JPH0238340A

JPH0238340A - ボンディングガラス及び磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0238340A
Application number: JP13448088A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Shimada; 哲夫島田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1988-03-29
Filing date: 1988-06-02
Publication date: 1990-02-07
Anticipated expiration: 2012-06-25
Also published as: JP2623694B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、磁気コア等をガラス融着するためのボンディ
ングガラスに関するものであり、特に低次の融着ガラス
として好適なボンディングガラスに関する。

さらに本発明は、ボンディングガラスにより接合一体化
される磁気ヘッドに関する。

〔発明の概要〕

本発明は、ボンディングガラスをＳ　ｉ　Ｏｚ＋　Ｂｔ
ｕｓ。

ＮａｔＯ及び／又はに！Ｏ，Ｆｅ−０ｓ及びＺｎＯを主
体とする組成物とし、その組成範囲を規定することによ
り、ｓ　ｏ　ｏ　”ｃ以上のガラス転移点を維持しつつ
融着温度の引き下げを図ろうとするものである。

さらに本発明は、酸化物磁性材料や金属磁性薄膜等より
なる磁気コア同士の接合に前述のボンディングガラスを
使用することで、高信顛性を有する磁気ヘッドを提供し
ようとするものである。

〔従来の技術〕

一般に磁気ヘッドは、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物
磁性材料よりなる磁気コア同士、あるいはこれら酸化物
磁性材料と金属磁性薄膜が複合化された磁気コア同士等
をボンディングガラスを用いて接合一体化することによ
り構成される。したがって、例えば磁気ヘッドの作動ギ
ャップ部は、ガラスを融点以上の作業高温まで加熱・溶
融し、磁気コアの間に流し込んだ後冷却して、これら磁
気コア間にガラスを融着させることによって構成される
。また、フロッピーディスク駆動装置やハードディスク
駆動装置では、一体化された磁気コアにさらにスライダ
と称される非磁性部材がガラスにより接合一体化された
磁気ヘッドや、前記磁気コアが当該スライダ中にガラス
融着により埋め込まれた磁気ヘッドが使用される。

このように、通常の磁気ヘッドではガラス融着は必須の
要素となっているが、これら磁気ヘッドにおいては、融
着に使用するボンディングガラスの特性がその信頼性に
大きく影響する。

例えば、ガラス融着を２度行うような磁気ヘッドにおい
て、２度目の融着を行う際に１度目に融着したガラスが
溶は始めてはならない、ハードディスク用のいわゆるコ
ンポジットタイプの磁気ヘッドの作製を例に挙げて説明
すると、かかる磁気ヘッドを作製するには、先ず磁気コ
アを所定のギャップ長となるように高融点ガラスで融着
（１次融着）する０次いで、この１次融着された磁気コ
アをスライダー材（例えばチタン酸カルシウム等よりな
る。）に設けられた溝部に嵌合し、低融点ガラスで融着
（２次融着）して固定する。この２次融着の際に、１火
遊着ガラスが溶は出してギャップ長やトラック幅等がず
れると、得られる磁気ヘッドの信頼性は大きく低下する
ことになる。

そのため、特に１火遊着ガラスは、２次融着以降の融着
温度よりも高いガラス転移点を存することが必要である
。

〔発明が解決しようとする課題〕

一般に、２次融着ガラスには、最低限の信頼性（耐湿、
硬度等）を確保するために、融着温度が５００　’Ｃ以
上のものを使用している。したがって、１火遊着ガラス
としてはガラス転移点が５００　’Ｃ以上のものを使用
する必要があるが、そのようなガラスは通常融着温度が
８００°Ｃ以上になる。

このように融着温度の高いガラスを１次融着に使用する
と、当該融着時に金属磁性薄膜や酸化物磁性材料（フェ
ライト）の磁気特性が劣化したり、融着治具の寿命が著
しく短縮される等の問題が生ずる。

さらに、このようなガラスを作製するには、例えば１３
００〜１５００°Ｃ程度の高温溶融並びに１０００〜１
２００　’Ｃ程度の線引時保温が必要となるが、これら
溶融や保温に使用される炉は、高温にさらされることか
ら劣化が激しく、頻繁にメンテナンスが要求され、同時
に電力使用量も多くなる。

また、フェライトよりなる磁気コアをガラス接合した際
に、作動ギャップ突き合わせ部並びにその周辺部でフェ
ライト界面の乱れがしばしば観察される。これは、ボン
ディングガラスがフェライトを侵食したり、逆にフェラ
イトがボンディングガラス中に拡散したりするためであ
り、特に融着温度が高いほど顕著に現れる。

かかる侵食拡散反応が起こると、反応の程度が大きいと
きには磁気ヘッドの電磁変換特性が大幅に劣化し、反応
の程度が小さくとも例えば画像処理によるギャップ長自
動測長機でギャップ長を正確に読み取ることが困難とな
る。

このように、従来知られている高ガラス転移点を有する
ボンディングガラスでは融着温度や酸化？Ｉ磁性材料に
対する侵食拡散反応等の点で問題が多く、その改善が待
たれていた。

そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、５００°Ｃ以上のガラス転移点を有する
にもかかわらず低融着温度、低溶融温度を有し、しかも
侵食拡散反応の少ないボンディングガラスを提供するこ
とを目的とする。

さらに本発明は、金属磁性薄膜や酸化物磁性材料の有す
る能力を充分に発揮せしめることができ、またギャップ
長やトラック幅のずれ等の無い高信頼性を有する磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者等は、少なくともガラス転移点さえ越えなけれ
ばガラスは溶は始めないという点に着目し、ガラス転移
点を上昇させながら、ガラス転移点を越えるとガラスの
粘性が急激に低下し直ぐに溶は始める融着し易いガラス
の開発に全力を傾けた。

その結果、Ｓｉｎｇの割合を極力抑え、ガラス転移点を
上昇させる性質のあるＢｚＯｓをできるだけ多くし、ガ
ラスの粘性を低下させるＮａｘＯを適量含有させること
により従来の欠点を改善することができ、適量のＦｅｚ
ｅｓ並びにＺｎＯを含有させることで侵食拡散反応を防
止することができるとの知見を得るに至った。

本発明はかかる知見に基づいて完成されたもので、５ｉ
Ｏｚａ重量％、５ｚｏｓ　　ｂ重ｆｆｉ％、ＮａｚＯ及
び／又はＫｘＯｃ重量％、ＰｂＯｄ重世％。

ＢａＯｅ重量％、Ｆｅｚｅｓ及びＺｎＯｆ重量％よりな
り、その組成範囲が３９≦ａ≦６０１０≦ｂ≦２５１２≦ｃ≦２００≦ｄ≦８０≦ｅ≦１５１４≦ｆ≦２５であることを特徴とするものである。

また、本発明の磁気ヘッドは、前述のボンディングガラ
スを磁気コア同士の接合に用いたものである。

上記組成を有するボンディングガラスの成分中、Ｓｉｎ
ｇはガラス転移点、屈服点を上昇させガラス粘度（した
がって融着温度）も上昇させるものであるが、ガラスの
信頼性（耐水性、耐腐食性）を向上し、ガラス化範囲を
広げるという役割も果たす。

したがって、融着温度を低くするという目的からはなる
べく少ない方が良いが、ガラス転移点。

信頼性の確保という点から自ずと最適範囲がある。

本発明では、Ｓｉｎｇの含有量ａを３９〜６０重量％と
する。

前記Ｓｉｎｇの含有量ａが３９重量％未満であると、ガ
ラス転移点が５００°Ｃ未満になり、信頼性も低下する
。逆にＳｔｏｗ含有量ａが６０！！ｆｉｔ％を越えると
、ガラスの溶融温度が１３００°Ｃを越えてしまう。

Ｂ２０．は、ガラス転移点を上昇させるが、ガラスの粘
度を低下させ融着温度を低下させるものである。したが
って、溶融温度も低下させる。また、このＢ２０．は、
ガラス化範囲は広げるが、ガラスの信頼性は低下させる
傾向にある。

かかるＢ２０．の含有１ｂは、１０重置％以上は必要で
ある。当該含有量すが１０重量％未満であると、ガラス
転移点を５００℃以上に保たせたまま融着温度を８００
°Ｃ以下にすることが困難である。ただし、Ｂ２０．の
含有ｉｂが２５重世％を越えてもこれ以上ガラス転移点
を上昇させることができなくなる（Ｂｔｕ、によるガラ
ス転移点の増加が飽和する）ので、ガラス信頼性等の観
点からも２５重量％以下に抑えることが好ましい。

ＮａｚＯは、得られるガラスの熱膨張係数を大幅に上昇
させ融着・溶融温度を下げる成分であるが、大量に含有
するとガラスの信頼性を下げることになる。しかもガラ
ス化範囲を逸脱し易くなり、線引が難しくなる。

したがって、ここではその含有ｉ１ｃを１２〜２０重量
％とする。前記含有ｉ１ｃが１２重量％未満であると、
熱膨張係数を９０Ｘ１０−７°ｃ−１以上に保つことが
難しくなり、溶融温度も１３００°Ｃを越えてしまう、
逆に、ＮａｚＯの含有１ｉｃが２０重量％を越えると、
ガラス転移点を５００　’Ｃ以上に保たせることが難し
くなり、さらには金属磁性薄膜、酸化物磁性材料との侵
食反応を防止することが困難になる。

なお、上記Ｎａ、Ｏの一部もしくは全部をに２Ｏで置換
してもよい。

また、Ｐｂｏはガラスを低融点化する代表的な元素であ
り、必要に応じて８重量％以下の範囲で添加してもよい
、ただし、ＰｂＯの含有量が８重量％を越えると、ガラ
ス転移点５００°Ｃ以上を確保することが難しくなる。

ＢａＯは熱膨張係数を下げずにガラス転移点を上昇させ
る。すなわち、前述のＳｉｎｇやＢｉａｓが熱膨張係数
を下げながらガラス転移点を増加させるのに対して、Ｂ
ａＯは熱膨張係数の下げ幅が小さい、ただし、融着・溶
融温度は上昇させる。

したがって、前記熱膨張係数、ガラス転移点等を考慮し
て、１５重量％以下の割合で添加すればよい。ＢａＯの
割合が１５ｆｆｉｆｉｔ％を越えるとガラスの溶融温度
が１３００°Ｃを越え、同時に析出物が発生し易くなる
。

ＦｅｚｅｓならびにＺｎＯは、フェライトや金属薄膜と
ガラスとの反応を防止するための成分であり、これらＦ
ｅｔｄｓとＺｎＯの合計量が１４重量％未満であると、
拡散を抑制しきれずにガラス中へのフェライト、金属の
拡散あるいはフェライト中へのガラスの侵食が発生する
。この結果、ガラスが変質して割れたり、作動ギャップ
の縁（フェライトとガラスの界面）が乱れてギャップ長
が制御できなくなる等の虞れがある。逆にこれらの合計
量が２５重量％を越えると、ガラス中にこれら成分が析
出し易くなる。これらの析出物は、作動ギャップを構成
するフェライトの周辺に多く発生し、ギャップ長が実際
よりも短く見えたり、シャープなエツジでなくなる等、
加工に当たって支障をきたす、また、前記析出物は磁気
ヘッドの偏摩耗やドロップアウト等の原因となる虞れも
ある。

したがって、これらの合計１ｒは、１４重量％≦ｆ≦２
５重量％とする。なお、前記合計量ｒが２２重量部を越
えても磁気ヘッドのボンディングガラスとしては充分使
えるが、若干これら成分の析出が見られるので、前記合
計Ｊｉ［は２２重量％以下であることがより好ましい。

なお、ＦｅｚｅｓとＺｎＯの比率であるが、重量比で４
０：６０〜７０：３０とすることが好ましい。Ｆｅ、Ｏ
，の比率が４０未満であると、反応防止の効果がほとん
ど期待できない、逆にＦｅ、Ｏ。

の比率が７０を越えると、磁気ヘッドに使用されるフェ
ライトとＦｅｚｅｓ成分の割合が同等以上になるので、
もしこのＦｅｚＯ１とＺｎＯとがガラス中に析出した場
合に磁性を持つ成分となる可能性があり、擬似ギャップ
を形成する虞れがある。

上述の組成を有するボンディングガラスは、ガラス転移
点（熱膨張係数が変化する温度）５００〜５６０°Ｃ１
屈服点（それ以上温度を上げると冷却してもガラス形状
が復帰しない温度）５４０〜６１０℃、融着温度（作業
温度、流し方により異なる。）６５０〜８００°Ｃ１溶
融温度（作製温度）１２００〜１３００℃であり、Ｎａ
、Ｏ及びＫ　ｚ　Ｏの含有量を増減することにより、熱
膨張係数（本明細書中に記載される熱膨張係数はいずれ
も１００〜４５０°Ｃでの値である。）は９０Ｘ１０−
’〜１１０　Ｘ　１０−’　（”Ｃ”）に設定される。

一方、本発明の磁気ヘッドは、前述のボンディングガラ
スにより磁気コア同士を接合してなるものであるが、こ
こで磁気コア同士の接合とは、例えば閉磁路を構成する
一対の磁気コア同士の突き合わせや、フロッピーディス
ク用磁気ヘッドのように記録再生ヘッド部と消去ヘッド
部の固着等である。後者の場合、間に磁性材、非磁性材
よりなるセンターコアが介在するものであってもよい。

特に、磁気コアの両側にガード材が接合されるフロッピ
ーディスク用磁気ヘッドや、磁気コアがスライダ部材中
に埋め込まれるハードディスク用・磁気へラド等の場合
に、前記ボンディングガラスを磁気コア同士を接合する
１火遊着ガラスに使用すれば、当該ガラスのガラス転移
点が高いことがら、２次融着以降の融着時に前記１火遊
着ガラスが溶は出す心配がなく好適である。

なお、磁気コアはフェライト等の酸化物磁性材料単体よ
りなるものであってもよいし、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金等
の金属磁性材料と酸化物磁性材料。

非磁性酸化物材料との複合体よりなるものであってもよ
い、また、接合に使用したボンディングガラスをギャッ
プスペーサとして利用してもよいし、予め５ｉＯｚ等の
ギャップスペーサを磁気コアの接合面に被着形成してお
き、前記ボンディングガラスを単なる機械的結合にのみ
利用するようにしてもよい。

〔作用］本発明のボンディングガラスにおいては、ＳｉＯ□の割
合を抑え、ガラス転移−点を上昇させガラスの粘度を低
下させる性質のあるＢ２０．の割合を多くしているので
、ガラス転移点が高いにも拘わらず、ガラス転移点を越
えるとガラスの粘性が急激に低下しくいわゆるシッート
になる。）、直ぐに溶は始める融着し易いガラスとなる
。

また、ＦｅｚＯ１ならびにＺｎＯを含有させることで被
着物（磁気コア）との拡散侵食が防止され、さらにＮａ
、Ｏの含有量を調整することで熱膨張係数がコントロー
ルされる。

かかるボンディングガラスを酸化物磁性材料。

金属磁性薄膜等よりなる磁気コア同士の接合に使用する
ことで、接合の機械的強度や信転性が確保され、融着に
よる磁気特性の劣化も抑制される。

特に、フローピーディスク用磁気ヘッドやハードディス
ク用磁気ヘッド等のように複数回のガラス融着工程が行
われるような磁気ヘッドにおいて、低次の融着工程（例
えば２火遊着工程まである場合に１火遊着工程、３次融
着工程まである場合に２火遊着工程あるいは１火遊着工
程）で前記ボンディングガラスを使用すれば、後のガラ
ス融着工程によってガラスが溶は出す虞れはなく、ギャ
ップ長やトラック幅等のずれが発生することはない。

また、同時に酸化物磁性材料とガラスとの界面の乱れや
侵食が抑制され、電磁変換特性が確保されるとともに、
自動ギャップ長測長機等でもギャップ長が正確に把握さ
れる。

〔実施例〕

以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。

先ず、ＳｉＯｚ＋　　Ｂ　ｔｏ　３１　Ｎ　ａ　ｚｏ　
＋　　Ｐ　ｂ　Ｏ＋Ｂ　ａ　Ｏ，−Ｆ　ｅ　！０３及び
ＺｎＯを第１表に示す割合で混合し、ボンディングガラ
ス（試料１〜試料８）を作製した。

第１表得られた各ボンディングガラス（試料１〜試料８）につ
いて、熱膨張係数（１００〜４５０°Ｃ）及びガラス転
移点を測定した。結果を第２表に示す。

第２表第２表より、いずれの試料もガラス転移点が５００”Ｃ
以上となっていることがわかる。

そこで次に、これらボンディングガラスのうち、試料１
．試料３．試料４について融着温度ならびに溶融温度を
調べた。

融着温度は融着方式や被着物形状、融着雰囲気等によっ
て異なるが、ここでは通常の磁気ヘッドの流し込み方式
による温度とした。すなわち、幅約１５０μｍ、深さ約
１２０Ｉｍのトラック幅規制溝を２０μｍ間隔で設け、
さらにガラス溝ならびに巻線溝を設けた幅４０ｍのフェ
ライトブロックを用意し、これをトラック幅規制溝のみ
設けたフェライトブロックとギヤツブ長約０．５μｍで
突き合わせ、前記ガラス溝にのみガラス棒を入れ、約２
０°傾けて加熱した時に前記各溝を全てガラスが満たす
ための温度を融着温度と決めた。なお、融着に際しての
雰囲気は窒素１００％とし、ガラス溝からフェライトブ
ロック先端までの距Ｍ（ガラスを流す距離）は約３閣と
した。

結果を第１図ならびに第２図に示す、ここで、比較のた
めに従来の磁気ヘッドで使用されているボンディングガ
ラスについても比較例として融着温度、溶融温度を測定
した。比較例として使用されているボンディングガラス
の組成は第３表の通りであり、そのガラス転移点。

表の通りである。

熱膨張係数は第４（以下余白）第４表第１図は各ガラスの融着温度を縦軸にとり、ガラス転移
点を横軸にとったものである。第２図は各ガラスの溶融
温度を縦軸にとり、ガラス転移点を横軸にとったもので
ある。

先ず、比較例の各ガラスであるが、これらはそれぞれハ
ードディスク用磁気ヘッドの１火遊着ガラス、ビデオテ
ープレコーダ用磁気ヘッドの融着ガラス、いわゆるメタ
ルヘッドの融着ガラスであって、第１図、第２図のいず
れの場合にもある直線上に載っている。すなわち、ガラ
ス転移点が高ければ融着温度、溶融温度のいずれもが高
くなる１頃向にあり、特にガラス転移点５００°Ｃ以上
では融着温度８００　’Ｃ以上、溶融温度１３００°Ｃ
以上となっている。

これに対して、本発明を適用した各試料は前記直線から
大きく外れており、融着温度、溶融温度のいずれもが同
じガラス転移点の従来のガラスに比べて大幅に低くなっ
ていることが確認された。

勿論、これら第１図、第２図に示されたちの以外の試料
（試料２並びに試料５〜試料８）についても、融着温度
７５０　’Ｃ前後、溶融温度１３００℃以下であること
を確認した。

そこで次に、前述のボンディングガラスを使用してハー
ドディスク用磁気ヘッドを作製した。

ハードディスク用磁気ヘッドは、第３図及び第４図に示
すように、一対の磁気コア（１）　、　（２）を接合一
体化した磁気ヘッド部がスライダ部材（３）中に埋め込
まれてなるものである。

磁気ヘッド部は、第５図に示すように、一方の磁気コア
（１）が金属磁性薄膜（１ａ）とフェライトコア部（１
ｂ）とからなり、他方の磁気コアがフェライト単体より
なる。いわゆるメタル・イン・ギャップタイプの構成を
採っている。

なお、ここではこれら磁気コア（１）　、　（２）の接
合界面にＳｉｎ、膜がギャップ材（４）として被着形成
されており、ボンディングガラス（５）は磁気コア（１
）　、　（２）の機械的結合のみを図るようになづてい
る。

ボンディングガラス（５）には、先の試料のうち試料２
〜試料４を使用した。

上述の磁気ヘッド部は、当該磁気ヘッド部の形状に対応
して切欠きが設けられたスライダ部材（３）中に嵌合さ
れている。そして、磁気ヘッド部は、トラック幅を規制
するために磁気記録媒体摺接面近傍が媒体走行方向に沿
って削り取られ、この段差部にガラス（６）が流し込ま
れるとともに、当該埋め込み部分は研磨され、磁気記録
媒体摺接面がスライダ部材（３）の摺接面（３ａ）と面
一とされている０作動ギャップｇは、この磁気記録媒体
摺接面に露呈する。

以上の構成の磁気ヘッドでは、磁気コア（１）　、　（
２）を接合するボンディングガラス（５）が１人助着ガ
ラス、スライダ部材（３）に嵌合した時に段差部に流し
込まれるガラス（６）が２火遊着ガラスということにな
る。

ここで、ボンディングガラス（５）はガラス転移点が高
いにも拘わらず融着温度が低いものであるので、高信頼
性を有するばかりでなく、特に金属磁性薄膜（１ａ）の
有する磁気特性が劣化することなく、その能力が最大限
に発揮されるものとなっている。

また、かかるハードディスク用磁気ヘッドでは、１人助
着ガラスであるボンディングガラス（５）のガラス転移
点が２火遊着ガラスであるガラス（６）の融着温度より
も高いことが必要であるが、いずれの試料を使用した場
合にも当該ボンディングガラス（５）のガラス転移点が
５００　’Ｃ以上とされているので、２火遊着ガラスで
あるガラス（６）の材料の選択の幅が広がり、２火遊着
の際にボンディングガラス（５）が溶は出すこともなか
った。

一方、作動ギヤ７１５周辺の磁気コア（１）　、　（２
）を光学顕微鏡で観察したが、フェライトとガラスの反
応による界面の乱れや侵食はほとんど見出されなかった
。

そこで、次に磁気ヘッド部を第６図に示すようにいわゆ
るコンポジットフェライトヘッドに変え、同様にハード
ディスク用磁気ヘッドを作製した。

本例では、フェライトよりなる磁気コア（１１）。

（１２）がボンディングガラス（１３）により接合一体
化されており、当１亥ボンディングガラス（１３）がギ
ャップにも流し込まれギャップ材としても使用されてい
る。なお、ボンディングガラス（１３）には試料６を使
用した。その他の構成は先の例と同様である。

この例でも、やはり２火遊着を考慮した場合には有利で
あるが、さらに１次融着に使用したボンディングガラス
（１３）がギャップ材としての耐久性も優れたものであ
ることが実証された。

次に、本発明をフロッピーディスク用磁気ヘッドに適用
した例を説明する。

フロッピーディスク用磁気ヘッドは、第７図に示すよう
に、フェライトよりなる磁気コア（２１）　。

（２２）及び磁気コア（２３）　、　（２４）がそれぞ
れ接合−体化されて記録再生ヘッド部及び消去ヘッド部
を構成すると同時に、これら記録再生ヘッド部と消去ヘ
ッド部とが一体的に固着され、さらにセラミクス等より
なるガード材（２５）が磁気記録媒体走行方向の両側に
接合されてなるものである。

すなわち、磁気コア（２１）　、　（２２）及び磁気コ
ア（２３）　、　（２４）は１火遊着ガラス（２６）に
より接合一体化され、記録再生ヘッド部と消去ヘッド部
〔磁気コア（２２）と磁気コア（２３）　）とは２火砲
着ガラス（２７）により固着されている。さらに、ガー
ド材（２５）は３次融着ガラス（２８）により接合され
ている。

ここで、前記２火砲着ガラス（２７）に前述の組成を有
するガラスである試料１あるいは試料５を使用した。

この２火砲着ガラス（２７）に前記試料１あるいは試料
５を使用することで、記録再生ヘッド部と消去ヘッド部
の固着状態の信転性が高いものとなり、また３次融着ガ
ラス（２８）の材料の選択の幅も広がった。

なお、本例では２火砲着ガラス（２７）に試料工あるい
は試料５を使用したが、当該ガラスを１火遊着ガラス（
２６）に使用しても良いことは言うまでもない。

以上、本発明の具体的な実施例について説明したが、本
発明がこれら実施例に限定されるものでなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲での変更が可能であることは言う
までもない０例えば磁気コア等の材質、形状１寸法等は
適宜変更可能である。

Ｃ発明の効果〕以上の説明からも明らかなように、本発明のボンディン
グガラスは、高ガラス転移点（５００°Ｃ以上）を存す
ると同時に、低融着温度、低溶融温度を有するものであ
り、信頼性と作業性という相反する特性を同時に満足さ
せた点でその実用価値は大である。

また、本発明ガラスは、Ｆｅｚｅｓ及びＺｎＯを含有し
ているので、酸化物磁性材料との侵食拡散反応も大幅に
抑制することができ、さらにはＮ　ａ　ｚＯの含育量を
増減することで熱膨張係数をコントロールすることがで
きる等、実際に磁気ヘッドを作製するうえで非常に有利
である。

一方、本発明の磁気ヘッドにおいては、酸化物磁性材料
、金属磁性薄膜等よりなる磁気コア同士の接合に、高ガ
ラス転移点、低融着温度という優れた特性を有するボン
ディングガラスを使用しているので、高信頼性を有する
磁気ヘッドとすることが可能であり、ガラス融着の際の
温度を低く抑えることができるので磁気特性の劣化も抑
えることができる。特に、２次融着、３次融着等の工程
のある磁気ヘッドにおいて、それぞれ１次融着。

２火遊着等に前述のボンディングガラスを使用すれば、
ギャップ長やトラック幅等のずれのない磁気ヘッドとす
ることができ、またその後の融着で使用するガラス材料
の選択の幅を広げることもできる。

また、ボンディングガラスによりフェライトの侵食、拡
散が発生することもないので、Ｔｔ礎変換特性に優れた
磁気ヘッドとすることができる。

このフェライトの侵食、拡散の防止はギャップ長を正確
に把握する上でも有効で、本発明の磁気ヘッドは例えば
自動ギャップ長測長機でギャップ長を正確に読み取るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明実施例及び比較例ガラスのガラス転移点
と融着温度をプロットして示す特性図であり、第２図は
本発明実施例及び比較例ガラスのガラス転移点と溶融温
度をプロットして示す特性図である。第３図はハードディスク用磁気ヘッドの構成例を示す概
略斜視図であり、第４図はその要部拡大斜視図、第５図
はメタル・イン・ギャップタイプの磁気ヘッド部の概略
斜視図、第６図はコンポジットフェライトヘッドタイプ
の磁気ヘッド部の概略斜視図である。第７図はフロッピーディスク用磁気ヘッドの構成例を示
す概略平面図である。１．２，１１，１２２１２２，２３．２４　　　・・・
磁気コアボンディングガラス１次像着ガラス２次融着ガラス３火照着ガラス

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ＳｉＯ＿２ａ重量％、Ｂ＿２Ｏ＿３ｂ重量％、Ｎ
ａ＿２Ｏ及び／又はＫ＿２Ｏｃ重量％、ＰｂＯｄ重量％
、ＢａＯｅ重量％、Ｆｅ＿２Ｏ＿３及びＺｎＯｆ重量％
よりなり、その組成範囲が３９≦ａ≦６０１０≦ｂ≦２５１２≦ｃ≦２００≦ｄ≦８０≦ｅ≦１５１４≦ｆ≦２５であることを特徴とするボンディングガラス。
（２）磁気コア同士の接合に、ＳｉＯ＿２ａ重量％、Ｂ
＿２Ｏ＿３ｂ重量％、Ｎａ＿２Ｏ及び／又はＫ＿２Ｏｃ
重量％、ＰｂＯｄ重量％、ＢａＯ重量％、Ｆｅ＿２Ｏ＿３及びＺｎＯｆ重量％（但し、３９≦ａ≦
６０、１０≦ｂ≦２５、１２≦ｃ≦２０、０≦ｄ≦８、
０≦ｅ≦１５、１４≦ｆ≦２５）よりなるボンディング
ガラスを用いたことを特徴とする磁気ヘッド。