JPH0259842B2 - - Google Patents
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- JPH0259842B2 JPH0259842B2 JP60270908A JP27090885A JPH0259842B2 JP H0259842 B2 JPH0259842 B2 JP H0259842B2 JP 60270908 A JP60270908 A JP 60270908A JP 27090885 A JP27090885 A JP 27090885A JP H0259842 B2 JPH0259842 B2 JP H0259842B2
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- cleaning
- workpiece
- liquid
- tank
- impregnating
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/24—After-treatment of workpieces or articles
- B22F3/26—Impregnating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
- B05C9/12—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation being performed after the application
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/045—Cleaning involving contact with liquid using perforated containers, e.g. baskets, or racks immersed and agitated in a liquid bath
- B08B3/047—Containers specially adapted therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D31/00—Cutting-off surplus material, e.g. gates; Cleaning and working on castings
- B22D31/002—Cleaning, working on castings
- B22D31/005—Sealing or impregnating porous castings
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は鋳物や焼結品等のワークに発生する
巣、ピンホール等を有機含浸剤により封孔処理す
る含浸の洗浄方法及び装置に関するものである。
巣、ピンホール等を有機含浸剤により封孔処理す
る含浸の洗浄方法及び装置に関するものである。
（従来の技術）
鋳物や焼結品等のワークに発生する巣やピンホ
ール等の封孔処理として鋳物等を有機含浸剤中に
浸漬し、巣やピンホール等に含浸剤を含浸させる
システムは特開昭59−28503号等で知られている。
かかる含浸システムの省力化、生産性向上を図る
ため含浸工程をワーク機械加工ラインの最終工程
に含浸処理工程を導入し、ワークのラインタクト
に合せて含浸処理を自動化することが進められて
いる。
ール等の封孔処理として鋳物等を有機含浸剤中に
浸漬し、巣やピンホール等に含浸剤を含浸させる
システムは特開昭59−28503号等で知られている。
かかる含浸システムの省力化、生産性向上を図る
ため含浸工程をワーク機械加工ラインの最終工程
に含浸処理工程を導入し、ワークのラインタクト
に合せて含浸処理を自動化することが進められて
いる。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで含浸処理後のワークは洗浄する必要が
あり、かかる洗浄工程は製品機能、特に外観、加
工精度等に影響を与える重要な工程である。
あり、かかる洗浄工程は製品機能、特に外観、加
工精度等に影響を与える重要な工程である。
以上の洗浄工程において、ワークに穿設された
タツプ孔やドリル孔等の盲孔に入り込んだ含浸液
を取り除くことは困難で、従来は洗浄液の中でワ
ークの入つたバスケツトを上下させ外面に付着し
た含浸剤を取り除いた上作業者がワークの孔毎に
エアブローを行つていた。従つて作業が面倒且つ
煩雑で作業性が悪く、生産効率の点で改善が望ま
れる。
タツプ孔やドリル孔等の盲孔に入り込んだ含浸液
を取り除くことは困難で、従来は洗浄液の中でワ
ークの入つたバスケツトを上下させ外面に付着し
た含浸剤を取り除いた上作業者がワークの孔毎に
エアブローを行つていた。従つて作業が面倒且つ
煩雑で作業性が悪く、生産効率の点で改善が望ま
れる。
又洗浄の自動化装置としては、洗浄水中に強い
流れを与えるもの、シヤワーによるものも試みら
れるが、何れも狙つた箇所に水流が当らなければ
効果が少なく、又多数個を同時に処理する場合に
はワーク同志の影の部分は含浸液を取り除くこと
ができない。
流れを与えるもの、シヤワーによるものも試みら
れるが、何れも狙つた箇所に水流が当らなければ
効果が少なく、又多数個を同時に処理する場合に
はワーク同志の影の部分は含浸液を取り除くこと
ができない。
本発明は以上の問題点を解決すべくなされたも
ので、その目的とする処は、含浸処理後のワーク
のタツプ孔や盲孔等の狭く、凹突の激しい部分を
確実に洗浄処理し、且つこれを自動化して行い
得、洗浄処理を含んで含浸処理の生産効率を向上
させた含浸における洗浄方法及び装置を提供する
にある。
ので、その目的とする処は、含浸処理後のワーク
のタツプ孔や盲孔等の狭く、凹突の激しい部分を
確実に洗浄処理し、且つこれを自動化して行い
得、洗浄処理を含んで含浸処理の生産効率を向上
させた含浸における洗浄方法及び装置を提供する
にある。
（問題点を解決するための手段）
以上の問題点を解決するための手段は、含浸処
理後余分な含浸液を振り切つたワークを洗浄液を
収納した洗浄槽内にセツトし、該ワークを回転さ
せることによつて該ワークを洗浄液中に出没さ
せ、該ワーク表面に穿設された孔等の凹部に前記
洗浄液の出入りを強制して付着した含浸液を薄め
て洗浄するようにした洗浄方法である。
理後余分な含浸液を振り切つたワークを洗浄液を
収納した洗浄槽内にセツトし、該ワークを回転さ
せることによつて該ワークを洗浄液中に出没さ
せ、該ワーク表面に穿設された孔等の凹部に前記
洗浄液の出入りを強制して付着した含浸液を薄め
て洗浄するようにした洗浄方法である。
又上記洗浄方法を具体的に行う装置として洗浄
液を収納し、内部にワークを支持する回転数を回
転自在に設けたワークの洗浄を行う第１の洗浄槽
と、該第１の洗浄槽と回転方向が90゜異なる該洗
浄槽と同構造の第２洗浄槽と、前記第１、第２洗
浄槽にワークを順次移送する移送装置を備えた洗
浄装置である。
液を収納し、内部にワークを支持する回転数を回
転自在に設けたワークの洗浄を行う第１の洗浄槽
と、該第１の洗浄槽と回転方向が90゜異なる該洗
浄槽と同構造の第２洗浄槽と、前記第１、第２洗
浄槽にワークを順次移送する移送装置を備えた洗
浄装置である。
（上記手段による作用）
上記手段によれば、ワークを洗浄液中で回転さ
せ、洗浄液に出没させるのでワーク表面に穿設さ
れた孔に洗浄液の出入を強制し、この作業の反復
でタツプ孔、盲孔等に付着した含浸液を薄め、硬
化機能を喪失させて洗浄が行え、又多数同時処理
の場合でも孔等が他のワークが塞がれていない限
り洗浄され、又部品形状にも左右されない。そし
て洗浄槽を二つ備え、夫々でワークの回転方向を
90゜異ならせるので洗浄は萬遍なく行える。
せ、洗浄液に出没させるのでワーク表面に穿設さ
れた孔に洗浄液の出入を強制し、この作業の反復
でタツプ孔、盲孔等に付着した含浸液を薄め、硬
化機能を喪失させて洗浄が行え、又多数同時処理
の場合でも孔等が他のワークが塞がれていない限
り洗浄され、又部品形状にも左右されない。そし
て洗浄槽を二つ備え、夫々でワークの回転方向を
90゜異ならせるので洗浄は萬遍なく行える。
（実施例）
次に本発明の好適する一実施例を添付図面を参
照しつつ詳述する。
照しつつ詳述する。
第１図は含浸工程の説明図で側面図、第２図は
同模式的平面図、第３図は洗浄装置の縦断側面図
でワーク投入前の状態の図、第４図は同ワーク投
入保持状態の図、第５図Ａ〜Ｈは洗浄作業を説明
する図、第６図は含浸装置の一例を示す図であ
る。
同模式的平面図、第３図は洗浄装置の縦断側面図
でワーク投入前の状態の図、第４図は同ワーク投
入保持状態の図、第５図Ａ〜Ｈは洗浄作業を説明
する図、第６図は含浸装置の一例を示す図であ
る。
第１図において１０は基枠で、基台１１上に敷
設された下枠１２、前後方向に離間して門型に配
設された複数の柱１３…、柱１３…上の左右に前
後方向に延出された上枠１４及び上枠１４上にこ
れと平行するように設けたワーク移送用レール１
５等を備え、レール１５には移送装置２０がロー
ラ２１を介して移動自在に設けられている。移送
装置２０はワークの把持機構と位置決め機構を備
え、これを第３図、第４図に示し、昇降シリンダ
２２のロツド２３下端にブラケツト２４を固設
し、ブラケツト２４には前後方向にガイドバー２
５を備え、ガイドバー２５に前後方向に対向させ
て一対の爪２６，２６の基部２６ａを摺動自在に
嵌合し、この間にシリンダ２７を介設し、これの
前後に延出したロツド２８，２８を爪２６，２６
の基部２６ａ２６ａに連結する。従つて移送装置
２０をローラ２１でレール１５に案内させて移動
し、ワーク投入ステーシヨンでシリンダ２２を駆
動してロツド２３を下動させ、爪２６，２６をシ
リンダ２７の駆動で相寄る方向に移動させ、ワー
ク保持パレツトを係止保持せしめ、ロツド２３の
上動でパレツトを上昇させ、次の工程に移動し、
パレツトを各作業位置にセツトする。
設された下枠１２、前後方向に離間して門型に配
設された複数の柱１３…、柱１３…上の左右に前
後方向に延出された上枠１４及び上枠１４上にこ
れと平行するように設けたワーク移送用レール１
５等を備え、レール１５には移送装置２０がロー
ラ２１を介して移動自在に設けられている。移送
装置２０はワークの把持機構と位置決め機構を備
え、これを第３図、第４図に示し、昇降シリンダ
２２のロツド２３下端にブラケツト２４を固設
し、ブラケツト２４には前後方向にガイドバー２
５を備え、ガイドバー２５に前後方向に対向させ
て一対の爪２６，２６の基部２６ａを摺動自在に
嵌合し、この間にシリンダ２７を介設し、これの
前後に延出したロツド２８，２８を爪２６，２６
の基部２６ａ２６ａに連結する。従つて移送装置
２０をローラ２１でレール１５に案内させて移動
し、ワーク投入ステーシヨンでシリンダ２２を駆
動してロツド２３を下動させ、爪２６，２６をシ
リンダ２７の駆動で相寄る方向に移動させ、ワー
ク保持パレツトを係止保持せしめ、ロツド２３の
上動でパレツトを上昇させ、次の工程に移動し、
パレツトを各作業位置にセツトする。
第１図において左端はワークの投入ステーシヨ
ンａを示し、ワークＷは例えば実施例ではアルミ
合金で鋳造せるシリンダブロツクとし、前工程で
タツプ孔、盲孔等の孔が機械加工で形成されてお
り、ワークＷはパレツト３０で保持される。パレ
ツト３０は例えば第３図、第４図に示す如くで、
基板３１、四隅の枠杆３２、横杆３３等からな
り、中央に吊下杆３４を備え、吊下杆３４上端に
は係止部３５を備える。そしてワークＷは実施例
では二個支持し、これの各外側に設けた治具３
６，３６には上下方向に位置決め孔３７を備え、
又基板３１の下には前後方向に離間して係止孔３
９を備える係止片３８，３８が垂下突設されてい
る。既述の爪２６，２６で係止部３５を係止して
パレツト３０を吊り上げて移送し、次工程で降下
させて爪２６，２６を解除してパレツトをセツト
する。
ンａを示し、ワークＷは例えば実施例ではアルミ
合金で鋳造せるシリンダブロツクとし、前工程で
タツプ孔、盲孔等の孔が機械加工で形成されてお
り、ワークＷはパレツト３０で保持される。パレ
ツト３０は例えば第３図、第４図に示す如くで、
基板３１、四隅の枠杆３２、横杆３３等からな
り、中央に吊下杆３４を備え、吊下杆３４上端に
は係止部３５を備える。そしてワークＷは実施例
では二個支持し、これの各外側に設けた治具３
６，３６には上下方向に位置決め孔３７を備え、
又基板３１の下には前後方向に離間して係止孔３
９を備える係止片３８，３８が垂下突設されてい
る。既述の爪２６，２６で係止部３５を係止して
パレツト３０を吊り上げて移送し、次工程で降下
させて爪２６，２６を解除してパレツトをセツト
する。
投入ステーシヨンａにワークを保持したパレツ
トを投入し、移送装置２０でパレツトを次の含浸
ステーシヨンｂに送り込み、含浸装置１にパレツ
トごとワークをセツトする。
トを投入し、移送装置２０でパレツトを次の含浸
ステーシヨンｂに送り込み、含浸装置１にパレツ
トごとワークをセツトする。
含浸装置１は例えば第６図に示す如くで、本体
をなす含浸処理タンク１０１を隣接せる含浸液１
０２を収納したタンク１０３に連通管１０４を介
して底から接続し、連通管１０４には電磁弁等で
構成された切換弁１０５が介設され、連通管１０
４の該弁１０５の上流側と下流側の部位にはバイ
パス管１０６が設けられ、該管１０６には切換弁
１０７を、又該弁１０７の上流には液もどし用ポ
ンプ１０８を設ける。タンク１０１は上蓋１０９
で開閉自在であり、上蓋１０９は管１１０を介し
て真空ポンプ１１１に接続し、タンク１０１内を
密閉状態で真空引きするようにし、管１１０には
フイルタ１１２、切換弁１１３を備える。そして
別の管１１４、切換弁１１５，１１６を介して大
気とエア源に選択的に連通させる。
をなす含浸処理タンク１０１を隣接せる含浸液１
０２を収納したタンク１０３に連通管１０４を介
して底から接続し、連通管１０４には電磁弁等で
構成された切換弁１０５が介設され、連通管１０
４の該弁１０５の上流側と下流側の部位にはバイ
パス管１０６が設けられ、該管１０６には切換弁
１０７を、又該弁１０７の上流には液もどし用ポ
ンプ１０８を設ける。タンク１０１は上蓋１０９
で開閉自在であり、上蓋１０９は管１１０を介し
て真空ポンプ１１１に接続し、タンク１０１内を
密閉状態で真空引きするようにし、管１１０には
フイルタ１１２、切換弁１１３を備える。そして
別の管１１４、切換弁１１５，１１６を介して大
気とエア源に選択的に連通させる。
上蓋１０９を開いて既述のワークを保持したパ
レツト３０を処理タンク１０１内に降下させてセ
ツトし、上蓋１０９を閉じ、弁１１５，１６を閉
じ、弁１１３を開いて真空ポンプ１１１を駆動
し、タンク１０１内を真空引し、その後弁１１３
を閉じる。次に弁１０５を開いてタンク１０３内
の含浸液１０２を負圧によりタンク１０１内に導
入し、液のレベルはレベルスイツチ１１７，１１
８で検出し、弁１０５を閉じる。続いて弁１１５
を開いて高圧のエアをタンク１０１内に導入し、
液を加圧してワークの巣やピンホールに含浸液を
含浸充填させる。このさい、先に機械加工したタ
ツプ孔、盲孔、オイル通路等の凹部にも含浸液は
充填されることとなる。
レツト３０を処理タンク１０１内に降下させてセ
ツトし、上蓋１０９を閉じ、弁１１５，１６を閉
じ、弁１１３を開いて真空ポンプ１１１を駆動
し、タンク１０１内を真空引し、その後弁１１３
を閉じる。次に弁１０５を開いてタンク１０３内
の含浸液１０２を負圧によりタンク１０１内に導
入し、液のレベルはレベルスイツチ１１７，１１
８で検出し、弁１０５を閉じる。続いて弁１１５
を開いて高圧のエアをタンク１０１内に導入し、
液を加圧してワークの巣やピンホールに含浸液を
含浸充填させる。このさい、先に機械加工したタ
ツプ孔、盲孔、オイル通路等の凹部にも含浸液は
充填されることとなる。
充填後弁１１５を閉じ、弁１１６を開いてタン
ク１０１内を大気と同圧とするとともに、弁１０
７を開きポンプ１０８を駆動してタンク１０１内
の液をバイパス通路１０６を介してタンク１０３
内にもどし、一方上蓋１０９を開いてパレツト３
０を既述の移送装置で吊り上げてワークをタンク
１０１から取り出し、次の水切ステーシヨンｃに
移送する。
ク１０１内を大気と同圧とするとともに、弁１０
７を開きポンプ１０８を駆動してタンク１０１内
の液をバイパス通路１０６を介してタンク１０３
内にもどし、一方上蓋１０９を開いてパレツト３
０を既述の移送装置で吊り上げてワークをタンク
１０１から取り出し、次の水切ステーシヨンｃに
移送する。
水切ステーシヨンｃは前工程の含浸ステーシヨ
ンｂの含浸装置１下流に隣接して設けられ、液切
装置２は前後の基枠２０１，２０１間に回転自在
に軸２０２で支持された上面開放の液切槽２０３
を備え、含浸処理後のワークを保持したパレツト
３０を槽２０３内の保持台２０４上にセツト固定
し、保持台２０４は槽２０３の底外に付設したモ
ータ２０５、チエンスプロケツト機構２０６、減
速機構２０７で支軸２０８が回転駆動され、保持
台２０４上のパレツト３０を介して保持されたワ
ークは回転し、ワークに付着した余分な液を遠心
力で分離する。
ンｂの含浸装置１下流に隣接して設けられ、液切
装置２は前後の基枠２０１，２０１間に回転自在
に軸２０２で支持された上面開放の液切槽２０３
を備え、含浸処理後のワークを保持したパレツト
３０を槽２０３内の保持台２０４上にセツト固定
し、保持台２０４は槽２０３の底外に付設したモ
ータ２０５、チエンスプロケツト機構２０６、減
速機構２０７で支軸２０８が回転駆動され、保持
台２０４上のパレツト３０を介して保持されたワ
ークは回転し、ワークに付着した余分な液を遠心
力で分離する。
かかる液切後パレツトを吊り上げ、移送装置２
０で次の第１洗浄ステーシヨンｄへ移送する。
０で次の第１洗浄ステーシヨンｄへ移送する。
洗浄ステーシヨンｄに設けられる洗浄装置３は
第３図、第４図に示す如くで、本体をなす槽３０
１は上面を開放し、該槽３０１内の高さ方向中間
部の対向する壁３０２，３０２には対向する如く
内方に突出する軸３０３，３０４を設け、該軸３
０３，３０４を凹型の保持枠３０５の前後の起片
３０５ａ，３０５ｂの上部外側に結合し、保持枠
３０５の底枠３０５ｃには二本の支杆３０６，３
０６を起設する。底枠３０５ｃの側片３０５ｄに
は前後に欠部３０７，３０７を設け、一方、これ
の側面に沿つて摺動する係止杆３０８を設け、係
止杆３０８は長孔３０９で側片３０５ｄのピン３
１０と係合して摺動を保障され、バネ３１１で係
止方向、即ち第３図の左方に付勢され、前後に係
止ピン部３１２，３１２を備える。そして係止杆
３０８は一端を壁に貫通した連杆３１３でリンク
３１４を介してシリンダ３１５のロツド３１６と
連結される。以上の保持杆３０５を支持する一方
の軸３０３は壁外面に設けたモータ３１７で駆動
されるように構成し、モータ３１７と軸３０３間
には減速機構が介設される。
第３図、第４図に示す如くで、本体をなす槽３０
１は上面を開放し、該槽３０１内の高さ方向中間
部の対向する壁３０２，３０２には対向する如く
内方に突出する軸３０３，３０４を設け、該軸３
０３，３０４を凹型の保持枠３０５の前後の起片
３０５ａ，３０５ｂの上部外側に結合し、保持枠
３０５の底枠３０５ｃには二本の支杆３０６，３
０６を起設する。底枠３０５ｃの側片３０５ｄに
は前後に欠部３０７，３０７を設け、一方、これ
の側面に沿つて摺動する係止杆３０８を設け、係
止杆３０８は長孔３０９で側片３０５ｄのピン３
１０と係合して摺動を保障され、バネ３１１で係
止方向、即ち第３図の左方に付勢され、前後に係
止ピン部３１２，３１２を備える。そして係止杆
３０８は一端を壁に貫通した連杆３１３でリンク
３１４を介してシリンダ３１５のロツド３１６と
連結される。以上の保持杆３０５を支持する一方
の軸３０３は壁外面に設けたモータ３１７で駆動
されるように構成し、モータ３１７と軸３０３間
には減速機構が介設される。
第３図の如く槽３０１の軸３０３，３０４の中
心部迄洗浄液３１８を収納し、ステーシヨンｄに
移送したワークＷをパレツト３０ごと爪２６，２
６で係止部３５を把持して槽３０１内に上からセ
ツトする。パレツト３０の孔３７，３７に支杆３
０６，３０６を上から嵌合させ、係止片３９，３
９を欠部３０７，３０７に臨ませて底枠３０５ｃ
上のパレツト３０を載置し、次にシリンダ３１５
を駆動してリンク３１４、連杆３１３により係止
杆３０８を図中左動せしめてピン部３１２，３１
２を係止片３８，３８の係止孔３９，３９に係合
させ、かかる作動はバネ３１１の共働により迅速
になされる。
心部迄洗浄液３１８を収納し、ステーシヨンｄに
移送したワークＷをパレツト３０ごと爪２６，２
６で係止部３５を把持して槽３０１内に上からセ
ツトする。パレツト３０の孔３７，３７に支杆３
０６，３０６を上から嵌合させ、係止片３９，３
９を欠部３０７，３０７に臨ませて底枠３０５ｃ
上のパレツト３０を載置し、次にシリンダ３１５
を駆動してリンク３１４、連杆３１３により係止
杆３０８を図中左動せしめてピン部３１２，３１
２を係止片３８，３８の係止孔３９，３９に係合
させ、かかる作動はバネ３１１の共働により迅速
になされる。
爾後爪２６，２６を解除して把持装置をシリン
ダ２２で上昇させ、これを第４図で示し、ワーク
を保持したパレツト３０は槽３０１内の保持枠３
０５にロツク保持されることとなる。
ダ２２で上昇させ、これを第４図で示し、ワーク
を保持したパレツト３０は槽３０１内の保持枠３
０５にロツク保持されることとなる。
次にモータ３７を駆動し、軸３０３，３０４を
支点として保持枠３０５、従つてワークＷを洗浄
液３１８中で回転させる。
支点として保持枠３０５、従つてワークＷを洗浄
液３１８中で回転させる。
第５図Ａ〜Ｈはこれを示し、ＡはワークＷが液
中に浸漬し、回転のスタート状態を示し、ワーク
Ｗのタツプ孔、盲孔、オイル通路、ウオータシヤ
ケツト用水通路等の凹部W1〜W6内には含浸液が
付着しているが洗浄液も浸漬により侵入してい
る。
中に浸漬し、回転のスタート状態を示し、ワーク
Ｗのタツプ孔、盲孔、オイル通路、ウオータシヤ
ケツト用水通路等の凹部W1〜W6内には含浸液が
付着しているが洗浄液も浸漬により侵入してい
る。
かかるワークＷを洗浄液３１８中でモータ３１
７により保持枠３０５を介して第５図中時計方
向、即ち矢印で示す右方向に回転させる。第５図
ＢはワークＷが液３１８上に半分以上露出した状
態で凹部W1内の含浸液は洗浄水とともに排出さ
れ同ＣはワークＷが液上で直横になり、前記第５
図Ａから90゜回転した位置で凹部W4，W5及びW6
の液が排出される。ワークＷは更に回転をつづけ
第５図Ｄの如き姿勢となり、第５図Ｅの如く既述
のＡから180゜回転し、凹部W2，W3から液を排出
する。回転の継続でワークＷは第５図Ｆ〜Ｇの如
く洗浄液中に浸漬し、排水した凹部W1〜W6には
再度洗浄液が進入し、回転の継続で第５図Ａから
Ｈの連動を行わせるとともに、逆転を交互に行い
これにより凹部W1〜W6内には洗浄液が出入り
し、凹部内に付着した含浸液を希釈し、最終的に
は凹部内の含浸液を除去し、洗浄することとな
る。
７により保持枠３０５を介して第５図中時計方
向、即ち矢印で示す右方向に回転させる。第５図
ＢはワークＷが液３１８上に半分以上露出した状
態で凹部W1内の含浸液は洗浄水とともに排出さ
れ同ＣはワークＷが液上で直横になり、前記第５
図Ａから90゜回転した位置で凹部W4，W5及びW6
の液が排出される。ワークＷは更に回転をつづけ
第５図Ｄの如き姿勢となり、第５図Ｅの如く既述
のＡから180゜回転し、凹部W2，W3から液を排出
する。回転の継続でワークＷは第５図Ｆ〜Ｇの如
く洗浄液中に浸漬し、排水した凹部W1〜W6には
再度洗浄液が進入し、回転の継続で第５図Ａから
Ｈの連動を行わせるとともに、逆転を交互に行い
これにより凹部W1〜W6内には洗浄液が出入り
し、凹部内に付着した含浸液を希釈し、最終的に
は凹部内の含浸液を除去し、洗浄することとな
る。
以上の第１洗浄ステーシヨンｄではワークＷを
第１図中右方向に回転させ、既述の如く洗浄を行
う。
第１図中右方向に回転させ、既述の如く洗浄を行
う。
次にワークＷを移送装置２０で槽３０１から取
り出し、次工程の第２洗浄ステーシヨンｅに臨ま
せ、ここの洗浄装置４は前工程の洗浄装置３と全
く同様の構造で、保持枠４０５の支軸が第１図中
左右方向に延び、モータ４１７が第１図中右側に
あり、保持枠４０５に保持されたワークＷは第１
図中紙面の表裏方向に回転することとなり、ワー
クの前記とは90゜移送のズレた凹部を洗浄するこ
ととなる。かくしてワークＷの凹部の全ては洗浄
されることとなる。
り出し、次工程の第２洗浄ステーシヨンｅに臨ま
せ、ここの洗浄装置４は前工程の洗浄装置３と全
く同様の構造で、保持枠４０５の支軸が第１図中
左右方向に延び、モータ４１７が第１図中右側に
あり、保持枠４０５に保持されたワークＷは第１
図中紙面の表裏方向に回転することとなり、ワー
クの前記とは90゜移送のズレた凹部を洗浄するこ
ととなる。かくしてワークＷの凹部の全ては洗浄
されることとなる。
洗浄後隣接する下流の水切ステーシヨンｆにワ
ークＷを移送し、水切装置５は既述のステーシヨ
ンｃと同様の構成で、液切槽５０３内の保持台５
０４にパレツトに保持されたワークをセツトし、
モータ５０５でワークを回転させ、洗浄液の液切
りを行う。
ークＷを移送し、水切装置５は既述のステーシヨ
ンｃと同様の構成で、液切槽５０３内の保持台５
０４にパレツトに保持されたワークをセツトし、
モータ５０５でワークを回転させ、洗浄液の液切
りを行う。
液切後次工程の払出しステーシヨンｇにワーク
を送り、更に次工程、例えば乾燥工程にワークを
移送する。
を送り、更に次工程、例えば乾燥工程にワークを
移送する。
以上のように含浸処理したワークを洗浄液中に
浸漬して回転させ、孔等の凹部を洗浄希釈し、含
浸液を排出除去せしめ、又回転が90゜異なる二槽
で全方向の凹部の洗浄を行う。
浸漬して回転させ、孔等の凹部を洗浄希釈し、含
浸液を排出除去せしめ、又回転が90゜異なる二槽
で全方向の凹部の洗浄を行う。
（発明の効果）
以上で明らかな如く本発明によれば、含浸処理
後の含浸液が付着したワークを洗浄液内で回転さ
せることによつてワークの表面に形成した孔、穴
等の凹部内に洗浄液が強制的に出入し、これによ
り凹部内の含浸液は希釈排出除去され、手作業に
よることなく自動化で含浸液の除去が行え、効率
良く、確実にワークの洗浄が行える。
後の含浸液が付着したワークを洗浄液内で回転さ
せることによつてワークの表面に形成した孔、穴
等の凹部内に洗浄液が強制的に出入し、これによ
り凹部内の含浸液は希釈排出除去され、手作業に
よることなく自動化で含浸液の除去が行え、効率
良く、確実にワークの洗浄が行える。
又含浸工程としては含浸、液切れ、洗浄、水切
り、乾燥の如く順次行えるので、ラインタクトに
合せて含浸処理を全自動化でき、生産性の向上が
図れる。
り、乾燥の如く順次行えるので、ラインタクトに
合せて含浸処理を全自動化でき、生産性の向上が
図れる。
更に、洗浄工程を二工程とし、ワーク90゜異な
る方向に回転させることによりワークの方向の異
なる全ての凹部を洗浄でき、洗浄が確実に行え
る。
る方向に回転させることによりワークの方向の異
なる全ての凹部を洗浄でき、洗浄が確実に行え
る。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図
は含浸工程の説明図で側面図、第２図は同模式的
平面図、第３図は洗浄液装置の縦断側面図でワー
ク投入前の状態の図、第４図は同ワーク投入保持
状態の図、第５図Ａ〜Ｈは洗浄作業を説明する
図、第６図は含浸装置の一例を示す図である。 尚図面中Ｗはワーク、１は含浸装置、２，４は
水切槽、３，４は洗浄装置、３０５，４０５は回
転体である。
は含浸工程の説明図で側面図、第２図は同模式的
平面図、第３図は洗浄液装置の縦断側面図でワー
ク投入前の状態の図、第４図は同ワーク投入保持
状態の図、第５図Ａ〜Ｈは洗浄作業を説明する
図、第６図は含浸装置の一例を示す図である。 尚図面中Ｗはワーク、１は含浸装置、２，４は
水切槽、３，４は洗浄装置、３０５，４０５は回
転体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 含浸処理後余分な含浸液を振り切つたワーク
を洗浄液を収納した洗浄槽内にセツトし、該ワー
クを回転させることによつて該ワークを洗浄液中
に出没させ、該ワーク表面に穿設された孔等の凹
部に前記洗浄液の出入りを強制して付着した含浸
液を薄めて洗浄するようにしたことを特徴とする
含浸における洗浄方法。 ２ 洗浄液を収納し、内部にワークを支持する回
転体を回転自在に設けたワークの洗浄を行う第１
の洗浄槽と、該第１の洗浄槽と回転方向が90゜異
なる該洗浄槽と同構造の第２洗浄槽と、前記第
１、第２洗浄槽にワークを順次移送する移送装置
を備えたことを特徴とする含浸における洗浄装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60270908A JPS62130202A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 含浸における洗浄方法及び装置 |
| US06/843,357 US4773941A (en) | 1985-12-02 | 1986-03-24 | Method and device for washing porous workpieces in an impregnation process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60270908A JPS62130202A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 含浸における洗浄方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62130202A JPS62130202A (ja) | 1987-06-12 |
| JPH0259842B2 true JPH0259842B2 (ja) | 1990-12-13 |
Family
ID=17492659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60270908A Granted JPS62130202A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 含浸における洗浄方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4773941A (ja) |
| JP (1) | JPS62130202A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109332257A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-02-15 | 湖州金业电镀有限公司 | 一种金属板用电镀加工用漂洗装置 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04197478A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-17 | Chuo Hatsumei Kenkyusho:Kk | 含浸孔質物品の洗浄方法 |
| JPH08152430A (ja) | 1994-11-29 | 1996-06-11 | Seiko Instr Inc | 位置合わせ機能付き顕微鏡 |
| US5776546A (en) * | 1996-06-26 | 1998-07-07 | Miply Equipment, Inc. | Method and apparatus for impregnating a porous substrate with a solids-bearing saturant |
| DE10062316A1 (de) * | 2000-12-14 | 2002-07-11 | Int Metall Impraegnier Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Imprägnieren poröser Gegenstände |
| CN106191948B (zh) * | 2016-08-31 | 2019-04-16 | 扬中市宏飞镀业有限公司 | 一种电镀生产线专用浸渍干燥机 |
| CN110976396A (zh) * | 2019-12-17 | 2020-04-10 | 昆山众劲机械有限公司 | 一种浸渗清洗设备和方法 |
| CN112974130B (zh) * | 2021-02-21 | 2021-11-09 | 阜阳市茂泰商贸有限公司 | 一种丁腈手套用自动上胶设备 |
| CN113862687B (zh) * | 2021-09-10 | 2023-12-26 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种降低液面扰动的慢提拉槽托架及其操作方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE355201B (ja) * | 1972-06-06 | 1973-04-09 | Thegerstroems Rostfria Ab | |
| DE2748615A1 (de) * | 1977-10-29 | 1979-05-03 | Richard Steimel | Verfahren und vorrichtung zum entoelen, rommeln, waschen und trocknen insbesondere von gegenstaenden mit sackloechern |
| US4209342A (en) * | 1978-07-03 | 1980-06-24 | Sperry Corporation | Dynamic cleaning method and apparatus for removal of remnant material |
-
1985
- 1985-12-02 JP JP60270908A patent/JPS62130202A/ja active Granted
-
1986
- 1986-03-24 US US06/843,357 patent/US4773941A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109332257A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-02-15 | 湖州金业电镀有限公司 | 一种金属板用电镀加工用漂洗装置 |
| CN109332257B (zh) * | 2018-09-30 | 2021-07-30 | 湖州金业表面科技有限公司 | 一种金属板用电镀加工用漂洗装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62130202A (ja) | 1987-06-12 |
| US4773941A (en) | 1988-09-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |