JPH02833A - 有機非線形光学材料および非線形光学装置 - Google Patents
有機非線形光学材料および非線形光学装置Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D455/00—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
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- C07D455/04—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing a quinolizine ring system condensed with only one six-membered carbocyclic ring, e.g. julolidine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
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- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/26—Nitrogen
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は有機非線形光学材料、さらに詳細には光双安定
素子などの非線形光学素子用素材として有用な有機非線
形光学材料および非線形光学装置に関するものである。
素子などの非線形光学素子用素材として有用な有機非線
形光学材料および非線形光学装置に関するものである。
[従来技術]
三次の非線形光学材料は、第三高調波発生(以下、’l
” HGと略す。)による周波数変換機能を有している
ほか、光双安定現象を利用した光スィッチ、光メモリへ
の応用などが可能であるため、将来の光素子の中心素材
として注目されている。
” HGと略す。)による周波数変換機能を有している
ほか、光双安定現象を利用した光スィッチ、光メモリへ
の応用などが可能であるため、将来の光素子の中心素材
として注目されている。
中でも、有機非線形光学材料は、■K1−1tPO。
(KDP)・L + N bo 3などの無機強誘電体
結晶に比べ、非線形光学定数が大きい、■ガリウムーヒ
素などの無機半導体に比べ応答速度が速い、■高速応答
および室温動作が確認されている塩化第一銅(CuC1
2)では困難なμlオーダーの薄膜化が容易なこと、な
どの従来の材料では同時に満たされることのなかった要
求条件をすべて満足する可能性を秘めているため、活発
な材料探索が進められている。
結晶に比べ、非線形光学定数が大きい、■ガリウムーヒ
素などの無機半導体に比べ応答速度が速い、■高速応答
および室温動作が確認されている塩化第一銅(CuC1
2)では困難なμlオーダーの薄膜化が容易なこと、な
どの従来の材料では同時に満たされることのなかった要
求条件をすべて満足する可能性を秘めているため、活発
な材料探索が進められている。
現在、三次の効果の大きい有機非線形光学材料は、■ポ
リアセチレン(特にPTS、2.4−ヘキサノイン−1
,6−ビス(p−トルエンスルホナート))・ポリアセ
チレンに代表されるπ共役高分子系と、■アミノニトロ
スチルベン(特にDEANS:N、N−ジエチル−4−
アミノ−4゛−ニトロスチルベン)に代表される、ドナ
ー・アクセプターを非対称に置換した低分子系の二種に
分類できる。ここでジメチルアミノ基、エチルアミノ基
はドナーとして、ニトロ基またはシアノ基はアクセプタ
ーとして作用している。
リアセチレン(特にPTS、2.4−ヘキサノイン−1
,6−ビス(p−トルエンスルホナート))・ポリアセ
チレンに代表されるπ共役高分子系と、■アミノニトロ
スチルベン(特にDEANS:N、N−ジエチル−4−
アミノ−4゛−ニトロスチルベン)に代表される、ドナ
ー・アクセプターを非対称に置換した低分子系の二種に
分類できる。ここでジメチルアミノ基、エチルアミノ基
はドナーとして、ニトロ基またはシアノ基はアクセプタ
ーとして作用している。
[発明が解決しようとする課題]
ところが上記■のπ共役高分子系の光非線形性は、価電
子帯の自由電子の分極を根源としているため、無機半導
体と極めて類似した欠点、すなわち狭いバンドギャップ
に驕づいた共鳴効果による応答速度の低下から逃れられ
ない。さらに現状のP i’ Sをしのぐ材料設計の具
体的指針も明らかにされていないという問題もある。
子帯の自由電子の分極を根源としているため、無機半導
体と極めて類似した欠点、すなわち狭いバンドギャップ
に驕づいた共鳴効果による応答速度の低下から逃れられ
ない。さらに現状のP i’ Sをしのぐ材料設計の具
体的指針も明らかにされていないという問題もある。
また上記■のドナー・アクセプター非対称置換低分子系
では、現状のDEANSおよびその類縁体以上の非線形
光学効果を実現するため、π電子共役系の拡大あるいは
、より強いドナー・アクセプタ一対の置換か試みられて
いる。しかしながらπ電子共役系を拡大すると、共役系
のねじれを誘起し、かえって佇効共役長を短くする結果
を招く。
では、現状のDEANSおよびその類縁体以上の非線形
光学効果を実現するため、π電子共役系の拡大あるいは
、より強いドナー・アクセプタ一対の置換か試みられて
いる。しかしながらπ電子共役系を拡大すると、共役系
のねじれを誘起し、かえって佇効共役長を短くする結果
を招く。
またより強いドナー・アクセプタ一対を置換すると自発
分極が進むため、基底状態と励起状態の双極子モーメン
トの差か期待するほど大きくならず、むしろ光吸収によ
る劣化や応答速度の低下などの材料としての欠点を助長
する。
分極が進むため、基底状態と励起状態の双極子モーメン
トの差か期待するほど大きくならず、むしろ光吸収によ
る劣化や応答速度の低下などの材料としての欠点を助長
する。
その上、分子サイズの大型化や自発分極の極端な増大は
、溶剤、高分子マトリックスなどへの溶解性や結晶性を
著しく低下させ、素子化のために必要とされる加工性を
損なう原因となる。
、溶剤、高分子マトリックスなどへの溶解性や結晶性を
著しく低下させ、素子化のために必要とされる加工性を
損なう原因となる。
しかしながら■のタイプのavR非線形光学材料は、上
述のように曳雑な問題点は抱えているものの、やはり高
速、高効率の光非線形応答を示す有機材料の本命であり
、精力的な材料開発が進められている。
述のように曳雑な問題点は抱えているものの、やはり高
速、高効率の光非線形応答を示す有機材料の本命であり
、精力的な材料開発が進められている。
また第2図は有機材料を用いた非線形光学装置を概略的
に示すものであり、人力光をゲートパルス光でゲーティ
ングし、ゲートパルスの時間波形に対応した出力光を得
ようとするものである。
に示すものであり、人力光をゲートパルス光でゲーティ
ングし、ゲートパルスの時間波形に対応した出力光を得
ようとするものである。
第2図中、符号lは非線形屈折率媒質であって、長さ1
mmのガラスセル内にCS t(二硫化炭素)液体を封
入したものであり、符号2a、2bとは互いに偏光軸が
直交するように配置された2枚の偏光子である。この構
成においては、ゲートパルス光Pgが入射している間だ
け、偏光子2aを通過した入力光Piの直線偏光が非線
形屈折率媒質1の屈折率変化によって楕円偏光に変わり
、そのために光の一部が直交偏光子2bを通過すること
ができ、出力光Ptが得られる。すなわち入力光Piは
ゲートパルス光Pgのパルスによって光スィッチされる
。
mmのガラスセル内にCS t(二硫化炭素)液体を封
入したものであり、符号2a、2bとは互いに偏光軸が
直交するように配置された2枚の偏光子である。この構
成においては、ゲートパルス光Pgが入射している間だ
け、偏光子2aを通過した入力光Piの直線偏光が非線
形屈折率媒質1の屈折率変化によって楕円偏光に変わり
、そのために光の一部が直交偏光子2bを通過すること
ができ、出力光Ptが得られる。すなわち入力光Piは
ゲートパルス光Pgのパルスによって光スィッチされる
。
人力光Piの瞬間透過率Tはゲートパルス光Pgの偏光
方向と入力光Piの偏光方向が45°傾いた時に最大と
なる。この場合、 T=sin’(Δψ/2) −(+)Δψ=
2 πn*L I in/λ ・−(2)で表さ
れる。ただし、Lは媒質長、λは入力光波長、finは
ゲートパルス光Pgの強度、n、は非線形屈折率である
。上記(1)式でΔψが充分小さいとき、 ’r CX−n2”L ” I in″ ・
(3)となるから、Tはntの2乗に比例することが
判る。
方向と入力光Piの偏光方向が45°傾いた時に最大と
なる。この場合、 T=sin’(Δψ/2) −(+)Δψ=
2 πn*L I in/λ ・−(2)で表さ
れる。ただし、Lは媒質長、λは入力光波長、finは
ゲートパルス光Pgの強度、n、は非線形屈折率である
。上記(1)式でΔψが充分小さいとき、 ’r CX−n2”L ” I in″ ・
(3)となるから、Tはntの2乗に比例することが
判る。
本発明者らが第2図に示されるC82の光ゲート光スィ
ッチを追試した結果では、λ=0.83μ■、L =
I Iam、l in= 300 MW/ Cm”とし
たときに、瞬間透過率T=1%が得られた。この結果か
ら、(1)式、(2)式を用いてC8,の非線形屈折率
n。
ッチを追試した結果では、λ=0.83μ■、L =
I Iam、l in= 300 MW/ Cm”とし
たときに、瞬間透過率T=1%が得られた。この結果か
ら、(1)式、(2)式を用いてC8,の非線形屈折率
n。
を計算すると、
nt=8.8XIO−14e11″/W ・(4)と
なる。なおこのn、値から非線形感受率χ131を計算
するとχ”= 4 、2 X I O−”e、s、u、
と計算される。
なる。なおこのn、値から非線形感受率χ131を計算
するとχ”= 4 、2 X I O−”e、s、u、
と計算される。
上記C8,光ゲート光スィッチの応答速度はIピコ秒程
度の高速応答を示すことが確認されており、従って瞬間
写真撮影や高速分光などの測定系に盛んに用いられてい
る。しかしながら(4)式で求められたように、非線形
効率は必ずしも大きくなく、従って極めて大きなゲート
光強度を必要とするという欠点があった。
度の高速応答を示すことが確認されており、従って瞬間
写真撮影や高速分光などの測定系に盛んに用いられてい
る。しかしながら(4)式で求められたように、非線形
効率は必ずしも大きくなく、従って極めて大きなゲート
光強度を必要とするという欠点があった。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、上記従
来技術の欠点を克服し、溶解性や結晶性に浸れ、高速、
高効率の光非線形応答を示す有機非線形光学材料を提供
し、その結果、低い光強度でも動作する非線形光学装置
を提供することを目的としている。
来技術の欠点を克服し、溶解性や結晶性に浸れ、高速、
高効率の光非線形応答を示す有機非線形光学材料を提供
し、その結果、低い光強度でも動作する非線形光学装置
を提供することを目的としている。
[課題を解決するための手段]
本発明の有機非線形光学材料の主要な特徴は、第一に、
ドナー・アクセプターの置換基を非対称に配置した置換
低分子系の非線形光学材料として、最大の光非線形応答
効率を有し、第二に、素子化のために必要とされる加工
性(溶剤、高分子マトリックスなどへの大きな溶解性や
大きな単結晶が作製できる結晶性)を充分満足している
ことである。
ドナー・アクセプターの置換基を非対称に配置した置換
低分子系の非線形光学材料として、最大の光非線形応答
効率を有し、第二に、素子化のために必要とされる加工
性(溶剤、高分子マトリックスなどへの大きな溶解性や
大きな単結晶が作製できる結晶性)を充分満足している
ことである。
本発明の有機非線形光学材料は、基本的に下記一般式[
+]で示されろパラ置換アミノ基を有するβ−ニトロス
ヂレン誘導体および下記一般式[2]で示されるパラ−
(β−ニトロエチレニル)−ユロ(ただし、R,、+7
1はメチル基以外のアルキル基あるいはヒドロキシアル
キル基のいずれかを表し、互いに等しくても異なってい
ても良く、Xl、Xs。
+]で示されろパラ置換アミノ基を有するβ−ニトロス
ヂレン誘導体および下記一般式[2]で示されるパラ−
(β−ニトロエチレニル)−ユロ(ただし、R,、+7
1はメチル基以外のアルキル基あるいはヒドロキシアル
キル基のいずれかを表し、互いに等しくても異なってい
ても良く、Xl、Xs。
Xs、X4は、水素または水酸基、ハロゲン、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルエステル基、アルキルアミ
ド基のいずれかを表し、互いに等しくてら異なっていて
も良い。) (ただし、X 、、X 、は、水素または水酸基、ハロ
ゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルキルエステル基
、アルキルアミド基のいずれかを表し、互いに等しくて
ら異なっていても良く、特にI’t、。
基、アルコキシ基、アルキルエステル基、アルキルアミ
ド基のいずれかを表し、互いに等しくてら異なっていて
も良い。) (ただし、X 、、X 、は、水素または水酸基、ハロ
ゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルキルエステル基
、アルキルアミド基のいずれかを表し、互いに等しくて
ら異なっていても良く、特にI’t、。
R,の炭素数が2から6のものが望ましい。)さらに本
発明の非線形光学装置は、非線形屈折率を有する光学媒
体と、偏光子、光共振器および反射鏡などの光学素子と
からなるものであって、光学媒体として、一般式[1〕
で示されるパラ置換アミノ基を有するβ−ニトロスチレ
ン誘導体および一般式[2]で示されるパラ−(β−ニ
トロエヂレニル)−ユロリジン誘導体、すなわちπ共役
系として分子内にスチレン構造を有する化合物を使用し
たものである。
発明の非線形光学装置は、非線形屈折率を有する光学媒
体と、偏光子、光共振器および反射鏡などの光学素子と
からなるものであって、光学媒体として、一般式[1〕
で示されるパラ置換アミノ基を有するβ−ニトロスチレ
ン誘導体および一般式[2]で示されるパラ−(β−ニ
トロエヂレニル)−ユロリジン誘導体、すなわちπ共役
系として分子内にスチレン構造を有する化合物を使用し
たものである。
本発明の有機非線形光学材料においては、π電子共役鎖
を有する構造がスチレンであることが重要である。スチ
レンはπ電子数の多いスチルベンよりら単位体積あたり
の非線形分極率が高く、さらにその構造のコンパクトさ
ゆえに、溶解性、結晶性においてもスチルベンやそのほ
かのπ電子構造をHする化合物よりも優れている。
を有する構造がスチレンであることが重要である。スチ
レンはπ電子数の多いスチルベンよりら単位体積あたり
の非線形分極率が高く、さらにその構造のコンパクトさ
ゆえに、溶解性、結晶性においてもスチルベンやそのほ
かのπ電子構造をHする化合物よりも優れている。
」二記一般式[+]で示されるパラ置換アミノ基を打す
るβ−ニトロスチレン誘導体において、RおよびIN
、がエチAy )L テあり、X 1X t、X 2.
X 4がすへて水素である乙の、あるいはR1,Rtの
一方がエヂル基、他方がヒドロキシエチル基、特にエタ
ノール基であるらのの場合には、電子供与性と溶解性の
両面で大きな効果が得られる。
るβ−ニトロスチレン誘導体において、RおよびIN
、がエチAy )L テあり、X 1X t、X 2.
X 4がすへて水素である乙の、あるいはR1,Rtの
一方がエヂル基、他方がヒドロキシエチル基、特にエタ
ノール基であるらのの場合には、電子供与性と溶解性の
両面で大きな効果が得られる。
また上記一般式[2]で示されろパラ−(β−ニトロエ
ヂレニル)−ユロリジン誘導体の電子供与性部位の構造
は、π電子の骨格とアミンの孤立電子対との共役による
π電子の非局在化、メヂレン居の嵩高さによる溶解性向
上に寄与している。
ヂレニル)−ユロリジン誘導体の電子供与性部位の構造
は、π電子の骨格とアミンの孤立電子対との共役による
π電子の非局在化、メヂレン居の嵩高さによる溶解性向
上に寄与している。
従来から有機非線形光学材料として知られていたジメチ
ルアミノニトロスチレン(DMA−NS)は6機溶媒へ
の溶解性が低い。たとえばジメチルホルムアミド(D
M F ’)に対しては5重量%、またエタノールに対
しては2重量%程度しか溶解しない。これに対して、本
発明の有機非線形光学材料であるN、N−ジエチルアミ
ノニトロスチレン(DEANST)はDMFに対しては
50i1量%以上、エタノールに対しては40重量%以
上も溶解させることができる。また従来知られていたジ
エチルアミノニトロスチルベン(D E A N S
’)は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に2.
5重量%程度しか溶解しないのに対し、本発明によるD
EANSTは30重量%以上溶解させることができる。
ルアミノニトロスチレン(DMA−NS)は6機溶媒へ
の溶解性が低い。たとえばジメチルホルムアミド(D
M F ’)に対しては5重量%、またエタノールに対
しては2重量%程度しか溶解しない。これに対して、本
発明の有機非線形光学材料であるN、N−ジエチルアミ
ノニトロスチレン(DEANST)はDMFに対しては
50i1量%以上、エタノールに対しては40重量%以
上も溶解させることができる。また従来知られていたジ
エチルアミノニトロスチルベン(D E A N S
’)は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に2.
5重量%程度しか溶解しないのに対し、本発明によるD
EANSTは30重量%以上溶解させることができる。
また2−ヒドロキシ−4−(N、N−ジメヂルアミノ)
ニトロスチレン(Oh−DEANST)もDEANST
と同様に、PMMAへ25重量%以上溶解させることが
できるばかりでなく、p−(N−エチル−N−エタノー
ルアミノ)ニトロスチレン(EOEANST)も同様に
、各種有機溶媒へ30重量%以上溶解させることができ
る。
ニトロスチレン(Oh−DEANST)もDEANST
と同様に、PMMAへ25重量%以上溶解させることが
できるばかりでなく、p−(N−エチル−N−エタノー
ルアミノ)ニトロスチレン(EOEANST)も同様に
、各種有機溶媒へ30重量%以上溶解させることができ
る。
さらl: X +、X m、X 3.X 4 (一般式
[2]の場合はX 、、X t)はすべて水素であって
もよく、あるいは、このうちのひとつが水酸基、ハロゲ
ン、アルキル居、アルコキシ1k、アルキルエステル基
、アルキルアミド基のうちのいずれかで、残りはすべて
水素であるときにも上記同様に大きな非線形効果と加工
性とが得られる傾向にある。
[2]の場合はX 、、X t)はすべて水素であって
もよく、あるいは、このうちのひとつが水酸基、ハロゲ
ン、アルキル居、アルコキシ1k、アルキルエステル基
、アルキルアミド基のうちのいずれかで、残りはすべて
水素であるときにも上記同様に大きな非線形効果と加工
性とが得られる傾向にある。
また本発明の有機非線形光学材料はすべて、溶解性に優
れているため、高分子マトリックスへの高濃度分散が可
能であると共に、有機溶剤への高濃度溶解が可能である
。特にクロロホルムよりも高い誘電率を存する有機溶媒
、あるいは上記の高誘電率の有機溶媒と他の有機溶媒と
の混合溶媒には高濃度で溶解することができる。
れているため、高分子マトリックスへの高濃度分散が可
能であると共に、有機溶剤への高濃度溶解が可能である
。特にクロロホルムよりも高い誘電率を存する有機溶媒
、あるいは上記の高誘電率の有機溶媒と他の有機溶媒と
の混合溶媒には高濃度で溶解することができる。
さらに使用する溶媒の種類により非線形屈折率が変化す
るので、所望の非線形屈折率を容易に実現できるという
効果もある。大きな非線形屈折率を得るためには、溶媒
としてクロロホルムの誘電率と同等らしくはそれ以上で
あるような溶媒を用いることが好ましく、このような溶
媒としては、たとえば以下のような6機溶媒を挙げるこ
とができる。すなわちN−メチルアセトアミド、N−メ
チルホルムアミド、ホルムアミド、アセトアミド、ツメ
チルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ア
セトニトリル、ニトロメタン、アクリロニトリル、メタ
ノール、ジエチレングリコール、ベンゾニトリル、エタ
ノール、アセトアルデヒド、プロパツール、ベンズアル
デヒド、ベンジルアルコール、ピリジン等である。特に
クロロホルムより高い誘電率を有し、かつ芳容族環を有
する有機溶媒あるいは、これらとの混合溶媒には高濃度
で溶解できるとともに、高い非線形効率が得られるので
好適である。
るので、所望の非線形屈折率を容易に実現できるという
効果もある。大きな非線形屈折率を得るためには、溶媒
としてクロロホルムの誘電率と同等らしくはそれ以上で
あるような溶媒を用いることが好ましく、このような溶
媒としては、たとえば以下のような6機溶媒を挙げるこ
とができる。すなわちN−メチルアセトアミド、N−メ
チルホルムアミド、ホルムアミド、アセトアミド、ツメ
チルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ア
セトニトリル、ニトロメタン、アクリロニトリル、メタ
ノール、ジエチレングリコール、ベンゾニトリル、エタ
ノール、アセトアルデヒド、プロパツール、ベンズアル
デヒド、ベンジルアルコール、ピリジン等である。特に
クロロホルムより高い誘電率を有し、かつ芳容族環を有
する有機溶媒あるいは、これらとの混合溶媒には高濃度
で溶解できるとともに、高い非線形効率が得られるので
好適である。
また上記一般式[+]または[2]で示される有機非線
形光学材料は、低分子または高分子のカルボン酸誘導体
とエステル縮合体を影成すると共に高分子中への分散が
可能であり、上記エステル縮合体および有機非線形光学
材料を分散した高分子材料もまた高い非線形応答効率と
良好な加工性を示す。
形光学材料は、低分子または高分子のカルボン酸誘導体
とエステル縮合体を影成すると共に高分子中への分散が
可能であり、上記エステル縮合体および有機非線形光学
材料を分散した高分子材料もまた高い非線形応答効率と
良好な加工性を示す。
たとえば一般式[1Fで示されるパラ置換アミノ基を有
するβ−ニトロスチレン誘導体と、ポリメチルメタアク
リレート(PMMA)とを、それぞれ別個にアセトン中
に溶解させた後、これらを混合し、ついでアセトンを除
去することによってPMMA中に本発明の有機非線形光
学材料を分散させることができる。
するβ−ニトロスチレン誘導体と、ポリメチルメタアク
リレート(PMMA)とを、それぞれ別個にアセトン中
に溶解させた後、これらを混合し、ついでアセトンを除
去することによってPMMA中に本発明の有機非線形光
学材料を分散させることができる。
また透明性高分子を溶融し、流動性を付与した後、本発
明の有機非線形光学材料を添加し、混合した後に、冷却
することによっても何機非線形光学材料を高分子中に分
散させることもできる。そしてここで用いる透明性高分
子としては重合体、共重合体のほか、これらの混合物を
も使用することができる。
明の有機非線形光学材料を添加し、混合した後に、冷却
することによっても何機非線形光学材料を高分子中に分
散させることもできる。そしてここで用いる透明性高分
子としては重合体、共重合体のほか、これらの混合物を
も使用することができる。
サラL: x l+X t、x 3.X 4(一般式[
2]の場合は、X、、X、)のうち、少なくともひとつ
が水酸基である場合、あるいはR+ 、 Rtの少なく
とも一方がヒドロキシエチル基、特にエタノール基の場
合には、高分子系カルボン酸誘導体とのエステル縮合が
可能である。
2]の場合は、X、、X、)のうち、少なくともひとつ
が水酸基である場合、あるいはR+ 、 Rtの少なく
とも一方がヒドロキシエチル基、特にエタノール基の場
合には、高分子系カルボン酸誘導体とのエステル縮合が
可能である。
このようにして製造された分散型およびペンダント型の
高分子系材料は、低分子系良質結晶と相捕って、本発明
のスチレン系非線形光学材料の応用範囲を広げる役割を
果たす。
高分子系材料は、低分子系良質結晶と相捕って、本発明
のスチレン系非線形光学材料の応用範囲を広げる役割を
果たす。
さらに、従来知られているDMA−N5は溶媒からの再
結晶法によって大型の単結晶を得ることが難しく、最大
のもので3X5XIO+em’を得るに留まっているが
、本発明によるDEANSTでは、溶媒からの再結晶法
によって8xlOx50m1大の単結晶が容易に得られ
、さらに大型の結晶を得ることをも可能である。
結晶法によって大型の単結晶を得ることが難しく、最大
のもので3X5XIO+em’を得るに留まっているが
、本発明によるDEANSTでは、溶媒からの再結晶法
によって8xlOx50m1大の単結晶が容易に得られ
、さらに大型の結晶を得ることをも可能である。
そして本発明の有機非線形光学材料を非線形光学装置の
光学媒質として用いると、低い光強度で作動可能でかつ
応答性に浸れた装置を得ることができる。本発明の有機
非線形光学材料を光学媒質として用いるには、以下のよ
うなものが挙げられる。すわなち単一の有機溶媒あるい
は混合溶媒中に溶解した溶液媒質のもの、透明性を有す
るポリマー材料に溶解させて固化させた固体媒質のもの
、そのまま結晶化させた結晶媒質のものであり、溶液媒
質の場合には、その溶媒としてクロロホルムよりも誘電
率の高い有機溶媒を用いること、特に芳香族化合物であ
ることが好ましい。また固体媒質の場合には、透明性を
存するポリマーとして屈折率がr’MMA並あるいはこ
れ以下の重合体あるいは共重合体であることが好ましい
。
光学媒質として用いると、低い光強度で作動可能でかつ
応答性に浸れた装置を得ることができる。本発明の有機
非線形光学材料を光学媒質として用いるには、以下のよ
うなものが挙げられる。すわなち単一の有機溶媒あるい
は混合溶媒中に溶解した溶液媒質のもの、透明性を有す
るポリマー材料に溶解させて固化させた固体媒質のもの
、そのまま結晶化させた結晶媒質のものであり、溶液媒
質の場合には、その溶媒としてクロロホルムよりも誘電
率の高い有機溶媒を用いること、特に芳香族化合物であ
ることが好ましい。また固体媒質の場合には、透明性を
存するポリマーとして屈折率がr’MMA並あるいはこ
れ以下の重合体あるいは共重合体であることが好ましい
。
以下に、本発明の有機非線形光学材料の代表的材料群を
示す。
示す。
in(2,2,3,3−テトラフルオaデ0ピルメタク
リレ−)−MMA)コIリマー DEANST−(フルオロレジン−MMA ) Cop
olymar(DEANST−Ap)−MMA Cop
olymerNHにOCM。
リレ−)−MMA)コIリマー DEANST−(フルオロレジン−MMA ) Cop
olymar(DEANST−Ap)−MMA Cop
olymerNHにOCM。
[実施例]
(製造例1)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロスチレン
(DEANS’r)の合成 p−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド11
8y(0,57モル)をニトロメタン500xQ中に溶
かした溶液へ酢酸アンモニウム!7gを加えた。混合物
をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、
反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了する
まで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した。エ
タノールを溶媒として、2回再結品し、赤色結晶を得た
。
(DEANS’r)の合成 p−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド11
8y(0,57モル)をニトロメタン500xQ中に溶
かした溶液へ酢酸アンモニウム!7gを加えた。混合物
をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、
反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了する
まで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した。エ
タノールを溶媒として、2回再結品し、赤色結晶を得た
。
収11:l079、収率;75%、融点:95℃。
(製造例2)
4−(β−ニトロエチレニル)二ロリジン(JANST
)の合成 p−ホルミルユロリジン609(0,3モル)をニトロ
メタン250m+!中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウ
ム8gを加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5
時間加熱した。その後、反応液をドライアイス−アセト
ン浴で結晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾
別し、真空乾燥した。
)の合成 p−ホルミルユロリジン609(0,3モル)をニトロ
メタン250m+!中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウ
ム8gを加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5
時間加熱した。その後、反応液をドライアイス−アセト
ン浴で結晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾
別し、真空乾燥した。
エタノールを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶を得
た。
た。
収ffi:50g、、収率:69%。
(製造例3)
4−(N−エチル−N−ヒドロキシエチルアミノ)−β
−ニトロスチレン(EOEANST)の合成 p−(N−エチル−N−エタノールアミノ)ベンズアル
デヒド6og(o、3+モル)をニトロメタン25Om
Q中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム89を加えた。
−ニトロスチレン(EOEANST)の合成 p−(N−エチル−N−エタノールアミノ)ベンズアル
デヒド6og(o、3+モル)をニトロメタン25Om
Q中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム89を加えた。
混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した。そ
の後、反応液をドライアイスアセトン浴で結晶化が完了
するまで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した
。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結
晶を得た。
の後、反応液をドライアイスアセトン浴で結晶化が完了
するまで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した
。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結
晶を得た。
収!tt:429、収率:66%。
(製造例4)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ2−ヒド
ロキシスチレン(Oh−DEANST)の合成 2−ヒドロキシ−4−(N、N−ジエチルアミノ)ベン
ズアルデヒド60g(0,31モル)をニトロメタン2
50z12中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム8gを
加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱
した。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結
晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し、真
空乾燥した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結品
し、赤色結晶を得た。
ロキシスチレン(Oh−DEANST)の合成 2−ヒドロキシ−4−(N、N−ジエチルアミノ)ベン
ズアルデヒド60g(0,31モル)をニトロメタン2
50z12中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム8gを
加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱
した。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結
晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し、真
空乾燥した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結品
し、赤色結晶を得た。
収量;349、収率:53%。
(製造例5)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ3−クロ
ロスチレン(C1!−DEANST)の合成3−りaロ
ー4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド3
4g(0,16モル)をニトロメタン150m12中に
溶かした溶液へ酢酸アンモニウム5gを加えた。混合物
をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、
反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了する
まで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した。ア
セトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶を
得た。
ロスチレン(C1!−DEANST)の合成3−りaロ
ー4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド3
4g(0,16モル)をニトロメタン150m12中に
溶かした溶液へ酢酸アンモニウム5gを加えた。混合物
をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、
反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了する
まで冷却し、析出した固体を濾別し、真空乾燥した。ア
セトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶を
得た。
収量:16g、収率:39%
(製造例6)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ2−メト
キンスチレン(MeO−DEANS T)の合成 2−メトキン−4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズ
アルデヒド30g(0,14モル)をニトロメタン+5
0MQ中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム4gを加え
た。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した
。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化
が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し真空乾燥
した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤
色結晶を得た。
キンスチレン(MeO−DEANS T)の合成 2−メトキン−4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズ
アルデヒド30g(0,14モル)をニトロメタン+5
0MQ中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム4gを加え
た。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱した
。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結晶化
が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し真空乾燥
した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤
色結晶を得た。
収fi:16g、収率:44%
(製造例7)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ2−アセ
チルオキシスチレン(AcO−DEANST)の合成 2−アセチルオキシ−4−(N、N−ジエチルアミノ)
ベンズアルデヒド23.5g(0,10モル)をニトロ
メタン100xif中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウ
ム3gを加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5
時間加熱した。その後、反応液をドライアイス−アセト
ン浴で結晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾
別し真空乾燥した。
チルオキシスチレン(AcO−DEANST)の合成 2−アセチルオキシ−4−(N、N−ジエチルアミノ)
ベンズアルデヒド23.5g(0,10モル)をニトロ
メタン100xif中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウ
ム3gを加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5
時間加熱した。その後、反応液をドライアイス−アセト
ン浴で結晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾
別し真空乾燥した。
アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶
を得た。
を得た。
収fit:I Og−収率:36 %
(製造例8)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ3−メチ
ルスチレン(Me−DEANST)の合成3−メチル−
4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド30
g(0,16モル)をニトロメタン1501Q中に溶か
した溶液へ酢酸アンモニウム5gを加えた。混合物をか
き混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、反応
液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了するまで
冷却し、析出した固体を濾別し真空乾燥した。アセトニ
トリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶を得た。
ルスチレン(Me−DEANST)の合成3−メチル−
4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド30
g(0,16モル)をニトロメタン1501Q中に溶か
した溶液へ酢酸アンモニウム5gを加えた。混合物をか
き混ぜながら100℃で5時間加熱した。その後、反応
液をドライアイス−アセトン浴で結晶化が完了するまで
冷却し、析出した固体を濾別し真空乾燥した。アセトニ
トリルを溶媒として、2回再結晶し、赤色結晶を得た。
収量:17g、収率:45%
(製造例9)
4−(N、N−ジエチルアミノ)−β−ニトロ3−アセ
チルアミノスチレン(AcNH−DEANST)の合成 3−アセチルアミノ−4−(N、N−ジエチルアミノ)
ベンズアルデヒド28g(0,12モル)をニトロメタ
ン!201中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム4gを
加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱
した。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結
晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し真空
乾燥した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し
、赤色結晶を得た。
チルアミノスチレン(AcNH−DEANST)の合成 3−アセチルアミノ−4−(N、N−ジエチルアミノ)
ベンズアルデヒド28g(0,12モル)をニトロメタ
ン!201中に溶かした溶液へ酢酸アンモニウム4gを
加えた。混合物をかき混ぜながら100℃で5時間加熱
した。その後、反応液をドライアイス−アセトン浴で結
晶化が完了するまで冷却し、析出した固体を濾別し真空
乾燥した。アセトニトリルを溶媒として、2回再結晶し
、赤色結晶を得た。
収量:IIg、収率:33%
(製造例10)
DEANST−PMMAの製造
9.8重量%DEANSTクロロホルム溶液と18.2
重量%PMMAクロロホルム溶液とを1:lの比率で混
合した後、これをガラス基板上に、スピンコーティング
によって塗布し、厚さ藍μ肩の35重債%DEANST
−PMMAフィルムを作製した。コ(1) D E A
N S ’L’ −P M M A 74 ルムに可
視光を照射し、その吸収スペクトルを測定した。この結
果を第1図に示した。
重量%PMMAクロロホルム溶液とを1:lの比率で混
合した後、これをガラス基板上に、スピンコーティング
によって塗布し、厚さ藍μ肩の35重債%DEANST
−PMMAフィルムを作製した。コ(1) D E A
N S ’L’ −P M M A 74 ルムに可
視光を照射し、その吸収スペクトルを測定した。この結
果を第1図に示した。
(製造例11)
DEANST−(フルオロレジン−MMA)Copol
ymerの製造 12重置火DEANSTアセトン溶液と18重量%の2
.2.3.3−テトラフルオロプロピルメタクリレート
−メチルメタクリレ−)(MMA)2:l共重合体のア
セトン溶液とをl=1の割合で混合した。この混合溶液
をガラス基板上にスピンコートシて厚さl 、5 μr
aの40重量%DEANST(フルオロレジン−MMA
)コポリマーフィルムを作製した。
ymerの製造 12重置火DEANSTアセトン溶液と18重量%の2
.2.3.3−テトラフルオロプロピルメタクリレート
−メチルメタクリレ−)(MMA)2:l共重合体のア
セトン溶液とをl=1の割合で混合した。この混合溶液
をガラス基板上にスピンコートシて厚さl 、5 μr
aの40重量%DEANST(フルオロレジン−MMA
)コポリマーフィルムを作製した。
(製造例+2)
DEANST−APの合成
脱水ジオキサン70mQ中に、メチルメタクリレート4
.5gと、4−[N−エチル−N−(2’−アクリロイ
ルオキンエヂル)アミノコ−β−ニトロスチレン24.
29およびアゾイソブチルニトリル(AIBN)0.1
49を溶解し、脱気封管した後、60℃で24時間反応
さけた。反応溶液をヘキサン中に注ぎ、目的物を沈殿さ
せた。これを濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥してD
E A N S ’r −APを得た。生成した重合
体のコポリマー分率は、PMMAo、3−DEANST
−APo、7であった。
.5gと、4−[N−エチル−N−(2’−アクリロイ
ルオキンエヂル)アミノコ−β−ニトロスチレン24.
29およびアゾイソブチルニトリル(AIBN)0.1
49を溶解し、脱気封管した後、60℃で24時間反応
さけた。反応溶液をヘキサン中に注ぎ、目的物を沈殿さ
せた。これを濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥してD
E A N S ’r −APを得た。生成した重合
体のコポリマー分率は、PMMAo、3−DEANST
−APo、7であった。
(実施例1)
T Ha 11定の光源として、Nd−YAGレーザ(
波長:1.06μm、強度:50 MW/cm’)を用
イた。可視光をカットした後、レンズで集光したビーム
を試料に照射し、試料より放射された光をフィルターに
通して、THG光のみの強度をホトマルで検知した。測
定試料には、上記製造例Iないし11で得られた本発明
の有機非線形光学材料の結晶を粉砕して105〜+20
μlの粒径に統一したものを用いた。
波長:1.06μm、強度:50 MW/cm’)を用
イた。可視光をカットした後、レンズで集光したビーム
を試料に照射し、試料より放射された光をフィルターに
通して、THG光のみの強度をホトマルで検知した。測
定試料には、上記製造例Iないし11で得られた本発明
の有機非線形光学材料の結晶を粉砕して105〜+20
μlの粒径に統一したものを用いた。
さらに観測されるT HG効果が、尿素やMNA(2−
メチル−4−ニトロアニリン)などに見られるような二
次のカスケード効果(ω+2ω−3ω)ではなく、純粋
に三次の効果のみによることを確認するために、同一試
料の第二次高調波発生(以下、SHGと略称する。)に
ついても測定した。
メチル−4−ニトロアニリン)などに見られるような二
次のカスケード効果(ω+2ω−3ω)ではなく、純粋
に三次の効果のみによることを確認するために、同一試
料の第二次高調波発生(以下、SHGと略称する。)に
ついても測定した。
この結果を下記第1表に示した。なお第1表中の5)(
G強度は尿素を基準とした相対SHG強度であり、TH
G強度はMNAを基準とした相対T 86強度である。
G強度は尿素を基準とした相対SHG強度であり、TH
G強度はMNAを基準とした相対T 86強度である。
(比較例1〜4)
さらに上記実施例I〜9の比較例として、下記4種の類
似材料のTHGおよびSHGを測定したこの結果を第1
表に併せて示した。
似材料のTHGおよびSHGを測定したこの結果を第1
表に併せて示した。
第1表
註)コポリマーII′は、DEANST−(フルオロレ
ジン−MMA)コポリマーを表す。
ジン−MMA)コポリマーを表す。
第1表の結果より、従来の有機非線形光学材料の相対T
HG強度が50〜80であるのに対して、本発明の有機
非線形光学材料はいずれも300〜720と良好な値を
示すことを確認できた。
HG強度が50〜80であるのに対して、本発明の有機
非線形光学材料はいずれも300〜720と良好な値を
示すことを確認できた。
(実施例2)
製造例!で得られたDEANSTを光学媒質として用い
た光ゲート先スイッチ装置の一実施例を以下に示す。非
線形屈折率媒質として、DEANSTをDMF(ジメチ
ルホルムアミド:誘電率ε=37.8)に溶解した溶液
をガラスに封入したものを用い、他の構成は第2図に示
した装置と全く同一にした。
た光ゲート先スイッチ装置の一実施例を以下に示す。非
線形屈折率媒質として、DEANSTをDMF(ジメチ
ルホルムアミド:誘電率ε=37.8)に溶解した溶液
をガラスに封入したものを用い、他の構成は第2図に示
した装置と全く同一にした。
第3図は本実施例による光スィッチの瞬間透過率特性を
DEANSTa度の関数として示したものである。第3
図中、実線は本実施例を示すもので、破線は従来材料の
CS を液体を示したものである。このグラフより判る
ように、瞬間透過率は非線形光学材料の濃度の2乗に比
例して増大し、その濃度が23重量%以上で従来材料の
C8,を上回る特性が得られた。また濃度40重量%に
おける非線形屈折率n、の値は上記(3)式より、nt
l、5x I 0−13cm”/W (ZL″’=7.
3X I O−”e。
DEANSTa度の関数として示したものである。第3
図中、実線は本実施例を示すもので、破線は従来材料の
CS を液体を示したものである。このグラフより判る
ように、瞬間透過率は非線形光学材料の濃度の2乗に比
例して増大し、その濃度が23重量%以上で従来材料の
C8,を上回る特性が得られた。また濃度40重量%に
おける非線形屈折率n、の値は上記(3)式より、nt
l、5x I 0−13cm”/W (ZL″’=7.
3X I O−”e。
s、u、)と求まった。
(実施例3)
次に本発明の有機非線形光学材料を溶解する有機溶媒の
種類が非線形屈折率n、に与える影響を調べるために、
DEANSTを同一のモル濃度で誘電率の異なる各種有
機溶媒中に溶解し、それらの非線形屈折率を調べた。第
4図は、これら有機溶媒の誘電率と非線形屈折率1.と
の関係を示したグラフである。
種類が非線形屈折率n、に与える影響を調べるために、
DEANSTを同一のモル濃度で誘電率の異なる各種有
機溶媒中に溶解し、それらの非線形屈折率を調べた。第
4図は、これら有機溶媒の誘電率と非線形屈折率1.と
の関係を示したグラフである。
有機溶媒としては芳香族系として、A:ニトロベンゼン
、B:ニトロベンゼンとクロロベンゼンとの混合物、C
:クロロベンゼン、D:ベンゼン、また非芳香族系とし
てEニジメチルホルムアミド(DMF)、F:アセトン
、G:クロロホルムをそれぞれ用い、芳香族系有機溶媒
を用いた場合の非線形屈折率を実線で、非芳香族系有機
溶媒を用いた場合の非線形屈折率を破線で示した。また
これらの比較として従来材料のCSIを種々有機溶媒に
溶解した場合の非線形屈折率を一点鎖線として示した。
、B:ニトロベンゼンとクロロベンゼンとの混合物、C
:クロロベンゼン、D:ベンゼン、また非芳香族系とし
てEニジメチルホルムアミド(DMF)、F:アセトン
、G:クロロホルムをそれぞれ用い、芳香族系有機溶媒
を用いた場合の非線形屈折率を実線で、非芳香族系有機
溶媒を用いた場合の非線形屈折率を破線で示した。また
これらの比較として従来材料のCSIを種々有機溶媒に
溶解した場合の非線形屈折率を一点鎖線として示した。
第4図から判るように、溶媒としては誘電率が高い程良
く、非芳香族系よりも芳香族系の方が優れている。すな
わち、芳香族系の高誘電率材料であるニトロベンゼンを
用い、DEANSTを最大濃度まで溶かしたときに最も
高効率の特性が得られた。この時のn!値は2 、2
X l O−”cm”/ Wであり、従来材料のCS
tの2.5倍である。また透過率は、C8,と比べて(
2、5)”である6倍らの効率が確認された。
く、非芳香族系よりも芳香族系の方が優れている。すな
わち、芳香族系の高誘電率材料であるニトロベンゼンを
用い、DEANSTを最大濃度まで溶かしたときに最も
高効率の特性が得られた。この時のn!値は2 、2
X l O−”cm”/ Wであり、従来材料のCS
tの2.5倍である。また透過率は、C8,と比べて(
2、5)”である6倍らの効率が確認された。
以上述べた溶媒の最適化は、本発明において初めて見い
だされた知見である。このような最適溶媒としては、上
記溶媒のほか、N−メチルアセトアミド、N−メチルホ
ルムアミド、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、ニトロメタン、アクリロニトリル、メタノール
、ジエヂレングリコール、ベンゾニトリル、エタノール
、アセトアルデヒド、プロパツール、ペンズアルデヒト
、ベンノルアルコール、ピリジンなど、クロロホルムよ
り誘電率の大きいものが挙げられる。
だされた知見である。このような最適溶媒としては、上
記溶媒のほか、N−メチルアセトアミド、N−メチルホ
ルムアミド、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、ニトロメタン、アクリロニトリル、メタノール
、ジエヂレングリコール、ベンゾニトリル、エタノール
、アセトアルデヒド、プロパツール、ペンズアルデヒト
、ベンノルアルコール、ピリジンなど、クロロホルムよ
り誘電率の大きいものが挙げられる。
さらに、本実施例で用いた溶液の非線形屈折率媒質の他
にも、製造例1で示したDEANSTを製造例10のよ
うに透明性に優れるポリマー材料に溶解させて固化させ
た媒質を用いることも可能である。さらに、DEANS
Tの単結晶板を用いた場合においても、同様に良好な結
果が確認された。
にも、製造例1で示したDEANSTを製造例10のよ
うに透明性に優れるポリマー材料に溶解させて固化させ
た媒質を用いることも可能である。さらに、DEANS
Tの単結晶板を用いた場合においても、同様に良好な結
果が確認された。
(実施例4)
第5図は本発明の非線形光学装置の池の実施例を説明す
る図であって、本発明で用いる非線形屈折率媒質lは実
施例2で述べたと同様のDEANST溶液であり、この
溶液媒質と人力光を約90%反射し、残りを透過させる
誘電体多層膜ミラー3a 、3bを対向させて光共振器
を構成した。
る図であって、本発明で用いる非線形屈折率媒質lは実
施例2で述べたと同様のDEANST溶液であり、この
溶液媒質と人力光を約90%反射し、残りを透過させる
誘電体多層膜ミラー3a 、3bを対向させて光共振器
を構成した。
この装置を動作させるには、人力光波長を僅か変化させ
るか、あるいは共振器長(ミラー間隔)を僅か変化させ
て共振器の共振条件を調整すれば良い。本実施例の場合
にはNd”−YAGレーザからの1,064μ友の光を
使用したので、調整は共振器長を変化させる方法に依っ
た。入力光強度Piと出力光強度ptとの間には第6図
および第7図に示したようなリミブタ動作および双安定
動作がそれぞれ得られた。
るか、あるいは共振器長(ミラー間隔)を僅か変化させ
て共振器の共振条件を調整すれば良い。本実施例の場合
にはNd”−YAGレーザからの1,064μ友の光を
使用したので、調整は共振器長を変化させる方法に依っ
た。入力光強度Piと出力光強度ptとの間には第6図
および第7図に示したようなリミブタ動作および双安定
動作がそれぞれ得られた。
動作に必要な最小人力光強度(P i ll1in)は
解析的に Pi ll1in −(Kλ) / (ntc)(ただ
し、λは光の波長、Qは光学媒質長、K(〜0.00+
)は鏡の反射率と共振器長調整で決まる係数)で与えら
れるが、本実施例ではλ=1.064ul、Q=Ita
taであり、口、は実施例2から、nf−2、2x I
O−15cz”/ WであるからP i m1n=
5 Xl 0 ”W、/ax’と求まる。
解析的に Pi ll1in −(Kλ) / (ntc)(ただ
し、λは光の波長、Qは光学媒質長、K(〜0.00+
)は鏡の反射率と共振器長調整で決まる係数)で与えら
れるが、本実施例ではλ=1.064ul、Q=Ita
taであり、口、は実施例2から、nf−2、2x I
O−15cz”/ WであるからP i m1n=
5 Xl 0 ”W、/ax’と求まる。
実効出力50mW(パルス発振)、発振波長0.83μ
lの半導体レーザを光源とする場合、ビーム径を!μl
まで絞り込むと、光強度は6xlO’W/C1と計算さ
れ、この波長における上記非線形光学装置のPia+i
nの値より充分大きい。実際、本非線形光学装置は半導
体レーザを光源とした場合にも動作可能であった。
lの半導体レーザを光源とする場合、ビーム径を!μl
まで絞り込むと、光強度は6xlO’W/C1と計算さ
れ、この波長における上記非線形光学装置のPia+i
nの値より充分大きい。実際、本非線形光学装置は半導
体レーザを光源とした場合にも動作可能であった。
本材料DEANSTの応答時間tは10”秒程度と推測
される。ただし、装置としての反応時間は、この媒質応
答時間りと共振器内光子寿命tpとの大きい方の値で決
まり、 tp= Q op/(C(In R)(ただし、Q
opは共振器の光学長、Cは光速、Rはミラーの反射率
)から計算されるtpが6XIOロ秒と得られ、tp>
tなので、この値が装置の応答時間となる。本実施例に
おいては、応答時間はt o ””秒より短いことが確
認された。
される。ただし、装置としての反応時間は、この媒質応
答時間りと共振器内光子寿命tpとの大きい方の値で決
まり、 tp= Q op/(C(In R)(ただし、Q
opは共振器の光学長、Cは光速、Rはミラーの反射率
)から計算されるtpが6XIOロ秒と得られ、tp>
tなので、この値が装置の応答時間となる。本実施例に
おいては、応答時間はt o ””秒より短いことが確
認された。
(実施例5)
第8図は、位相共役波発生装置の一実施例を説明する図
である。図中符号4aと4bは半透過鏡、5は全反射鏡
、lは実施例3で述べたDEANST溶液である。この
構成は縮退4光波混合と呼ばれる光学配置であって、非
線形屈折率をもつ媒質に、A I、 A 2(A Iと
反対方向)、Ap(傾入射)の3つの光波が入射すると
、Apに対して空間位相項のみが共役である第4の光波
(Ac)か発生する。
である。図中符号4aと4bは半透過鏡、5は全反射鏡
、lは実施例3で述べたDEANST溶液である。この
構成は縮退4光波混合と呼ばれる光学配置であって、非
線形屈折率をもつ媒質に、A I、 A 2(A Iと
反対方向)、Ap(傾入射)の3つの光波が入射すると
、Apに対して空間位相項のみが共役である第4の光波
(Ac)か発生する。
本実施例においても装置の高速応答性、および低動作入
力光強度が確認できた。
力光強度が確認できた。
この位相共役波は画像情報処理技術における微修正や、
実時間ポログラフィなどの有効な手段として注目されて
いる。(応用については、文献 オプラス イー(Op
Ius E)3月号、P、73(+982)参照) 本実施例においても装置の高速応答性、および低動作入
力光強度が確認できた。
実時間ポログラフィなどの有効な手段として注目されて
いる。(応用については、文献 オプラス イー(Op
Ius E)3月号、P、73(+982)参照) 本実施例においても装置の高速応答性、および低動作入
力光強度が確認できた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の有機非線形光学材料は、
従来になく大きな三次の非線形効果を有するばかりでな
く、結晶性、溶解性に優れるため、良質大型結晶あるい
は高分子薄膜への加工が容易である。
従来になく大きな三次の非線形効果を有するばかりでな
く、結晶性、溶解性に優れるため、良質大型結晶あるい
は高分子薄膜への加工が容易である。
また本発明の有機非線形光学材料にあっては、透明性の
高分子材料中に溶解して、固化させて光学媒質として用
いることができるほか、本発明の有機非線形光学材料は
いずれも結晶性に優れたものであるので大きな結晶体を
得ることができ、単結晶板を作成し、これを光学媒質と
して用いることもできる。
高分子材料中に溶解して、固化させて光学媒質として用
いることができるほか、本発明の有機非線形光学材料は
いずれも結晶性に優れたものであるので大きな結晶体を
得ることができ、単結晶板を作成し、これを光学媒質と
して用いることもできる。
そして本発明の有機非線形光学材料は高い非線形光学特
性を示すものであるので、これを非線形光学媒体をして
用いれば、強度の低い光によっても作動可能な光ゲート
や光スィッチ、光双安定素子、位相共役発生装置等の光
素子として利用することができる。
性を示すものであるので、これを非線形光学媒体をして
用いれば、強度の低い光によっても作動可能な光ゲート
や光スィッチ、光双安定素子、位相共役発生装置等の光
素子として利用することができる。
さらに使用する溶媒の種類により非線形屈折率が変化す
るので、所望の非線形屈折率を容易に実現できるという
効果もある。大きな非線形屈折率を得るためには、溶媒
としてクロロホルムの誘電率と同等もしくはそれ以上で
あるような溶媒を用いることが好ましい。特にニトロベ
ンゼンなどの高誘電率溶媒に溶かして使うと大きな非線
形屈折率を得ることができるのが特徴であり、低い光強
度で動作が可能な光ゲート光スィッチや光双安定素子、
さらには位相共役波発生装置等を実現することができる
ものである。
るので、所望の非線形屈折率を容易に実現できるという
効果もある。大きな非線形屈折率を得るためには、溶媒
としてクロロホルムの誘電率と同等もしくはそれ以上で
あるような溶媒を用いることが好ましい。特にニトロベ
ンゼンなどの高誘電率溶媒に溶かして使うと大きな非線
形屈折率を得ることができるのが特徴であり、低い光強
度で動作が可能な光ゲート光スィッチや光双安定素子、
さらには位相共役波発生装置等を実現することができる
ものである。
したがって、本発明の有機非線形光学材料は、光双安定
性素子、光スィッチ、光メモリなどの光通信用光集積素
子作製のための中心素材として利用できる。
性素子、光スィッチ、光メモリなどの光通信用光集積素
子作製のための中心素材として利用できる。
第1図は本発明の有機非線形光学材料を高分子中に分散
したフィルムの可視吸収スペクトルを示したグラフ、第
2図は本発明に係る非線形光学装置および光スィッチの
構成を示す概略構成図、第3図は本発明の有機非線形光
学材料を6機溶媒中に溶解した際の濃度と瞬間透過率と
の関係を示したグラフ、第4図は本発明の有機非線形光
学材料の種々の溶媒に対する非線形屈折率を示すグラフ
、第5図は本発明の非線形光学装置の他の例を示した概
略構成図、第6図および第7図はいずれら第5図に示し
た装置の動作特性を示すもので、第6図はリミッタ動作
を示したグラフ、第7図は光双安定動作を示したグラフ
、第8図は本発明の位相共役波発生装置の一実施例を示
した概略構成図である。 l・・・非線形屈折率媒質、 2 a、 2 b・・・偏光子、 3a、3b・・・誘電体多層膜ミラー 4a、4b・・・半透過鏡、 5・・・全反射ミラー 第1図 第2図 第3図 溶媒誘電率 第 図 第6 図 第 図 入力光強度 入力光強度
したフィルムの可視吸収スペクトルを示したグラフ、第
2図は本発明に係る非線形光学装置および光スィッチの
構成を示す概略構成図、第3図は本発明の有機非線形光
学材料を6機溶媒中に溶解した際の濃度と瞬間透過率と
の関係を示したグラフ、第4図は本発明の有機非線形光
学材料の種々の溶媒に対する非線形屈折率を示すグラフ
、第5図は本発明の非線形光学装置の他の例を示した概
略構成図、第6図および第7図はいずれら第5図に示し
た装置の動作特性を示すもので、第6図はリミッタ動作
を示したグラフ、第7図は光双安定動作を示したグラフ
、第8図は本発明の位相共役波発生装置の一実施例を示
した概略構成図である。 l・・・非線形屈折率媒質、 2 a、 2 b・・・偏光子、 3a、3b・・・誘電体多層膜ミラー 4a、4b・・・半透過鏡、 5・・・全反射ミラー 第1図 第2図 第3図 溶媒誘電率 第 図 第6 図 第 図 入力光強度 入力光強度
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)下記一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・[1] (ただし、R_1、R_2はメチル基以外のアルキル基
あるいはヒドロキシアルキル基のいずれかを表し、互い
に等しくても異なっていても良く、 X_1、X_2、X_3、X_4は、水素または水酸基
、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルキルエス
テル基、アルキルアミド基のいずれかを表し、互いに等
しくても異なっていても良い。) で示されることを特徴とする有機非線形光学材料(2)
請求項1記載の一般式[1]で示される有機非線形光学
材料と、低分子あるいは高分子のカルボン酸誘導体との
エステル縮合体であることを特徴とする有機非線形光学
材料 (3)請求項1記載の一般式[1]で示される有機非線
形光学材料が高分子中に分散されていることを特徴とす
る有機非線形光学材料 (4)下記一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・[2] (ただし、X_1、X_2は、水素または水酸基、ハロ
ゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルキルエステル基
、アルキルアミド基のいずれかを表し、互いに等しくて
も異なっていても良い。) で示されることを特徴とする有機非線形光学材料(5)
請求項4記載の一般式[2]で示される有機非線形光学
材料と、低分子あるいは高分子のカルボン酸誘導体との
エステル縮合体であることを特徴とする有機非線形光学
材料 (6)請求項4記載の一般式[2]で示される有機非線
形光学材料が高分子中に分散されていることを特徴とす
る有機非線形光学材料 (7)非線形屈折率を有する光学媒質と、偏光子や光共
振器、あるいは反射鏡などの光学素子とで構成される非
線形光学装置において、 非線形屈折率を有する光学媒質として、請求項1、請求
項2、請求項3、請求項4、請求項5または請求項6記
載の有機非線形光学材料を、単一の有機溶媒あるいは混
合溶媒に溶解させた溶液媒質を用いることを特徴とする
非線形光学装置(8)非線形屈折率を有する光学媒質と
、偏光子や共振器、あるいは反射鏡などの光学素子とで
構成される非線形光学装置において、 非線形屈折率を有する光学媒質として、請求項1、請求
項2、請求項3、請求項4、請求項5または請求項6記
載の有機非線形光学材料を、透明性を有するポリマー材
料に溶解させて、固化させた媒質を用いることを特徴と
する非線形光学装置(9)非線形屈折率を有する光学媒
質と、偏光子や共振器、あるいは反射鏡などの光学素子
とで構成される非線形光学装置において、 非線形屈折率を有する光学媒質として、請求項1、請求
項2、請求項4または請求項5記載の有機非線形光学材
料を結晶化させた媒質を用いることを特徴とする非線形
光学装置
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE68919717T DE68919717T2 (de) | 1988-01-27 | 1989-01-26 | Organisches Material mit nichtlinearen optischen Eigenschaften und Vorrichtung mit nichtlinearen optischen Eigenschaften. |
EP89101349A EP0326133B1 (en) | 1988-01-27 | 1989-01-26 | Organic nonlinear optical material and nonlinear optical device |
US07/481,460 US4999139A (en) | 1988-01-27 | 1990-02-16 | Organic nonlinear optical material and nonlinear optical device |
US07/481,775 US4997595A (en) | 1988-01-27 | 1990-02-16 | Organic nonlinear optical material and nonlinear optical device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-14394 | 1988-01-27 | ||
JP1439488 | 1988-01-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02833A true JPH02833A (ja) | 1990-01-05 |
JPH0795175B2 JPH0795175B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=11859841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1437989A Expired - Fee Related JPH0795175B2 (ja) | 1988-01-27 | 1989-01-24 | 有機非線形光学材料および非線形光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0795175B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6377334B2 (ja) * | 2013-10-25 | 2018-08-22 | 東洋鋼鈑株式会社 | 非線形光学色素、フォトリフラクティブ材料組成物、フォトリフラクティブ基材およびホログラム記録媒体 |
-
1989
- 1989-01-24 JP JP1437989A patent/JPH0795175B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0795175B2 (ja) | 1995-10-11 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |