O−アセチル−4″−デオキシデスマイコシ
ン 2′,4′−ジ−O−アセチル−4″−デオキシデス
マイコシン100mgをピリジン1ml中に溶かし、こ
れに無水酢酸56.0μl(5当量)および4−ジメチ
ルアミノピリジン3mg(0.2当量)を加え、55℃
で3.5時間撹拌した。反応液を水にあけ、アンモ
ニア水でPH8〜9とし、クロロホルムで2回抽出
した。クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮して粗製の3,2′,4′−トリ−
O−アセチル−4″−デオキシデスマイコシンを得
た。これをできるだけ少量のクロロホルムに溶か
し、シリカゲル(メルク社製、Art9385)10gの
カラムにチヤージし、ベンゼン−アセトン(16:
1〜8:1)で溶出するカラムクロマトグラフイ
ーにより精製した。Rfb=0.4付近のスポツトのみ
を有するフラクシヨンを集め、減圧乾固して精製
品44.0mgを得た。これをメタノール5mlに溶か
し、55℃で16時間加熱して脱2′,4′−ジ−O−ア
セチル化した後、減圧乾固して3−O−アセチル
−4″−デオキシデスマイコシン37.2mgを得た。 TLC:Rfa=0.32(4″−デオキシデスマイコシ
ンRfa=0.32) NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.81(s.,12
−CH3)、2.12(s.,−COCH3)、2.50(s.,−N
(CH32)、3.40(s.,3″−OCH3)、3.46(s.,2″−
OCH3)、4.20(d.,H−1′)、4.63(d.,H−1″)、
4.85(t.d.,H−15)、5.15(d.d.,H−3)、5.95
(d.,H−13)、6.24(d.,H−10)、7.40(d.,H−
11)、9.64(s.,CHO)Mass(CI);798(MH+)、
738(MH+−CH3COOH)174 実施例 2 3−O−プロピオニル−4″−デオキシデスマイ
コシン 実施例1において、無水酢酸56.0μlの代りに無
水プロピオン酸76.3μlを用いて粗製の3−O−プ
ロピオニル−2′−4′−ジ−O−アセチル−4″−デ
オキシデスマイコシンを得た。 これをできるだけ少量のクロロホルムに溶かし
てシリカゲル(メルク社製、Art9385)10gのカ
ラムにチヤージし、ベンゼン−アセトン(12:1
〜8:1)で溶出するカラムクロマトグラフイー
により精製した。Rfb=0.45付近のスポツトのみ
を有するフラクシヨンを集め、減圧乾固して精製
品57.1mgを得た。これを実施例1記載の方法と同
様に脱2′,4′−ジ−O−アセチル化して3−O−
プロピオニル−4″−デオキシデスマイコシン47.5
mgを得た。収率49.1% TLC;Rfa=0.34 NMR(100MHzCDC13)δppm;1.81(s.,12−
CH3)、2.49(s.,N(CH32)、3.40(s.,3″−
OCH3)、3.46(s.,2″−OCH3)、4.18(d.,H−
1′)、4.63(d.,H−1″)、4.84(t.d.,H−15)、
5.20
(d.d,H−3)、5.99(d.,H−13)、6.23(d.,H
−10)、7.41(d.,H−11)、9.64(s.,CHO) Mass(CI);812(MH+)、738(MH+
CH3CH2COOH)、174 実施例 3 3−O−ブチリル−4″−デオキシデスマイコシ
ン 実施例1において、無水酢酸56.0μlの代りに無
水酪酸97.4μlを用いて粗製の3−O−ブチリル−
2′−4′−ジ−O−アセチル−4″−デオキシデスマ
イコシン98.6mgを得た。 これをできるだけ少量のクロロホルムに溶かし
てシリカゲル(メルク社製、Art9385)10gのカ
ラムにチヤージし、ベンゼン−アセトン(16:1
〜8:1)で溶出するカラムクロマトグラフイー
により精製した。Rfb=0.47付近のスポツトのみ
を有するフラクシヨンを集め、減圧乾固して精製
品62.6mgを得た。これをメタノール5mlに溶か
し、55℃で6時間加熱した後、反応液を減圧濃縮
した。残渣に希アンモニア水を加え、クロロホル
ムで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧乾固して3−O−ブチリル−4″−デ
オキシデスマイコシン51.7mg(収率52.6%)を得
た。 TLC;Rfa=0.35 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.81(s.,3H,
12−CH3)、2.49(s.,6H,N(CH32)、3.40(s.,
3H,3″−OCH3)、3.46(s.,3H,2″−OCH3)、
4.18(d.,1H,H−1′)、4.63(d.,1H,H−1″)、
4.87(d.t.,1H,H−15)5.20(d.d.,1H,H−
3)、5.98(d.,1H,H−13)、6.23(d.,1H,H−
10)、7.40(d.,1H,H−11)、9.66(s.,1H,
CHO) Mass(CI):826(MH+)、808(MH+−18)、738
(MH+−CH3CH2CH2COOH)、563、174 実施例 4 3−O−イソバレリル−4″−デオキシデスマイ
コシン 実施例1において、無水酢酸56.0μlの代りに無
水イソ吉草酸118μlを用い、反応を5.5時間行つ
て、粗製の3−O−イソバレリル−2′,4′−ジ−
O−アセチル−4″−デオキシデスマイコシン98.1
mgを得た。 これをできるだけ少量のクロロホルムに溶かし
てシリカゲル(メルク社製,Art9385)10gのカ
ラムにチヤージし、ベンゼン−アセトン(16:1
〜10:1)で溶出するカラムクロマトグラフイー
により精製した。Rfb=0.47付近のスポツトのみ
を有するフラクシヨンを集め、減圧乾固して精製
品42.3mgを得た。これをメタノール5mlに溶か
し、55℃で16時間加熱した。反応液を減圧濃縮
し、残渣に希アンモニア水を加え、クロロホルム
で抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮して粗製の3−O−イソバレリル
−4″−デオキシデスマイコシン32.8mgを得た。こ
れをシリカゲル(メルク社製、Art7747)2gの
カラムにチヤージし、クロロホルム−メタノール
(50:1〜10:1)で溶出するカラムクロマトグ
ラフイにより精製した。Rfa=0.36付近のスポツ
トのみを有するフラクシヨンを集め、減圧乾固し
て精製品15.2mg(収率15.2%)を得た。 TLC;Rfa=0.36 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.80(s.,3H,
12−CH3)、2.49(s.,6H,N(CH32)、3.39(s.,
3H,3″−OCH3)、3.42(s.,3H,2″−OCH3)、
4.17(d.,1H,H−1′)、4.62(d.,1H,H−1″)、
4.87(d.t.,1H,H−15)、5.17(d.d.,1H,H−
3)、5.96(d.,1H,H−13)、6.23(d.,1H,H−
10)、7.39(d.,1H,H−11)、9.69(s.,1H,
CHO)Mass(CI);840(MH+)、738(MH+−イ
ソ吉草酸)、563、174 実施例 5 3−O−ベンゾイル−4″−デオキシデスマイコ
シン 2′,4′−ジ−O−アセチル−4″−デオキシデス
マイコシン100mgをピリジン1mlに溶かし、これ
に無水安息香酸134.7mg(5当量)および4−ジ
メチルアミノピリジン14.5mg(等量)を加え、55
℃で21時間撹拌した。反応液を水にあけ、アンモ
ニア水で水層のPHを8〜9に調節した後、クロロ
ホルムで2回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ル(メルク社製,Art9385)10gのカラムにチヤ
ージし、ベンゼン−アセトン(20:1〜8:1)
で溶出するカラムクロマトグラフイーにより精製
した。Rfb=0.47付近のスポツトのみを有するフ
ラクシヨンを集め、減圧乾固して3−O−ベンゾ
イル−2′−4′−ジ−Oアセチル−4″−デオキシデ
スマイコシン33.5mgを得た。これをメタノール5
mlに溶かし、55℃で16時間加熱した後、減圧濃縮
した。残渣をクロロホルムに溶かし、希アンモニ
ア水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧乾固して3−O−ベンゾイル−4″−デオキシ
デスマイコシン27.7mg(収率27.1%)を得た。 TLC;Rfa=0.33 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1,83(s.,
12−CH3)、2.43(s.,N(CH32、3.39(s.,3″−
OCH3)、3.42(s.,2″−OCH3)、4.10(d.,H−
1′)、4.61(d.,H−1″)、4.91(t.d.,H−15)、
5.48
(d.d.,H−3)、6.02(d.,H−13)、6.25(d.,H
−10)、7.30〜7.60(m.,4H,H−11,フエニル
の3,4,5−プロトン)、7.95〜8.16(フエニル
の2,6−プロトン)、9.66(s.,CHO) Mass(CI);738(MH+−C6H5COOH)、174、
123 実施例 6 3−O−フエニルアセチル−4″−デオキシデス
マイコシン 2′−4′−ジ−O−アセチル−4″−デオキシデス
マイコシン100mgをジクロロエタン1mlに溶かし、
これにN,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド(DCC)49.1mg(2当量)、フエニル酢酸32.4
mg(2当量)および4−ジメチルアミノピリジン
14.5mg(当量)を加え、55℃で16時間撹拌した。
反応液を過し、過物をジクロロエタンで洗浄
後、液と洗液を合せて減圧濃縮して粗製の3−
O−フエニルアセチル−2′−4′−ジ−O−アセチ
ル−4″−デオキシデスマイコシンを得た。これを
展開溶媒ベンゼン−アセトン(4:1)を用いる
分取シリカゲル(メルク社製,Art5717、20×20
cm,1枚)薄クロマトグラフイーにより精製し
た。Rf=0.35付近のスポツトの部分をかき取り、
アセトンで溶出した。溶出液を減圧乾固して精製
品を得た。これをメタノール5mlに溶かし、55℃
で16時間加熱した後、反応液を減圧濃縮した。残
渣をクロロホルムで抽出し、希アンモニア水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧乾固
して3−O−フエニルアセチル−4″−デオキシデ
スマイコシン40mg(収率44.7%)を得た。 TLC;Rfa=0.38 Mass(CI);874(MH+)、856(MH+−18)、737
(MH+−137)、192、174、159、137、127 実施例 7 3−O−アセチル−19−デホルミル−4″−デオ
キシデスマイコシン 2′−4′−ジ−O−アセチル−19−デホルミル−
4′−デオキシデスマイコシン100mgをピリジン1
mlに溶かし、これに無水酢酸58μl(5当量)およ
び4−ジメチルアミノピリジン3mg(0.2当量)
を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液を希アン
モニア水中にあけ、クロロホルムで2回抽出し
た。クロロホルムを無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。残渣からピリジンを共沸によ
り除くためにベンゼン−エタノール(1:1)を
加えて減圧濃縮して粗製の3,2′,4′−トリ−O
−アセチル−19−デホルミル−4″−デオキシデス
マイコシンを得た。これを展開溶媒ベンゼン−ア
セトン(4:1)を用いる分取シリカゲル(メル
ク社製,Art5717,20×20cm,1枚)薄クロマト
グラフイーにより精製した。Rf=0.45付近のスポ
ツトのみをかき取り、アセトンで溶出した後、減
圧乾固して精製品を得た。これをメタノール10ml
に溶かし、55℃で16時間加熱した後、減圧乾固し
て3−O−アセチル−19−デホルミル−4″−デオ
キシデスマイコシン55mgを得た。 TLC;Rfa=0.50(19−デホルミル−4″−デオ
キシデスマイコシンRfa=0.46) NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.80(s.,3H,
12−CH3)、2.05(s.,3H,−COCH3)、2.50(s.,
6H,−N(CH32)、3.39(s.,3H,3″−OCH3)、
3.46(s.,3H,2″−OCH3)、4.18(d.,1H,1′−
H)、4.62(d.,1H,1″−H)、4.90(m.,1H,15
−H)、5.17(d.d.,1H,3−H)、5.93(d.,1H,
13−H)、6.21(d.,1H,10−H)、7.31(d.,1H,
11−H) Mass(CI);770(MH+)、710(MH+−60)、
190、174、159、127 実施例 8 3−O−プロピオニル−19−デホルミル−4″−
デオキシデスマイコシン 実施例7において、無水酢酸58μlの代りに無水
プロピオン酸76μlを用いて粗製の3−O−プロピ
オニル−2′−4′−ジ−O−アセチル−19−デホル
ミル−4″−デオキシデスマイコシンを得た。これ
を実施例7記載と同様にして分取シリカゲル薄ク
ロマトグラフイーにより精製した。精製品をメタ
ノール10mlに溶かし、55℃で16時間加熱した後、
減圧乾固して3−O−プロピオニル−19−デホル
ミル−4″−デオキシデスマイコシン47mgを得た。 TLC;Rfa=0.54 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.79(s.,3H,
12−CH3)、2.50(s.,6H,−N(CH32)、3.40(s.

3H,3″−OCH3)、3.46(s.,3H,2″−OCH3)、
4.17(d.,1H,1′−H)、4.62(d.,1H,1″−H)、
4.89(m.,1H,15−H)、5.19(d,d.,1H,3−
H)、5.93(d.,1H,13−H)、6.21(d.,1H,10−
H)、7.31(d.,1H,11−H) Mass(CI);784(MH+)、710(MH+74)、190、
174、159、127 実施例 9 3−O−ベンゾイル−19−デホルミル−4″−デ
オキシデスマイコシン 2′−4′−ジ−O−アセチル−19−デホルミル−
4″−デオキシデスマイコシン150mgをピリジン1.5
mlに溶かし、これに無水安息香酸209mg(5当量)
および4−ジメチルアミノピリジン22.6mg(2当
量)を加え、55℃で21時間撹拌した。反応液を水
にあけ、アンモニア水で水層のPHを9に調節した
後、クロロホルムで2回抽出した。抽出液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣
をシリカゲル(メルク社製,Art9385)10gのカ
ラムにチヤージし、ベンゼン−アセトン(20:1
〜12:1)で溶出するカラムクロマトグラフイー
により精製した。Rfb=0.6付近のスポツトのみを
有するフラクシヨンを集め、減圧乾固して3−O
−ベンゾイル−2′−4′−ジ−O−アセチル−19−
デホルミル−4″−デオキシデスマイコシン86.6mg
を得た。これをメタノール5mlに溶かし、55℃で
16時間加熱した後、反応液を減圧濃縮した。残渣
をクロロホルムに溶かし、7%アンモニア水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧乾固
して3−O−ベンゾイル−19−デホルミル−4″−
デオキシデスマイコシン69.2mg(収率45.0%)を
得た。 TLC;Rf=0.57 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.82(s.,12
−CH3)、2.44(s.,N(CH32)、3.39(s.,3″−
OCH3)、3.43(s.,2″−OCH3)、4.12(d.,H−
1′)、4.61(d.,H−1″)、4.91(t.d.,H−15)、
5.53
(d,d.,H−3)、5.98(d.,H−13)、6.24(d.,
H−10)、7.36〜7.57(m.,4H,H−11,フエニ
ルの3,4,5−プロトン)、7.90〜8.12(m.,フ
エニルの2,6−プロトン) Mass(CI);832(MH+)、710(MH+
C6H5COOH)、174、123 実施例 10 3−O−フエニルアセチル−19−デホルミル−
4″−デオキシデスマイコシン 実施例6において、2′−4′−ジ−O−アセチル
−4″−デオキシデスマイコシンの代りに2′−4′−
ジ−O−アセチル−19−デホルミル−4″−デオキ
シデスマイコシンを用いて粗製の3−O−フエニ
ルアセチル−2′−4′−ジ−O−アセチル−19−デ
ホルミル−4″−デオキシデスマイコシンを得た。
これを展開溶媒ベンゼン−アセトン(3:1)を
用いる分取シリカゲル(メルク社製,Art5717、
20×20cm,1枚)薄クロマトグラフイーにより精
製した。Rf=0.6付近のスポツトの部分をかき取
り、アセトンで溶出した。溶出液を減圧乾固して
精製品を得た。これを実施例6記載の方法に従つ
て脱アセチル化して3−O−フエニルアセチル−
19−デホルミル−4″−デオキシデスマイコシン20
mg(収率19.2%)を得た。 TLC;Rfa=0.58 NMR(100MHz,CDC13)δppm;1.78(s.,12
−CH3)、2.51(s.,N(CH32)、3.40(s.,3″−
OCH3)、3.46(s.,2″−OCH3)、3.61(s.,−
CH2C6H5)、3.90(d.,H−1′)、4.62(d.,H−
1″)、4.89(m.,H−15)、5.17(d.d.,H−3)、
5.91(d.,H−13)、6.20(d.,H−10)、7.27(s.,
フエニルのプロトン)、7.31(d.,H−11) Mass(CI);846(MH+)、7091、92、174、159、
137、127

Claims (1)

  1. デオキシデスマイコシン、3−O−フエニルアセ
    チル−4″−デオキシデスマイコシン、3−O−ア
    セチル−19−デホルミル−4″−デオキシデスマイ
    コシン、3−O−プロピオニル−19−デホルミル
    −4″−デオキシデスマイコシン、3−O−ベンゾ
    イル−19−デホルミル−4″−デオキシデスマイコ
    シンまたは3−O−フエニルアセチル−19−デホ
    ルミル−4″−デオキシデスマイコシンである特許
    請求の範囲第2項記載の化合物またはその塩。 4 式 (式中、R2は水素原子または−CHO基、R5
    水素原子または−OR4基、R4基は水酸基の保護
    基を示す)で表される化合物を不活性有機溶媒
    中、式 R1−COOH (式中、R1は低級アルキル、フエニルまたは
    フエニル−低級アルキル基を示す)で表されるカ
    ルボン酸またはその反応性誘導体で3位の水酸基
    をアシル化し、次いで水酸基の保護基を脱離化す
    ることを特徴とする式 (式中、R3は水素原子または水酸基を示し、
    R1およびR2は前記と同じ意味を有する)で表さ
    れる化合物またはその塩の製造法。 5 保護基が低級アルカノイル基である特許請求
    の範囲第4項記載の製造法。 6 低級アルカノイル基がアセチル基である特許
    請求の範囲第5項記載の製造法。 7 脱離化を含水していてもよい低級アルカノー
    ル中で加熱処理により行う特許請求の範囲第4項
    記載の製造法。 8 低級アルカノールがメタノールである特許請
    求の範囲第7項記載の製造法。
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