JPS6034985A - 23−アシルアミノ−23−デオキシデマイシノシル−デスマイコシン誘導体およびその製法 - Google Patents

23−アシルアミノ−23−デオキシデマイシノシル−デスマイコシン誘導体およびその製法

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JPS6034985A
JPS6034985A JP58144017A JP14401783A JPS6034985A JP S6034985 A JPS6034985 A JP S6034985A JP 58144017 A JP58144017 A JP 58144017A JP 14401783 A JP14401783 A JP 14401783A JP S6034985 A JPS6034985 A JP S6034985A
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formula
compound
reaction
acid
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JP58144017A
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English (en)
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Tatsuro Fujiwara
達郎 藤原
Hideyuki Watanabe
秀之 渡辺
Takao Hirano
孝夫 平野
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Toyo Jozo KK
Original Assignee
Toyo Jozo KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な23−アンルアミノ−23一デオキシ
デマイシノシルーデスマイコシン誘導体およびその製法
に関する。さらに詳しくは、本゛発明は、式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基、R2は
分備を有して−てもよいアルキル基才たは−A−Z・−
Ar基を示し、Aは分備を有していてもより低級アルキ
レン基、Zは単結合、酸素原子または硫黄原子、Ar1
d置換基を有して込てもよいフェニル、チーエニルまた
はフリル基、R3は水素原子寸たけ水酸基を示す)で表
わされる化合物またばその塩である。本発明は、また式
0式% (式中、R4は−CH0基または−CH<OR4□R4
□およびR4□は各々低級アルキル基、R5は水素原子
または−O曵基を示し、R6は水酸基の保護基を示し、
R□は前記と同じ意味を有する)で表わされるアミン化
合物を式 %式% (式中、R2は前記と同じ意味を有する)で表わされる
カルボン酸またはその反応性誘導体でN−アシル化して
、式 (式中、Rs 、R2、R4、RsおよびR6は前記と
同じ意味を有する)で表わされる化合物を得、次いで該
化合物〔10〕の水酸基の保護基を脱離化し、<R“′ R4が−CH(式中、R4□およびR4゜は前記42 と同じ意味を有する)基である場合には、脱アセタール
化することを特徴とする式〔l〕で表わされる化合物ま
たはその塩の製法も包含される。 上記の塩としては医薬上許容できる塩である。 このような適当な塩としては、塩酸、硫酸、リン酸など
の無機酸との塩、酢酸、プロピオンば、酒石酸、クエン
酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などの有機酸との塩が包含される。その他の非毒性塩
も包含される。 上記の新規化合物〔1〕は、ダラム陽性菌に対して既知
のタイロシンよシも強い抗菌活性を有するばかシでなく
、生体内でも安定であるので、臨床上優れた感染治療効
果の期待される抗菌剤である。 また、動物用感染治療剤、感染予防あるいけ生育促進の
ための飼料添加剤としても有用である。 本発明で使用されるアミン化合物〔8〕は、次の方法に
よシ製造される。 CA〕R,が水素原子であるアミン化合物〔8〕、即ち
、式 (式中、R4、R5およびR6は前記と同じ意味を有す
る)で表わされるアミノ化合物。 上記のアミン化合物〔8勺は、式 (式中、R7け置換基を有していてもよいフェニル基を
示し、R4、R5およびR6は前記と同じ意味を有する
)で表わされるスルホニル化合物〔特願昭57−207
950号〕を不活性有機溶媒中(式中、R4、R5およ
びR6は前記と同じ意味を有する)で表わされるアジド
化合物を得、該化合物〔6〕をトリフェニルホスフィン
で還元することによシ得られる。 上記のスルホニル化合物〔5〕は、式 (式中、R3は水素原子または水酸基を示す)で表わさ
れる化合物、即ちR3が水酸基である場合にld、23
−fマイシノンルデスマイコシン〔Tetrahedr
on Letters、4737 (1970) )、
R3が水素原子である場合には23−デマイシノシルー
4′−デオキシデスマイ゛コシ7 [: J、Anti
biotics、 34(’10)、1374〜137
6 (1981)、特開昭57−28100号〕をその
2′位および4′位の水酸基または2′位の水酸基を適
当な保護基で保護し、場合により、さらにそのアルデヒ
ド基をアセタール化によシ保護した式 (式中、R4、R5およびR6は前記と同じ意味を有す
る)で表わされる化合物を式 %式%:4) (式中、R7は前記と同じ意味を有する)で表わされる
スルホニルハライドで23位の水酸基をスルホニル化す
ることにより得られる。 上記の水酸基の保護基としては、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリルなどの低級アルカノイル基、クロロアセチ
ル、ジクロロアセチル、ト1ノクロロ。 アセチル、トリフルオロアセチル 化アセチル基などが承けられるが、特にアセチル基が好
捷しい。 上記アセチル基の導入は、上記23−デマイシノシルデ
スマイコシン誘導体〔2〕に不活性有機溶媒中無水酢酸
を反応させることにより行われる。 不活性有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン、アセトンなど75= 好−iしい
。反応は室温で充分に進行する。反応経過はシリカゲル
などの薄層クロマトグラフィー(T LC)高速液体ク
ロマトグラフィー(H.PI,C)などにより追跡でき
るので、前記化合物〔2〕の消失を待って、適宜反応を
終了すればよい。 反応液から反応生成物の式 (式中、R5およびR6は前記と同じ意味を有する)で
表わされる化合物(R4が一CHO基である化合物〔3
〕)を採取するには、反応液に水を加え、pH 8〜9
5のアルカリ性下、非親水性有機溶媒、例工ばクロロホ
ルム、ジクロロエタン、メチルインブチルケトン、酢酸
エチル、酢酸ブチルなとで抽出することにより行われる
。さらに精製を必要とする場合には、シリカゲル、活性
アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて、適当な溶媒
、例えばベンゼン−アセトン系溶媒、クロロホルム−メ
タノール系溶媒などで溶出するカラムクロマトグラフィ
ーにより精製することができる。 \上記のアセタール
化け、アシル誘導体〔3つを公。 知のアセタール化法によシ行われる。例えばトリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、p−)ルエンスルホン酸など
の酸の存在下、メタノール、エタノ− ルなどの低級ア
ルコールを反応させることにより行われる。得られたア
セタール誘導体、即ちR。 方法と同様にして行うことができ、さらに必要に応じて
精製する場合にも、前記と同様な方法で精製することが
できる。 化合物〔3〕の23位の水酸基のスルホニル化は、化合
物〔3〕を有機溶媒中塩基の存在下スルホニル・・ライ
ド〔4〕を反応させることにより行われる。 スルホニルハライドC4] トしてはトルエンスルホニ
ルハライド、例えばp−トルエンスルホニルクロライド
、p〜トルエンスルホニルブロマイド、ニトロベンゼン
スルホニルノ・ライト、l(’llirt’ p −ニ
トロベンゼンスルホニルクロライド、p−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライドなどが$ケられる。塩基として
は公知の第3級有機アミンが用いられる。有機溶媒とし
ては、ジクロロメタン、クロロホルム、シフ0ロエタン
、ベンゼン、ナト2ヒドロフラン、ジオキサンなどが挙
げら九るが、ピリジンは塩基としても共用できる。上記
のスルホニル化は通常室温で充分に進行するので、TL
C。 HPLCなどにより反応を追跡することにより化合物〔
3〕の消失を待って適宜反応を終了すればより0反応液
から生成したスルホニル化合物〔5〕を採取し、さらに
必要に応じ精製する場合には、前記のアシル誘導体〔3
勺を採取する方法および精製方法と同様にして行うこと
ができる。 スルホニル化合物〔5〕からアジド化合物〔6〕を得る
には、スルホニル化合物〔5〕に有機溶媒中アジ化アル
カリ、例えばNaN3、KN3などを加熱上反応させる
ことによシ得られる。有機溶媒としてはジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド(HMPA)、ジメチルホルホキンド、ジオキサ
ンなどが挙げられる。 反応温度としては、上記有機溶媒の沸点またはキル以下
の温度で行われるが、通常60〜110℃程度である。 反応経過i”tTLc、HPLCなどによ多追跡できる
ので、アジド化合物〔6〕が最大に生成されるのを待っ
て適宜反応を終了すればよい。 反応液からアジド化合物を〔6〕を採取するには、反応
液を水にあけ、非親水性有機溶媒によシ抽出することに
より得られる。さらに必要に応じ精製する場合には、シ
リカゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用い
て、適当な溶媒で溶出するカラムクロマトグラ−によシ
精製することができる。 次に、アジド化合物〔6〕を還元してアミン化合物〔8
勺を得るのであるが、上記の還元は有機溶媒中トリフェ
ニルホスフィンを反応させ続いてアルカリ加水分解する
ことによジ行われる。上記の有機溶媒としてはピリジン
などが挙げられる。還元反応は通常は室温で充分に進行
し、T L CXHPLCなどにより追跡できるので、
アミン化合物〔8′〕が最大に生成されるのを待って適
宜反応を終了すればよい。反応液からアミン化合物〔8
′〕を採取するには、前記のアシル誘導体〔3つを採取
する方法と同様にして行うことができる。 このようにして得られたアミン化合物〔81〕は、さら
に精製する仁となく、次のN−アシル化反応に用いるこ
とができ、る。 [B]R1が低級アルキル基である出発物質〔8〕、(
式中、R,iは低級アルキル基を示し、R4、R5およ
びR6は前記と同じ意味を有する)で表わされるアミン
化合物。 上記のアミン化合物〔8′つは、前記スルボニル化合物
〔5〕を有機溶媒中加熱下式 %式%[7 (式中、R,□け低級アルキル基を示す)で表わされる
アミンでアミン化することにょ9得られる。 上記のアミン〔7〕としては、メチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、インブチルアミン、ブチルアミ
ン、インブチルアミン、L−ブチルアミンなどが挙げら
れる。メチルアミンの如キ極めて沸点の低いアミンを用
いる場合には、塩酸塩の如き塩の形で使用し、スルボニ
ル化合物〔5〕との反応の際に、封閉可能な反応容器内
でアルカリで中和して使用すればよい。 上記の有機溶媒としては、スルホニル化合物〔5〕とは
不活性であり、アミン〔7〕を混合吸収できるような溶
媒が使因られる。反応温度としては、上記有機溶媒の沸
点またはそれ以下の温度で行われるが、通常60〜11
0’c程度である。反応経過けTLC,)IPLCなど
により追跡できるのでアミン化合物〔8“〕が最犬に生
成されるのを待って適宜反応を終了すればよ−。反応液
からアミン化合物〔8勺を採取するには、前記のアシル
誘導体〔3′〕を採取する方法と同様にして行うことが
できる。 次に、アミン化合物〔8〕、即ちアミン化合物〔8′〕
および〔8“〕の〕N−アシルは、アミン化合物〔8〕
にカルボン酸
〔9〕またはその反応性誘導体を反応させ
ることにより行われる。 上記カルボン酸
〔9〕としては、炭素数7個までの飽和
脂肪酸、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イン酪酸、
吉草酸、イソ吉草酸、ビバル酸、ヘキサン酸、ヘプタン
酸、オクタン酸などが挙げられる。 また、他のカルボン酸の例としては、 Ar −A −C0OH。 Ar−0−A −C0OHまたは Ar−8−A−COOH で示されるカルボン酸が挙げられる。上記のAは分銀を
有していてもよい低級アルキレン基、特に1〜3個のア
ルキレン基が好ましく、例えばメチレン、エチレン、メ
チルメチレン、エチルメチレン基などが挙げられる。上
記のAr基は置換基を有していてもよいフェニル、チェ
ニルまタハフリル基である。特にフェニル基は低級アル
キル、低級アルコキ7、ニトロ基、ハロゲン原子を1〜
3個置換されていてもよい。 上記の反応性誘導体としては、N−アシル化に使用でき
る公知のアシル化剤であって、例えば酸・・ライド、酸
無水物、混合酸無水物、活性エステルなどが挙げられる
。上記以外にも業界で知られている他のアシル化剤も使
用することができる。 カルボン酸
〔9〕をそのま\の状態で使用する場合には
、N、N’−シンクロへキシルカルボジイミド(DCC
)、N、N’−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)カ
ルボジイミド、N−シクロへキシル−N’−2−(モル
ホリル−4)エチル−カルボジイミド、N−エチル−N
’−3−ジメチルアミンプロピル−カルボジイミドなど
のカルボジイミド、l、1′−カルボニルジイミダゾー
ル、1,1′−チオカルボニルジイミダゾールなどのカ
ルボニルジイミダゾールなどの縮合剤や他のN−アシル
化に使用される公知の縮合剤を使用してアシル化される
。上記の縮合剤を周込るアシル化反応におりでは、4−
ジメチルアミノピリジンなどの触媒を用−てもよい。 アシル化反応は、通常非プロトン性溶媒中で行−bhる
。非フロトン性溶媒としてはジクロロメタン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、テトクヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼンなどが挙げられる。上記反応は通常室温で
充分進行するので、反応速度が早過ぎたり、あるいけ遅
過ぎたりしない限シは冷却したり、加温したりする必要
はない。 反応の経過はTLC,HPLCなどにより追跡できるの
で、式 (式中、R1、R2、R4、R5およびR6は前記と同
じ意味を有する)で表わされる化合物が最大に生成され
るのを待って適宜反応を終了すればよい。 上記生成物〔10〕を反応液から採取するには、反応溶
媒が非親水性有機溶−媒である場合には、p)I8〜9
5のアルカリ水溶液下抽出操作することにより行われ、
反応溶媒が親水性有機溶媒である場合には、上記溶媒を
留去し、非親水性有機溶媒に換えて、上記の抽出操作を
行えばよい。さらに精製を必要とする場合には、アシル
誘導体〔3つの製造につめて述べたと同様にカラムクロ
マトグラフィーにより精製することができる。 次に、生成物〔lO〕の2位および4′位の水酸基の保
護基、特にアセチル基を脱離化するのであるが、この脱
離化は含水していてもよい低級アルコール中で加熱処理
することにより行われる。低級アルコールとしてはメタ
ノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメタノー
ルが好ましい。上記の反応はTLC,HPLCなどによ
シ追跡できるので、化合物〔10〕の消失を待って適宜
反応を終了すればよめ。 このようにして得られた反・応生成物を反応液から採取
するには、低級アルコールを留去し、pH8〜9.5の
アルカリ性下非嫂水性壱機溶媒、例えばクロロホルム、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、メチルイソブチルケ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することによ
り行われる。 上記反応生成物はそのアルデヒド基がアセタール化によ
り保護されている場合には、酸性水で加水分解すること
によシ脱アセタール化することができる。得られた反応
生成物は、上記と同様に反応液から採取することができ
る。 上記の脱アセタール化は、前記の水酸基の保護基の脱離
化する工程の前に行ってもよい。 このように(7て得られた目的化合物〔1〕は、ざらに
精製を必要とする場合には、シリカゲル、活性アルミナ
、吸着樹脂などの吸着剤を用いるカラムクロマトグラフ
ィーの手段を用いることにょシ精製することができる。 次に、本発明の目的化合物〔1〕の微生物生育最少阻止
濃度(MJa C)を測定L=f′C,結果は、第1表
の通りである。 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。尚、参考例および実施例中のRf 値
は、特記しない限シ次の担体および展開溶媒を周込るT
LCにより測定したものである。 担体;メルク社製D C−Fertigplatten
kiesl gel 60F254 、 Art 57
15展開溶媒; a;ベンゼン−アセトン(3: 1) b;ベンゼン−アセトン(5: l) C;クロロホルム−メタノール−濃アンモニア水(15
0:10:1) d:ヘキサンーベンゼンーアセトンー酢酸エチル−メタ
ノール(90:80:25:60:30)e;クロロホ
ルム−メタノール−酢酸−水(80ニア:7:l:) 参考例 l 。 z、4′−ジーO−アセチルー23−デマイシ/ シ/
l/ −23−0−) ゾルデスマイコシン2’、4’
−ジ〜O−アセチルー23−デマイシノシルデスマイコ
ンン6.03 g(8,35mM)およびp−トルエン
スルホニルクロライド2.53.!?(15当量)をピ
リジン3 Q mlに溶かし、室温で5時間攪拌した。 反応液を7チアンモニア水でpH9〜IOに調節した水
600 ml中にゆつ〈9滴下し、しばらく攪拌した後
、上澄液をデカンテーションによシ除去し、残1査をク
ロロホルム500m1に溶解した。クロロホルム溶液に
水50m1を加え、IN塩酸でpH2に調節し、洗浄し
、さらに水50m1で2回、7チアンモニア水で1回、
水300m1で3回の順で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下クロロホルムを留去して淡黄
色の泡状固体の27 、4/−ジーO−アセチルー23
−テマイシノシルー23’−0−)ゾルデスマイコノン
5.92.9を得た。TLC; Rfb=0.38参考
例 2 2/ 、 4/−ジー0−アセチル−23−アミノ−2
3−デマイシノシルー23−デオキシデスマイコシン 2/ 、 4/−ジー0−アセチル−23−デマイシノ
ンル〜23−0−)ンルデスマイコシン2.0.9 ヲ
ヘキサメチルホスホルアミド(L(MPA)l Oml
に溶かし、これにNaN3780Tn? (5倍モル)
を加え、60℃で1時間攪拌した。反応液を水200m
1にあけ、生じた沈澱物を沢取し、これをクロロホルム
で抽出した。抽出液を水洗し、無水芒硝で乾燥後、減圧
上溶媒を留去して粗製の2/ 、 47−ジーO−アセ
チル−23−アジド−23−デマイ/ノシルー23−デ
オキシデスマイコシン(TLC;Rfa= 0.52)
 1.92jiを得た。これをピリジン5mlに溶かし
、この溶液にトリフェニルホスフィン1.27.9(1
,5倍モル)を加え、室温で2時問責拌した後、濃アン
モニア水0.15 mlを加え、室温で2時間攪拌した
。反応液に水75m1を加え、IN塩酸でpH2に調節
した後、ベンゼン75m1で3回洗浄した。水層を譲ア
ンモニア水でpH9に調節し、生じた沈澱物を戸数した
後、クロロホルムで抽出した。この抽出it水洗し、無
水芒硝で乾燥後、減圧乾固して2’ 、 4’−ジー0
−アセチル−23−アミノ−23−デマイシノシルー2
3−デオキシデスマイコンンの粗粉末161gを得た。 TLC;Rfa−原点、Rfe = 0.37ニンヒド
リン反応;陽性 実施例 1 23−アセチルアミノ−23−デマイシノシルー23−
デオキシデスマイコシン 参考例2で得たz、4′−ジーO−アセチルー23−ア
ミノ−23−デマイシノシルー23−デオキシデスマイ
コシン100m9に塩化メチレン05m1.無水酢酸2
8μlおよびピリジン30μlを加え、室温で1時間反
応させた。反応後、溶媒を減王下留去し、残渣を展開溶
媒dを用める分取シリカゲル(メルク社製、Art 5
717 、20X20crn。 1枚)薄層クロマトグラフィーにより精製した。 1(7’= 0.45付近のスポットの部分をかき取り
、アセトンで抽出した。抽出液を減圧濃縮し、残渣をメ
タノール5 mlに溶かし、55℃で5時間攪拌した後
、反応液を減圧乾固して目的物32m9を得た。 ’f’ L Cz Rf c−o、 39IR;166
0Crn ’(アミ ド)Ma ss (CI) ; 
639 (MH+)、621.430.19 2、17
4 NMR(100MH2,CDCl 3)δppm ; 
1.80 (s、、3H)、1.95 (s、、3H、
−C0CH5)、2.50 (s、、6H)、4.25
(d、、LH、H−1’)、 4.79(m、、IH、
H−15) 、5.7(2H、H−13,−NH−)、
 6.30 (d、、LH、H−10)、 7.28 
(d、、tH、H−11)、 9.69 (s、。 IH、CHO) 実施例 2 23−フェニルアセチルアミン−23−デマイシノンル
ー23−デオキシデスマイコンン参考例2で得た21 
、4/−ジー0−アセチル−23−アミノ−23−デマ
イシノンルー23−デオキシデスマイコ7ン1001n
9に乾燥塩化メチレン0、5 mlおよびフェニル酢酸
30711i’ (1,5倍M) を加え、これに0℃
に冷却下DCC45■を乾燥塩化メチレン0.5 ml
に溶解した溶液0.4 mlを加え、室温で2時間攪拌
した。反応後、不溶物を濾過し、クロロホルムで洗浄し
た。洗液と反応v5液を合せて薄アンモニア水で洗浄し
た。有機溶媒層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
上溶媒を留去した。残渣を展開溶媒dを用いる分取シリ
カゲル(メルク社製、Art 5717.20X20L
ynX 1枚)薄層クロマトグラフィーにより精製した
。Rf =0.55付近のスポットの部分をかき取す、
アセトンで溶出した。溶出液を減圧乾固した後、メタノ
ール5 mlに溶かし、55℃で5時間攪拌した後、反
応液を減圧乾固して目的物33.8 In9を得た。 TLC; Rfc = 0゜44 IR; 1660Lyn−’ (アミド)Mass(C
Lイソフ゛タン) : 715 (MH+)、6986
53.506.192.174.137.136NMR
(100MH2,CDCl5)δppm;l 、 66
 (s、。 3H) 、2.50(s、、 6H) 、3.52 (
s、、 2H。 −Co弛C6H3) 、4.25 (a、、 IH、H
−1′>、4.76 (m、、 LH)、5.49 (
2H、H−13,−Nf(→、6.25 (d、、 t
H)、7.0〜7.5 (m、、 6f(、H−11゜
IH フェニルプロトン)、9.70 < s、’;duo)
実施例 3 23−(チオフェン−2−イルアセチルアミノ)−23
−y’マイジノンルー23−デオキシデスマイコシン 参考例2で得たz、4′−ジー0−アセチル−23−ア
ミノ−23−デマイシノシルー23−デオキシデスマイ
コシン100 m9に乾燥塩化メチレン0、5 mlお
よび2−チェニル酢酸311n9を加え、これに0℃に
冷却下DCC45m9を乾燥塩化メチレンQ、 5 m
lに溶解した溶液0.4 mlを加え、室温で2時間攪
拌した。反応後、不溶物を濾過し、クロロホルムで洗浄
した。洗液と反応ろ液を合せて希アンモニア水で洗浄し
た。有機溶媒層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
上溶媒を留去した。残渣を展開溶媒dを用いる分取シリ
カゲル薄層クロマトグラフィーによシ精製した。R,f
二0.53付近のスポットの部分をかき取り、アセトン
で溶出した。溶出液を減圧乾固し、残渣をメタノール5
mlに溶かし、55℃で一夜攪拌した後、反応液を減圧
濃縮した。残渣をクロロホルム−メタノール−濃アンモ
ニア水(150:10:l)を用いる分取シリカゲル薄
層クロマトグラフィーにより精M L fc。R/=0
.45付近のスポットの部分をクロロホルム−メタノー
ル(1: 1)で溶出し、溶出液を減圧乾固して目的物
22rn9を得た。 Mass(CLイソブタン) ; 721 (Mu+)
、703.512.192.174.143 NiV[R(100MHz、CDCl5) δppm 
; 1.71 (s、+3H)、2.50 (s、、 
6H)、3.74 (s、 、 2 H、−COCi(
2→、4.25 (d、、 l H)、4.77(m、
 、 I H)、5.52(d、。 IH)、5.66 (br、、 I H、−NL(−)
、6.26 (d、。 if(’) 、6.8−7.0 (m、、 2 H)、
7.20 (d、、 IH)、7.22 (m、、 I
H)、9.70 (s、、 I H)実施例 4 23−ヘプタノイルアミノ−23−デマイ/ノシルー2
3−7’オキシデスマイコシン参考例2で得た2/ 、
+ 4/−ジーO〜アセチルー23−アミノ−23−デ
マイシノシルー23−デオキシデスマイコンン100#
+9に乾燥塩化メチレン0.5 mlおよびヘプタン酸
35μlを加え、これに0℃に冷却下D CC4’5 
mg@乾燥塩化メチレン05m1に溶解した溶液0.4
 mlを加え、室温で15時間攪拌した。反応後、不溶
物を沖過し、クロロホルムで洗浄した。洗液と反応涙液
を合せて希アンモニア水で洗浄し、有機溶媒層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去した。残渣
をベンゼン−アセトン(2: 1)を用いる分取シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィーによシ精製した。Rf =
 0.4付近のスポットの部分をかき取シ、アセトンで
溶出し、溶出液を減圧乾固した。残渣をメタノール5 
mlに溶かし、55℃で一夜攪拌した後、反応液を減圧
乾固して目的物40■を得た。 Mass(CI、インブタン) ; 723 (Ml(
+)、705.514.192.174 NMR(100MHz 、CDCl5)δppmに1.
25 (−CH2−)、1.79 (s、、 3H)、
2.50 (s、、6瓜4.26 (d、、 1 )I
)、4.80 (m、、 L H)、5.63(IH,
−N*−) 、5.66 <d、、IH) 、6.30
(d、、 I H)、7.28 (d、、 I H)、
9.70(S−。 IH) 特許出願人 東洋醸造株式会社 ・代辰者高田哲男 手続補正書 昭和59年P月 3゜日 昭和5g年特許願第11グ0/7号 ノ 発明の名称 23−アシルアミノ−23−デオキシデマイシノシルー
デスマイコシン誘導体およびその製法 3、補正をする者 事件との関係人 特許出願人 住所 静岡県田方郡大仁町三隔632番地の/ (自 発) 乙、 補正の内容 明細書第2グ頁第1表中の、試験菌が5trept、 
pyogenes1022であり、被験薬がタイロシン
である場合(対照の欄の下より3行)の「25」を、 「〉10O」と訂正する。 同第25頁第7行の r Kiesl gel Jを 「Kiesel gel Jと訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)、式 (式中、R1−は水素原子または低級アルキル基、R2
    け分銀を有していてもよいアルキル基または−A −Z
     −Ar基を示し、八は分銀を有してbてもよい低級ア
    ルキレン基、Zは単結合、酸素原子または硫黄原子、A
    rは置換基を有して−てもよいフェニル、チェニルまた
    はフリル基、R3は水素原子または水酸基を示す)で表
    わされる化合物またはその塩。 2)、式 (式中、RIは水素原子または低級アルキル基、0R4
    L R4は−CUO基または−CH\ 基、R4□およR4
    2 びR4□は各々低級アルキル基を示し、R5は水素原子
    または−CH3基を示し、R6は水酸基の保護基を示す
    )で表わされるアミン化合物を式%式%) (式中、R2は分銀を有して込でもよいアルキル基また
    は−A −Z −Ar基を示し、Aは分銀を有していて
    もよい低級アルキレン基、Zけ単結合、酸素原子または
    硫黄原子、Arは置換基を有していてもよいフェニル、
    チェニルまたはフリル基ヲ示す)で表わされるカルボン
    酸またはその反応性誘導体でN−アシル化して、式 (式中、R1、R2、R4、R5およびR6は前記と同
    じ意味を有する)で表わされる化合物を得、次いで該化
    合物の水酸基の保護基を脱離化し、R4が化することを
    特徴とする式 (式中、R3は水素原子または水酸基を示し、R□およ
    びR2は前記と同じ意味を有する)で表わされる化合物
    捷たはその塩の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006078032A1 (ja) * 2005-01-24 2006-07-27 Microbial Chemistry Research Foundation 抗ペニシリン耐性肺炎球菌剤及び新規16員環マクロライド誘導体
CN108299531A (zh) * 2018-01-23 2018-07-20 郑州大学 甲哌泰万菌素可药用盐及其制备方法

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