JPH03117546A - ノッチ研削盤 - Google Patents
ノッチ研削盤Info
- Publication number
- JPH03117546A JPH03117546A JP2163942A JP16394290A JPH03117546A JP H03117546 A JPH03117546 A JP H03117546A JP 2163942 A JP2163942 A JP 2163942A JP 16394290 A JP16394290 A JP 16394290A JP H03117546 A JPH03117546 A JP H03117546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- grinding
- notch
- axis
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/065—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54493—Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し産業上の利用分野」
本発明はノツチ研削盤に関し、特にシリコンウェファの
ようなウェファのための研削機に関する。
ようなウェファのための研削機に関する。
E従来の技術]
周知のように、半導体チップの製作に使用されるシリコ
ンウェファのようなウェファの周縁部を研削するための
縁部研削盤は様々な型式のものが提示されている。例え
ば米国特許第4.638゜601号は、曲線プロフィル
とフラットを備えるようにウェファの局面を研削するた
めの縁部研削盤を記載する。又1990年4月11日出
願のヨーロッパ特許出願用90 303 898.2号
及びこれに対応する1990年4月出願の日本出願は、
ウェファの縁部にフラットを形成できる自動縁部研削盤
を記載する。
ンウェファのようなウェファの周縁部を研削するための
縁部研削盤は様々な型式のものが提示されている。例え
ば米国特許第4.638゜601号は、曲線プロフィル
とフラットを備えるようにウェファの局面を研削するた
めの縁部研削盤を記載する。又1990年4月11日出
願のヨーロッパ特許出願用90 303 898.2号
及びこれに対応する1990年4月出願の日本出願は、
ウェファの縁部にフラットを形成できる自動縁部研削盤
を記載する。
[発明が解決しようとする課題」
半導体チップを製作するためのウエフ/の後の製造工程
においては、場合によって、1クエフアの識別と位置決
めのためにその周縁部にノツチを付けることが要求され
る。従来そのようなノツチの形成には、ウェファ周縁部
の研削とは別個の作業が必要とされた。しかしそのため
には出費を伴なう余分な機械装置を備えなければならず
、又適正にノツチを形成するための移送と割出しに付随
する問題点も生じてくる。
においては、場合によって、1クエフアの識別と位置決
めのためにその周縁部にノツチを付けることが要求され
る。従来そのようなノツチの形成には、ウェファ周縁部
の研削とは別個の作業が必要とされた。しかしそのため
には出費を伴なう余分な機械装置を備えなければならず
、又適正にノツチを形成するための移送と割出しに付随
する問題点も生じてくる。
そこで本発明の目的は簡単且つ経済的な方式でウェファ
の周縁部にノツチを形成できるようにすることである。
の周縁部にノツチを形成できるようにすることである。
本発明の他の目的は正確な寸法のウェファのノツチを形
成できるようにづ゛ることである。
成できるようにづ゛ることである。
本発明の更に他の目的は周縁部にノツチを備えるウェフ
ァの研削に必要な機械装置を削減することである。
ァの研削に必要な機械装置を削減することである。
[課題を解決するための手段]
そのために本発明は、要約していうと、ハウジング、こ
のハウジング内に回転可能に装架されて第1軸心周りで
回転してウェファの周縁部を研削する研削ホイール、及
び、ハウジング上に装架され、研削ホイールから離間し
た平面内にあり且つ第1軸心と平行な第2軸心周りで回
転してウェファにノツチを研削する研削バーを備λ、る
ノツチ研削盤を促供する。
のハウジング内に回転可能に装架されて第1軸心周りで
回転してウェファの周縁部を研削する研削ホイール、及
び、ハウジング上に装架され、研削ホイールから離間し
た平面内にあり且つ第1軸心と平行な第2軸心周りで回
転してウェファにノツチを研削する研削バーを備λ、る
ノツチ研削盤を促供する。
ノツチを研削するために研削バーをウェファに整合させ
ることと、ウエフ?周縁部を研削するために研削ホイー
ルをウェファに整合させることとを選択的に行うために
ハウジングはウェファに対し可動であるように装架され
る。
ることと、ウエフ?周縁部を研削するために研削ホイー
ルをウェファに整合させることとを選択的に行うために
ハウジングはウェファに対し可動であるように装架され
る。
つIファが垂直軸心周りで回転するように回転チャック
上に取付けられる場合、研削ホイールと研削バーとはそ
のウェファの軸心と共通の1つの平面内の相互に平行な
軸心上に装架される。更に、ウェファの周縁部を研削す
るためチャックに対し接近及び離遠する両方向にウェフ
ァ軸心に直角な行路に沿ってハウジングを動かす装備が
備えられる。又ウェファにノツチを研削するためチャッ
ク上のウェファの周縁部に研削バーを整合させるように
そのバーの軸心に沿ってハウジングを動かず別の装備が
備えられる。
上に取付けられる場合、研削ホイールと研削バーとはそ
のウェファの軸心と共通の1つの平面内の相互に平行な
軸心上に装架される。更に、ウェファの周縁部を研削す
るためチャックに対し接近及び離遠する両方向にウェフ
ァ軸心に直角な行路に沿ってハウジングを動かす装備が
備えられる。又ウェファにノツチを研削するためチャッ
ク上のウェファの周縁部に研削バーを整合させるように
そのバーの軸心に沿ってハウジングを動かず別の装備が
備えられる。
使用される場合、最初に研削バーがつ丁ファの周縁部に
整合させられ、そしてハウジングがウエフ?の方へ動か
される。そこでそのバーは、チャックによって静止位置
に保持されたウェファの周縁部に半円形のノツチを研削
することができる。
整合させられ、そしてハウジングがウエフ?の方へ動か
される。そこでそのバーは、チャックによって静止位置
に保持されたウェファの周縁部に半円形のノツチを研削
することができる。
この後ハウジングが例えば垂直方向に動かされC研削ホ
イールをウエフ?に整合させる。それから研削ホイール
はウェファに接触させられ、そしてチャックが回され、
これにより通常のようにウェファの周縁部が研削ホイー
ルによって研削される。
イールをウエフ?に整合させる。それから研削ホイール
はウェファに接触させられ、そしてチャックが回され、
これにより通常のようにウェファの周縁部が研削ホイー
ルによって研削される。
あるいは又ウェファ周縁部の研削を最初に行い、その後
でノツチの形成を行うようにすることもできよう。
でノツチの形成を行うようにすることもできよう。
添付図面と関連して以下に続ける詳細な説明から本発明
のそれらの及びその他の目的及び利点が更に明らかにな
ろう。
のそれらの及びその他の目的及び利点が更に明らかにな
ろう。
[実施例1
第1図において、研削盤上では、1990年4月11日
出願の共願第90 303 898.2号に記載の平型
研削ステージ組立体の型式のものとすることができる。
出願の共願第90 303 898.2号に記載の平型
研削ステージ組立体の型式のものとすることができる。
そこでその出願と共通する諸部品についての詳述はここ
では行わない。
では行わない。
第1図に示されるように、研削盤上では真空チャックの
ような保持装備12を有し、これによってウエフ?Wを
保持して固定軸心13周りで回転さUる。
ような保持装備12を有し、これによってウエフ?Wを
保持して固定軸心13周りで回転さUる。
史に研削盤上では、ウェファWの周縁部を研削する研削
ホイール14を有する。この研削ホイール14はスピン
ドルハウジング15に回転可能に装架され、そしてモー
タMにより駆動されてウェファWの軸心13に平行な垂
直軸心周りで回転する。モータMと研削ホイール14の
スピンドルとの間の結合は米国特許第4.638.60
1号に記載されているのと同様に行われる。
ホイール14を有する。この研削ホイール14はスピン
ドルハウジング15に回転可能に装架され、そしてモー
タMにより駆動されてウェファWの軸心13に平行な垂
直軸心周りで回転する。モータMと研削ホイール14の
スピンドルとの間の結合は米国特許第4.638.60
1号に記載されているのと同様に行われる。
スピンドルハウジング15は、例えばこのハウジングの
両側に1対ずつ備えられるボルト19によってキャリジ
16に固定される。又図示されているようにスピンドル
ハウジング15は、これの基本的な位置決めと支持を行
うピボットビン20と係合している。スピンドルハウジ
ング15の頂縁部に整合バー17が突当っており、この
整合バーは、ハウジング15が取外されてから再取付け
される際に元の位置に正確に整合させる。整合バー17
は最初の整合プロセスが完了した後で設定される。
両側に1対ずつ備えられるボルト19によってキャリジ
16に固定される。又図示されているようにスピンドル
ハウジング15は、これの基本的な位置決めと支持を行
うピボットビン20と係合している。スピンドルハウジ
ング15の頂縁部に整合バー17が突当っており、この
整合バーは、ハウジング15が取外されてから再取付け
される際に元の位置に正確に整合させる。整合バー17
は最初の整合プロセスが完了した後で設定される。
研削W上では、回転しているウェファWの周縁部を研削
するためにウェファ軸心13に直角な軸心又は行路に冶
って1−ヤリジ16を、従っで研削ホイール14を動か
すための第1の装置i21、そして又、静止位置のウェ
ファの周縁部上に少なくとも1つのフラットを研削する
ために上記第1の行路に直角な第2の軸心又は行路に沿
ってキャリジ16を、従って研削ホイール14を動かす
ための第2の装備22を備える。
するためにウェファ軸心13に直角な軸心又は行路に冶
って1−ヤリジ16を、従っで研削ホイール14を動か
すための第1の装置i21、そして又、静止位置のウェ
ファの周縁部上に少なくとも1つのフラットを研削する
ために上記第1の行路に直角な第2の軸心又は行路に沿
ってキャリジ16を、従って研削ホイール14を動かす
ための第2の装備22を備える。
第1図に示されるように、フラットを形成するようにキ
ャリジ16を動かす装備22は1対の水平方向に平行に
設置された案内レール23を含み、これによってキャリ
ジ16を摺動案内する。案内レール23はそれぞれの両
端部がブラウット24内に固定され、これらブラケット
は水平な支持プレート25上に固定されている。更にプ
レート25上にはステッパモータ(図示せず)が装架さ
れ、キャリジ16と結合されてその4ヤリジを案内レー
ル23に沿って動かす。このキャリジの駆動を行うため
に、上記ステッパモータは支持プレート25に固定のブ
ラケット24に備えた軸受内に枢架される回転送りネジ
(図示けず)に結合される。こうしてその送りネジが回
されるとキャリジ16は送りネジに沿って直線的に勅か
される。センサー58(第2図)がキャリジ16の所定
の固定された位置、即ち「ボームト位誼への到着を感知
し、これに応答して信号を発する。
ャリジ16を動かす装備22は1対の水平方向に平行に
設置された案内レール23を含み、これによってキャリ
ジ16を摺動案内する。案内レール23はそれぞれの両
端部がブラウット24内に固定され、これらブラケット
は水平な支持プレート25上に固定されている。更にプ
レート25上にはステッパモータ(図示せず)が装架さ
れ、キャリジ16と結合されてその4ヤリジを案内レー
ル23に沿って動かす。このキャリジの駆動を行うため
に、上記ステッパモータは支持プレート25に固定のブ
ラケット24に備えた軸受内に枢架される回転送りネジ
(図示けず)に結合される。こうしてその送りネジが回
されるとキャリジ16は送りネジに沿って直線的に勅か
される。センサー58(第2図)がキャリジ16の所定
の固定された位置、即ち「ボームト位誼への到着を感知
し、これに応答して信号を発する。
第1図に示されるように、キャリジ16がつIフッWに
対し接近又は離遠する行路に沿ってそのキャリジ16を
動かす装備21は米国特許第4゜638.601号に記
載のそれと同様なものとされる。そこで装備21は、機
械11のフレーム34上に固定装架される1対の水平方
向に平行に設置された支持レール33、これらレール3
3上に摺動可能に装架される支持ハウジング35、及び
、この支持ハウジング35に結合されてこれをレール3
3に沿って動かすステッパモータ36を含む。
対し接近又は離遠する行路に沿ってそのキャリジ16を
動かす装備21は米国特許第4゜638.601号に記
載のそれと同様なものとされる。そこで装備21は、機
械11のフレーム34上に固定装架される1対の水平方
向に平行に設置された支持レール33、これらレール3
3上に摺動可能に装架される支持ハウジング35、及び
、この支持ハウジング35に結合されてこれをレール3
3に沿って動かすステッパモータ36を含む。
図示されているように、キャリジ16はレベリングプレ
ート37を介して、適当なボルト39と基本的な位置決
め及び支持を行うピボットビン40とによって、支持ハ
ウジング35のブラケット38に固定される。
ート37を介して、適当なボルト39と基本的な位置決
め及び支持を行うピボットビン40とによって、支持ハ
ウジング35のブラケット38に固定される。
第1図に示されるように、研削バー41が、ウェファW
の軸心13に平行な垂直軸心周りで回転するようにハ「
クリング15上に装架される。その研削バー41は研削
ホイール14の平面から垂直方向に離間した水平平面内
に設定される。研削バー41は、スピンドルハウジング
15にブラケット44によって固定されたハウジング4
3内に回転可能に装架された軸又はスピンドル42に取
付けられる。このスピンドル42は、適当な空気接続ラ
イン45を通してハウジング43へ供給される空気によ
って駆動される高速空気スピンドルとすることができよ
う。
の軸心13に平行な垂直軸心周りで回転するようにハ「
クリング15上に装架される。その研削バー41は研削
ホイール14の平面から垂直方向に離間した水平平面内
に設定される。研削バー41は、スピンドルハウジング
15にブラケット44によって固定されたハウジング4
3内に回転可能に装架された軸又はスピンドル42に取
付けられる。このスピンドル42は、適当な空気接続ラ
イン45を通してハウジング43へ供給される空気によ
って駆動される高速空気スピンドルとすることができよ
う。
チャック12の軸心13、研削ホイール14の軸心、及
び研削バー41の軸心は、第3図から理解されるように
、1つの共通な垂直平面内に設置される。更に研削バー
41の直径は研削ホイール14のそれより小さいものと
される。例えば研削バー41の直径は0.762から7
.62厘(0,03から0.30インチ)とされ、そし
て研削ホイール14の直径は25.4から254履(1
,00から上で.00インチ)とされる。研削バー41
と研削ホイール14との間の垂直方向間隔は例えば2.
54as+(0,上でインチ)とされる。この垂直方向
難問寸法の決定は部分的には研削加工されるウェファW
の厚さに応じてなされ、そしてその離間寸法は適当な調
節装備によって適時に調節される。
び研削バー41の軸心は、第3図から理解されるように
、1つの共通な垂直平面内に設置される。更に研削バー
41の直径は研削ホイール14のそれより小さいものと
される。例えば研削バー41の直径は0.762から7
.62厘(0,03から0.30インチ)とされ、そし
て研削ホイール14の直径は25.4から254履(1
,00から上で.00インチ)とされる。研削バー41
と研削ホイール14との間の垂直方向間隔は例えば2.
54as+(0,上でインチ)とされる。この垂直方向
難問寸法の決定は部分的には研削加工されるウェファW
の厚さに応じてなされ、そしてその離間寸法は適当な調
節装備によって適時に調節される。
第1図に示されるように、研削ホイール14は、嶺械1
1のフレームに固定されるハウジング46の中に可動に
設置することができる。又、研削ホイール14に対し固
定してハウジング46内に設置されるヨーク48上にシ
ール組立体47が装架される。ヨーク48は、例えば、
ハウジング46の壁を貞通し且つこの壁に対しベロー5
0によって緘封されるロッド49上に装架される。この
ロッド49は、レール33上に往復動可能に装架された
支持ハウジング35上の適当なブラケット51に装架さ
れる。シール組立体47は、1989年4月24日出願
の共願第07/343.064号に記述のような構成と
される。そこでそのシール組立体は1対の緘封ストリッ
プを婦λ、これらストリップの間からウェファWが突出
してホイール14により研削されるような構成にされる
。
1のフレームに固定されるハウジング46の中に可動に
設置することができる。又、研削ホイール14に対し固
定してハウジング46内に設置されるヨーク48上にシ
ール組立体47が装架される。ヨーク48は、例えば、
ハウジング46の壁を貞通し且つこの壁に対しベロー5
0によって緘封されるロッド49上に装架される。この
ロッド49は、レール33上に往復動可能に装架された
支持ハウジング35上の適当なブラケット51に装架さ
れる。シール組立体47は、1989年4月24日出願
の共願第07/343.064号に記述のような構成と
される。そこでそのシール組立体は1対の緘封ストリッ
プを婦λ、これらストリップの間からウェファWが突出
してホイール14により研削されるような構成にされる
。
機械11は又、チャック12上のウェファWの周縁部に
ノツチN(第3図参照)を研削するためそのウェス?周
縁部に研削バー41を整合させるようにスピンドルハウ
ジング15を垂直方向に動かづだめの装備を備える。例
えば、第1図に示されるように、ブラケット38が、米
国特許第4゜638.601号に記載のようなモータ5
2と送りネジ53の構成によって1対の案内ボスト51
(図面には1個だけ示される)に沿って垂直方向に動か
される。
ノツチN(第3図参照)を研削するためそのウェス?周
縁部に研削バー41を整合させるようにスピンドルハウ
ジング15を垂直方向に動かづだめの装備を備える。例
えば、第1図に示されるように、ブラケット38が、米
国特許第4゜638.601号に記載のようなモータ5
2と送りネジ53の構成によって1対の案内ボスト51
(図面には1個だけ示される)に沿って垂直方向に動か
される。
第2図に示すように研削盤上では、これの様々な操作成
分に接続されてそれら成分の勅きを1,11御しJ4整
するコンピュータ又は中央i、II III装置の形の
処理装置54を備える。そこで処理装置54はライン5
5により保持装置1fi12に接続されて研削時のウェ
ファを保持し回転させる。処理装置54は又ライン56
により研削ホイール14のモータMに接続されて研削ホ
イール14を回転させる。処理装置54は又更にライン
57によりセンサー58に接続されて、キャリジ16が
ホーム位置に到達したときセンサー58からその信号を
受ける。
分に接続されてそれら成分の勅きを1,11御しJ4整
するコンピュータ又は中央i、II III装置の形の
処理装置54を備える。そこで処理装置54はライン5
5により保持装置1fi12に接続されて研削時のウェ
ファを保持し回転させる。処理装置54は又ライン56
により研削ホイール14のモータMに接続されて研削ホ
イール14を回転させる。処理装置54は又更にライン
57によりセンサー58に接続されて、キャリジ16が
ホーム位置に到達したときセンサー58からその信号を
受ける。
処理装置54は又更にライン59によりスピンドルハウ
ジング43に接続されてライン45がら空気を送給させ
ることによりスピンドル42を駆動させる。この点に間
して、スピンドル42とハウジング43は通常の椛造を
有して通常の操作を行うものとされる。
ジング43に接続されてライン45がら空気を送給させ
ることによりスピンドル42を駆動させる。この点に間
して、スピンドル42とハウジング43は通常の椛造を
有して通常の操作を行うものとされる。
又モータ52も処理装置54と接続し、研削すべきウェ
ファWの測定された厚さの信号を受ける。
ファWの測定された厚さの信号を受ける。
この測定された厚さに応じてモータ52が作動されてウ
ェファWに対しハウジング15を、従って研削ホイール
14を上下させる。
ェファWに対しハウジング15を、従って研削ホイール
14を上下させる。
処理装置54は、研削後のウェファに1個又は複数個の
ノツチN1フラット(図示せず)、及び曲線周面を形成
させるためのプログラムを備えている。このプログラム
はセンサー58から信号を受けて始動し、その他の主要
な信号と合わせて所要のプロセスを行わせる。即ら、ウ
ェファWがチャック12に取付(プられると処理装置5
4はステッパモータを作動してキャリジ16をホーム位
置へ動かす。そこでセン1ナー58から信号が処理装′
Fi54へ送られてrtll削操作を開始させる。
ノツチN1フラット(図示せず)、及び曲線周面を形成
させるためのプログラムを備えている。このプログラム
はセンサー58から信号を受けて始動し、その他の主要
な信号と合わせて所要のプロセスを行わせる。即ら、ウ
ェファWがチャック12に取付(プられると処理装置5
4はステッパモータを作動してキャリジ16をホーム位
置へ動かす。そこでセン1ナー58から信号が処理装′
Fi54へ送られてrtll削操作を開始させる。
例えば第3図に示すようなノツチNをウェファWに形成
する場合、処理装置54の作動と共に研削操作用プログ
ラムが始動する。最初に処理装置54は信号をモータ5
2へ送り研削バー41を降下してウェス?Wに整合さI
る。この整合が行われると、信号がモータ36へ送られ
て支持ハウジング35をウェファWの軸心の方へ動かし
、研削バー41をウニノアの周縁部に係合させる。この
ときチャック12は静止状態に維持されており、従つく
バー41はウェファWの縁部に半円形のノツチNを研削
する。
する場合、処理装置54の作動と共に研削操作用プログ
ラムが始動する。最初に処理装置54は信号をモータ5
2へ送り研削バー41を降下してウェス?Wに整合さI
る。この整合が行われると、信号がモータ36へ送られ
て支持ハウジング35をウェファWの軸心の方へ動かし
、研削バー41をウニノアの周縁部に係合させる。この
ときチャック12は静止状態に維持されており、従つく
バー41はウェファWの縁部に半円形のノツチNを研削
する。
こうしてノツチNが形成されたら支持ハウジング35は
ウェファWから離遠する方向へ戻され、これと共にモー
タ52が処理装置54により作動されてハウジング15
を上昇させて研削ホイール14をウェファWに整合させ
る。それから支持ハウジング35がウェファの周縁部の
方へ動かされると共にチャック12の回転が開始される
。こうしてそれら動きの調整された作用によってウェフ
ァ周縁部の残余部分が、例えば円形に研削されるのであ
る。
ウェファWから離遠する方向へ戻され、これと共にモー
タ52が処理装置54により作動されてハウジング15
を上昇させて研削ホイール14をウェファWに整合させ
る。それから支持ハウジング35がウェファの周縁部の
方へ動かされると共にチャック12の回転が開始される
。こうしてそれら動きの調整された作用によってウェフ
ァ周縁部の残余部分が、例えば円形に研削されるのであ
る。
場合によってノツチNは別の形状、例えば底部が半円形
になった90度の角度のrVJ形状にされる。このよう
な形状のノツプは、ハウジング35が研削バー41を動
かしてつIノアWに係合させると共にチャック12が回
転するような動きの調整された組合せを作ることによっ
て形成できる。
になった90度の角度のrVJ形状にされる。このよう
な形状のノツプは、ハウジング35が研削バー41を動
かしてつIノアWに係合させると共にチャック12が回
転するような動きの調整された組合せを作ることによっ
て形成できる。
そこでそのような動きの組合せを選択することにより様
々なノツチ形状を得ることができる。
々なノツチ形状を得ることができる。
ウェファにフラン1−を形成する場合、そのフラットは
、1989年4月28日出願の共願第345.627号
に記載のような方式によって作ることができよう。又フ
ラットが形成されない場合、研削盤は、米国特許第4.
638.601号に記載のように、研削バー41が研削
ホイール14のハウジングに装架されるが、フラットを
形成する研削ホイール14の動きを行わゼるためのキャ
リジは備えられない構成にされよう。
、1989年4月28日出願の共願第345.627号
に記載のような方式によって作ることができよう。又フ
ラットが形成されない場合、研削盤は、米国特許第4.
638.601号に記載のように、研削バー41が研削
ホイール14のハウジングに装架されるが、フラットを
形成する研削ホイール14の動きを行わゼるためのキャ
リジは備えられない構成にされよう。
処理装置ff54は又、最初にウェファの周縁部を研削
し、その後でその研削された周縁部にノツチを形成する
ようにプログラムを組むこともできる。
し、その後でその研削された周縁部にノツチを形成する
ようにプログラムを組むこともできる。
このやり方は自明であるからその詳述は行わない。
し発明の効果]
以上の記述から分かるように本発明は、1つの共通な操
作でウェファ上のノツチと周縁部の研削を行える研削盤
の比較的簡単な′m造を提供する。
作でウェファ上のノツチと周縁部の研削を行える研削盤
の比較的簡単な′m造を提供する。
従ってウェファの処理に必要な礪械の数が相当に削減さ
れる。更に、ウェファにノツチを形成するときに必要な
整合と割出し作業が相当に少なくなる。
れる。更に、ウェファにノツチを形成するときに必要な
整合と割出し作業が相当に少なくなる。
第1図は本発明によるノツチ研削盤を用いる研削機械の
側面図、 悌2図は本発明による研削盤の諸要素と処理装置との間
の接続回路の概要図、 第3図は本発明の研削盤で研削された周縁部にノツチを
形成されたウェファの図面である。 上で・・・ノツチ研削盤、11・・・機械、12・・・
チャック、13・・・軸心、14・・・研削ホイール、
15・・・スピンドルハウジング、16川キヤリジ、2
1.22・・・キャリジ動かし装備、23・・・案内レ
ール、24・・・ブラケット、25・・・支持プレート
、33・・・支持レール、35・・・支持ハウジング、
36・・・ステッパモータ、38・・・ブラケット、4
1・・・研削バー、45・・・空気ライン、52・・・
モータ、53・・・送りネジ、54・・・処理装置、M
・・・モータ、N・・・ノツチ、W・・・ウェファ。
側面図、 悌2図は本発明による研削盤の諸要素と処理装置との間
の接続回路の概要図、 第3図は本発明の研削盤で研削された周縁部にノツチを
形成されたウェファの図面である。 上で・・・ノツチ研削盤、11・・・機械、12・・・
チャック、13・・・軸心、14・・・研削ホイール、
15・・・スピンドルハウジング、16川キヤリジ、2
1.22・・・キャリジ動かし装備、23・・・案内レ
ール、24・・・ブラケット、25・・・支持プレート
、33・・・支持レール、35・・・支持ハウジング、
36・・・ステッパモータ、38・・・ブラケット、4
1・・・研削バー、45・・・空気ライン、52・・・
モータ、53・・・送りネジ、54・・・処理装置、M
・・・モータ、N・・・ノツチ、W・・・ウェファ。
Claims (7)
- (1)ウェファ(W)を保持して第1軸心(13)周り
で回転させるための回転チャック(12)、このチャッ
ク(12)から離間したハウジング(15)、該第1軸
心(13)に平行な第2軸心周りで回転できるように該
ハウジング(15)に装架される研削ホィール(14)
、及び、該チャック(12)上のウエファ(W)の周縁
部を研削するために該ハウジング(15)を該チャック
に対して接近及び離遠させるように該第1軸心(13)
に直角な行路に沿って該ハウジング(15)を動かすた
めの第1装備(21)を備えるノッチ研削盤において、
該研削ホィール(14)から離間して該第1軸心(13
)に平行な第3軸心周りで回転するように該ハウジング
(15)上に装架される研削バー(41)、及び、該チ
ャック(12)上のウエフア(W)の周縁部にノッチを
研削するために該バー(41)を該ウェフア周縁部に整
合させるように該第2軸心に沿つて該ハウジング(15
)を動かすための第2装備(52、53)を有すること
を特徴とするノッチ研削盤。 - (2)該研削バー(41)を回転させるため該第3軸心
上に回転可能に装架される高速空気スピンドル(42)
を有することを特徴とする請求項1記載のノッチ研削盤
。 - (3)該研削バー(41)の該第3軸心、該研削ホィー
ル(14)の該第2軸心、及び該チャック(12)の該
第1軸心(13)が1つの共通な平面内で垂直に設置さ
れることを特徴とする請求項1記載のノッチ研削盤。 - (4)該研削バー(41)が該第3軸心周りで回転する
間該チャック(12)を該第1軸心(13)上で静止位
置に保持するように該チャック(12)、該ハウジング
(15)、及び該研削バー(41)に接続される処理装
置(54)を有することを特徴とする請求項1記載のノ
ッチ研削盤。 - (5)該チャック(12)上のウエフア(W)の周縁部
にノッチ(N)を形成するため該研削バー(41)が該
第3軸心周りで回転する間該チャック(12)を該第1
軸心(13)上で回転させるように該チャック(12)
、該ハウジング(15)、及び該研削バー(41)に接
続される処理装置(54)を有することを特徴とする請
求項1記載のノッチ研削盤。 - (6)該バー(41)が該研削ホィール(14)より小
さい直径を有することを特徴とする請求項1記載のノッ
チ研削盤。 - (7)該バーの直径が0.762から7.62mm(0
.03から0.30インチ)であることを特徴とする請
求項5記載のノッチ研削盤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/369,111 US5036624A (en) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | Notch grinder |
US369111 | 1989-06-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03117546A true JPH03117546A (ja) | 1991-05-20 |
JPH0639047B2 JPH0639047B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=23454134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2163942A Expired - Lifetime JPH0639047B2 (ja) | 1989-06-21 | 1990-06-21 | ノッチ研削盤 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5036624A (ja) |
EP (1) | EP0404460A1 (ja) |
JP (1) | JPH0639047B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6267648B1 (en) | 1998-05-18 | 2001-07-31 | Tokyo Seimitsu Co. Ltd. | Apparatus and method for chamfering wafer |
CN104551931A (zh) * | 2015-01-22 | 2015-04-29 | 天津市激光技术研究所 | 一种广告字型边条全自动数控开槽折弯机及开槽方法 |
WO2016189945A1 (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の研削方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2613504B2 (ja) * | 1991-06-12 | 1997-05-28 | 信越半導体株式会社 | ウエーハのノッチ部面取り方法および装置 |
US5490811A (en) * | 1991-06-12 | 1996-02-13 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Apparatus for chamfering notch of wafer |
JP2571477B2 (ja) * | 1991-06-12 | 1997-01-16 | 信越半導体株式会社 | ウエーハのノッチ部面取り装置 |
US5289661A (en) * | 1992-12-23 | 1994-03-01 | Texas Instruments Incorporated | Notch beveling on semiconductor wafer edges |
JP2798345B2 (ja) * | 1993-06-11 | 1998-09-17 | 信越半導体株式会社 | ウェーハのノッチ部研磨装置 |
JPH07205001A (ja) * | 1993-11-16 | 1995-08-08 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ面取り機 |
US5679060A (en) * | 1994-07-14 | 1997-10-21 | Silicon Technology Corporation | Wafer grinding machine |
JPH10249689A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ面取方法及び装置 |
MY127032A (en) * | 1999-12-28 | 2006-11-30 | Hitachi Metals Ltd | Work chamfering apparatus and work chamfering method |
US6815958B2 (en) * | 2003-02-07 | 2004-11-09 | Multimetrixs, Llc | Method and apparatus for measuring thickness of thin films with improved accuracy |
US8231431B2 (en) * | 2008-01-24 | 2012-07-31 | Applied Materials, Inc. | Solar panel edge deletion module |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4031667A (en) * | 1976-03-29 | 1977-06-28 | Macronetics, Inc. | Apparatus for contouring edge of semiconductor wafers |
US4203259A (en) * | 1978-05-17 | 1980-05-20 | Coburn Optical Industries, Inc. | Apparatus for edging ophthalmic lenses |
DK14583A (da) * | 1982-01-20 | 1983-07-21 | Saint Gobain Vitrage | Fremgangsmaade og apparat til positionsstyring af vaerktoejet paa en kantbearbejdningsmaskine til glasplader |
JPH0624199B2 (ja) * | 1982-07-30 | 1994-03-30 | 株式会社日立製作所 | ウエハの加工方法 |
JPS60155358A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-15 | Disco Abrasive Sys Ltd | 半導体ウエ−ハの表面を研削する方法及び装置 |
DE3534425A1 (de) * | 1985-02-13 | 1986-08-14 | Benteler-Werke Ag Werk Neuhaus, 4790 Paderborn | Kantenschleifmaschine |
SU1324826A1 (ru) * | 1985-05-20 | 1987-07-23 | Харьковский политехнический институт им.В.И.Ленина | Способ врезного шлифовани круглых деталей |
US4638601A (en) * | 1985-11-04 | 1987-01-27 | Silicon Technology Corporation | Automatic edge grinder |
US4760672A (en) * | 1986-12-10 | 1988-08-02 | Corning Glass Works | Simultaneously grinding and polishing preforms for optical lenses |
JPH0637024B2 (ja) * | 1987-08-23 | 1994-05-18 | エムテック株式会社 | オリエンテ−ションフラットの研削方法及び装置 |
US4905425A (en) * | 1988-09-30 | 1990-03-06 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Method for chamfering the notch of a notch-cut semiconductor wafer |
-
1989
- 1989-06-21 US US07/369,111 patent/US5036624A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-15 EP EP90306566A patent/EP0404460A1/en not_active Ceased
- 1990-06-21 JP JP2163942A patent/JPH0639047B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6267648B1 (en) | 1998-05-18 | 2001-07-31 | Tokyo Seimitsu Co. Ltd. | Apparatus and method for chamfering wafer |
US6431961B1 (en) | 1998-05-18 | 2002-08-13 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Apparatus and method for chamfering wafer |
CN104551931A (zh) * | 2015-01-22 | 2015-04-29 | 天津市激光技术研究所 | 一种广告字型边条全自动数控开槽折弯机及开槽方法 |
WO2016189945A1 (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の研削方法 |
JP2016215339A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の研削方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5036624A (en) | 1991-08-06 |
EP0404460A1 (en) | 1990-12-27 |
JPH0639047B2 (ja) | 1994-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH03117546A (ja) | ノッチ研削盤 | |
JP2859389B2 (ja) | ガラス板の周辺エッジを研削加工する方法及びこの方法を実施するガラス板の数値制御研削機械 | |
US6726525B1 (en) | Method and device for grinding double sides of thin disk work | |
JPH07205001A (ja) | ウェーハ面取り機 | |
US2321383A (en) | Contour forming apparatus | |
JPS584353A (ja) | ラツピング装置 | |
JP2000107999A (ja) | ウェーハ面取り方法 | |
US4376357A (en) | Machine tools | |
JP2000052203A (ja) | 円筒内周面研削装置 | |
JPH0119522B2 (ja) | ||
JPH0386455A (ja) | 自動研削盤 | |
US1871504A (en) | Truing device for the wheels of grinding machines | |
JPS6315100B2 (ja) | ||
JPS6377647A (ja) | 板状体の研削方法及びその装置 | |
US3290833A (en) | Positional adjusting mechanism | |
JPH06328361A (ja) | 研削盤における砥石磨耗補正装置 | |
US2300481A (en) | Machine tool | |
US1790245A (en) | Grinding machine | |
US1884309A (en) | Machine for surfacing the rubbing blocks of the circuit breaker levers of ignition timers | |
RU26994U1 (ru) | Устройство для обработки кромок плоских изделий | |
US4004568A (en) | Method and apparatus for dressing regulating wheels for centerless grinders | |
US1933581A (en) | Grinding apparatus | |
JPH0577147A (ja) | 平面研削盤 | |
US2167615A (en) | Grinding machine steady rest | |
US3537213A (en) | Centerless grinding machine |