JPH0256727A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は表面性に優れ、かつ磁気記録再生特性に優れた
磁気記録媒体に関する。

（従来の技術） 従来から高記録密度な薄膜型の磁気記録媒体として、ガ
ラスやアルミニウム等の非磁性材料の表面にＮｉＰの無
電解メツキを施すとともに、円周方向にテクスチャリン
グ処理を施して形成された基！８（ベース）の表面にＣ
ｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属材料にて磁性層（磁性薄膜
）を設けた磁気ディスクが一般的に知られている。

そして、このような磁気記録媒体においては、その円周
方向に磁気異方性を有しており、そのように円周配向し
た磁気記録媒体は配向の方向と磁気ヘッドの相対走行方
向が一致するために記録再生特性において有利になるこ
とが一般的に知られている。

（発明が解決すべき課題） ところで、従来の磁気ディスクにおけるテクスチャリン
グ処理は、粒径が１μｍ〜２μｍ程度の微小塗粒を含む
研磨材を用いてＷ盤の表面に溝状の傷（引掻き傷）を付
けることにより行われていた。

しかしながら、このような研磨材を用いてのテクスチャ
リング処理を行うと、第３図に示すように満１の両端に
バリ２が形成されたり、削り残しによる突起部３がどう
しても生じてしまう。

ここで、近年のハードディスクドライブ装置における磁
気ヘッドの浮上量は、＠置の高記録密度化に伴い益々小
さくなってきている。

そして、このように磁気ヘッドの浮上量が小さくなると
、上述のようなバリ２や突起部３がヘッドクラッシュ等
の大きな原因となってしまう。

また、従来のような研磨材を用いてのテクスチャリング
処理にて形成された溝１は途中で切れたり、あるいは途
中で溝と満とが交差してしまい規則正しい同心円状のパ
ターンを形成することはできず、磁気記録再生特性に悪
影響を与えていることが分ってきた。

（課題を解決するための手段） 本発明は゛上述のような実状に鑑みてなされたものであ
り、表面性及び磁気記録再生特性に優れた磁気記録媒体
を提供することを目的とする。

そして、本発明はこの目的を達成するために、非磁性材
料にて形成された基盤の表面に磁性材料にて磁性層を形
成して成る磁気記録媒体であって、 上記基盤の表面にドライエツチング法にて同心円状の複
数の溝を所定の微小ピッチで形成したことを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。

（実施例） 以下、本発明に係る磁気記録媒体の好適な実施例を第１
図及び第２図を用いて詳細に説明する。

第１図は本実施例に係る磁気ディスクの断面図を示すも
のであり、この磁気ディスクは非磁性材料にて形成され
た基盤５の表面に成膜された非磁性のクロム層６ａの表
面に所定の幅及び深さの複数の溝７を所定の微小ピッチ
で同心円状に形成し、このクロムｙＡ６ａの表面に再度
他のクロム層６ｂを形成した後、その表面に強磁性金属
薄膜材製の磁性層「及びカーボン製の保護膜９を順次成
膜して構成されている。

上記基盤５としては、例えばアルミニウム等の非磁性金
属材料やガラス、磁器等のセラミック材料、あるいはポ
リ塩化ビニル、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド
等の高分子材料等々の周知の材料にて形成された円盤を
用いることができる。

また、上記磁性層８を形成する強磁性金属薄膜材料とし
ては、例えばコバルト、ニッケル、鉄の１種以上の合金
、またはこれら金属とタンタル、チタン、マンガン、ク
ロム、リン、イツトリウム、サマリウム、ビスマス等と
の合金を用いることができ、この磁性層８はスパッタ法
、蒸着法、イオンブレーティング法、メツキ法等の周知
な方法で成膜することができる。

以下、具体的な例を挙げて本発明を説明する。

（実施例） この磁気ディスクはガラスにて形成された円盤状の基盤
５の表面に成膜された非磁性のクロム層６の表面に幅０
．５μｍ、深さ０．０５μｍの複数の溝７を１μｍのピ
ッチで同心円状に形成し、その表面にＣｏＣｒＴａ合金
製の磁性層８及びカーボン製の保護膜９を順次成膜して
構成されている。

そして、この磁気ディスクを作るには、まず第２図（Ａ
）に示すように、上記基盤５の表面にクロム層６ａを０
．２μ量の厚さで成膜する。

次に、第２図（Ｂ）に示すように上記クロム層６ａの表
面にレジスト膜１０を塗布し、さらにこのレジストＩｌ
！１０の表面からレーデ光を照射して現像し、不要な部
分のレジスト膜を除去して第２図（Ｃ）に示１ように上
記溝７を形成するための幅が０５μｍの同心円状の複数
のパターンを１μｍのピッチで形成する。

その俊、ドライエツチングにより第２図（Ｄ）に示すよ
うに深さが００５μｍとなるように上記溝７を形成し、
さらに第２図（Ｅ）に示すように残ったレジスト膜１０
を除去する。

これにより、基盤５の表面には幅０５μｍ、深さ０．０
５μｍの複数の溝７が１μｍのピッチで同心円状に形成
されることになる。

そして、このように満７が形成された基盤５の表面に第
２図（Ｆ）に示すように再度他のクロム層６ｂを０．０
５μｍの厚さに形成し、ざらに第２図（Ｇ）に示すよう
にＣｏＣｒＴａ合金製の上記磁性層８をスパッタ法にて
０．０６μｍの厚さに成膜し、さらにこの磁性層８の表
面には第２図（Ｈ）に示すように上記保護！ｌ！ａ９が
スパッタ法にて０．０４μｍの厚さに形成される。

（比較例） 従来から一般的に知られているテクスチャリング処理が
施されたアルミニウム製の基盤の表面にＮｉＰの無電解
メツキを施した後に、その表面にＣｏＣｒＴａ合金製の
磁性層及びカーボン１の保護膜を順次スパッタ法にて成
膜した磁気ディスクを作製した。

上記各磁気ディスクについて、静磁気特性として保持力
１−（Ｃ，角形比Ｒ３，保持力角形比Ｓを各々測定して
表１に示す。

ドの浮上ｍと略等しい０．１８μｍ以上の突起部の数を
カウントして表２に示す。

表２ 表１ また、上記各磁気ディスクについて、磁気ヘラ上２表１
から明らかなように、実施例の磁気ディスクは比較例の
磁気ディスクに比して角形比Ｒ３，及び保持力角形比Ｓ
のいずれの値も大きくなっており、その１ｒＩＩ磁気特
性が向上している。

また、上記表２から明らかなように、実施例め磁気ディ
スクは比較例の磁気ディスクに比してヘッドクラッシュ
等の原因となるような突起部の数が大幅に少なくなって
いる。

にって、これらの結果から明らかなように、本実施例の
磁気ディスクは比較例の磁気ディスクに比して表面性及
び静磁気特性が向上するため、磁気記録再生特性の向上
を図ることができる。

ところで、上記実施例においては、基盤５の表面に溝７
を形成するためにクロム層６を形成し、このクロム層６
を介して満７を形成したが、基盤５の表面に直接溝７を
形成するようにしてもよいことは当然である。

また、実験の結果、上記Ｗ４７の幅は５μｍ以下ならば
上記実施例と同様な効果が得られ、それ以上になると磁
気ヘッドの吸着現象が生じて好ましくないことが判明し
た。

さらに、上記溝７の深さは０．０３μｍ以上が好ましく
、それ以下であると磁性層８や保護膜９のために溝によ
る凹凸がなくなってしまうことが判明した。

（発明の効果） 上述の説明から明らかなように、本発明によれば、複数
の溝をドライエツチング法によって基盤の表面に形成す
ることにより、規則正しい同心円状の複数の溝を微小ピ
ッチで形成することができるとともに、従来のテクスチ
ャリング処理のようなパリや削り残しがほとんど生じな
い。

これによって、本発明によればこの種磁気記録媒体の表
面性及び磁気記録再生特性を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気記録媒体の実施例を示す断面
図、第２図（Ａ）〜（Ｈ）は本実施例に係る磁気ディス
クの製造方法を示す工程図、第３図は従来の磁気記録媒
体における基盤の要部拡大断面図である。 ５・・・基盤、７・・・溝、８・・・磁性層。 特許出願人　　日本ビクター株式会社 代表者　垣木　邦夫

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 非磁性材料にて形成された基盤の表面に磁性材料にて磁
   性層を形成して成る磁気記録媒体であって、 上記基盤の表面にドライエッチング法にて同心円状の複
   数の溝を所定の微小ピッチで形成したことを特徴とする
   磁気記録媒体。