JPH028809A - 走査式光学装置及びその調整方法 - Google Patents
走査式光学装置及びその調整方法Info
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- JPH028809A JPH028809A JP15974288A JP15974288A JPH028809A JP H028809 A JPH028809 A JP H028809A JP 15974288 A JP15974288 A JP 15974288A JP 15974288 A JP15974288 A JP 15974288A JP H028809 A JPH028809 A JP H028809A
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Landscapes
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、テレセントリックな走査レンズを介して走
査対象面上に形成したスポットを偏向器の回転によって
走査させる走査式光学装置に関し、より詳細には、走査
対象面上のスポットのピント状態を検知する受光手段を
有する走査式光学装置及び調整方法に関するものである
。
査対象面上に形成したスポットを偏向器の回転によって
走査させる走査式光学装置に関し、より詳細には、走査
対象面上のスポットのピント状態を検知する受光手段を
有する走査式光学装置及び調整方法に関するものである
。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]走査式
光学装置において、乾板やフィルム等の走査対9.面の
平坦性が低い場合や光信方向に前後する可能性がある場
合、あるいは像位置に高精度が要求される場合には、ピ
ントズレを起こした際にも軸外光によって形成される像
の位置がズレないように、走査レンズにテレセントリッ
ク性が要求される。
光学装置において、乾板やフィルム等の走査対9.面の
平坦性が低い場合や光信方向に前後する可能性がある場
合、あるいは像位置に高精度が要求される場合には、ピ
ントズレを起こした際にも軸外光によって形成される像
の位置がズレないように、走査レンズにテレセントリッ
ク性が要求される。
ところで、走査式光学装置の場合、レンズや偏向器等の
各光学素子の光軸調整やピント調整、あるいは偏心調整
等を行なう場合、通常の非走査結像系のように投影等に
よって調整状態を検知することができず、調整作業が困
難であった。
各光学素子の光軸調整やピント調整、あるいは偏心調整
等を行なう場合、通常の非走査結像系のように投影等に
よって調整状態を検知することができず、調整作業が困
難であった。
また、描画密度が高く要求される走査光学系では、走査
対象面上でスポット径を小さく絞るためにF値の小さい
走査レンズを使用する必要がある。
対象面上でスポット径を小さく絞るためにF値の小さい
走査レンズを使用する必要がある。
例えば、従来は乾板やフィルム等にプリント基板のパタ
ーンを描画するために必要なスポット径は最小でも30
μm程度であったが、近時ICのリードフレームの描画
等のようにより高精度が要求されるものや、液晶ライト
バルブへの書込み等のようにより高密度が要求されるも
のではスポット径5μm程度が要求されている。
ーンを描画するために必要なスポット径は最小でも30
μm程度であったが、近時ICのリードフレームの描画
等のようにより高精度が要求されるものや、液晶ライト
バルブへの書込み等のようにより高密度が要求されるも
のではスポット径5μm程度が要求されている。
ガウスビームの場合、スポット径をS、走査レンズによ
って集光するビームのFナンバーをFs++、波長をλ
、焦点深度を9とすると、 が成り立つため、λ=488nmの場合、S;30μm
とするためにはFナンバーは1:50程度、このときの
焦点深度9は±1.55mmとなる。従って、たとえ走
査対象面の平面性が±1mmあったとしてもスポ・ソト
径の変化は少なく、描画性能へ与える影響は少なかった
。
って集光するビームのFナンバーをFs++、波長をλ
、焦点深度を9とすると、 が成り立つため、λ=488nmの場合、S;30μm
とするためにはFナンバーは1:50程度、このときの
焦点深度9は±1.55mmとなる。従って、たとえ走
査対象面の平面性が±1mmあったとしてもスポ・ソト
径の変化は少なく、描画性能へ与える影響は少なかった
。
しかしながら、同じくλ:488r++uでS=5μm
まで絞るためにはFナンバーは1:8程度、このときの
焦点深度9は±0.04mmとなり、走査対象面に0.
1mm程度の凹凸、うねりがあった場合にもスポット径
が大きく変化して描画性能が劣化することとなる。
まで絞るためにはFナンバーは1:8程度、このときの
焦点深度9は±0.04mmとなり、走査対象面に0.
1mm程度の凹凸、うねりがあった場合にもスポット径
が大きく変化して描画性能が劣化することとなる。
このような不具合は、走査対象面の凹凸やうねりのみで
なく、レンズの傾き、偏心、及び走査レンズの像面湾曲
等によっても引き起こされる。
なく、レンズの傾き、偏心、及び走査レンズの像面湾曲
等によっても引き起こされる。
[発明の目的]
本発明は、テレセントリック走査レンズを使用した場合
、走査対象面で正反射された光束が同じ経路で光源方向
へ戻ってくるという特性を利用してなされたものであり
、この反射光を利用して走査式光学装置における光学素
子の調整を容易とし、あるいはビームスポットのピント
ズレによる性能劣化を防止することを目的とする。
、走査対象面で正反射された光束が同じ経路で光源方向
へ戻ってくるという特性を利用してなされたものであり
、この反射光を利用して走査式光学装置における光学素
子の調整を容易とし、あるいはビームスポットのピント
ズレによる性能劣化を防止することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
請求項1に係る走査式光学装置は、光源から発するビー
ムを偏向する偏向器と、偏向されたビームを走査対象面
上に集光するテレセントリックな走査レンズと、走査対
象面で反射されたビームを偏向器と光源との間の光路中
で出射光路から分離するビームスプリッタ−と、該ビー
ムスプリッタ−により分離されたビームを受光して走査
対象面に対するビームのピント状態を検出する受光手段
とを備えることを特徴とする 請求項2係る走査式光学装置は、請求項1の構成に加え
て走査レンズによって集光されるビームの合焦位置を変
化させる焦点調節整手段と、受光手段の出力に応じてビ
ームを走査対象面に合焦するよう焦点調節整手段を制御
する制御手段とを設けたことを特徴とする 請求項3に係る調整方法は、光源から発するビームを偏
向器を介して偏向し、偏向されたビームをテレセントリ
ックな走査レンズによって走査対象面上に集光させ、該
走査対象面で反射され走査レンズ及び偏向器を介して光
源側へ戻る反射光をビームをビームスプリッタ−を用い
て出射光路から分離し、該分離した光束を受光して走査
対象面に対するビームのピント状態を検知すると共に、
該検知結果に基づいて光学素子の調整を行なうことを特
徴とする。
ムを偏向する偏向器と、偏向されたビームを走査対象面
上に集光するテレセントリックな走査レンズと、走査対
象面で反射されたビームを偏向器と光源との間の光路中
で出射光路から分離するビームスプリッタ−と、該ビー
ムスプリッタ−により分離されたビームを受光して走査
対象面に対するビームのピント状態を検出する受光手段
とを備えることを特徴とする 請求項2係る走査式光学装置は、請求項1の構成に加え
て走査レンズによって集光されるビームの合焦位置を変
化させる焦点調節整手段と、受光手段の出力に応じてビ
ームを走査対象面に合焦するよう焦点調節整手段を制御
する制御手段とを設けたことを特徴とする 請求項3に係る調整方法は、光源から発するビームを偏
向器を介して偏向し、偏向されたビームをテレセントリ
ックな走査レンズによって走査対象面上に集光させ、該
走査対象面で反射され走査レンズ及び偏向器を介して光
源側へ戻る反射光をビームをビームスプリッタ−を用い
て出射光路から分離し、該分離した光束を受光して走査
対象面に対するビームのピント状態を検知すると共に、
該検知結果に基づいて光学素子の調整を行なうことを特
徴とする。
[実施例]
以下、この発明に係る走査式光学装置を図面に基づいて
説明する。
説明する。
(第1実施例)
第1図〜第8図は、この発明の第1実施例を示したもの
である。
である。
この走査式光学装置は、第1図に示したように、光源と
してのアルゴンレーザー(^=488nm)1と、この
アルゴンレーザーから発した光束を変調するA10変調
器2と、平行ビームの径を0.7φから18゜8φに拡
大するビームエクスパンダ−3と、偏光ビームスプリッ
タ−4と、174波長板5と、ビームを偏向させる偏向
器としてのポリゴンミラー6と、偏向されたビームを集
光させる走査レンズとしてのfθレンズ7と、走査対象
面としてのフラットな描画面8と、集光レンズ9a及び
シリンダーレンズ9bから構成される焦点検出光学系9
と、ビームの描画面に対するピント状態を検知する受光
手段としての4分割センサー10とから構成されている
。
してのアルゴンレーザー(^=488nm)1と、この
アルゴンレーザーから発した光束を変調するA10変調
器2と、平行ビームの径を0.7φから18゜8φに拡
大するビームエクスパンダ−3と、偏光ビームスプリッ
タ−4と、174波長板5と、ビームを偏向させる偏向
器としてのポリゴンミラー6と、偏向されたビームを集
光させる走査レンズとしてのfθレンズ7と、走査対象
面としてのフラットな描画面8と、集光レンズ9a及び
シリンダーレンズ9bから構成される焦点検出光学系9
と、ビームの描画面に対するピント状態を検知する受光
手段としての4分割センサー10とから構成されている
。
この例では、ビームエクスパンダ−3の第3.第4レン
ズ群3aを光軸方向に前後スライドさせる構成としてお
り、ビームエクスパンダ−3にビームの合焦位置を変化
させる焦点調節整手段としての機能を持たせている。
ズ群3aを光軸方向に前後スライドさせる構成としてお
り、ビームエクスパンダ−3にビームの合焦位置を変化
させる焦点調節整手段としての機能を持たせている。
各々の光学素子の詳細な構成は、第2図〜第5図に示さ
れており、具体的な数値は第9ページの第1表〜第3表
に示した通りである。なお、図及び表中の符号r1は入
射側からi番目の面の曲率半径、 djは入射側から
1番目の面と1+1番目の面との間の距M(レンズ厚及
び空気間隔)、nは屈折率を示している。
れており、具体的な数値は第9ページの第1表〜第3表
に示した通りである。なお、図及び表中の符号r1は入
射側からi番目の面の曲率半径、 djは入射側から
1番目の面と1+1番目の面との間の距M(レンズ厚及
び空気間隔)、nは屈折率を示している。
ビームエクスパンダ−3の構成は第2図及び第1表に、
fθレンズの構成は第3図及び第2表に、焦点検出系9
の構成は第4,5図及び第3表に示されている。
fθレンズの構成は第3図及び第2表に、焦点検出系9
の構成は第4,5図及び第3表に示されている。
なお、焦点検出系9については、第4図に紙面と平行な
主走査断面、第5図に紙面と垂直な副走査断面を示し、
第3表では主走査方向の曲率をr、副走査方向の曲率を
、lとして示している。
主走査断面、第5図に紙面と垂直な副走査断面を示し、
第3表では主走査方向の曲率をr、副走査方向の曲率を
、lとして示している。
(以下余白)
第1表(ビームエクスパンダ−)
第2表(fθレンズ)
f二100.09 fb=101.84第3表(焦
点検出系) 次に上記の走査式光学装置の作用を説明する。
点検出系) 次に上記の走査式光学装置の作用を説明する。
アルゴンレーザー1を発した光束はA10変調器2によ
って変調され、ビームエクスパンダ−3によって拡径さ
れる。アルゴンレーザー1はその光束が偏光ビームスプ
リッタ−4に対してp偏光として入射するよう配置され
ているため、出射時には光束はほぼ100%透過する。
って変調され、ビームエクスパンダ−3によって拡径さ
れる。アルゴンレーザー1はその光束が偏光ビームスプ
リッタ−4に対してp偏光として入射するよう配置され
ているため、出射時には光束はほぼ100%透過する。
偏光ビームスプリッタ−4を透過した光束は1/4波長
板5で円偏光に変換され、ポリゴンミラー6で反射され
てfθレンズ7に入射し、描画面8に集光される。集光
されたスポットはポリゴンミラー6の回転にともなって
図中mで示した主走査方向に走査し、描画面8が紙面と
垂直な副走査方向へ移動する。
板5で円偏光に変換され、ポリゴンミラー6で反射され
てfθレンズ7に入射し、描画面8に集光される。集光
されたスポットはポリゴンミラー6の回転にともなって
図中mで示した主走査方向に走査し、描画面8が紙面と
垂直な副走査方向へ移動する。
描画面8には感材、レジスト等が配置されており、スポ
ットの走査、A10変調器2によるビームの変調、描画
面8の移動によって描画面8上に感光、非感光による2
次元のパターンが形成される。
ットの走査、A10変調器2によるビームの変調、描画
面8の移動によって描画面8上に感光、非感光による2
次元のパターンが形成される。
描画面8に達した光の一部は描画面で正反射されて往路
と同様の経路を辿り、fθレンズ7、ポリゴンミラー6
を介して光源側へ戻ろうとする。しかし、反射ビームは
描画面8での反射によって位相が180°反転している
ため、1/4波長板5を透過することによって出射時と
は直交する方向に振動面を有する直線偏光となり、ビー
ムスプリッタ−4へはS偏光として入射する。
と同様の経路を辿り、fθレンズ7、ポリゴンミラー6
を介して光源側へ戻ろうとする。しかし、反射ビームは
描画面8での反射によって位相が180°反転している
ため、1/4波長板5を透過することによって出射時と
は直交する方向に振動面を有する直線偏光となり、ビー
ムスプリッタ−4へはS偏光として入射する。
従って、反射光はビームスプリッタ−4でほぼ100%
反射されて焦点検出系9へ導かれる。この焦点検出系9
は主走査断面とilJ走査断面とでパワーが異なり、ス
ポットの描画面に対するピントが合っている際には第6
図のように円形に収束し、描画面8がfθレンズ7から
0.3mdlれた場合には第7図、0.3mm近すいた
場合には第8図に示したように楕円形状に収束する。
反射されて焦点検出系9へ導かれる。この焦点検出系9
は主走査断面とilJ走査断面とでパワーが異なり、ス
ポットの描画面に対するピントが合っている際には第6
図のように円形に収束し、描画面8がfθレンズ7から
0.3mdlれた場合には第7図、0.3mm近すいた
場合には第8図に示したように楕円形状に収束する。
従って、受光素子10の対角に位置する受光部a。
b、c、dどおしの出力の和を下式のように引算するこ
とにより、非点収差法によって焦点検出信号Sfを検出
することができる。
とにより、非点収差法によって焦点検出信号Sfを検出
することができる。
Sf:(a+c)−(b+d)
この焦点検出信号Sfは、装置の組立調整時と実際に描
画を行なう際との2つの場面で利用することができる。
画を行なう際との2つの場面で利用することができる。
すなわち、レンズ、光源等の光軸が整合していない場合
、あるいはレンズの偏心や光軸に対する倒れがある場合
には、fθレンズに対する入射像高によって描画面に対
するピント状態が変化するため、この変化をポリゴンミ
ラー6を回転させつつ受光索子10の出力から検出する
ことにより、偏心、倒れ等の状況を把握することができ
る。従ってこの情報に基づいて装置の組立調整を行なう
ことができる。
、あるいはレンズの偏心や光軸に対する倒れがある場合
には、fθレンズに対する入射像高によって描画面に対
するピント状態が変化するため、この変化をポリゴンミ
ラー6を回転させつつ受光索子10の出力から検出する
ことにより、偏心、倒れ等の状況を把握することができ
る。従ってこの情報に基づいて装置の組立調整を行なう
ことができる。
なお、受光系を組み立て調整にのみ使用する場合には、
前記のようにビームエクスパンダ−3の第3.4レンズ
群3aを移動可能とする必要がなく、製品として出荷す
る際には受光系を取り外してしまう構成としてもよい。
前記のようにビームエクスパンダ−3の第3.4レンズ
群3aを移動可能とする必要がなく、製品として出荷す
る際には受光系を取り外してしまう構成としてもよい。
さて、次に焦点検出信号をオートフォーカスに利用する
場合の作用を説明する。
場合の作用を説明する。
図示せぬ制御回路は、焦点検出信号Sfに応じてビーム
を走査対象面に合焦するようビームエクスパンダ−3の
第3.4レンズ群3aを一体として光軸方向へ変位させ
る。
を走査対象面に合焦するようビームエクスパンダ−3の
第3.4レンズ群3aを一体として光軸方向へ変位させ
る。
この際、第3.4レンズ群3aの移動量に対するスポッ
トの焦点位置の移動量の比は10: 1程度となり、
第3.4レンズ詳3aの駆動が多少ラフであっても精度
良くオートフォーカスをかけることができる。
トの焦点位置の移動量の比は10: 1程度となり、
第3.4レンズ詳3aの駆動が多少ラフであっても精度
良くオートフォーカスをかけることができる。
従って、駆動機構としてもDCモーター等を利用した簡
素なものであっても十分に目的を達成できる。なお、D
Cモーター等による駆動では高速な対応はできないため
、例えば描画面の細かい凹凸やfθレンズの像面湾曲に
起因する一走査内での焦点ズレを調整することは回器で
あるが、描画面8が緩やかにうねっている場合等には高
精度での焦点調整を行なうことができる。
素なものであっても十分に目的を達成できる。なお、D
Cモーター等による駆動では高速な対応はできないため
、例えば描画面の細かい凹凸やfθレンズの像面湾曲に
起因する一走査内での焦点ズレを調整することは回器で
あるが、描画面8が緩やかにうねっている場合等には高
精度での焦点調整を行なうことができる。
(第2実施例)
第9図〜第16図は、この発明の第2実施倒を示したも
のである。なお、以下の説明では、第1実施倒と同一、
等価な部材には同一符号を付して重複説明を省略する。
のである。なお、以下の説明では、第1実施倒と同一、
等価な部材には同一符号を付して重複説明を省略する。
この走査式光学装置は、第9図に示したように、光源と
しての半導体レーザー(λ=780nm)21と、この
半導体レーザーから発した発散光束をほぼ平行光束とす
るコリメートレンズ22と、偏光ビームスプリッタ−4
と、174波長板5と、ポリゴンミラー6と、fθレン
ズ7と、描画面8と、集光レンズ9a及びシリンダーレ
ンズ9bから構成される焦点検出光り系9と、4分割セ
ンサー10とから構成されている。
しての半導体レーザー(λ=780nm)21と、この
半導体レーザーから発した発散光束をほぼ平行光束とす
るコリメートレンズ22と、偏光ビームスプリッタ−4
と、174波長板5と、ポリゴンミラー6と、fθレン
ズ7と、描画面8と、集光レンズ9a及びシリンダーレ
ンズ9bから構成される焦点検出光り系9と、4分割セ
ンサー10とから構成されている。
この例では、半導体レーザー21とコリメートレンズ2
2との間の距離を変化させることにより、光束の広がり
角を調整してスポットの描画面8に対する合焦位置を調
整する構成としている。
2との間の距離を変化させることにより、光束の広がり
角を調整してスポットの描画面8に対する合焦位置を調
整する構成としている。
また、半導体レーザー11の出射光は異方性を有するた
め、描画面8上で主走査方向に長い長円形のスポットを
得るために接合面に垂直な方向、すなわち発散角度の大
きい方向を主走査方向と一致させて配置されている。し
かもこの配置により、光束はS偏光として偏光ビームス
プリッタ−4に入射する。
め、描画面8上で主走査方向に長い長円形のスポットを
得るために接合面に垂直な方向、すなわち発散角度の大
きい方向を主走査方向と一致させて配置されている。し
かもこの配置により、光束はS偏光として偏光ビームス
プリッタ−4に入射する。
各々の光学素子の詳細な構成は、第10図〜第13図に
示されており、具体的な数値は第16ページの第4表〜
第6表に示した通りである。なお、図及び表中の符号の
定義は第1実施例と同一である。
示されており、具体的な数値は第16ページの第4表〜
第6表に示した通りである。なお、図及び表中の符号の
定義は第1実施例と同一である。
コリメー1へレンズ22の構成は第10図及び第4表に
、fθレンズの構成は第11図及び第3表に、焦点検出
系9の構成は第12.13図及び第6表に示されている
。
、fθレンズの構成は第11図及び第3表に、焦点検出
系9の構成は第12.13図及び第6表に示されている
。
なお、焦点検出系9については、第12図に主走査断面
、第13図に副走査断面を示し、第6表では主走査方向
の曲率を「、副走査方向の曲率をr“として示している
。
、第13図に副走査断面を示し、第6表では主走査方向
の曲率を「、副走査方向の曲率をr“として示している
。
(以下余白)
第4表(コリメートレンズ)
光源と第1面との距@ 5.017
但し、n=1.49.d=0.25のカバーを含む第5
表(fθレンズ) f=50.Qo fb=50.88 第6表(焦点検出系) 次に上記の走査式光学装置の作用を説明する。
表(fθレンズ) f=50.Qo fb=50.88 第6表(焦点検出系) 次に上記の走査式光学装置の作用を説明する。
半導体レーザー1から直接変調されて出射した発散光束
はコリメー)・レンズ22によって平行光束とされ、偏
光ビームスプリッタ−4に対してS偏光として入射し、
はぼ100%反射される。
はコリメー)・レンズ22によって平行光束とされ、偏
光ビームスプリッタ−4に対してS偏光として入射し、
はぼ100%反射される。
偏光ビームスプリッタ−4で反射された光束は174波
長板5で円偏光に変換され、ポリゴンミラー6で反射さ
れてfθレンズ7に入射し、描画面8に集光される。集
光されたスポットはポリゴンミラー6の回転にともなっ
て図中mで示した主走査方向に走査し、描画面8は紙面
と垂直な副走査方向へ移動する。
長板5で円偏光に変換され、ポリゴンミラー6で反射さ
れてfθレンズ7に入射し、描画面8に集光される。集
光されたスポットはポリゴンミラー6の回転にともなっ
て図中mで示した主走査方向に走査し、描画面8は紙面
と垂直な副走査方向へ移動する。
スポットの走査、半導体レーザー21のビーム変調、描
画面8の移動によって描画面8上には感光、非感光によ
る2次元のパターンが形成される。
画面8の移動によって描画面8上には感光、非感光によ
る2次元のパターンが形成される。
描画面8に達した光の一部は描画面で正反射されて往路
と同様の経路を辿り、ビームスプリッタ−4へはp偏光
として入射する。
と同様の経路を辿り、ビームスプリッタ−4へはp偏光
として入射する。
従って、反射光はビームスプリッタ−4をほぼ100%
透過して焦点検出系9へ導かれる。この焦点検出系9は
主走査断面と副走査断面とでパワーが異なり、スポット
の描画面に対するピントが合っている際には第14図の
ように円形に収束し、描画面8がfθレンズ7に対して
0.4+am離れた場合には第15図、0.4mm近す
いた場合には第16図に示したように楕円形状に収束す
る。
透過して焦点検出系9へ導かれる。この焦点検出系9は
主走査断面と副走査断面とでパワーが異なり、スポット
の描画面に対するピントが合っている際には第14図の
ように円形に収束し、描画面8がfθレンズ7に対して
0.4+am離れた場合には第15図、0.4mm近す
いた場合には第16図に示したように楕円形状に収束す
る。
非点収差法による焦点検出信号Sfは第1実施例と同様
に得ることができる。この信号の利用として2つの場面
があるのは前記の例と同様である。
に得ることができる。この信号の利用として2つの場面
があるのは前記の例と同様である。
焦点検出信号Sfをオートフォーカスをかけるために利
用する場合には、図示せぬ制御回路によって焦点検出信
号Sfに応じてビームを走査対象面に合焦するよう半導
体レーザー21とコリメートレンズ22との間隔を調整
する。
用する場合には、図示せぬ制御回路によって焦点検出信
号Sfに応じてビームを走査対象面に合焦するよう半導
体レーザー21とコリメートレンズ22との間隔を調整
する。
この際、コリメートレンズ22の焦点距離が9aII、
fθレンズの焦点距離が50mmであるので、その縦倍
率は31倍となり、半導体レーザー21とコリメートレ
ンズ22との間隔の変化量に対するスポットの焦点位置
の移動量の比はl:31程度となって非常に感度が高く
なる。
fθレンズの焦点距離が50mmであるので、その縦倍
率は31倍となり、半導体レーザー21とコリメートレ
ンズ22との間隔の変化量に対するスポットの焦点位置
の移動量の比はl:31程度となって非常に感度が高く
なる。
従って、111.’l隔を調整する焦点r14節手段と
しては、可動距離が小さいもので足り、しかも半導体レ
ーザーは軽1であるため駆動力も弱いもので足りるため
、ボイスコイルモーター等を利用して半導体レーザー2
1を駆動する光源移動アクチュエータが適している。
しては、可動距離が小さいもので足り、しかも半導体レ
ーザーは軽1であるため駆動力も弱いもので足りるため
、ボイスコイルモーター等を利用して半導体レーザー2
1を駆動する光源移動アクチュエータが適している。
ボイスコイルモーターを利用したアクチュエータは応答
性が高いため、例えば描画面の細かい凹凸や振動、ある
いはrθレンズの像面湾曲に起因する一走査内での焦点
ズレをリアルタイムで検出してオートフォーカスをかけ
ることができる。特に、fθレンズに像面湾曲がある場
合には、予めその量を検出して記憶しておき、補正量を
バイアスとしてアクチュエータを駆動すればより効果的
である。
性が高いため、例えば描画面の細かい凹凸や振動、ある
いはrθレンズの像面湾曲に起因する一走査内での焦点
ズレをリアルタイムで検出してオートフォーカスをかけ
ることができる。特に、fθレンズに像面湾曲がある場
合には、予めその量を検出して記憶しておき、補正量を
バイアスとしてアクチュエータを駆動すればより効果的
である。
なお、上述した2つの実施例では、何れも偏光器として
ポリゴンミラーを用いたが、ガルバノミラ−等の振動ミ
ラーやホログラムスキャナーを用いることもできる。走
査レンズとしては偏光器の特性に応じてCθレンズ、ア
ークサインレンズ等を用いることができる。但し、何れ
の場合にも反射光を受光手段へ導くためにテレセントリ
ックであることが要求される。
ポリゴンミラーを用いたが、ガルバノミラ−等の振動ミ
ラーやホログラムスキャナーを用いることもできる。走
査レンズとしては偏光器の特性に応じてCθレンズ、ア
ークサインレンズ等を用いることができる。但し、何れ
の場合にも反射光を受光手段へ導くためにテレセントリ
ックであることが要求される。
更に、焦点調節を行なう方法としては、走査対象面と走
査レンズとの間隔を変化させる構成や走査レンズ自体を
変位させる構成としてもよい、但し、前者は焦点調節法
としては光学的には最も好ましいが、大がかりな駆動装
置が必要となる。また、後者は前者よりは駆動系は簡素
となるが、レンズの性能、特にテレセントリック性が微
妙に変化してしまう。
査レンズとの間隔を変化させる構成や走査レンズ自体を
変位させる構成としてもよい、但し、前者は焦点調節法
としては光学的には最も好ましいが、大がかりな駆動装
置が必要となる。また、後者は前者よりは駆動系は簡素
となるが、レンズの性能、特にテレセントリック性が微
妙に変化してしまう。
また、上記の例では書込用のビームと焦点検出用のビー
ムとを同一の光源から発する同一のビームとして構成し
ているが、これを2つのビームに分けて先行するビーム
を焦点検出用とし、続く後方のビームを書き込み用とす
る構成としてもよい。
ムとを同一の光源から発する同一のビームとして構成し
ているが、これを2つのビームに分けて先行するビーム
を焦点検出用とし、続く後方のビームを書き込み用とす
る構成としてもよい。
この場合、先行ビームの波長は走査対象面上の感材等の
不感領域とする。
不感領域とする。
[効果コ
以上説明した通り、この発明によれば、走査対象面で反
射されたビームを受光することにより、第1に、受光手
段の出力を見ることによってレンズ等の光学素子の偏心
等を検出することができ、投影等による方法が使用でき
ない走査式光学装置において、その調整を従来より容易
に行なうことができる。
射されたビームを受光することにより、第1に、受光手
段の出力を見ることによってレンズ等の光学素子の偏心
等を検出することができ、投影等による方法が使用でき
ない走査式光学装置において、その調整を従来より容易
に行なうことができる。
第2に、スポットの集光状態をリアルタイムで検出して
ビームウェスト位置を走査対象面に一致させることがで
き、スポットの小径化を図るためにF値の小さいレンズ
を使用した場合にも、焦点外れによる描画性能の劣化を
招くことがない。
ビームウェスト位置を走査対象面に一致させることがで
き、スポットの小径化を図るためにF値の小さいレンズ
を使用した場合にも、焦点外れによる描画性能の劣化を
招くことがない。
第1図〜第8図はこの発明に係る走査式光学装置の第1
実施例を示したものであり、第1図は全体の配置を示す
説明図、第2図はビームエキスパンダーのレンズ断面図
、第3図はfθレンズのレンズ断面図、第4図は焦点検
出光学系の主走査断面内におけるレンズ断゛面図、第5
図は第4図の副走査面内におけるレンズ断面図、第6図
から第8図は4分割センサー上におけるスポットダイア
グラムを示したものである。 第9図〜第16図はこの発明に係る走査式光学装置の第
2実施例を示したものであり、第9図は全体の配置を示
す説明図、第10図はビームエキスノでンダーのレンズ
断面図、第11図はfθレンズのレンズ断面図、第12
図は焦点検出光学系の主走査断面内におけるレンズ断面
図、第13図は第12図の副走査面内におけるレンズ断
面図、第14図から第16図は4分割センサー上におけ
るスポットダイアグラムを示したものである。 1・・・アルゴンレーザー(光源) 3・・・ビームエクスパンダ−(焦点調節整手段)4・
・・ビームスプリッタ− 6・・・ポリゴンミラー(偏光器) 7・・・fθレンズ(走査レンズ) 8・・・描画面(走査対象面) 図 箪 図 賞。 図 第 図 図 図 竺 図 第 12 図 第14図 嘉15図 第13 図 厄16図 手 続 補 正 書 /、事件の表示 特願昭63−159742号 一0発明の名称 走査式光学装置及びその調整方法 J、補IFをする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都板橋区前野町2丁目36番9号ダ、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 j、補正の内容 (1)明細書の「発明の詳細な説明」の欄中。 「近づいた」と補正する。 、 (2)同第12頁第12行〜第13行の「前記のように
・・・・・必要がなく」を「受光系の取り付けは一時的
なものとじAと補正する。 (3)同第18頁第5行の 「近ずいた」を 「近づいた」と補正する。 (4)同第20頁第11行〜第17行の[また、上記の
・・・・・不感領域とする。」を下記のとおり補正する
。 記 また、上記の例では書込み用のビームと焦点検出用のビ
ームを同一のものとしているため、焦点検出用のビーム
自身も0N10 F Fの変調を受けた光となっている
。従ってOFFの時間が長く、次にONとなった場合、
焦点検出はリアルタイムで行なわれるが、オートフォー
カスのレスポンスは若干時間遅れを生じる。そこで、描
画範囲外では一定時間ONとしてオートフォーカスをか
け、描画面の状態に常におおよそ追従している様にすれ
ば効果的である。 また、書込み用のビームと焦点検出用のビームを別ビー
ムとし、後者が先行ビームとなる様構成すれば、常にリ
アルタイムでオートフォーカスする事ができる。この場
合、先行ビームとなる焦点検出用ビームの波長は走査対
象面上の感材等の不感領域とし1色収差による焦点のシ
フトはあらかじめオフセットとして補正しておく。
実施例を示したものであり、第1図は全体の配置を示す
説明図、第2図はビームエキスパンダーのレンズ断面図
、第3図はfθレンズのレンズ断面図、第4図は焦点検
出光学系の主走査断面内におけるレンズ断゛面図、第5
図は第4図の副走査面内におけるレンズ断面図、第6図
から第8図は4分割センサー上におけるスポットダイア
グラムを示したものである。 第9図〜第16図はこの発明に係る走査式光学装置の第
2実施例を示したものであり、第9図は全体の配置を示
す説明図、第10図はビームエキスノでンダーのレンズ
断面図、第11図はfθレンズのレンズ断面図、第12
図は焦点検出光学系の主走査断面内におけるレンズ断面
図、第13図は第12図の副走査面内におけるレンズ断
面図、第14図から第16図は4分割センサー上におけ
るスポットダイアグラムを示したものである。 1・・・アルゴンレーザー(光源) 3・・・ビームエクスパンダ−(焦点調節整手段)4・
・・ビームスプリッタ− 6・・・ポリゴンミラー(偏光器) 7・・・fθレンズ(走査レンズ) 8・・・描画面(走査対象面) 図 箪 図 賞。 図 第 図 図 図 竺 図 第 12 図 第14図 嘉15図 第13 図 厄16図 手 続 補 正 書 /、事件の表示 特願昭63−159742号 一0発明の名称 走査式光学装置及びその調整方法 J、補IFをする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都板橋区前野町2丁目36番9号ダ、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 j、補正の内容 (1)明細書の「発明の詳細な説明」の欄中。 「近づいた」と補正する。 、 (2)同第12頁第12行〜第13行の「前記のように
・・・・・必要がなく」を「受光系の取り付けは一時的
なものとじAと補正する。 (3)同第18頁第5行の 「近ずいた」を 「近づいた」と補正する。 (4)同第20頁第11行〜第17行の[また、上記の
・・・・・不感領域とする。」を下記のとおり補正する
。 記 また、上記の例では書込み用のビームと焦点検出用のビ
ームを同一のものとしているため、焦点検出用のビーム
自身も0N10 F Fの変調を受けた光となっている
。従ってOFFの時間が長く、次にONとなった場合、
焦点検出はリアルタイムで行なわれるが、オートフォー
カスのレスポンスは若干時間遅れを生じる。そこで、描
画範囲外では一定時間ONとしてオートフォーカスをか
け、描画面の状態に常におおよそ追従している様にすれ
ば効果的である。 また、書込み用のビームと焦点検出用のビームを別ビー
ムとし、後者が先行ビームとなる様構成すれば、常にリ
アルタイムでオートフォーカスする事ができる。この場
合、先行ビームとなる焦点検出用ビームの波長は走査対
象面上の感材等の不感領域とし1色収差による焦点のシ
フトはあらかじめオフセットとして補正しておく。
Claims (2)
- (1)光源から発するビームを偏向する偏向器と、偏向
されたビームを走査対象面上に集光するテレセントリッ
クな走査レンズと、前記走査対象面で反射されたビーム
を前記偏向器と前記光源との間の光路中で出射光路から
分離するビームスプリッターと、該ビームスプリッター
により分離されたビームを受光して前記走査対象面に対
するビームのピント状態を検出する受光手段とを備える
ことを特徴とする走査式光学装置。 - (2)前記走査レンズによって集光される前記ビームの
合焦位置を変化させる焦点調節整手段と、前記受光手段
の出力に応じてビームを前記走査対象面に合焦するよう
前記焦点調節手段を制御する制御手段とを備えることを
特徴とする請求項1記載の走査式光学装置。(3)光源
から発するビームを偏向器を介して偏向し、偏向された
ビームをテレセントリックな走査レンズによって走査対
象面上に集光させ、該走査対象面で反射され前記走査レ
ンズ及び前記偏向器を介して前記光源側へ戻る反射光を
ビームをビームスプリッターを用いて出射光路から分離
し、該分離した光束を受光して前記走査対象面に対する
前記ビームのピント状態を検知すると共に、該検知結果
に基づいて光学素子の調整を行なうことを特徴とする走
査式光学装置の調整方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15974288A JPH028809A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 走査式光学装置及びその調整方法 |
US07/372,536 US5055663A (en) | 1988-06-28 | 1989-06-28 | Optical scanning system and method for adjusting thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15974288A JPH028809A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 走査式光学装置及びその調整方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH028809A true JPH028809A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15700278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15974288A Pending JPH028809A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 走査式光学装置及びその調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH028809A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02240669A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | Canon Inc | 画像形成装置 |
WO2005015317A1 (ja) * | 2003-08-06 | 2005-02-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | パターン露光装置およびパターン露光方法 |
WO2020111121A1 (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光走査システム、表示システム、製造作業システム、光走査システムの制御方法及びプログラム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6010113A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-19 | シユラムバ−ガ−・オ−バ−シ−ズ・ソシエテ・アノニム | 検層工具 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP15974288A patent/JPH028809A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6010113A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-19 | シユラムバ−ガ−・オ−バ−シ−ズ・ソシエテ・アノニム | 検層工具 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02240669A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | Canon Inc | 画像形成装置 |
WO2005015317A1 (ja) * | 2003-08-06 | 2005-02-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | パターン露光装置およびパターン露光方法 |
WO2020111121A1 (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光走査システム、表示システム、製造作業システム、光走査システムの制御方法及びプログラム |
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