JPH03105744A - 情報記録媒体の構造 - Google Patents
情報記録媒体の構造Info
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- JPH03105744A JPH03105744A JP24197489A JP24197489A JPH03105744A JP H03105744 A JPH03105744 A JP H03105744A JP 24197489 A JP24197489 A JP 24197489A JP 24197489 A JP24197489 A JP 24197489A JP H03105744 A JPH03105744 A JP H03105744A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光を用いて記録,再生,消去を行う
光記録において,光記録膜を多層構造とすることにより
、高密度大容量の光ディスクを得るのに好適な情報記録
媒体の構造に関する。
光記録において,光記録膜を多層構造とすることにより
、高密度大容量の光ディスクを得るのに好適な情報記録
媒体の構造に関する。
近年の高度情報化社会の進展により、高密度・大容量で
しかもランダムアクセスが可能なファイルメモリーへの
ニーズが高まっている。これに応えるものとして光記録
が注目されており、各所で研究開発が活性化している。
しかもランダムアクセスが可能なファイルメモリーへの
ニーズが高まっている。これに応えるものとして光記録
が注目されており、各所で研究開発が活性化している。
再生専用のコンパクトディスクやレーザーディスクや1
度だけ書込みができる追記型につづいて、書換え型の光
磁気ディスクが製品化された。さらに,このディスクの
記憶容量の高密度化が検討されている。現在、光磁気デ
ィスクの記録材料は、希土類元素と鉄族元索との非品質
合金が用いられており、中でもTbFeCo系はその中
心にある。
度だけ書込みができる追記型につづいて、書換え型の光
磁気ディスクが製品化された。さらに,このディスクの
記憶容量の高密度化が検討されている。現在、光磁気デ
ィスクの記録材料は、希土類元素と鉄族元索との非品質
合金が用いられており、中でもTbFeCo系はその中
心にある。
ところで、高密度記録を行うには、記録、再生成いは消
去に用いるレーザー光の波長を短くすることが最も効果
がある.短波長化に伴ない、トラックピッチをつめると
ともにビット間隔もつめることができる。しかしながら
、現状ディスクに用いられている材料では、短波長化に
伴ない,力一(Ksrr)回転角が低下し、再生出力が
低下してしまう.さらに、記録磁区も微小なため、現製
品よりさらに大きなκerr回転角が必要である。この
問題を解決するための従来例として,米国特許4695
514号をあげることができる。
去に用いるレーザー光の波長を短くすることが最も効果
がある.短波長化に伴ない、トラックピッチをつめると
ともにビット間隔もつめることができる。しかしながら
、現状ディスクに用いられている材料では、短波長化に
伴ない,力一(Ksrr)回転角が低下し、再生出力が
低下してしまう.さらに、記録磁区も微小なため、現製
品よりさらに大きなκerr回転角が必要である。この
問題を解決するための従来例として,米国特許4695
514号をあげることができる。
上記従来技術では、希土類一鉄族元素の非晶質合金は光
の波長が短くなるのに伴なって、Kerr回転角が低下
してしまう。そして、さらに形成される磁区も微小であ
り、より大きなKerr回転角が要求される。しかし、
従来の記録膜材料においてはこの点に対する配慮が十分
になされておらず、再生出力が小さいのでエラーが発生
しやすく情報の信頼性に問題があった。
の波長が短くなるのに伴なって、Kerr回転角が低下
してしまう。そして、さらに形成される磁区も微小であ
り、より大きなKerr回転角が要求される。しかし、
従来の記録膜材料においてはこの点に対する配慮が十分
になされておらず、再生出力が小さいのでエラーが発生
しやすく情報の信頼性に問題があった。
本発明の目的は,光の波長が短くなるのに伴ない、大き
な再生出力が得られる情報記録媒体の構造を用いること
により,高信頼性の光磁気ディスクを提供することにあ
る。
な再生出力が得られる情報記録媒体の構造を用いること
により,高信頼性の光磁気ディスクを提供することにあ
る。
光ディスクは、高密度大容量のファイルメモリーとして
注目されている。中でも光磁気ディスクは書換え可能な
可逆光メモリーとして注目されており、製品化が各所で
なされている。そして、さらに記録密度の向上を目指し
研究がなされている。
注目されている。中でも光磁気ディスクは書換え可能な
可逆光メモリーとして注目されており、製品化が各所で
なされている。そして、さらに記録密度の向上を目指し
研究がなされている。
そのlつの手法として、記録,再生または消去に用いる
レーザー光の波長を短くするのが効果的であると考えら
れている。その場合、問題になるは光磁気記録膜の特性
である。短波長(例えば670nm,480nm)で記
録すると形成される記録磁区は小さくなり、これをエラ
ーなく読出すにはKerr回転角が現状ディスクと同等
以上でなければならない。
レーザー光の波長を短くするのが効果的であると考えら
れている。その場合、問題になるは光磁気記録膜の特性
である。短波長(例えば670nm,480nm)で記
録すると形成される記録磁区は小さくなり、これをエラ
ーなく読出すにはKerr回転角が現状ディスクと同等
以上でなければならない。
従来主に用いられているのは、希土類元素と鉄族元素−
の非晶質合金であり、それらの中で総合的にみてT b
F e C o系が最も優れている。しかし.この材
料は、再生光の波長が短くなるにつれて、κerr回転
角が小さくなるので,エラーなく再生を行うのが困難と
なる.そこでさらなる記録の高密度化を目すさと、記録
磁区も微小化させる必要があり,十分なS/Nを確保す
るためにも用いる光の波長において大きなKerr回転
角が必要である。
の非晶質合金であり、それらの中で総合的にみてT b
F e C o系が最も優れている。しかし.この材
料は、再生光の波長が短くなるにつれて、κerr回転
角が小さくなるので,エラーなく再生を行うのが困難と
なる.そこでさらなる記録の高密度化を目すさと、記録
磁区も微小化させる必要があり,十分なS/Nを確保す
るためにも用いる光の波長において大きなKerr回転
角が必要である。
この点が、超高密度光磁気記録の実現における1つの問
題である. 本発明は光磁気記録膜の構造をPt,Pd、またはAu
の内の工種類の元素と、FeまたはCoの内の1種類の
元素と無機化合物よりなる誘電体とを交互積層した構造
とすることによりこの問題を解決したものである。
題である. 本発明は光磁気記録膜の構造をPt,Pd、またはAu
の内の工種類の元素と、FeまたはCoの内の1種類の
元素と無機化合物よりなる誘電体とを交互積層した構造
とすることによりこの問題を解決したものである。
ここで、各層の膜厚を制御することにより、用いるレー
ザー光の波長にマツチしたディスクを得ることができる
.すなわち,その波長で最大のS/Nが得られるように
、磁気光学効果を最大にできる.また,記録膜は金属膜
と誘電体膜との交互積層した膜であるが、注意しなけれ
ばならないことは、積算した金属膜の膜厚である.全膜
厚は、50nm以下が好ましい.それは、50nmより
厚いと光吸収が大きくなり、波長特性及びディスク特性
共に低下してしまう. また、波長特性やディスク特性の他の改善方法として、
膜厚を制御する代りに無機化合物よりなる誘電体膜の屈
折率を制御しても同様の効果が得られた.ここで、無機
化合物の誘電体として、金属の酸化物,窒化物,沸化物
或いはカルコゲン化物を用いた.具体的には、SiNx
,SiOヨ,AQNx,ZnS,AQFa,TiC)z
+ BN,AQzOs,Crux,Taxesの内から
選ばれる少なくとも1種類の材料を主体とした化合物で
ある。
ザー光の波長にマツチしたディスクを得ることができる
.すなわち,その波長で最大のS/Nが得られるように
、磁気光学効果を最大にできる.また,記録膜は金属膜
と誘電体膜との交互積層した膜であるが、注意しなけれ
ばならないことは、積算した金属膜の膜厚である.全膜
厚は、50nm以下が好ましい.それは、50nmより
厚いと光吸収が大きくなり、波長特性及びディスク特性
共に低下してしまう. また、波長特性やディスク特性の他の改善方法として、
膜厚を制御する代りに無機化合物よりなる誘電体膜の屈
折率を制御しても同様の効果が得られた.ここで、無機
化合物の誘電体として、金属の酸化物,窒化物,沸化物
或いはカルコゲン化物を用いた.具体的には、SiNx
,SiOヨ,AQNx,ZnS,AQFa,TiC)z
+ BN,AQzOs,Crux,Taxesの内から
選ばれる少なくとも1種類の材料を主体とした化合物で
ある。
しかし上記誘電体材料はこれらの材料に制約されるわけ
でなく、用いるレーザー光の波長に対して透明であれば
良い。
でなく、用いるレーザー光の波長に対して透明であれば
良い。
ところで,このような多層膜とすると問題になるのは、
各層間の拡散である.特に金属層間では拡散を生じやす
いものと思われる。これを防ぐ手段として、2つの手法
を考えた.まず、1番目は、pt,Pd,Au,Rh群
とFe,Co群の各群よりl種、或いはそれ以上を合金
化し、これと誘電体とを交互積層する手法である.2番
目は、ディスクの構造を熱拡散型とする手法である.具
体的には、光の入射側と反対側に、Al、Au,Ag,
Cu,Pt,Pd,Rh等の反射率が高くかつ熱伝導率
の高い金属層を設け、この層に熱を拡散させることで記
録膜の温度分布を制御した.これにより層間とくに金属
層間の元素の拡散を抑制することができた。その結果、
多数回の書換えを行なってもディスクの特性,とりわけ
再生出力の低下等は生じなかった.この効果は、1番目
の手法と併用しても効果はある.それは、熱拡散構造と
することにより記録膜の構造緩和が抑制でき、効果は大
きい. さらに、熱拡散のために設けた金属層による熱の拡散率
を制御するため、A Q+ A u + P t *P
d,Ag,Cu或いはRhの内1のl種と母金属以外の
金属,例えばAQを用いればAQ以外のAu以下5種の
内の少なくとも1種以上の金属か或いはTi,Ta,N
b,Cr.或いはNiの内の少なくともl種以上の金属
元素を添加することにより、熱拡散のための金属層の熱
伝導率を任意に選択できるので、記録感度を制御するこ
とができる.また、Ti,Ta,Nb,Cr或いはNi
の添加は熱伝導率の制御以外に不働態被膜を容易に形成
する効果もあり、ディスクの信頼性も向上した. また、本発明の応用として、案内溝を有する基板上に、
多層構造を有する情報記録媒体層を形成し、つづいて金
属反射膜を形成し,再び多層構造を右する情報記録媒体
層を作製した.そして最後に、基板を貼せ、光ディスク
とした。これにより、両面ディスクを簡便な手法で作製
することができ,製造コストを低減することができた。
各層間の拡散である.特に金属層間では拡散を生じやす
いものと思われる。これを防ぐ手段として、2つの手法
を考えた.まず、1番目は、pt,Pd,Au,Rh群
とFe,Co群の各群よりl種、或いはそれ以上を合金
化し、これと誘電体とを交互積層する手法である.2番
目は、ディスクの構造を熱拡散型とする手法である.具
体的には、光の入射側と反対側に、Al、Au,Ag,
Cu,Pt,Pd,Rh等の反射率が高くかつ熱伝導率
の高い金属層を設け、この層に熱を拡散させることで記
録膜の温度分布を制御した.これにより層間とくに金属
層間の元素の拡散を抑制することができた。その結果、
多数回の書換えを行なってもディスクの特性,とりわけ
再生出力の低下等は生じなかった.この効果は、1番目
の手法と併用しても効果はある.それは、熱拡散構造と
することにより記録膜の構造緩和が抑制でき、効果は大
きい. さらに、熱拡散のために設けた金属層による熱の拡散率
を制御するため、A Q+ A u + P t *P
d,Ag,Cu或いはRhの内1のl種と母金属以外の
金属,例えばAQを用いればAQ以外のAu以下5種の
内の少なくとも1種以上の金属か或いはTi,Ta,N
b,Cr.或いはNiの内の少なくともl種以上の金属
元素を添加することにより、熱拡散のための金属層の熱
伝導率を任意に選択できるので、記録感度を制御するこ
とができる.また、Ti,Ta,Nb,Cr或いはNi
の添加は熱伝導率の制御以外に不働態被膜を容易に形成
する効果もあり、ディスクの信頼性も向上した. また、本発明の応用として、案内溝を有する基板上に、
多層構造を有する情報記録媒体層を形成し、つづいて金
属反射膜を形成し,再び多層構造を右する情報記録媒体
層を作製した.そして最後に、基板を貼せ、光ディスク
とした。これにより、両面ディスクを簡便な手法で作製
することができ,製造コストを低減することができた。
本発明の多層構造光磁気記録膜を用いることにより,現
製品の830nmより短い波長400〜670nm付近
で特に磁気光学効果を最大とすることができた.これに
より、短波長領域で微小で磁区を蕾号し高S/Nで0高
密度記録を行なうことができた。さらに、金属層のみの
膜厚を光が透過する50nm以下とし、かつ光の入射側
と反対側に金属反射層を設けると、光の利用効率が向上
するとともにKerr効果及びファラデー(Farad
ay)効果の併合で、さらに大きな磁気光学効果が得ら
れた.これにより、超高密度光記録を行うことができ。
製品の830nmより短い波長400〜670nm付近
で特に磁気光学効果を最大とすることができた.これに
より、短波長領域で微小で磁区を蕾号し高S/Nで0高
密度記録を行なうことができた。さらに、金属層のみの
膜厚を光が透過する50nm以下とし、かつ光の入射側
と反対側に金属反射層を設けると、光の利用効率が向上
するとともにKerr効果及びファラデー(Farad
ay)効果の併合で、さらに大きな磁気光学効果が得ら
れた.これにより、超高密度光記録を行うことができ。
また,この金g層は光の利用効率向上以外に、ディスク
内の熱の拡散も制御できるので,記録膜の層間の相互拡
散及び非品質の構造緩和を抑制怠的るとともに、さらに
記録膜の保護性能も合わせて抑制することができ.ディ
スクの信頼性を格段に向上させることができた。
内の熱の拡散も制御できるので,記録膜の層間の相互拡
散及び非品質の構造緩和を抑制怠的るとともに、さらに
記録膜の保護性能も合わせて抑制することができ.ディ
スクの信頼性を格段に向上させることができた。
以ト、本発明の詳細を実施例1〜4を用いて説明する。
[実施例1]
本実施例は、記録膜としてpt.,Co、そしてSiN
x を交互積層した場合である。ディスクの作製は、ス
バツタ法にて行ない、その断面構造の模式図を第1図に
示す。ターゲットには,pt,Co及びS j3N4を
それぞれ用い、作製雰囲気はArで、圧力は0.6 7
P a (5 X 1 0−3Torr)である。基
板1上に,Pt2及びCo3はDCスパッタで,Si3
Na4はRFスパッタにて製膜を行なった。ここで三元
共にRFスパツタで行なっても得られる膜の特性に与え
る影響はない。スバッタ中は、基板を100rpmにて
回転した。スパッタは三元同時に放電させ、高速で回転
させて多層に積層した。この手法を用いると、基板がい
ずれかのプラズマ中に存在しており,酸素等の不純物ガ
ス成分を取込みにくく、特性的にも耐食性的にも優れて
いた. 1層の厚さは、ptが10入、Coが5入そしてSiN
xが8λ或いはJ−OAである。各層の膜厘は、投入す
るRF電力もしくはDCスパッタにおいては電流を制御
して所望の厚さとした。そして、Pt/Co/SiNx
の組合せを20層形成した。その後に、反射層5として
A Q asT i IF+膜を50OAの膜厚に形或
した。
x を交互積層した場合である。ディスクの作製は、ス
バツタ法にて行ない、その断面構造の模式図を第1図に
示す。ターゲットには,pt,Co及びS j3N4を
それぞれ用い、作製雰囲気はArで、圧力は0.6 7
P a (5 X 1 0−3Torr)である。基
板1上に,Pt2及びCo3はDCスパッタで,Si3
Na4はRFスパッタにて製膜を行なった。ここで三元
共にRFスパツタで行なっても得られる膜の特性に与え
る影響はない。スバッタ中は、基板を100rpmにて
回転した。スパッタは三元同時に放電させ、高速で回転
させて多層に積層した。この手法を用いると、基板がい
ずれかのプラズマ中に存在しており,酸素等の不純物ガ
ス成分を取込みにくく、特性的にも耐食性的にも優れて
いた. 1層の厚さは、ptが10入、Coが5入そしてSiN
xが8λ或いはJ−OAである。各層の膜厘は、投入す
るRF電力もしくはDCスパッタにおいては電流を制御
して所望の厚さとした。そして、Pt/Co/SiNx
の組合せを20層形成した。その後に、反射層5として
A Q asT i IF+膜を50OAの膜厚に形或
した。
ここで反射膜材料は、所望のディスクの記録感度により
選択した。P t + P d + R h + A
g *Au等は反射率,熱伝導率共に大きい材料で、こ
れにTi,Ta,Nb,Cr、或いはNi等を添加して
、熱伝導率を制御すると共に、反射膜の耐食性を向上さ
せ,記録膜の保護性能を向上させ、高信頼性を有する光
磁気ディスクを得た。
選択した。P t + P d + R h + A
g *Au等は反射率,熱伝導率共に大きい材料で、こ
れにTi,Ta,Nb,Cr、或いはNi等を添加して
、熱伝導率を制御すると共に、反射膜の耐食性を向上さ
せ,記録膜の保護性能を向上させ、高信頼性を有する光
磁気ディスクを得た。
第2図にこのようにして作製した記録膜のKerr回転
角の波長依存性を測定した結果を示す6図中の破I!6
は、SiNxの膜が8入の場合、実線7はSiNxの膜
厚が】O入の場合である。このようにS i N xの
膜厚を制御することにより、κerr回転角の値がピー
クになる波長を変えることができ、使用している光の波
長に合わせ、常に最大のKerr回転角が得られるよう
に任意に制御できる。
角の波長依存性を測定した結果を示す6図中の破I!6
は、SiNxの膜が8入の場合、実線7はSiNxの膜
厚が】O入の場合である。このようにS i N xの
膜厚を制御することにより、κerr回転角の値がピー
クになる波長を変えることができ、使用している光の波
長に合わせ、常に最大のKerr回転角が得られるよう
に任意に制御できる。
この手段として.SxNx膜厚を変える以外に、SiN
xの屈折率を制御しても同様である。また、SiNx層
を含まず、PtとCoだけの交互積層膜では、得られる
回転角が0.3゜〜0.4゜ (λ=400〜6 0
0 n m)と小さかった。このようにh/Co/Si
Nxの三層を交互積層することにより、記録膜のみで十
分大きなKerr回転角の増大をはかることができた。
xの屈折率を制御しても同様である。また、SiNx層
を含まず、PtとCoだけの交互積層膜では、得られる
回転角が0.3゜〜0.4゜ (λ=400〜6 0
0 n m)と小さかった。このようにh/Co/Si
Nxの三層を交互積層することにより、記録膜のみで十
分大きなKerr回転角の増大をはかることができた。
ところで、交互積層膜の内、金属層の全膜厚が50OA
を越えて600Aとなると、第3図に示すように光の吸
収が著しく増え、逆にKerr同転角が小さくなった(
比較例1)。また、反射層5を設けないと金属層の全膜
厚が500人以下であっても光の利用効率が低下し,回
転角の増大をはかれなかった(比較例2)。このように
,全膜厚の制御と反射膜を設けることは、高性能光ディ
スクを得るのに必須である。
を越えて600Aとなると、第3図に示すように光の吸
収が著しく増え、逆にKerr同転角が小さくなった(
比較例1)。また、反射層5を設けないと金属層の全膜
厚が500人以下であっても光の利用効率が低下し,回
転角の増大をはかれなかった(比較例2)。このように
,全膜厚の制御と反射膜を設けることは、高性能光ディ
スクを得るのに必須である。
また、記録層においてptの代りにPd.或いはAuを
.Coの代わりにFeを用いても同様の効果が得られた
。また、SiN.以外にSiOやAQN等を用いても良
い。この場合,誘電体材料としては、光学的に透明(用
いる光の波長で透明)で記録媒体と反応しない材料であ
れば良い。また、反射膜材料もAffやAff合金に限
らず、所望の記録感度に合わせて任意に選択できる。
.Coの代わりにFeを用いても同様の効果が得られた
。また、SiN.以外にSiOやAQN等を用いても良
い。この場合,誘電体材料としては、光学的に透明(用
いる光の波長で透明)で記録媒体と反応しない材料であ
れば良い。また、反射膜材料もAffやAff合金に限
らず、所望の記録感度に合わせて任意に選択できる。
この他に,上記の如き反射膜を設けることにょり.記録
や消去のためのレーザー光の照射による記録膜の温度上
昇を抑制でき、そのため、記録や消去による各層間,特
に金属層間の相互拡散がおこりにくく、消去/消去の繰
返しによる磁気特性の変動を抑制できた。
や消去のためのレーザー光の照射による記録膜の温度上
昇を抑制でき、そのため、記録や消去による各層間,特
に金属層間の相互拡散がおこりにくく、消去/消去の繰
返しによる磁気特性の変動を抑制できた。
また第1.図の構造は、基板側から光を入射させた例を
示したが、基板側から光を入射させた例を示したが、逆
に基板1上に反射層5を設けた後に、記録層2〜4を設
け,媒体側から光を入射させて記録/再生/消去を行な
っても同様の効果が得られた。
示したが、基板側から光を入射させた例を示したが、逆
に基板1上に反射層5を設けた後に、記録層2〜4を設
け,媒体側から光を入射させて記録/再生/消去を行な
っても同様の効果が得られた。
また、実ディスクとして用いるときには、基板1と多層
構造を有する情報記録媒体2〜4との間に、窒化シリコ
ン等に代表される無機誘電体よりなる光学効果増大膜(
Kerrエンハンスメント膜)を設けても良い。
構造を有する情報記録媒体2〜4との間に、窒化シリコ
ン等に代表される無機誘電体よりなる光学効果増大膜(
Kerrエンハンスメント膜)を設けても良い。
[実施例2]
本実施例は、第4図に示すように基板i −1:.にP
d層8,FeCo層9,SiOM10を交互積層した場
合である。作製法は実施例1と同様で、三元同時スパッ
タ法を用いた。各層の膜厚は、Pd層が約12入、F
e C o層が約6入、SiO層が約8人で全膜厚は4
00入である。その後に反射!!j5としてA u P
dをスパッタ法にて500Aの膜厚に形威し,ディス
クとした。
d層8,FeCo層9,SiOM10を交互積層した場
合である。作製法は実施例1と同様で、三元同時スパッ
タ法を用いた。各層の膜厚は、Pd層が約12入、F
e C o層が約6入、SiO層が約8人で全膜厚は4
00入である。その後に反射!!j5としてA u P
dをスパッタ法にて500Aの膜厚に形威し,ディス
クとした。
第5図にこのディスクのKerr回転角の波長依存性を
測定した結果を示す。この場合は、480nm付近にK
err回転角のピークを持つ記録膜が得られた。また、
Pt−FeCo−SiNxとを組合せると、Kerr回
転角は、0.9゜ 付近まで増大した。Pd−Co−S
iOでは最大0.65′ であるがFeCoの合金とす
ることにより、Fe或いはCo単体の場合よりKerr
回転角が増大させる効果があった。Pctの代りにPt
,Au或いはRhを用いてもよ(,Si○の代りにSi
Nx,AQ Fs,AQzOs等に代表されるいずれの
誘電体膜を用いても良い。また、ディスクの構造もレー
ザー光を基板側から入射させるだけでなく、反射膜を基
板上に設けた後に本発明の情報記録媒体を積層し、膜面
側から入射させても良い。
測定した結果を示す。この場合は、480nm付近にK
err回転角のピークを持つ記録膜が得られた。また、
Pt−FeCo−SiNxとを組合せると、Kerr回
転角は、0.9゜ 付近まで増大した。Pd−Co−S
iOでは最大0.65′ であるがFeCoの合金とす
ることにより、Fe或いはCo単体の場合よりKerr
回転角が増大させる効果があった。Pctの代りにPt
,Au或いはRhを用いてもよ(,Si○の代りにSi
Nx,AQ Fs,AQzOs等に代表されるいずれの
誘電体膜を用いても良い。また、ディスクの構造もレー
ザー光を基板側から入射させるだけでなく、反射膜を基
板上に設けた後に本発明の情報記録媒体を積層し、膜面
側から入射させても良い。
また,性能向上のために、基板1と多層構造を有する情
報記録媒体8〜10の間に無機誘電体よりなる磁気光学
効果増大膜( Kerrエンハンス膜)を設けても良い
。
報記録媒体8〜10の間に無機誘電体よりなる磁気光学
効果増大膜( Kerrエンハンス膜)を設けても良い
。
[実施例3]
本実施例は、第6図に示すように基板1上にPtCo合
金層L1とAQN層12とを交互積層した場合である。
金層L1とAQN層12とを交互積層した場合である。
作製法は、実施例1と同様の手法で二元同時スパツタ法
を用いた。各層の膜厚はPtCoMが5人、AQN層が
3入とした。その後,反射層5としてCuNb膜を50
0λの膜厚に形成し、光ディスクとした。
を用いた。各層の膜厚はPtCoMが5人、AQN層が
3入とした。その後,反射層5としてCuNb膜を50
0λの膜厚に形成し、光ディスクとした。
第7図にこのディスクのKerr回転角の波長依存性を
調べた結果を示す。本実施例のディスクではレーザー光
の波長450nm付近で回転角が最大となった。このピ
ーク値は,各層の膜厚を制御することにより任意の値が
選べる。P t. G o合金より、PtCoFe合金
を用いたときより大きなKerr回転角が得られた。ま
た、光入射は基板側か掠、だけでなく、基板上に反射膜
を設けた後に記録媒体層を形成し,膜面から入射させて
も良い。
調べた結果を示す。本実施例のディスクではレーザー光
の波長450nm付近で回転角が最大となった。このピ
ーク値は,各層の膜厚を制御することにより任意の値が
選べる。P t. G o合金より、PtCoFe合金
を用いたときより大きなKerr回転角が得られた。ま
た、光入射は基板側か掠、だけでなく、基板上に反射膜
を設けた後に記録媒体層を形成し,膜面から入射させて
も良い。
また、Kerr効果の一層の増大のために、基板1と多
層構造を有する情報記録媒体1.1.12との間に磁気
光学Kerr効果の増大させる股(Kerrエンハンス
膜)を設けても良い。
層構造を有する情報記録媒体1.1.12との間に磁気
光学Kerr効果の増大させる股(Kerrエンハンス
膜)を設けても良い。
[実施例4]
本実施例において作製した光ディスクの断面構造を示す
模式図を第8図に示す。まず、凹凸の案内溝を有するデ
ィスク基板上1に、先の実施例1〜3に示した多層構造
を有する情報記録媒体13を形成し、その上に金属反射
膜5を作製し,そして再び多層構造を有する情報記録媒
体13を形成した後に、先の案内溝を有する基板と同じ
消質の平坦な基板を貼合せた。このようにすることによ
り、簡便な手法で両面ディスクを得ることができた。し
かも、案内溝を有する基板は1枚で済むので、ディスク
の!!2造コストの低減をはかることがきた。
模式図を第8図に示す。まず、凹凸の案内溝を有するデ
ィスク基板上1に、先の実施例1〜3に示した多層構造
を有する情報記録媒体13を形成し、その上に金属反射
膜5を作製し,そして再び多層構造を有する情報記録媒
体13を形成した後に、先の案内溝を有する基板と同じ
消質の平坦な基板を貼合せた。このようにすることによ
り、簡便な手法で両面ディスクを得ることができた。し
かも、案内溝を有する基板は1枚で済むので、ディスク
の!!2造コストの低減をはかることがきた。
本発明によれば、磁気的に異方性を有する層と無機化合
物よりなる誘電体とを交互に積層し、その際に各層の膜
厚を制御することにより、用いるレーザー光の波長に合
わせて最大のκerr及びFaraday回転角を得る
ことができる。特に、短波長領域(400〜670nm
付近)で回転角が大きくかつ耐食性の優れた材料として
白金族元素一鉄族元素の合金系があり、特に白金族元素
と鉄族元素とを交互積層すると異方性が増大し、光磁気
膜として安定に存在する.この特性は、記録膜と誘電体
とを交互積層することで増大し、それには特に人オーダ
ーの積層が有効である。これにより、短波長領域でも著
しく大きな磁気光学効果を有する記録膜を形或でき、高
密度記録を行っても十分な再生信号出力が得られる。
物よりなる誘電体とを交互に積層し、その際に各層の膜
厚を制御することにより、用いるレーザー光の波長に合
わせて最大のκerr及びFaraday回転角を得る
ことができる。特に、短波長領域(400〜670nm
付近)で回転角が大きくかつ耐食性の優れた材料として
白金族元素一鉄族元素の合金系があり、特に白金族元素
と鉄族元素とを交互積層すると異方性が増大し、光磁気
膜として安定に存在する.この特性は、記録膜と誘電体
とを交互積層することで増大し、それには特に人オーダ
ーの積層が有効である。これにより、短波長領域でも著
しく大きな磁気光学効果を有する記録膜を形或でき、高
密度記録を行っても十分な再生信号出力が得られる。
第1図,第4図,第6図および第8図は本発明の実施例
になる光磁気ディスクの断面構造模式図,第2図,第5
図,第7図は実施例の光ディスクのKerr回転角のレ
ーザー光波長依存特性図、第3図は本発明の光ディスク
の全金属膜厚とKerr回転角の関係を示す特性図であ
る. 1・・・基板、2・・・Pt層,3・・・Co層,4・
・・S i N x層、5・・・反射層、6・・・Si
Nエの膜厚が8人の場合、7・・・SiNxの膜厚が1
0人の場合,8・・・Pd層、9 − F e C o
層、1 0 =− S i O層、工】・・・PtCo
合金層、12・・・AQN層、13・・・多層構造情報
記録媒体、14・・・貼合せ基板.第 1 区 6 2図 汲五人(7次ノ 5反射族 g ;StNx4%l’; 4” 31 ’鳩h7
/θi ・ Z 3 回 湛展 入 (tI71) 葡 5 図 沢玉 入 (γ阿) /θ 3;θ内 第 7 区 汲 義 入 (7F7N) /4 拓ξゼ是才足
になる光磁気ディスクの断面構造模式図,第2図,第5
図,第7図は実施例の光ディスクのKerr回転角のレ
ーザー光波長依存特性図、第3図は本発明の光ディスク
の全金属膜厚とKerr回転角の関係を示す特性図であ
る. 1・・・基板、2・・・Pt層,3・・・Co層,4・
・・S i N x層、5・・・反射層、6・・・Si
Nエの膜厚が8人の場合、7・・・SiNxの膜厚が1
0人の場合,8・・・Pd層、9 − F e C o
層、1 0 =− S i O層、工】・・・PtCo
合金層、12・・・AQN層、13・・・多層構造情報
記録媒体、14・・・貼合せ基板.第 1 区 6 2図 汲五人(7次ノ 5反射族 g ;StNx4%l’; 4” 31 ’鳩h7
/θi ・ Z 3 回 湛展 入 (tI71) 葡 5 図 沢玉 入 (γ阿) /θ 3;θ内 第 7 区 汲 義 入 (7F7N) /4 拓ξゼ是才足
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、レーザー光を用いて記録、再生及び消去を行う光デ
ィスクにおいて、情報の記録を行うのにPt、Pd、R
h或いはAuの内から選ばれる少なくとも1種類の材料
層、Co及びFeの内から選ばれる少なくとも1種類の
材料層及び無機化合物よりなる誘電体層とを交互に積層
した多層構造を有する記録膜としたことを特徴とする情
報記録媒体の構造。 2、特許請求の範囲第1項記載の多層構造の記録媒体に
おいて、金属層の全膜厚が50nm以下となるように積
層し、かつ最下層もしくは最上層に光反射層を設けたこ
とを特徴とする情報記録媒体の構造。 3、特許請求の範囲第1項記載の無機化合物よりなる誘
電体層として、金属の酸化物、窒化物、フッ化物或いは
カルコゲン化物を用い、さらに優位にはその化合物がS
iN_x、SiO_x、AlN_x、ZnS、AlF_
3、TiO_2、BN、Al_2O_3、CrO_x、
Ta_2O_5の内から選ばれる少なくとも1種を主体
とした材料であることを特徴とする情報記録媒板の構造
。 4、特許請求の範囲第1項及び第2項記載の多層構造の
情報記録媒体において、金属層の膜厚或いは無機化合物
よりなる誘電体層においては膜厚と屈折率の両方或いは
その一方を制御することにより、記録、再生成いは消去
に用いる光の波長における再生信号出力が最大としたこ
とを特徴とする情報記録媒体の構造。 5、特許請求の範囲第1項及び第4項記載の情報記録媒
体において、Rh、Pt、Pd、Cu及びAuの内の少
なくとも1種とFe及びCoの内の1種もしくは2種よ
りなる合金と無機化合物よりなる誘電体とを交互に積層
したことを特徴とする情報記録媒体の構造。6、特許請
求の範囲第2項記載の最上層もしくは最下層に設ける金
属反射膜により光の反射機能をもたせるとともに記録膜
層の温度分布を制御したことを特徴とする情報記録媒体
の構造。 7、特許請求の範囲第2項及び第6項記載の光射光及び
記録膜の温度分布を制御する膜の材料として、Al、A
u、Ag、Cu、Pt、Pd、或いはRhの内から選ば
れる元素を主体とし、これにTi、Ta、Cr、Nb、
Ni、或いは先の金属元素の内の母金属以外の金属元素
の内から選ばれる少なくとも1種類の元素を用いたこと
を特徴とする情報記録媒体の構造。 8、案内溝を有するディスク基板上に、特許請求の範囲
第1項〜第5項記載の多層構造情報記録媒体を形成し、
特許請求の範囲第6項及び第7項記載の金属反射膜を設
けた後に、再び先の多層構造情報記録媒体を作製し、そ
の上に基板を設けた構造を有し、光を両方から同時もし
くはいずれか一方から入射させて記録、再生、或いは消
去を行なつたことを特徴とする情報記録媒体の構造。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24197489A JPH03105744A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 情報記録媒体の構造 |
US07/509,743 US5270987A (en) | 1988-02-08 | 1990-04-17 | Magneto-optical recording and reproducing method, magneto-optical memory apparatus and magneto-optical recording medium therefor |
DE69029048T DE69029048T2 (de) | 1989-04-19 | 1990-04-19 | Magnetooptische Aufzeichnungs- und Wiedergabeverfahren, magnetooptische Speichervorrichtung |
EP90107406A EP0393652B1 (en) | 1989-04-19 | 1990-04-19 | Magneto-optical recording and reproducing method, magnetooptical memory apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24197489A JPH03105744A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 情報記録媒体の構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03105744A true JPH03105744A (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=17082360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24197489A Pending JPH03105744A (ja) | 1988-02-08 | 1989-09-20 | 情報記録媒体の構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03105744A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03216391A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Univ Nagoya | 光磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP24197489A patent/JPH03105744A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03216391A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Univ Nagoya | 光磁気記録媒体 |
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