JPH0288579A - アミノ化ジケトビス(アリールまたはヘテロアリール)ピロロピロールの製造法ならびにその化合物の光導電性物質としての用法 - Google Patents

アミノ化ジケトビス(アリールまたはヘテロアリール)ピロロピロールの製造法ならびにその化合物の光導電性物質としての用法

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JPH0288579A
JPH0288579A JP1186198A JP18619889A JPH0288579A JP H0288579 A JPH0288579 A JP H0288579A JP 1186198 A JP1186198 A JP 1186198A JP 18619889 A JP18619889 A JP 18619889A JP H0288579 A JPH0288579 A JP H0288579A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1.4−ジケト−3,6−ビス(アリールまた
はへテロアリール)ピロロ[3,4−c]ピロールのア
ミノ化方法ならびにその化合物の光導電性物質としての
使用に関する。
1.4−ジケト−3,6−ビス(アリール)ピロロ[3
,4−c]ビロール(アミノアリール誘導体を含む)は
、たとえば米国特許第4415685号および第457
99499明mJ書に[3N示されている。このような
1.4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロールのアミノ
アリール誘導体は、従来公知の製造方法、たとえばジス
クシナートをアミノ置換ベンゾニトリルと反応させる方
法によってのみ製造されつるか、それは困難を伴ないし
かも収率が低い。
極性有機溶剤の存在下でアリールハロゲン化物をアミン
と反応させるアリールハロゲン化物のアミノ化方法が米
国特許第3484487号明細書に記載されている。こ
の方法は34.5乃至103.5バール(500乃至1
500psi)の範囲の加圧下かつ25゜乃至280℃
の温度範囲で実施される。
しかして、誠に驚くべきことながら、今回本発明によっ
てアミノ化ジケトビス(アリールまたはへテロアリール
)ピロロビロールか、0乃至10バール好ましくはl乃
至3バールの範囲の圧力下で50乃至230°Cの温度
範囲において、無水二極性非プロトン溶剤および塩基の
存在下で、ハロゲン化ジケトビス(アリールまたはへテ
ロアリール)ピロロビロールを第二アミンと反応させる
ことによって好収率で製造することができることか見い
だされた。
米国特許第4632893号明細書には。
l、4−ジチオケトピロロ[3,4−c]ピロールが光
導電性物質として、特に近赤外域において使用するのに
好適であることが教示されている。ここに本発明によっ
てさらに。
本発明の新規方法によって得られるアミノ化1.4−ジ
ケト−3,6−ビス(アリールまたはへテロアリール)
ピロロ[3,4−c]ピロールが近赤外域のみなならず
可視光線の波長域においても光導電特性を有することが
見いだされた。
すなわち1本発明は下記式の化合物の製造方法に関する
8 晶2 (式中、 R,は下記式から選択された基 R2は下記式から選択された基またはR,と同じ意味を
有する R1としとは互いに独立的に水素、Cr  Cta−ア
ルキル、カルバモイル、C2C1)−アルキルカルバモ
イル、C3Cis−ジアルキルカルバモイル、非置換の
フェニルまたはベンジル、またはそれぞれハロゲン、C
101□−アルキル、C,−C,□−アルコキシ、シア
ノまたはニトロによって置換されたフェニルまたはペン
シルを意味し、 R5とR6とは互いに独立的に、CI  C115−ア
ルキル、非置換であるかまたは−011または一3l+
 、ハロゲン、C,−C□2−アルキル。
C,−C,、−アルコキシ、シアノまたはニトロによっ
て置換されたフェニル、ベンジルまたはフェニルエチル
を意味するか、または−NR5R6てピロリジニル、ビ
ベソジル、ピロリル、トリアゾリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリ
ニルからなる群から選択された5員または6員の複素環
式基を形成する。
RヮとR8とは互いに独立的に、水素、ハロゲン、c、
  Cl2−アルキル、CI−CI 2−アルコキシま
たはシアノを意味する)。
しかして、本発明の式Iの化合物の製造方法は1式 ×2は下記式から選択された基またはX、と同じ意味を
有し、 11a1は塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素、R3,R
,、R2、Raは前記の意味を有する)のピロロピロー
ルと、式 (式中。
Xlは下記式から選択された基 (式中、 Yは水素またはアルカリ金属を意味し、R5およびR6
は前記の意味を有する)の第二アミンを、l二1のモル
比、またはX2が×1と同じ意味を有する場合にはl:
2のモル比で。
無水二極性非プロトン溶剤の存在下で式IIIのアミン
を基準にして化学的当量の0.1乃至15倍過剰量の無
水の有機塩基の存在下において、50乃至230℃の温
度範囲かっ0乃至lOバールの圧力下で反応させること
を特徴とする。
ここにおいて、ハロゲンとは、たとえばヨウ素、フッ素
、および好ましくは塩素、臭素を意味するものと理解さ
れたい。
C,−C,2−アルキルの例はメチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、5ec−ブチル、
tert−ブチル、nペンチル、tert−アミル、n
−ヘキシル、l、l、3.3−テトラメチル、n−ヘプ
チル、n−オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシルである。さらに、c。
C5−アルキル基の例は、上記に加えてトリデシル、テ
トラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどである。
C2C+ :+−アルキルカルバモイル基の例は、N−
メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−n
−プロピルカルバモイル、N−イソプロピルカルバモイ
ル、N−n−ブチルカルバモイル、N−tert−ブチ
ルカルバモイル、N−n−ペンチルカルバモイル、N−
tert−アミルカルバモイル、N−へキシルカルバモ
イル、N−オクチルカルバモイル、N−デシルカルバモ
イル、N−ドデシルカルバモイルなどである。
C3C25−ジアルキルカルバモイル基の例は、N、N
−ジメチルカルバモイル、N、N−ジエチルカルバモイ
ル、N、N−ジブチルカルバモイル、N、N−ジエチル
カルバモイル、N、N−ジデシルカルバモイル、N、N
−ジドデシルカルバモイルなどである。
C,−C,2−アルコキシ基の例は、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5e
c−ブトキシ、tert−ブトキシ、n−ペンチルオキ
シ、tert−アミルオキシ、n−へキシルオキシ、n
−へブチルオキシ、n−オクチルオキシ、デシルオキシ
、ドデシルオキシなどである。
Cs  Cs−シクロアルキル基の例は、シクロペンチ
ルおよび特にシクロヘキシルである。
Yが意味するアルカリ金属の例は、ナトリウム、リチウ
ム、カリウムなどであり、特にナトリウムが好ましい。
下記式の本発明の製造方法の好ましい実施態様は2式 [式中、 +1.は下記式のハ (式中の符号は後記の意味を有する)、1(°2は下記
式の基を意味するかまたはR1と同じ意味を有する (式中の符号は後記の意味を有する)、l′15とR6
とは互いに同じであって、CI −CI2−アルキル、
2−ヒドロキシエチル、2−メルカプトエチル、シクロ
ヘキシル、ベンジルまたはフェニルエチルを意味するか
、または−NR,R,でピロリジニル、ピペリジル、モ
ルホリニルまたはチオモルホリニルを意味する。
R7とR8とは互いに独立的に、水素、塩素、臭素、 
C+ −C4−アルキルまたはC,−C4−アルコキシ
を意味する)]の化合物が、式(式中、 \i X、は下記式の基 %Ial x2は下記式の基またはxlと同じ意味を有し。
ここで1lalは塩素または臭素、 R7とR6とは前記の好ましい意味を有する)のピロロ
ピロールを、式 ドロキシエチル、2−メルカプトエチルを意味するか、
または−NR,、R,でピロリジニル、ピペリジル、モ
ルホリニルまたはチオモルホリニルを意味し、R7と1
1.とは水素であり、 l1alは塩素または臭素であ
り、そして反応を150乃至200°Cの温度範囲で実
施するのが特に好ましい。
最も好ましい本発明の式(IV)の化合物の製造方法に
おいては、弐■中のR1とR2とが同じであり、そして
それぞれ下記式 (式中、RSとR6とは前記の好ましい意味を有する)
の第二アミンと、lOO乃至220°Cの温度範囲でか
つl乃至3バールの圧力下において反応させることによ
って製造される。
本発明の方法の特に好ましい実施態様においては、式■
中のR1とR2とが同じであり、従って式V中のX+と
x2とも同じであり1式■中のR,とR6とはC,−C
,−アルキル、2−ヒから選択された基である。
塩基としては、キノリンのような無水の有機塩基のいず
れもか使用でき、またアミノ化のために使用されるアミ
ンの過剰分をこの有機塩基として使用することもできる
。塩基はアミノ化のために使用されるアミンを基準にし
て化学的当量の0.5乃至15倍過剰の量で使用するの
が好ましい。
適当な溶剤の例は、カルボキシアミド、ラクタム、尿素
誘導体、スルホン、ニトロベンゼンのような無水の二極
性非プロトン溶剤である。好ましい溶剤としては、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドン、N、N’ −ジメチルエチレン尿素、N、
N’−ジメチルプロピレン尿素などがあげられる。
前記に引用した米国特許明細書の教示に従って式Iの化
合物を顔料として使用することができる。しかしまた、
米国特許第4632893号明細書の記載に従って式I
の化合物をジチオケトピロロ[3,4−c]ピロール製
造のための出発物質として使用することもできる。
特に興味ある式■の化合物の用途は、電子写真の受光体
における光導電性物質としての使用である。このような
受光体は導電性基板と光導電体とからなる。光導電体は
暗中で電気絶縁性であるが、光にvjA露されると電気
伝導性となる。この光導電体自体は単一層または複数層
がら構成されることができる。光導電体が1つの層がら
なる場合には、少なくともl桂の光導電物質が少なくと
も1種の結合剤中に分散されるか、あるいは、導電性基
板上に直接的に屏若される。多層光導電体の場合には、
1種またはそれ以上の光導電物質を含有する少なくとも
1つの光導電層と、少なくとも1つの電荷搬送層(ch
arge−carryinglayer)とからなる構
成が好ましい。
したがって、本発明はまた、1つの導電性基板と、1つ
の光導電性層と、1つの電荷搬送層とからなり、そのう
ちの少なくとも1つの層が式IVの化合物の少なくとも
1種を含有している電子写真用受光体を提供するもので
ある。
導電性基板は金属板または金属フィルムでありス!)る
。これは未処理でも、あるいは、たとえば粗面仕上げに
よって前処理されていてもよい、全屈はアルミニウム、
亜鉛、マグネシウム、銅またはこれらの合金でありうる
アルミニウムの場合には、前処理は陽極処理の形で実施
することかできる。適当な基板材料の例としては、さら
に、蒸気吹き付け(vapour−blasted)ア
ルミニウムプラスチック板、金属化面を有する重合体フ
ィルムなどが考慮される。
光導電体は重合体バインダーに溶解された形で光導電物
質として少なくとも1種の式Iの化合物を、そして、電
荷搬送物質としてヒドラゾンまたはピラゾリンのごとき
化合物を含有する。このような構成により、予備的な静
電帯電と画像露光との後に、対応する帯電部分と非帯電
部分とのパターン([A’)を形成することか可能とな
り、この潜像は公知の電子複写技術により可視像に変換
することかできる。
露光は可視波長域の光で行なうことかできる。
式Iの化合物は高い暗抵抗を有し、これにより非露光領
域に静電位を保持させることができる。
光導電体が単一層がらなる場合には、この層が1種また
はそれ以上の式■の化合物を、所望の場合には電荷搬送
物質と一緒に、好ましくは有機バインダー中に微細に分
散された形で含有する。バインダーは成膜性、電気絶縁
性であり、そして接着性のものであるのが望ましい。用
法によっては、バインダーは有機溶剤にn(溶性である
か、または水を含んでいてもよい塩基性有機溶剤混合物
に可溶性であることか所望される。
特に適当なバインダーは下記のごとき重縮合物または重
付加物さらにはまた共重合体をベースとしだものである
・ ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、
ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリアクリルアミド、ポリメチルメタクリレ−h
、ポリビニルフチラード、ポリ塩化ビニル、スチレン/
無水マレイン酸共重合体、スチレン/メタクリル酸/メ
タクリレート共重合体、または塩化ビニル/酢酸ビニル
共重合体。
光導電体が複数の層がらなる場合には、2層構造か特に
好ましい。この場合には、最初に導電性基板に光導電性
層が付与され、そして次ぎにその光導電性層の上に第2
の層としての電荷搬送層が付与される。これらの層のa
層順序はこれの逆であってもよい。いずれにしても、こ
れらの層のうちの1つ、好ましくは電荷搬送層が少なく
とも1種の式■の化合物を含有する。この化合物は有機
バインター中に溶解または微分散させることかできる。
導電性基板への付与は、たとえば有機溶剤中にバインダ
ー/本化合物の混合物を溶解または分散した溶液または
分散液を塗布し。
次いで溶剤を蒸発させる方法で実施することかできる。
しかしまた、式■の化合物は蒸着によって導電性基板に
付与することもできる。
第2層は1種またはそれ以上の電荷搬送物質を、好まし
くは有碑バインダー中に溶解または分散された形で含有
する。適当な電荷搬送物質は、好ましくは窒素を含有し
ている各種の芳香族化合物、たとえばヒドラゾンまたは
芳香族アミンである。これらはアルキリデン架橋メンバ
ーまたはアルキリデン基を含有していてもよい。このよ
うな物質は、たとえば、西独公開特許明細書第3447
685号、第57−65頁および日本の出版物”日本、
ハードコピー、1988年、関西におけるボスト−イン
ターナショナル・シンポジウム「電子写真におけるハー
ドコピー材料の最近の進歩 J   (Japan、1
lardcopy  ’88.  Po5t−InLc
rnational Symposium in Ka
rrsai;Recent I’rogress in
 1lardcopy Materials inEl
ectrophotography” 、22頁(大阪
、1988年5月23日発行)に記載されている。
したかって、電子写真用受光体の製造も本発明の対象の
1つであり、導電性基板に有機バインダーによってかま
たは真空蒸着によって式Iの化合物を付与し、そして次
に第2の層すなわち含窒芳香族化合物を含有する電荷搬
送層を形成することを特徴とする。
層の物理的特性を改良するために、光導電性層および電
荷搬送層にレベリング剤、界面活性剤、可塑剤のごとき
改質剤を含有させることもできる。
以下1本発明をさらに実施例によって説明する。
見ム■」 窒素雰囲気下で、1,4−ジケト−3,6−ビス(4−
フロモフェニル)ピロロ[3゜4−c]ビロールの20
g、気体状のジメチルアミンの16.7gおよび無水の
N−メチルピロリドンの4001をlQ%製オートクレ
ーブに装填する。おだやかに攪拌しながら、この懸濁物
を約75分間で180℃まで加熱し、そしてこの温度に
10時間保持する。この間の圧力は約1バールである。
この後1反応混合物を室温まで冷却し、オートクレーブ
を開き、懸濁物を吸引濾過する。濾過ケーキをジメチル
ホルムアミド、メタノール、温水の順序でよく洗い、得
られたまr−濡れている顔料を真空乾燥器に入れて約8
0°Cの温度で乾燥する。
これにより、青紫色粉末の形状で下記式の化合@l Z
、 6g (理論値の69.3%)を得た。
l1lCC1is HIc/l!I″CH3 !m 気体状のジメチルアミンの16.7gの代りに無水のピ
ロリジンの25.9gを使用し、かつ加熱を180°C
まてではなく200°Cまで行なって実施例1を反復実
施した。
圧力は約2バールであった。この結果、青紫色粉末の形
状を♀する下記式の化合物11.56g (理論値の6
0.5%)を得た。
災」1生ユ 気体状のジメチルアミンの16.7gの代りに無水のピ
ペリジンの31gを使用し、かつlO咋間ではなく15
時間180°Cに加熱するようにして実施例1を反復実
施した。圧力は約1バールであった。この結果、紫色粉
末の形状を呈する下記式の化合物10.6g(理論値の
52.1%)を得た。
実」114 気体状のジメチルアミンの16.7gの代りに無水のモ
ルホリンの31.7gを使用し、かつ180°Cではな
く220’Cの温度に10時間加熱するようにして実施
例1を反復実施した。圧力は約2バールであった。この
結果、紫色粉末の形状で下記式の化合物10.2g (
理論値の49.7%)を得た。
/\ ++ N/ i 背 災J115 窒素雰囲気下で、l、4−ジケト−3,6−ヒス(4−
クロロフェニル)ピロロ[3゜4−c]ビロールの25
g、無水のピロリジンの40.2gおよび無水のN、N
’ −ジメチルエチレン尿素500m1を1!;Ln4
製オートクレーブに装填する。おだやかに攪拌しなから
この懸濁物を約2時聞手かけて200″Cまで加熱し、
そしてこの温度に10時間保持する。この間の圧力は約
2バールである。この後、反応混合物を室温まで冷却し
、そして実施例1に記載したように仕上げ操作を実施す
る。これにより実施例2に記載の化合物と同じ化合物1
3.62g (理論値の45.6%)を得た。
笈上璽j 容量201!の小型ガラス圧力反応器(最高10バール
の圧力に対する安全弁付き)に、1.4−ジケト−3−
(4−フルオロフェニル)−6−フェニルピロロ[3,
4−c]ピロールの0.75g、ピペリジンの0.97
Il!および無水のジメチルスルホキシドの11.3m
lを装填する。室温でこの反応器をねし締めして密閉し
、そして攪拌しなから160°C(外部温度)まで加熱
する(約160°Cの加熱浴の中で反応器な回転させる
)。この温度て23時間攪拌した後、反応器を室温まで
冷却し、反応器を開き、得られた懸濁物を濾過する。+
1!過ケーキを少量のジメチルスルホキシドで洗浄し1
次に水洗し、そして真空乾燥器に入れて60°Cで乾燥
する。
しかして、赤紫色粉末の形状を呈する下記式の化合物0
.60g (理論値の約65%)を得る。
/N 窒素雰囲気下で、1.4−ジケト−3,6−ヒス(4−
ブロモフェニル)ピロロ[3゜4−〇]ピロールの5g
、N−メチルブチルアミンの7.81gおよび無水のN
−メチルピロリドンの100m1を300m1鋼製オー
トクレーブに装填する。おだやかに攪拌しながらこの懸
濁物を約2時間かけて200°Cまで加熱し、そしてこ
の温度に24時間保持する。この171の圧力はl乃至
2バールである。
この後、反応混合物を室温まて冷却し、オートクレーブ
を開き、!!!F!:J物を吸引波過する。
−過ケーキなN−メチルピロリドンとメタノールとで順
次によ〈洗n1する。得られたまだ濡れている顔料を真
空乾繰器に入れて約80’Cで乾燥する。
しかして青紫色粉末の形状で下記式の化合物1.0g(
理論値の20%)を得る。
災妻口11 実施例1の生成物0.3gを、キシレンとエチレングリ
コールモノメチルエーテルとの混合物(2:1容量比)
10gに入れた。その混合物には市販のアルキド/メラ
ミン樹脂(重量比1:l)1.0gが含有されていた。
得られた懸濁物をガラス玉を用いて5時間摩砕し、そし
てアルミニウム板上に延べ棒を用いて塗布した(電荷搬
送層)、この塗布層を50°Cで3時間乾燥した0層厚
は約lILmであった0次にf52層を塗布した。この
層は式 のヒドラゾンの0.6gとポリアクリレートワニス、ル
サイト(Lucite)■41の0.9g(メチルエチ
ルケトンのl1g中)との混合物からなるものであった
。塗布後、50°Cで15時間乾燥した。層厚は1乃至
15.pmであった。これによって得られた受光体は5
pJ/crn’の感度(Ey2)を有し、モして650
ボルトの電荷を搬送することができた。
実」11旦 実施例1の生成物を10−’ミリバールの真空下、蒸着
法により5人/秒の速度でアルミニウム基板の上に施与
した8層厚は約1000人であった0次に第2層を塗布
した。この層は式 てあった。これによって得られた受光体は8gJ/am
’の感光度(E3−i)を有していた。
N、−ノ のヒドラゾンの0.6gと、テトラヒドロフランの10
g中のポリカーボネート(マクロロン(Makrolo
n)■、デュポン社)0.6gとの混合物からなるもの
であった。塗布後。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、 R_1は下記式から選択された基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ R_2は下記式から選択された基またはR_1と同じ意
    味を有する ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ R_3とR_4とは互いに独立的に水素、C_1−C_
    1_8−アルキル、カルバモイル、C_2−C_1_3
    −アルキルカルバモイル、C_3−C_2_5−ジアル
    キルカルバモイル、非置換のフェニルまたはベンジル、
    またはそれぞれハロゲン、C_1−C_1_2−アルキ
    ル、C_1−C_1_2−アルコキシ、シアノまたはニ
    トロによって置換されたフェニルまたはベンジルを意味
    し、 R_5とR_6とは互いに独立的に、C_1−C_1_
    8−アルキル、非置換であるかまたは−OHまたは−S
    H、ハロゲン、C_1−C_1_2−アルキル、C_1
    −C_1_2−アルコキシ、シアノまたはニトロによっ
    て置換されたフェニル、ベンジルまたはフェニルエチル
    を意味するか、または−NR_5R_6でピロリジル、
    ピペリジニル、ピロリル、トリアゾリル、イミダゾリル
    、ピラゾリル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモル
    ホリニルからなる群から選択された5員または6員の複
    素環式基を形成する、 R_7とR_8とは互いに独立的に、水素、ハロゲン、
    C_1−C_1_2−アルキル、C_1−C_1_2−
    アルコキシまたはシアノを意味する)の化合物の製造方
    法において、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、 X_1は下記式から選択された基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ X_2は下記式から選択された基またはX_1と同じ意
    味を有し、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ Halは塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素、R_3、R
    _4、R_7、R_8は前記の意味を有する)のピロロ
    ピロールと、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、 Yは水素またはアルカリ金属を意味し、 R_5とR_6とは前記の意味を有する)の第二アミン
    とを、1:1のモル比、またはX_2がX_1と同じ意
    味を有する場合には1:2のモル比で、無水二極性非プ
    ロトン溶剤の存在下で式IIIのアミンを基準にして化学
    的当量の0.1乃至15倍過剰量の無水の有機塩基の存
    在下において、50乃至230℃の温度範囲かつ0乃至
    10バールの圧力下で反応させることを特徴とする方法
    。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) [式中、 R_1は下記式の基 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の符号は後記の意味を有する)、 R_2は下記式の基を意味するかまたはR_1と同じ意
    味を有する ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の符号は下記の意味を有する)、 R_5とR_6とは互いに同じであって、C_1−C_
    1_2−アルキル、2−ヒドロキシエチル、2−メルカ
    プトエチル、シクロヘキシル、 ベンジルまたはフェニルエチルを意味する か、または −NR_5R_6でピロリジニル、ピペリジル、モルホ
    リニルまたはチオモルホリニルを意味する、 R_7とR_8とは互いに独立的に、水素、塩素、臭素
    、C_1−C_4−アルキルまたはC_1−C_4−ア
    ルコキシを意味する)]の化合物を製造するための請求
    項1記載の方法において、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、 X_1は下記式の基 ▲数式、化学式、表等があります▼ X_2は下記式の基またはX_1と同じ意味を有し、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでHalは塩素または臭素、 R_7とR_8とは前記の好ましい意味を有する)のピ
    ロロピロールを、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、R_5とR_6とは前記の好ましい意味を有す
    る)の第二アミンと、100乃至220℃の温度範囲で
    かつ1乃至3バールの圧力下において反応させることを
    特徴とする方法。 3、式IV中のR_1とR_2とが同じであり、したがっ
    て式V中のX_1とX_2とも同じであり、式VI中のR
    _5とR_6とはC_1−C_4−アルキル、2−ヒド
    ロキシエチルまたは2−メルカプトエチルを意味するか
    、または−R_5R_6でピロリジニル、ピペリジル、
    モルホリニルまたはチオモルホリニルを意味し、R_7
    とR_8とは水素、Halは塩素または臭素であり、そ
    して反応を150乃至200℃の温度範囲で実施する請
    求項2記載の方法。 4、式IV中のR_1とR_2とが同じであり、そしてそ
    れぞれ下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化
    学式、表等があります▼から選択された基である、式I
    Vの化合物を 製造するための請求項2記載の方法。 5、塩基として式IIIのアミンの過剰分を使用する請求
    項1記載の方法。 6、溶剤が、カルボキシアミド、ラクタム、尿素誘導体
    、スルホンおよびニトロベンゼ ンからなる群から選択された二極性非プロトン溶剤であ
    る請求項1記載の方法。 7、溶剤がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
    ド、N−メチルピロリドン、N、N’−ジメチルエチレ
    ン尿素、N、N’−ジメチルプロピレン尿素からなる群
    から選択された二極性非プロトン溶剤である請求項1記
    載の方法。 8、少なくとも1つの導電性基板と、1つの光導電性層
    と、1つの電荷搬送層とからなり、そのうちの少なくと
    も1つの層が請求項1記載の式 I の化合物の少なくと
    も1つを含有している電子写真用受光体。 9、その光導電性層が請求項2記載の式IVの化合物の少
    なくとも1つを含有している請求項8記載の電子写真用
    受光体。 10、電子写真用受光体の製造方法において、導電性基
    板に請求項1記載の式 I の化合物を、有機バインダー
    を使用して、あるいは真空蒸着によって付与し、そして
    次ぎに芳香族窒素含有化合物を含有している第2の層を
    付与することを特徴とする方法。
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