JPH0295035U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0295035U JPH0295035U JP147789U JP147789U JPH0295035U JP H0295035 U JPH0295035 U JP H0295035U JP 147789 U JP147789 U JP 147789U JP 147789 U JP147789 U JP 147789U JP H0295035 U JPH0295035 U JP H0295035U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum container
- masking
- repair
- section
- pattern
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図はこの考案に係るパターン白欠陥の修正
をするための膜形成方法に蒸着を用いた装置を示
す概略断面図、第２図はこの考案に係るパターン
白欠陥の修正をするための膜形成方法にスパツタ
リングを用いた装置を示す概略断面図、第３図ａ
は、白欠陥の大きさ、形状を合わせるための開口
部の平面図、第３図ｂは第３図ａのＡ―Ａ′断面
図、第４図はフオトマスクの表面の一部を示す図
、第５図ａはサーマルヘツドの一部を示す図、第
５図ｂは第５図ａのＢ―Ｂ′断面図である。 ２……白欠陥部、１０……真空容器、１２……
ベローズ、１４……開口部、１６……Ｃｒ材、１
９……顕微鏡。
をするための膜形成方法に蒸着を用いた装置を示
す概略断面図、第２図はこの考案に係るパターン
白欠陥の修正をするための膜形成方法にスパツタ
リングを用いた装置を示す概略断面図、第３図ａ
は、白欠陥の大きさ、形状を合わせるための開口
部の平面図、第３図ｂは第３図ａのＡ―Ａ′断面
図、第４図はフオトマスクの表面の一部を示す図
、第５図ａはサーマルヘツドの一部を示す図、第
５図ｂは第５図ａのＢ―Ｂ′断面図である。 ２……白欠陥部、１０……真空容器、１２……
ベローズ、１４……開口部、１６……Ｃｒ材、１
９……顕微鏡。
Claims (1)
- 基板上に形成されたパターン欠陥を修正するリ
ペア装置において、加熱手段、電圧供給手段、及
び、発生粒子源等からなる粒子発生部を内蔵し、
該発生粒子源と対向する部位に空孔部を有する真
空容器と、該真空容器の排気手段と、該空孔部外
側に摺動可能に配置された種々形状の開口部を有
するマスキング部と、該マスキング部を摺動する
マスキング可変手段と、該マスキング部を介して
該真空容器に装着される修正基板と該真空容器と
のシール部と、該修正基板の大気側に配置される
該修正基板のパターン欠陥検出手段とを具備する
ことを特徴とするパターン白欠陥リペア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP147789U JPH0295035U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP147789U JPH0295035U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295035U true JPH0295035U (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=31201398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP147789U Pending JPH0295035U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0295035U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006299292A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Ulvac Kyushu Corp | 真空成膜装置及び成膜方法 |
| JP2011089203A (ja) * | 2010-10-25 | 2011-05-06 | Ulvac Kyushu Corp | 真空成膜装置及び成膜方法 |
-
1989
- 1989-01-10 JP JP147789U patent/JPH0295035U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006299292A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Ulvac Kyushu Corp | 真空成膜装置及び成膜方法 |
| JP4691385B2 (ja) * | 2005-04-15 | 2011-06-01 | アルバック九州株式会社 | 真空成膜装置 |
| JP2011089203A (ja) * | 2010-10-25 | 2011-05-06 | Ulvac Kyushu Corp | 真空成膜装置及び成膜方法 |
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