JPH0259341A - 改良された耐候性を有する共有押出製品 - Google Patents
改良された耐候性を有する共有押出製品Info
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- JPH0259341A JPH0259341A JP1159845A JP15984589A JPH0259341A JP H0259341 A JPH0259341 A JP H0259341A JP 1159845 A JP1159845 A JP 1159845A JP 15984589 A JP15984589 A JP 15984589A JP H0259341 A JPH0259341 A JP H0259341A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、耐湿性ポリカーボネート物品に関する。更に
詳しくは、本発明はポリカーボネート樹脂内層と、物品
に耐湿性を付与するための耐湿性コポリフタレート−カ
ーボネート樹脂外層とを含む共有押出しされた物品に関
する。
詳しくは、本発明はポリカーボネート樹脂内層と、物品
に耐湿性を付与するための耐湿性コポリフタレート−カ
ーボネート樹脂外層とを含む共有押出しされた物品に関
する。
発明の背景
芳香族カーボネートポリマーは、多くの有利な性質のた
めに熱可塑性エンジニアリング材料としての用途が見い
出されている良く知られた熱可塑性材料である。これら
芳香族カーボネートポリマーは、例えばタフネス、耐衝
撃性、耐熱性、寸法安定性に優れた性質を発揮し、そし
て可視光に対する高度の透明性を示す。芳香族カーボネ
ートポリマーからフィルム及びシートを押出して、高い
光学的品質を有する透明な物品を製造することができる
。しかし、保護されていない芳香族ポリカーボネート物
品は湿気を吸収し、その結果物品の曇りを生じ、これに
より光学的品質及び透明度を大きく損なう。吸湿を減ら
すための従来の試みは、物品表面へのコーティングの塗
布を伴っていた。
めに熱可塑性エンジニアリング材料としての用途が見い
出されている良く知られた熱可塑性材料である。これら
芳香族カーボネートポリマーは、例えばタフネス、耐衝
撃性、耐熱性、寸法安定性に優れた性質を発揮し、そし
て可視光に対する高度の透明性を示す。芳香族カーボネ
ートポリマーからフィルム及びシートを押出して、高い
光学的品質を有する透明な物品を製造することができる
。しかし、保護されていない芳香族ポリカーボネート物
品は湿気を吸収し、その結果物品の曇りを生じ、これに
より光学的品質及び透明度を大きく損なう。吸湿を減ら
すための従来の試みは、物品表面へのコーティングの塗
布を伴っていた。
しかし、これらコーティングの多くは塗布が比較的高価
であること、押出操作のほかに処理工程を必要とするこ
とに災いされ、また脆化を被り、そして物品の風化の間
に芳香族ポリカーボネートのシート又はフィルムに対す
る密着を損なうことに災いされる。
であること、押出操作のほかに処理工程を必要とするこ
とに災いされ、また脆化を被り、そして物品の風化の間
に芳香族ポリカーボネートのシート又はフィルムに対す
る密着を損なうことに災いされる。
発明の概要
従って、本発明は比較的薄い耐湿性コポリエステル−カ
ーボネート外層と、比較的厚い芳香族ポリカーボネート
内層を含む共有押出しされた耐湿性芳香族ポリカーボネ
ート物品を提供する。前記共有押出しされたコポリエス
テル−カーボネート層／芳香族ポリカーボネート層は、
優れた密着性、相容性及び耐候性を発揮する。前記共有
押出しされた物品は、高度の透明性を示し、また吸湿及
びその結果としての曇りの形成に対して抵抗を示す。
ーボネート外層と、比較的厚い芳香族ポリカーボネート
内層を含む共有押出しされた耐湿性芳香族ポリカーボネ
ート物品を提供する。前記共有押出しされたコポリエス
テル−カーボネート層／芳香族ポリカーボネート層は、
優れた密着性、相容性及び耐候性を発揮する。前記共有
押出しされた物品は、高度の透明性を示し、また吸湿及
びその結果としての曇りの形成に対して抵抗を示す。
本発明は、又、薄い耐湿性コポリエステル−カーボネー
ト層、薄い紫外線抵抗性内層及び比較的厚い湿気感受性
、紫外線感受性ポリカーボネートコア層を含む物品を提
供するため前記コポリエステル−カーボネート層とポリ
カーボネートコア層の間に紫外線吸収剤に富むポリカー
ボネート層を共有押出しすることをも意図している。
ト層、薄い紫外線抵抗性内層及び比較的厚い湿気感受性
、紫外線感受性ポリカーボネートコア層を含む物品を提
供するため前記コポリエステル−カーボネート層とポリ
カーボネートコア層の間に紫外線吸収剤に富むポリカー
ボネート層を共有押出しすることをも意図している。
発明の詳細
な説明によって、芳香族ポリカーボネート樹脂のコア層
を有し、そして保護、耐湿性コポリエステルカーボネー
トの外層を有する共有押出しされた物品が提供される。
を有し、そして保護、耐湿性コポリエステルカーボネー
トの外層を有する共有押出しされた物品が提供される。
本発明の共有押出しされた物品は、吸湿及びそれに起因
する曇りに対して優れた抵抗を示す。
する曇りに対して優れた抵抗を示す。
本発明におけるコア層に使用される芳香族ポリカーボネ
ート樹脂は、二価フェノールと、ホスゲン、ハロホルメ
ート又は炭酸エステル等のカーボネート前駆物質との反
応によって製造し得る。
ート樹脂は、二価フェノールと、ホスゲン、ハロホルメ
ート又は炭酸エステル等のカーボネート前駆物質との反
応によって製造し得る。
膜内に言って、前記カーボネートポリマーは式（式中Ａ
は前記ポリマー生成反応で使用される二価フェノールの
二価の芳香族残基である）の繰返し構造単位ををするこ
とで特徴づけられる。好ましくは、本発明に係わる物品
を得るために用いる前記カーボネートポリマーは、塩化
メチレン中、２５℃で測定して約０．３０乃至約１．０
０ｄρ／ｇの範囲内の固有粘度を有する。前記芳香族カ
ーボネートポリマーを得るために使用し得る前記二価フ
ェノールは、官能基として、夫々が芳香族核の炭素原子
と直接結合している２個のヒドロキシ基を含む単核又は
多核芳香族化合物である。
は前記ポリマー生成反応で使用される二価フェノールの
二価の芳香族残基である）の繰返し構造単位ををするこ
とで特徴づけられる。好ましくは、本発明に係わる物品
を得るために用いる前記カーボネートポリマーは、塩化
メチレン中、２５℃で測定して約０．３０乃至約１．０
０ｄρ／ｇの範囲内の固有粘度を有する。前記芳香族カ
ーボネートポリマーを得るために使用し得る前記二価フ
ェノールは、官能基として、夫々が芳香族核の炭素原子
と直接結合している２個のヒドロキシ基を含む単核又は
多核芳香族化合物である。
代表的な二価フェノールは、
２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン；
ハイドロキノン；
レゾルシノール；
２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；
２．４′−ジヒドロキシジフェニルメタン；ビス＝（２
−ヒドロキシフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキシ−５−二
トロフェニル）メタン； １．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン； ３．３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン； ２．２′−ジヒドロキシジフェニル； ２．６−シヒドロキシナフタレン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビス−（
３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン
； ２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン； ２．４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン；５′−ク
ロロ−２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン
； ４．４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル；４．４′
−ジヒドロキシ−３，３′−ジクロロジフェニルエーテ
ル； ４，４′−ジヒドロキシ−２，５−ジヒドロキシジフェ
ニルエーテル 等である。
−ヒドロキシフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキシ−５−二
トロフェニル）メタン； １．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン； ３．３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン； ２．２′−ジヒドロキシジフェニル； ２．６−シヒドロキシナフタレン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビス−（
３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン
； ２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン； ２．４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン；５′−ク
ロロ−２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン
； ４．４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル；４．４′
−ジヒドロキシ−３，３′−ジクロロジフェニルエーテ
ル； ４，４′−ジヒドロキシ−２，５−ジヒドロキシジフェ
ニルエーテル 等である。
同様に前記ポリカーボネートに用いるのに適切な他の二
価フェノールが、米国特許第２．９９９゜８３５号、同
３，０２８，３６５号、同３，３３４．１５４号及び同
４，１３１．５７５号各明細書に開示されている。
価フェノールが、米国特許第２．９９９゜８３５号、同
３，０２８，３６５号、同３，３３４．１５４号及び同
４，１３１．５７５号各明細書に開示されている。
これらの芳香族ポリカーボネートは、例えば前述した様
に二価フェノールとホスゲン等のカーボネート前駆物質
とを前記文献及び米国特許第４゜０１８．７５０号及び
同４，１２３．４３６号各明細書に示されている方法に
従って反応させること、又は米国特許第３，１５３．０
０８号明細書に開示されている様なエステル交換反応法
等の公知の方法並びに当該技術分野の熟達者に公知の他
の方法によって製造し得る。
に二価フェノールとホスゲン等のカーボネート前駆物質
とを前記文献及び米国特許第４゜０１８．７５０号及び
同４，１２３．４３６号各明細書に示されている方法に
従って反応させること、又は米国特許第３，１５３．０
０８号明細書に開示されている様なエステル交換反応法
等の公知の方法並びに当該技術分野の熟達者に公知の他
の方法によって製造し得る。
本発明に係わる前記ポリカーボネートの製造にホモポリ
マーより寧ろカーボネート共重合体の使用を所望する場
合は、２種又はそれ以上の異なる二価フェノール、ある
いは二価フェノールとグリコール、ヒドロキシもしくは
酸末端停止ポリエステル又は二塩基酸との共重合体を使
用することが可能である。米国特許第４．００１，１８
４号明細書に記載されている様な枝分れしたポリカーボ
ネートも有用であり、また線状ポリカーボネートと枝分
れしたポリカーボネートとのブレンドも使用し得る。更
に、前記物質の何れかのブレンドも、前記芳香族ポリカ
ーボネートを与えるために本発明の実施に際して使用し
得る。何れにしても、好適な芳香族カーボネートポリマ
ーは２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
（ビスフェノール−Ａ）から誘導されるホモポリマーで
ある。
マーより寧ろカーボネート共重合体の使用を所望する場
合は、２種又はそれ以上の異なる二価フェノール、ある
いは二価フェノールとグリコール、ヒドロキシもしくは
酸末端停止ポリエステル又は二塩基酸との共重合体を使
用することが可能である。米国特許第４．００１，１８
４号明細書に記載されている様な枝分れしたポリカーボ
ネートも有用であり、また線状ポリカーボネートと枝分
れしたポリカーボネートとのブレンドも使用し得る。更
に、前記物質の何れかのブレンドも、前記芳香族ポリカ
ーボネートを与えるために本発明の実施に際して使用し
得る。何れにしても、好適な芳香族カーボネートポリマ
ーは２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
（ビスフェノール−Ａ）から誘導されるホモポリマーで
ある。
前記の外側の保護、耐湿性コポリエステル−カーボネー
ト外層は、好ましくはミラーらの米国特許第４，４６５
．８２０号明細書に示されているコポリエステルカーボ
ネートである。本発明に係わる前記コポリエステルカー
ボネート層はポリフタレート−カーボネートとして知ら
れており、二価フェノール、カーボネート前駆物質、テ
レフタル酸もしくはその誘導体、及びイソフタル酸もし
くはその誘導体から誘導され、約７０乃至約９５重量パ
ーセントのエステル含量を有し、該エステル含量は、好
ましくは約２乃至１５重量パーセントがテレフタレート
であり８５乃至９８重量パーセントがインフタレートで
あり、そして更に好ましくは約５乃至１０重量パーセン
トがテレフタレートであり９０乃至９５重量パーセント
がイソフタレートである。
ト外層は、好ましくはミラーらの米国特許第４，４６５
．８２０号明細書に示されているコポリエステルカーボ
ネートである。本発明に係わる前記コポリエステルカー
ボネート層はポリフタレート−カーボネートとして知ら
れており、二価フェノール、カーボネート前駆物質、テ
レフタル酸もしくはその誘導体、及びイソフタル酸もし
くはその誘導体から誘導され、約７０乃至約９５重量パ
ーセントのエステル含量を有し、該エステル含量は、好
ましくは約２乃至１５重量パーセントがテレフタレート
であり８５乃至９８重量パーセントがインフタレートで
あり、そして更に好ましくは約５乃至１０重量パーセン
トがテレフタレートであり９０乃至９５重量パーセント
がイソフタレートである。
本発明においてを用な前記コポリエステルカーボネート
の製造に使用し得る前記二価フェノールは、−膜内にコ
ポリエステルカーボネート及び芳香族ポリカーボネート
の製造に有用であることが分っている二価フェノールを
包含する。使用し得る代表的な二価フェノールは、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノールＡ）； ２．４′−ジヒドロキシジフェニルメタン；ビス−（２
−ヒドロキシフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキシ−５−プ
ロピルフェニル）メタン； ビス−（４−ヒドロキシ−２，６−シメチルー３−メト
キシフェニル）メタン； １．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン； １．１−ビス（４−ヒドロキシ−２−エチルフェニル）
エタン； ２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタ
ン；及び ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ルプロパン である。
の製造に使用し得る前記二価フェノールは、−膜内にコ
ポリエステルカーボネート及び芳香族ポリカーボネート
の製造に有用であることが分っている二価フェノールを
包含する。使用し得る代表的な二価フェノールは、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノールＡ）； ２．４′−ジヒドロキシジフェニルメタン；ビス−（２
−ヒドロキシフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン；ビス−（４−ヒドロキシ−５−プ
ロピルフェニル）メタン； ビス−（４−ヒドロキシ−２，６−シメチルー３−メト
キシフェニル）メタン； １．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン； １．１−ビス（４−ヒドロキシ−２−エチルフェニル）
エタン； ２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン； ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタ
ン；及び ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ルプロパン である。
２個のフェノールの間に炭素原子を含むもの以外のビス
フェノールも使用し得る。ビスフェノールのその様な基
の例は、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス
（ヒドロキシフェニル）工−チル及びビス（ヒドロキシ
フェニル）スルホキシド等を包含する。
フェノールも使用し得る。ビスフェノールのその様な基
の例は、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス
（ヒドロキシフェニル）工−チル及びビス（ヒドロキシ
フェニル）スルホキシド等を包含する。
二価フェノールの好適な群は、
Ｒ。
（式中Ｒ１及びＲ２は同一か又は異なり、そして水素原
子又は１乃至６個の炭素原子を含むアルキルである） で示される。最も好適な二価フェノールは、ビスフェノ
ールＡである。
子又は１乃至６個の炭素原子を含むアルキルである） で示される。最も好適な二価フェノールは、ビスフェノ
ールＡである。
本発明に係わる前記コポリエステルカーボネートの製造
に使用される前記芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸
、イソフタル酸及びそれらの反応性Ｘ１体である。二価
フェノールのヒドロキシルと反応性であるカルボン酸誘
導体の何れをも使用することができる。反応及び入手の
容易性から、酸ハライドが通常使用される。酸クロリド
が好まし０゜ 前記ホスゲン前駆物質が、芳香族ポリカーボネ−４又は
コポリエステル−カーボネートの製造に使用される標準
的な前駆物質である。−膜内に、米国特許第４，２３８
．５９６号明細書に示されている様に、何れかのハロゲ
ン化カルボニルを使用することができる。
に使用される前記芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸
、イソフタル酸及びそれらの反応性Ｘ１体である。二価
フェノールのヒドロキシルと反応性であるカルボン酸誘
導体の何れをも使用することができる。反応及び入手の
容易性から、酸ハライドが通常使用される。酸クロリド
が好まし０゜ 前記ホスゲン前駆物質が、芳香族ポリカーボネ−４又は
コポリエステル−カーボネートの製造に使用される標準
的な前駆物質である。−膜内に、米国特許第４，２３８
．５９６号明細書に示されている様に、何れかのハロゲ
ン化カルボニルを使用することができる。
前記コポリエステル−カーボネート中のエステル含量重
量パーセントは、約７０乃至約９５、好ましくは約７５
乃至９０である。約９５・重量パーセントを超えるエス
テル含量では、前記コポリエステルカーボネートは通常
加工が困難となる。約７（ｌｆｆｉｆｆ上ント未満のエ
ステル含量では、前記コポリエステルカーボネートのＤ
ＴＵＬが通常所望する以下のものとなる。エステル含量
重量パーセントは、二価フェノールがビスフェノールＡ
である場合に次の様にして計算される。
量パーセントは、約７０乃至約９５、好ましくは約７５
乃至９０である。約９５・重量パーセントを超えるエス
テル含量では、前記コポリエステルカーボネートは通常
加工が困難となる。約７（ｌｆｆｉｆｆ上ント未満のエ
ステル含量では、前記コポリエステルカーボネートのＤ
ＴＵＬが通常所望する以下のものとなる。エステル含量
重量パーセントは、二価フェノールがビスフェノールＡ
である場合に次の様にして計算される。
エステルの重量％−
（エルテルのモル％）（３５ｇ） ＋ （カーボネート
のモル％）（２５４）エステルのモル％識 芳香族二酸のモル数 ×１００ 二価フェノールのモル数 ３５８は の分子量であり、２５４は の分子量である。
のモル％）（２５４）エステルのモル％識 芳香族二酸のモル数 ×１００ 二価フェノールのモル数 ３５８は の分子量であり、２５４は の分子量である。
前記コポリエステル−カーボネート中に存在するテレフ
タレート単位の量は、高度の応力き裂抵抗と同時に一貫
して高いノツチ付アイゾツト３゜２ｍｍ耐衝撃性を達成
する上で重要である。
タレート単位の量は、高度の応力き裂抵抗と同時に一貫
して高いノツチ付アイゾツト３゜２ｍｍ耐衝撃性を達成
する上で重要である。
テレフタレートが前記エステル含量の約２パーセント（
２％がテレフタレート、９８％がイソフタレート）未満
であると、前記コポリエステル−カーボネートは一般に
相次ぐ製造において一貫して高い３．２ｍｍ厚みでのノ
ツチ付アイゾツト耐衝撃性を与えない。また、製品のコ
ポリエステル−カーボネートが例えば塩化メチレン等の
製品の可溶化に使用される通常の有機溶剤中で結晶化度
を示す傾向がある。結晶化が起ると、コポリエステル−
カーボネートはかつては該物質を可溶化する能力を有し
た有機溶剤中で完全には可溶性でなくなる。約５パーセ
ント以上のテレフタレートを使用することが好ましい。
２％がテレフタレート、９８％がイソフタレート）未満
であると、前記コポリエステル−カーボネートは一般に
相次ぐ製造において一貫して高い３．２ｍｍ厚みでのノ
ツチ付アイゾツト耐衝撃性を与えない。また、製品のコ
ポリエステル−カーボネートが例えば塩化メチレン等の
製品の可溶化に使用される通常の有機溶剤中で結晶化度
を示す傾向がある。結晶化が起ると、コポリエステル−
カーボネートはかつては該物質を可溶化する能力を有し
た有機溶剤中で完全には可溶性でなくなる。約５パーセ
ント以上のテレフタレートを使用することが好ましい。
好適な前記コポリエステル−カーボネートは、２３℃で
２４時間水中に浸漬されたときに、多くとも約０，１９
重量パーセントの吸水率を有する。
２４時間水中に浸漬されたときに、多くとも約０，１９
重量パーセントの吸水率を有する。
約１５重量パーセントを超えるテレフタレートでは、前
記コポリエステル−カーボネートの応力き裂抵抗が低下
すると思われる。好適な上限は、テレフタレート約１０
パーセント以下である。
記コポリエステル−カーボネートの応力き裂抵抗が低下
すると思われる。好適な上限は、テレフタレート約１０
パーセント以下である。
共有押出物品は、前記コポリフタレート−カーボネート
とポリカーボネートの共存押出しによって成形される。
とポリカーボネートの共存押出しによって成形される。
共有押出の方法は、当該技術分野の熟達者にとって一般
的な方法である。前記コポリフタレート−カーボネート
の厚みは、好ましくは１乃至１０ミルであり、前記ポリ
カーボネートコアの厚みは、好ましくは１０乃至５００
ミルである。好ましくは、例えば共有押出物品は、次の
様な層の順序及び厚み即ち：ポリフタレート−ポリカー
ボネート（ＰＰＣ）１乃至１０ミル厚み／ポリカーボネ
ート（ＰＣ）１０乃至５００ミル厚み／ＰＰＣｌ乃至１
０ミル厚み：を有する様に、２層の外側のコポリフタレ
ート−カーボネートの層の間にポリカーボネートのコア
層を配置して有する。
的な方法である。前記コポリフタレート−カーボネート
の厚みは、好ましくは１乃至１０ミルであり、前記ポリ
カーボネートコアの厚みは、好ましくは１０乃至５００
ミルである。好ましくは、例えば共有押出物品は、次の
様な層の順序及び厚み即ち：ポリフタレート−ポリカー
ボネート（ＰＰＣ）１乃至１０ミル厚み／ポリカーボネ
ート（ＰＣ）１０乃至５００ミル厚み／ＰＰＣｌ乃至１
０ミル厚み：を有する様に、２層の外側のコポリフタレ
ート−カーボネートの層の間にポリカーボネートのコア
層を配置して有する。
好ましくは、共有押出物品は、又紫外線吸収剤に富むポ
リカーボネートの内層を含む。好適なこの吸収層は、該
吸収層の総重量を基準として約３乃至３０重量パーセン
ト、更に好ましくは約５乃至約１５重量パーセント、そ
して最も好ましくは約１０重量パーセントの紫外線吸収
剤を含む。好ましくは、例えば共有押出物品は、次の様
な層の順序及び厚み即ち＝１乃至１０ミル厚みのＰＰＣ
層／１乃至１０ミル厚みの紫外線吸収剤層／１０乃至５
００ミル厚みのＰＣ層／１乃至１０ミル厚みの紫外線吸
収剤層／１乃至１０ミル厚みのＰＰＣ層：を有する様に
、紫外線吸収剤層即ち吸収層が外側のＰＰＣ層と２０３
７層の間に配置されている。得られる紫外線吸収剤層を
有する共有押出物品は、吸湿による曇りと紫外線による
黄変の両方に対して優れた抵抗を示す。また、共有押出
物品の外層が揮発性の紫外線吸収剤を実質的に含まない
ことから、この物品は押出機仕上ロール及び押出機ダイ
リップの表面上への吸収剤のプレートアウトの問題に直
面することなく、有効な量の紫外線吸収剤を含み得る。
リカーボネートの内層を含む。好適なこの吸収層は、該
吸収層の総重量を基準として約３乃至３０重量パーセン
ト、更に好ましくは約５乃至約１５重量パーセント、そ
して最も好ましくは約１０重量パーセントの紫外線吸収
剤を含む。好ましくは、例えば共有押出物品は、次の様
な層の順序及び厚み即ち＝１乃至１０ミル厚みのＰＰＣ
層／１乃至１０ミル厚みの紫外線吸収剤層／１０乃至５
００ミル厚みのＰＣ層／１乃至１０ミル厚みの紫外線吸
収剤層／１乃至１０ミル厚みのＰＰＣ層：を有する様に
、紫外線吸収剤層即ち吸収層が外側のＰＰＣ層と２０３
７層の間に配置されている。得られる紫外線吸収剤層を
有する共有押出物品は、吸湿による曇りと紫外線による
黄変の両方に対して優れた抵抗を示す。また、共有押出
物品の外層が揮発性の紫外線吸収剤を実質的に含まない
ことから、この物品は押出機仕上ロール及び押出機ダイ
リップの表面上への吸収剤のプレートアウトの問題に直
面することなく、有効な量の紫外線吸収剤を含み得る。
吸収剤のプレートアウトの問題は、樹脂中にかかる吸収
剤を混合した単層物品を製造する多くの押出法において
経験され、プレートアウトによる不完全なローラー表面
及びダイリップに起因して表面特性及び光学的品質に劣
る最終物品をもたらす。
剤を混合した単層物品を製造する多くの押出法において
経験され、プレートアウトによる不完全なローラー表面
及びダイリップに起因して表面特性及び光学的品質に劣
る最終物品をもたらす。
ベンゾフェノン誘導体及びベンゾトリアゾール誘導体に
属する適切な紫外線吸収剤は、米国特許第４，５５６．
６０６号、同３，３０９，２２０号、同３，０４９，４
４３号、同３． ０４３． ７０９号、同３，２１４，
４３６号及び同２，９７６．２５６号並びに米国再発行
特許節２，９７６号の各明細書に開示された化合物であ
る。これらの吸収剤は、前記紫外線吸収剤に富む内層の
押出の前にポリカーボネート樹脂中にブレンドすること
ができる。
属する適切な紫外線吸収剤は、米国特許第４，５５６．
６０６号、同３，３０９，２２０号、同３，０４９，４
４３号、同３． ０４３． ７０９号、同３，２１４，
４３６号及び同２，９７６．２５６号並びに米国再発行
特許節２，９７６号の各明細書に開示された化合物であ
る。これらの吸収剤は、前記紫外線吸収剤に富む内層の
押出の前にポリカーボネート樹脂中にブレンドすること
ができる。
本発明の共有押出物品に紫外線から保護するために、メ
タクリル酸メチル紫外線保護外側コーティングを塗布す
ることができる。適切なコーティングが、カリ−の米国
特許第４．６６６．７７９号明細書に示されている。
タクリル酸メチル紫外線保護外側コーティングを塗布す
ることができる。適切なコーティングが、カリ−の米国
特許第４．６６６．７７９号明細書に示されている。
Claims (14)
- （１）（ａ）芳香族ポリカーボネートコア層及び （ｂ）該コア層に接着された耐湿性ポリ フタレートカーボネート層 から成る共有押出しされた物品。
- （２）コア層が１０乃至５００ミルの厚みを有し、そし
てポリフタレート−カーボネート層が１乃至１０ミルの
厚みを有する請求項１記載の物品。 - （３）ポリフタレート−カーボネート層が二価フェノー
ル、カーボネート前駆物質、テレフタル酸もしくはその
エステル形成性誘導体、イソフタル酸もしくはそのエス
テル形成性誘導体から製造されるポリフタレート−カー
ボネート樹脂から成り、該コポリフタレート−カーボネ
ート樹脂が約７０乃至約９５重量パーセントのエステル
含量を有し、該エステル含量の約２乃至約１５重量パー
セントがテレフタレートであり約８５乃至９８重量パー
セントがイソフタレートである請求項２記載の物品。 - （４）コア層が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）プロパンから誘導される芳香族ポリカーボネート樹脂
から成る請求項３記載の物品。 - （５）（ａ）芳香族ポリカーボネートコア層及び （ｂ）２層の該コア層に接着されている ２つの耐湿性ポリフタレート−カーボネート層から成り
、前記コア層が前記２つのポリフタレート−カーボネー
ト層の間に配置されている共有押出しされた物品。 - （６）コア層が１０乃至５００ミルの厚みを有し、そし
てポリフタレート−カーボネート層が約１乃至１０ミル
の厚みを有する請求項５記載の共有押出しされた物品。 - （７）ポリフタレート−カーボネート層が二価フェノー
ル、カーボネート前駆物質、テレフタル酸もしくはその
エステル形成性誘導体、イソフタル酸もしくはそのエス
テル形成性誘導体から製造されるポリフタレート−カー
ボネート樹脂から成り、該コポリフタレート−カーボネ
ート樹脂が約７０乃至約９５重量パーセントのエステル
含量を有し、該エステル含量の約２乃至約１５重量パー
セントがテレフタレートであり約８５乃至９８重量パー
セントがイソフタレートである請求項６記載の物品。 - （８）コア層が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）プロパンから誘導されるポリカーボネート樹脂から成
る請求項７記載の物品。 - （９）（ａ）厚み１０ミル乃至５００ミルの芳香族ポリ
カーボネートコア層、 （ｂ）芳香族ポリカーボネート樹脂と吸 収層の総重量を基準として約３乃至約３０重量パーセン
トの量の紫外線吸収剤から成り、夫々が約１乃至１０ミ
ルの厚みを有する一対の紫外線吸収層及び （ｃ）夫々が約１乃至１０ミルの厚みを 有する一対の耐湿性ポリフタレート−カーボネート層 から成り、前記コア層が前記吸収層の間に配置されてお
り、前記吸収層が前記コア層に接着されており、前記一
対の吸収層が前記一対のポリフタレート−カーボネート
層の間に配置されており、そして夫々の前記ポリフタレ
ート−カーボネート層が夫々の吸収層に接着されている
共有押出しされた物品。 - （１０）ポリフタレート−カーボネート層が二価フェノ
ール、カーボネート前駆物質、テレフタル酸もしくはそ
のエステル形成性誘導体、イソフタル酸もしくはそのエ
ステル形成性誘導体から製造されるポリフタレート−カ
ーボネート樹脂から成り、該コポリフタレート−カーボ
ネート樹脂が約７０乃至約９５重量パーセントのエステ
ル含量を有し、該エステル含量の約２乃至約１５重量パ
ーセントがテレフタレートであり約８５乃至９８重量パ
ーセントがイソフタレートである請求項９記載の物品。 - （１１）吸収層が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンから誘導されるポリカーボネート樹脂から
成り、該ポリカーボネート樹脂が吸収層の約９３乃至９
７重量パーセントの量で存在し、紫外線吸収剤がベンゾ
フェノン、ベンゾフェノンの誘導体、ベンゾトリアゾー
ル及びベンゾトリアゾールの誘導体から成る群から選ば
れる請求項１０記載の物品。 - （１２）耐湿性ポリフタレート−カーボネート層が２３
℃、２４時間で多くとも約０．１９重量パーセントの吸
水率を有する請求項５記載の物品。 - （１３）耐湿性ポリフタレート−カーボネート層が２３
℃、２４時間で多くとも約０．１６重量パーセントの吸
水率を有する請求項１２記載の物品。 - （１４）耐湿性ポリフタレート−カーボネート層が２３
℃、２４時間で多くとも約０．１９重量パーセントの吸
水率を有する請求項９記載の物品。
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