JPH0292889A - Cz炉への原料供給装置 - Google Patents
Cz炉への原料供給装置Info
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- JPH0292889A JPH0292889A JP24349888A JP24349888A JPH0292889A JP H0292889 A JPH0292889 A JP H0292889A JP 24349888 A JP24349888 A JP 24349888A JP 24349888 A JP24349888 A JP 24349888A JP H0292889 A JPH0292889 A JP H0292889A
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- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 6
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- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
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- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、C7炉へ原料を連続的に供給する装置に関
する。
する。
(従来の技術)
半導体単結晶の引き上げ中に坩堝内に追加供給される原
料は、特開昭61−36197号公報に示す如く回転羽
根で原料をすくい取られて供給されるか、或いは、原料
容器からベルトコンベアで連続的に供給されており、こ
れら原料供給手段における原料供給速度の調節は、半導
体溶融液の液面位置を計測し、該液面位置を一定にする
如く行われていた。
料は、特開昭61−36197号公報に示す如く回転羽
根で原料をすくい取られて供給されるか、或いは、原料
容器からベルトコンベアで連続的に供給されており、こ
れら原料供給手段における原料供給速度の調節は、半導
体溶融液の液面位置を計測し、該液面位置を一定にする
如く行われていた。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、上記の如く融液の液面を計測して原料を供給す
る方法は、ある一定量の液面差を生じた場合に回転羽根
やコンベアが駆動されるものであって、連続供給ができ
ず、上記回転羽根やベルトコンベアでは、原料供給速度
が不安定となって原料の供給量が正確に制御できない、
この結果、従来のものでは、液温の制御が困難で熱的に
不安定な状態となり、結晶欠陥が訪発する等の問題があ
る。
る方法は、ある一定量の液面差を生じた場合に回転羽根
やコンベアが駆動されるものであって、連続供給ができ
ず、上記回転羽根やベルトコンベアでは、原料供給速度
が不安定となって原料の供給量が正確に制御できない、
この結果、従来のものでは、液温の制御が困難で熱的に
不安定な状態となり、結晶欠陥が訪発する等の問題があ
る。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、原料容器の下部に
配された第1のフィーダと、該第1のフィーダの下流に
配された上下面開口の中間容器と、該中間容器下に配さ
れた原料供給速度調整可能な第2のフィーダと、前記中
間容器及び第2のフィーダを載設した秤量器と、前記第
2のフィーダに連接された漏斗と、を備えて構成し、更
に、前記第1のフィーダを駆動制御する制御手段を備え
、また、これと共に、第2のフィーダの供給速度を可変
制御する制御手段とを具備して構成した。
配された第1のフィーダと、該第1のフィーダの下流に
配された上下面開口の中間容器と、該中間容器下に配さ
れた原料供給速度調整可能な第2のフィーダと、前記中
間容器及び第2のフィーダを載設した秤量器と、前記第
2のフィーダに連接された漏斗と、を備えて構成し、更
に、前記第1のフィーダを駆動制御する制御手段を備え
、また、これと共に、第2のフィーダの供給速度を可変
制御する制御手段とを具備して構成した。
前記制御手段は、好ましくは、中間容器内の原料の秤量
値に応じて該中間容器内に原料を送り込むべく第1のフ
ィーダを駆動し、且つ一定時間内における中間容器内の
原料の設定秤量値と実際の秤量値との差に応じて補正値
を加味し−りつ第2のフィーダを速度制御するものであ
る。
値に応じて該中間容器内に原料を送り込むべく第1のフ
ィーダを駆動し、且つ一定時間内における中間容器内の
原料の設定秤量値と実際の秤量値との差に応じて補正値
を加味し−りつ第2のフィーダを速度制御するものであ
る。
(作 用)
本発明においては、中間容器内の原料が、常時秤量され
、該中間容器内の原料が常に一定範囲の重量を保持する
ように、第1のフィーダが制動される。すなわち原料の
秤量重量がmのときの秤量出力値A、、、下限重量の秤
量出力値aとの間で、輻〈aの場合に第1のフィーダが
駆動されて原料を中間容器内に供給し、上限重量の秤量
出力値すとの間でb<A、%どなった場合に第1のフィ
ーダが停止される。
、該中間容器内の原料が常に一定範囲の重量を保持する
ように、第1のフィーダが制動される。すなわち原料の
秤量重量がmのときの秤量出力値A、、、下限重量の秤
量出力値aとの間で、輻〈aの場合に第1のフィーダが
駆動されて原料を中間容器内に供給し、上限重量の秤量
出力値すとの間でb<A、%どなった場合に第1のフィ
ーダが停止される。
そして、中間容器内の原料の重量に応じて第2のフィー
ダがその原料供給速度を制御される。
ダがその原料供給速度を制御される。
すなわち、第2のフィーダが一定の原料移動速度を保持
していても、中間容器内の原料が減少するにつれ、その
原料供給速度が減少して行くことが経験上確かめられて
いる。そこで、中間容器内の原料の秤量値に応じて第2
のフィーダの原本4移動速度を増減し、実際の原料供給
速度を一定化する必要がある。また、第1のフィーダに
よって原料が中間容器内に供給された場合には第2の原
料移動速度を遅くする必要がある。そこで、この第2の
フィーダの速度制御は、秤量器の秤量値を電気信号に変
換して演算器に入力し、中間容器内の原料の秤量値に応
じた補正値を加味して演算を行い、適正な原料移動速度
を算出し第2のフィーダを駆動する制御手段によって自
動的に行われ、この結果、第2のフィーダから漏斗へ送
られる原料は、常に一定量となる。
していても、中間容器内の原料が減少するにつれ、その
原料供給速度が減少して行くことが経験上確かめられて
いる。そこで、中間容器内の原料の秤量値に応じて第2
のフィーダの原本4移動速度を増減し、実際の原料供給
速度を一定化する必要がある。また、第1のフィーダに
よって原料が中間容器内に供給された場合には第2の原
料移動速度を遅くする必要がある。そこで、この第2の
フィーダの速度制御は、秤量器の秤量値を電気信号に変
換して演算器に入力し、中間容器内の原料の秤量値に応
じた補正値を加味して演算を行い、適正な原料移動速度
を算出し第2のフィーダを駆動する制御手段によって自
動的に行われ、この結果、第2のフィーダから漏斗へ送
られる原料は、常に一定量となる。
(実施例)
以下、本発明を例示図面に基いて説明する。
第1図は、本発明装置の一実施例を示す一部縦断面図で
あり、図中、1は底部開口の原料容器を示す、laは上
記原料容器1の蓋であり、原料Aは該蓋1aを開いて原
料容器1内に充填される。2は上記原料容器1の下部に
配された第1のフィーダであり、該第1のフィーダによ
って原料Aは漏斗3のある下流側へ供給される。
あり、図中、1は底部開口の原料容器を示す、laは上
記原料容器1の蓋であり、原料Aは該蓋1aを開いて原
料容器1内に充填される。2は上記原料容器1の下部に
配された第1のフィーダであり、該第1のフィーダによ
って原料Aは漏斗3のある下流側へ供給される。
そして本発明装置の場合、原料Aは上記第1のフィーダ
2から漏斗3へ直接供給される構成とはなっていない。
2から漏斗3へ直接供給される構成とはなっていない。
すなわち、第1のフィーダ2の直ぐ下流に中間容器4が
配され、該中間容器4の下に第2のフィーダ5が配され
、第1のフィーダ2により送り出された原料Aは、中間
容器4内に一旦貯えられ、該中間容器4内の原料Aが第
2のフィーダ5によって上記漏斗3に送り込まれる構成
となっている。なお、実施例では、第1及び第2のフィ
ーダ2,5に電磁振動式のものを用いている。もっとも
、フィーダは、その他にベルト式のもの等、任意のもの
を用いてよい。
配され、該中間容器4の下に第2のフィーダ5が配され
、第1のフィーダ2により送り出された原料Aは、中間
容器4内に一旦貯えられ、該中間容器4内の原料Aが第
2のフィーダ5によって上記漏斗3に送り込まれる構成
となっている。なお、実施例では、第1及び第2のフィ
ーダ2,5に電磁振動式のものを用いている。もっとも
、フィーダは、その他にベルト式のもの等、任意のもの
を用いてよい。
そして、上記中間容器4及び第2のフィーダ5は秤量器
6上に載設され、原料Aは秤量器6の秤量値に従って自
動的に供給される構成とされている。すなわち、上記秤
量器6、第1のフィーダ2及び第2のフィーダ5には中
間容器4内の原料Aの量に応じて第1のフィーダ2及び
第2のフィーダ5を制御する制御手段7が付設されてい
る。
6上に載設され、原料Aは秤量器6の秤量値に従って自
動的に供給される構成とされている。すなわち、上記秤
量器6、第1のフィーダ2及び第2のフィーダ5には中
間容器4内の原料Aの量に応じて第1のフィーダ2及び
第2のフィーダ5を制御する制御手段7が付設されてい
る。
第2図において、第1及び第2のフィーダ2゜5は、フ
ィーダ制御装置によって駆動制御され、また、第2のフ
ィーダ5における秤量器6の秤量値が演算装置によって
演算され、この演算値に基いて制御信号が前記フィーダ
制御装置より第1及び第2のフィーダ2,5へ送出され
るように構成されている。前記制御手段7は、上述した
演算装置と、フィーダ制御装置とから構成されている。
ィーダ制御装置によって駆動制御され、また、第2のフ
ィーダ5における秤量器6の秤量値が演算装置によって
演算され、この演算値に基いて制御信号が前記フィーダ
制御装置より第1及び第2のフィーダ2,5へ送出され
るように構成されている。前記制御手段7は、上述した
演算装置と、フィーダ制御装置とから構成されている。
前記第1のフィーダ2における制御は、秤量器6におけ
る原料Aの秤量値が0のとき、秤量器6の基準出力を八
〇として初期設定がなされ、秤量値がmのとき、秤量器
6はA、、を出力する。第3図において、ステップP1
01で、原料Aの秤量重量mにおける秤量出力値舷が、
下限重量の秤量出力値aよりも小さいとき、ステップP
102で第1のフィーダ2が駆動し、これにより原料容
器l内の原料Aが中間容器4に供給される。
る原料Aの秤量値が0のとき、秤量器6の基準出力を八
〇として初期設定がなされ、秤量値がmのとき、秤量器
6はA、、を出力する。第3図において、ステップP1
01で、原料Aの秤量重量mにおける秤量出力値舷が、
下限重量の秤量出力値aよりも小さいとき、ステップP
102で第1のフィーダ2が駆動し、これにより原料容
器l内の原料Aが中間容器4に供給される。
ステップP103で、秤量出力値A、、が上限重量の秤
量出力値すを越えると、第1のフィーダ2の駆動が停止
され(ステップP104)、再びステップPIOIに戻
る。
量出力値すを越えると、第1のフィーダ2の駆動が停止
され(ステップP104)、再びステップPIOIに戻
る。
前記ステップP101でA、< aでないときは、ステ
ップP104へ進んで第1のフィーダ2の駆動が停止さ
れ、また、ステップP103でA、がbを越えていない
ときは、第1のフィーダ2は駆動を継続する(ステップ
P102)。更に上記制御手段7は、a≦A、Il≦b
の範囲内において、後述する補正値を加味して第2のフ
ィーダ5の速度制御を行い、実際に漏斗3に供給される
原料Aの量を一定化するものでもある。
ップP104へ進んで第1のフィーダ2の駆動が停止さ
れ、また、ステップP103でA、がbを越えていない
ときは、第1のフィーダ2は駆動を継続する(ステップ
P102)。更に上記制御手段7は、a≦A、Il≦b
の範囲内において、後述する補正値を加味して第2のフ
ィーダ5の速度制御を行い、実際に漏斗3に供給される
原料Aの量を一定化するものでもある。
また上記補正値は、次のようにして作成され、制御手段
7に入力される。
7に入力される。
中間容器4内の原料Aが第2のフィーダ5によって供給
されるに従い、秤量値の出力A、が減少して行くのであ
り、この減少量の経時的変化が補正を行わない場合の現
実の原料供給速度であり、この原料供給速度は、理想の
原料供給速度と異なる。そこで理想の原料供給速度との
差を求め制御手段にこの差を補正値として入力する。
されるに従い、秤量値の出力A、が減少して行くのであ
り、この減少量の経時的変化が補正を行わない場合の現
実の原料供給速度であり、この原料供給速度は、理想の
原料供給速度と異なる。そこで理想の原料供給速度との
差を求め制御手段にこの差を補正値として入力する。
すなわち、第2のフィーダ5において、フィーダの原料
供給通路(トラフ)の断面積S [cm”l、トラフを
移動する原料の単位時間における位置的変位量(原料移
動速度) V [cm/min]、原料の比重C[g/
cm3] との間で、単位時間にトラフから供給(落下
)される原料の重量Wag/min]は、W=CφSφ
V となる。
供給通路(トラフ)の断面積S [cm”l、トラフを
移動する原料の単位時間における位置的変位量(原料移
動速度) V [cm/min]、原料の比重C[g/
cm3] との間で、単位時間にトラフから供給(落下
)される原料の重量Wag/min]は、W=CφSφ
V となる。
第1のフィーダ2から中間容器4へ補充されない場合、
第2のフィーダ5の時刻T、、 T1. T2・・・T
ヨ・・・Tn・・・のときの秤量値をWo、 Wl、
W2・・・Wl・・・Wn・・・とすると、T、からT
nの間の供給された原料の量は、Wm−Wnとなる。
第2のフィーダ5の時刻T、、 T1. T2・・・T
ヨ・・・Tn・・・のときの秤量値をWo、 Wl、
W2・・・Wl・・・Wn・・・とすると、T、からT
nの間の供給された原料の量は、Wm−Wnとなる。
その間の平均供給速度は、
−(wn−w、) / (Tn−T、)で表わされる。
制御において予め設定する値は、各任意の時刻Tnにお
ける供給速度Wnで行なう。なお、この速度Wnは、時
刻に対して一定か否かを問わない。
ける供給速度Wnで行なう。なお、この速度Wnは、時
刻に対して一定か否かを問わない。
さて、本発明の制御は、下記の3項について行なう。
(以下余白)
(ただしi<j )
として、
を求める。
ただし、Aは、微少時間における目標値とのズレ、
Cは、制御開始からの総供給量の目標値とのズレ、
Bは、A及びCの中間時間における目標値とのズレ、
をそれぞれ示す。
そして、上記A、B、Cのそれぞれが負の場合の供給量
を押え、これらがそれぞれ正の場合の供給量を増やすよ
うに制御する。なお、実際には、上記A、B、Cに所定
の定数a、b、cを定め、aA+ bB+ ccの値に
よってフィーダを制御する。第4図は、実際の供給の1
例を表わすもので、理想の原料供給態様に対し、上記の
制御を行った場合と、これを行わない場合を示している
。
を押え、これらがそれぞれ正の場合の供給量を増やすよ
うに制御する。なお、実際には、上記A、B、Cに所定
の定数a、b、cを定め、aA+ bB+ ccの値に
よってフィーダを制御する。第4図は、実際の供給の1
例を表わすもので、理想の原料供給態様に対し、上記の
制御を行った場合と、これを行わない場合を示している
。
第1のフィーダ2から中間容器4へ補充している場合は
、補充する直前の制御値を続行させ、この間の秤量値の
変化を第2のフィーダ5の制御には用いないで行なう。
、補充する直前の制御値を続行させ、この間の秤量値の
変化を第2のフィーダ5の制御には用いないで行なう。
この間は、補充する直前の供給量が維持されているもの
として前記A、B。
として前記A、B。
Cの計算を実行するものである。
8は、原料容器1の下部、第1のフィーダ2、中間容器
4、第2のフィーダ5、秤量計6及び漏斗3の上部を囲
繞する保護容器であり、該保護容器8には、空気抜管若
しくはアルゴン等不活性ガス注入管8aが接続されてい
る。
4、第2のフィーダ5、秤量計6及び漏斗3の上部を囲
繞する保護容器であり、該保護容器8には、空気抜管若
しくはアルゴン等不活性ガス注入管8aが接続されてい
る。
そして、上記本発明装置は、原料容器1に原料Aを充填
しておき、保護容器8内に、例えばアルゴン等不活性ガ
スを投入し、上記制御手段7により第1のフィーダ2及
び第2のフィーダ5を自動的に駆動制御し、原料Aを漏
斗3へ供給する如く使用する。
しておき、保護容器8内に、例えばアルゴン等不活性ガ
スを投入し、上記制御手段7により第1のフィーダ2及
び第2のフィーダ5を自動的に駆動制御し、原料Aを漏
斗3へ供給する如く使用する。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明に依れば、目標とする原料
供給速度で自動的に連続してCZ炉へ原料を供給するこ
とが出来、この結果融液の熱的安定性が向上して可及的
結晶欠陥の少ない単結晶が得られることになる。
供給速度で自動的に連続してCZ炉へ原料を供給するこ
とが出来、この結果融液の熱的安定性が向上して可及的
結晶欠陥の少ない単結晶が得られることになる。
第1図は本発明を示す概念構成図、第2図は同上の駆動
回路構成図、第3図は第1のフィーダの制御フローチャ
ート、第4図は原料供給の1例を示す図である。 1・・・原料容器 3・・・漏斗 5・・・第2のフィーダ 7・・・制御手段 2・・・第1のフィーダ 4・・・中間容器 6・・・秤量器
回路構成図、第3図は第1のフィーダの制御フローチャ
ート、第4図は原料供給の1例を示す図である。 1・・・原料容器 3・・・漏斗 5・・・第2のフィーダ 7・・・制御手段 2・・・第1のフィーダ 4・・・中間容器 6・・・秤量器
Claims (3)
- (1)原料容器の下部に配された第1のフィーダと、該
第1のフィーダの下流に配された上下面開口の中間容器
と、該中間容器下に配された原料供給速度調整可能な第
2のフィーダと、前記中間容器及び第2のフィーダを載
設した秤量器と、前記第2のフィーダに連接された漏斗
とを具備したことを特徴とするCZ炉への原料供給装置
。 - (2)原料容器の下部に配された第1のフィーダと、該
第1のフィーダの下流に配された上下面開口の中間容器
と、該中間容器下に配された原料供給速度調整可能な第
2のフィーダと、前記中間容器及び第2のフィーダを載
設した秤量器と、前記第2のフィーダに連接された漏斗
と、前記第1のフィーダを駆動制御する制御手段と、 を具備し、 前記制御手段は、中間容器内の原料の秤量値に応じて該
中間容器内に原料を送り込むべく第1のフィーダを駆動
し制御するものであることを特徴とするCZ炉への原料
供給装置。 - (3)原料容器の下部に配された第1のフィーダと、該
第1のフィーダの下流に配された上下面開口の中間容器
と、該中間容器下に配された原料供給速度調整可能な第
2のフィーダと、前記中間容器及び第2のフィーダを載
設した秤量器と、前記第2のフィーダに連接された漏斗
と、前記第1のフィーダを駆動制御すると共に第2のフ
ィーダの供給速度を可変制御する制御手段と、 を具備し、 前記制御手段は、中間容器内の原料の秤量値に応じて同
中間容器内に原料を送り込むべく第1のフィーダを駆動
し、且つ一定時間内における中間容器内の原料の設定秤
量値と実際の秤量値との差に応じて補正値を加味しつつ
第2のフィーダを速度制御するものであることを特徴と
するCZ炉への原料供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63243498A JP2523821B2 (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | Cz炉への原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63243498A JP2523821B2 (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | Cz炉への原料供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0292889A true JPH0292889A (ja) | 1990-04-03 |
JP2523821B2 JP2523821B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=17104785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63243498A Expired - Fee Related JP2523821B2 (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | Cz炉への原料供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2523821B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5855232A (en) * | 1996-02-27 | 1999-01-05 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Automatic metering/supplying apparatus for granular substances |
JP2007302258A (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-22 | Iwata Label Co Ltd | ラベル |
JP2007320623A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Iwata Label Co Ltd | ラベル |
CN102051670A (zh) * | 2010-11-29 | 2011-05-11 | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 | 一种不需阀门控制的连续出料装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59115736A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Toshiba Corp | シリコン顆粒供給装置 |
-
1988
- 1988-09-28 JP JP63243498A patent/JP2523821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59115736A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Toshiba Corp | シリコン顆粒供給装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2523821B2 (ja) | 1996-08-14 |
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