JPH0260468B2 - - Google Patents

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JPH0260468B2
JPH0260468B2 JP57079184A JP7918482A JPH0260468B2 JP H0260468 B2 JPH0260468 B2 JP H0260468B2 JP 57079184 A JP57079184 A JP 57079184A JP 7918482 A JP7918482 A JP 7918482A JP H0260468 B2 JPH0260468 B2 JP H0260468B2
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    • B24—GRINDING; POLISHING
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    • B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/04—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラス、石材、陶磁器、木材、合成
樹脂、金属、皮革等の表面にサンドブラストによ
り彫刻等を施す際に、これらの非彫刻面を保護す
るために用いる表面粘着性の大きいサンドブラス
ト用マスクの製造方法に関するものである。 従来、このようなサンドブラスト用マスクを製
造する方法は種々提案されている。例えば特公昭
57―42475号公報には少なくとも一方が透明な二
枚のフイルムの間に液状感光性樹脂をはさみ、保
護フイルム（透明画像担体を液状感光性樹脂から
保護するためのフイルム）である透明フイルム側
から透明画像担体を通して活性光線を照射し、現
像してサンドブラスト用マスクを製造する方法が
記載されている。 しかしながら、このような方法によつて得られ
るサンドブラスト用マスクを被加工物に貼り付け
る際、接着剤、粘着剤を使用するかまたはマスク
表面の粘着性を利用する必要がある。この場合、
作業性を簡便にするためには、マスク表面が粘着
性を有していることが好ましい。そこで液状感光
性樹脂として、硬化状態で表面の粘着性が大きな
ものが使用される。 硬化状態で表面粘着性の大きい感光性樹脂が用
いられると、画像露光後現像に先立つて保護フイ
ルムである透明フイルムを剥離除去する際、硬化
した感光性樹脂層の粘着性により、透明フイルム
が感光性樹脂層の表面に強く貼り付けられた状態
になり、このため透明フルム体の剥離抵抗が大き
く、作業性が悪いばかりでなくさらに、透明フイ
ルムの剥離時に、上記硬化した感光性樹脂層が切
断されたり、あるいは樹旨層が反対側のフイルム
すなわち支持層より剥離したりすることが起こ
り、レリーフ脱落などの原因となつていた。特に
実開昭55―89555号公報に記載されているような、
サンドブラスト用マスクを作製するときのよう
に、剥離可能な中間層を設けた支持体を用いてサ
ンドブラスト用マスクを製造する場合、保護フイ
ルムの剥離にともなうレリーフ脱落が非常に大き
な問題であつた。 このように、液状感光性樹脂を用いるかぎり保
護フイルムの使用が必須であり、一方サンドブラ
スト加工時のためには表面粘着性の大きな感光性
樹脂が望まれる。このような要望のもとでは逆
に、製造時に、表面粘着性の大きな感光性樹脂と
保護フイルムとの粘着に起因する前記問題点が発
生することになり、いかにこれら問題を同時に解
決するかが課題であつたのである。 本発明者らは、この課題を解決するために種々
検討し、保護フイルムとして、合成樹脂フイルム
上に、該フイルムと剥離しやすく、かつ未露光部
の洗い出し液に溶解する被膜を形成したものを用
いることにより良好な結果を得ることができるこ
とを見出し、本発明を完成した。 即ち、本発明は、透明画像担体上に保護フイル
ムを設けその上に液状感光性樹脂と支持体を順次
ラミネートしたのち、透明画像担体を通じて画像
露光を行い、ついで、未露光部を洗い出すことに
よつてサンドブラスト用マスクを製造する方法に
おいて、保護フイルムとして、合成樹脂フイルム
上に該フイルムと剥離し易く、かつ未露光部の洗
い出し液に可溶な被膜を形成したものを用いる表
面粘着性の大きいサンドブラスト用マスクの製造
方法である。 本発明に用いられる合成樹脂フイルムとして
は、ポリプロピレンフイルム、ポリエステルフイ
ルム、ポリエチレンフイルム、ポリスチレンフイ
ルム、ポリ塩化ビニルフイルム、ポリアミドフイ
ルム、酢酸セルロース系フイルム、ポリカーボネ
ートフイルム等の透明でかつ厚み５〜50μのもの
が用いられる。これより厚いと、合成樹脂フイル
ム内での光の散乱により画像の再現性が低下しこ
れより薄いと取扱い性が悪くなる。好ましくは９
〜25μである。 また、合成樹脂フイルムの酸素透過性が小さい
と露光過程で表面の硬化が進みすぎ、得られるサ
ンドブラスト用マスクの表面粘着性を減少させる
傾向を示すので、酸素透過量として30×10-6ｇ／
24hr／m2／mm厚／／cmHg（21℃）以上のものであ
ることが好ましい。この点からポリプロピレンフ
イルム、酢酸セルロース系フイルム、ポリカーボ
ネートフイルム、ポリエチレンフイルム、ポリス
チレンフイルム等が適している。さらに、取扱い
性をも考慮するとポリプロピレンフイルムが最も
適している。 本発明においては、合成樹脂フイルム上に被膜
を一旦設けること、そして、その被膜を後の工程
で洗い出し除去してしまうことが最も重要であ
る。 合成樹脂フイルム上に設ける被膜としては、、
硬化した樹脂表面に転写させるため、合成樹脂フ
イルムから剥離可能であり、また、硬化した樹脂
表面に転写されたのち、洗い出し工程で除去する
ために、洗い出し液に可溶なものが用いられる。
洗い出し液の種類によつて使用できる材質は異る
が、一般に液状感光性樹脂の場合は水又はアルカ
リ水、あるいは界面活性剤水溶液のような水系の
洗い出し液が用いられるので、これらに可溶な、
ヒドロキル基含有セルロースエーテル又はエステ
ル、カルボキシル基含有セルロースエーテル又は
エステル等のセルロース誘導体及び部分ケン化ポ
リ酢酸ビニル等が被膜として使用可能である。 ヒドロキシル基含有セルロース誘導体として
は、ヒドロキシルエチルセルロース、ヒドロキシ
ルプロピルセルロース、セルロースヒドロキシル
酢酸エステル等を例としてあげることができる。
カルボキシル基含有セルロースエーテルとして
は、カルボキシルメチルセルロース、カルボキシ
エチルセルロース等をまた、カルボキシル基含有
セルロースエステルとしては、セルロースと、ジ
又はトリカルボン酸等のポリカルボン酸すなわち
コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリツト酸等
との、あるいはこれらの一部を酢酸、プロピオン
酸、酪酸、安息香酸等のモノカルボン酸でおきか
えたものとのエステル化反応生成物を例としてあ
げることができる。 上記以上のものでも洗い出し液に可溶で被膜性
を有するものであれば使用可能である。ただし、
保護フイルムを通して画像露光されるため、合成
樹脂フイルムと同様に被膜も透明であり、活性光
線の透過性を著しく阻害しないことが必要であ
る。 また、被膜の酸素透過性が小さいと保護フイル
ムの場合と同様に露光過程で表面の硬化が良く進
みすぎ、得られるサンドブラスト用マスクの粘着
性が低下するので好ましくない。この点からは酸
素透過性の高いセルロース誘導体が好ましい。 ヒドロキシル基含有セルロース誘導体や部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニルの場合貯蔵中に吸湿によつて
変質することがあるので保管条件に注意を要す
る。 この点からは吸湿性が小さく、かつ弱アルカリ
水溶液や界面活性剤水溶液に可溶なカルボキシル
基含有セルロース誘導体、特にセルロースアセテ
ートフタレート等のセルロースとポリカルボン酸
およびモノカルボン酸とのエステルが好ましい。 被膜の厚さは0.1〜10μの間で使用される。これ
より厚いと画像の再現性が低下し、これより薄い
と製造上厚みのコントロールがむずかしく、又ピ
ンホール等が発生しやすくなる。好ましくは、
0.2〜5μである。 合成樹脂フイルムにこのような被膜を設けるに
は、一般に、被膜剤を適当な溶媒を用いて溶液に
し、バーコーター、スピンコーター、グラビアコ
ーター等を利用してコーテイングする方法がとら
れる。 本発明に使用される感光性樹脂は使用する状態
で液状のものである。本発明の方法によれば硬化
状態で表面粘着性の大きい感光性樹脂を用いての
サンドブラスト用マスクを製造する工程において
も容易に合成樹脂フイルムを剥離することができ
るので、不良品を全く生じることなく、表面粘着
性の大きいサンドブラスト用マスクを製造するこ
とができる。 以下、本発明を実施例により詳しく説明する。 実施例 １ ヒドロキシルプロピルセルロースをエチルアル
コールに溶解させ、この溶解液を厚さ22μのポリ
プロピレンフイルム１上にバーコーターを用いて
1.0μの厚さにコーテイングして保護フイルム２を
得た。 得られた保護フイルム２でサンドブラスト用マ
スクパターンを有するポジフイルム３（透明画像
担体）を覆い、ついでこの保護フイルムのコーテ
イング面上に厚さ300μの液状感光性樹脂（旭化
成工業(株)製、ASA200）４を、10μ厚エチルセル
ロース層を有する75μポリエステルフイルムから
なる支持体５とともにラミネートし、30cm離れた
位置から2KW超高圧水銀灯にてポジフイルム側
より35秒間画像露光した（以上第１図のイ）。つ
いで保護フイルム２のうちのポリプロピレンフイ
ルム１を剥離除去した（第１図のロ）。ポリプロ
ピレンフイルムの剥離除去の際、厚さ260μの硬
化樹脂層に何らの損傷を与えることなく剥離でき
た。ついで２％界面活性剤（ライオン(株)商品各ラ
イポンＦ）水溶液にて、未硬化樹脂と被膜６の洗
い出しを３分間行つた（第１図のハ）のち、乾燥
してサンドブラスト用マスクを得た（第１図の
ニ）。 得られたサンドブラスト用マスクを厚さ10mmの
ガラスに貼りつけサイホン式サンドブラスターに
研磨材としてアランダム180＃を、空気圧力３
Kg／cm2Ｇにて30秒間研磨した際、マスクがガラス
より剥離せず十分な接着力を有していた。 実施例 ２〜４ セルロースアセテートフタレート、をメチルエ
チルケトン溶液とし、実施例１と同様に厚さ22μ
のポリプロピレンフイルム上に0.5、1.0、2.5の厚
さにコーテイングして保護フイルムとした。 得られた保護フイルムを用いて実施例１と同様
にサンドブラスト用マスクを製造した。 この製造工程中におけるポリプロピレンフイル
ムの剥離性、および製造したマスクをガラスに貼
りつけ実施例１と同様にサンドブラストによりブ
ラストした時の耐ブラスト性は表１の如くであつ
た。 比較例 １ 被膜として、セルロースアセテートブチレート
を用いる他は実施例２〜４と同様に行い、そのブ
ラスト性を表１に示した。 比較例 ２ 被膜なしの保護フイルムを用いて実施例１と同
様にサンドブラスト用マスクを製造した。保護フ
イルム剥離除去の際、厚さ260μの硬化樹脂層が
支持体より剥離脱落した。
【表】 実施例 ５〜８ 合成樹脂フイルムを変化させる他は実施例１と
同様にして種々の保護フイルムを得た。 得られた保護フイルムを用いて実施例１と同様
にして、サンドブラスト用マスクを製造した。 製造中における合成樹脂フイルムの剥離性、お
よび製造したマスクをガラスに貼りつけ、実施例
１と同様にしてサンドブラストした時のブラスト
性は、それぞれ表２の如くであつた。
【表】 【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係るサンドブラスト用マスク
の製造工程を示す図面で、第１図イは液状感光性
樹脂を支持体とともにラミネートした積層体の露
光中の断面図であり、第１図ロは合成樹脂フイル
ムを剥離する際の積層体の断面図であり、第１図
ハは現像中の積層体の断面図であり、また第１図
ニは現像後の積層体の断面図である。 図において、１…合成樹脂フイルム、２…保護
フイルム、３…透明画像担体、４…液状感光性樹
脂、５…支持体、６…被膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 透明画像担体上に保護フイルムを設け、その
    上に液状感光性樹脂と支持体を順次ラミネートし
    たのち、透明画像担体を通して画像露光を行い、
    ついで未露光部を洗い出すことによつてサンドブ
    ラスト用マスクを製造する方法において、保護フ
    イルムとして、合成樹脂フイルム上に、該フイル
    ムと剥離しやすく、かつ未露光部の洗い出し液に
    可溶な被膜を形成したものを用いることを特徴と
    する表面粘着性の大きいサンドブラスト用マスク
    の製造方法。 ２ 合成樹脂フイルム上にカルボキシル基含有セ
    ルロースエステルの被膜を設けた保護フイルムを
    用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
    載の表面粘着性の大きいサンドブラスト用マスク
    の製造方法。
JP57079184A 1982-05-13 1982-05-13 サンドブラスト用マスクの製造方法 Granted JPS58196971A (ja)

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