JPH0234639A - プリプレグシートの製造法 - Google Patents
プリプレグシートの製造法Info
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- JPH0234639A JPH0234639A JP18479688A JP18479688A JPH0234639A JP H0234639 A JPH0234639 A JP H0234639A JP 18479688 A JP18479688 A JP 18479688A JP 18479688 A JP18479688 A JP 18479688A JP H0234639 A JPH0234639 A JP H0234639A
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-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は1、電子機器用の金属箔張り積層板や多層印刷
配線板に用いられるプリプレグシートの製造法に関する
。
配線板に用いられるプリプレグシートの製造法に関する
。
プリプレグシートは、これを所定枚数積層して片側また
は両側に金属箔を配置して平行熱盤でワニスし金属箔張
り積層板を形成したり、あるいはこれを両側が金属箔で
ある積層板に回路加工を施した内層用プリント配線板の
両側に積層しその外側に銅箔を配置して平行熱盤でワニ
スし多層印刷配線板を成形する際などに用いられる。
は両側に金属箔を配置して平行熱盤でワニスし金属箔張
り積層板を形成したり、あるいはこれを両側が金属箔で
ある積層板に回路加工を施した内層用プリント配線板の
両側に積層しその外側に銅箔を配置して平行熱盤でワニ
スし多層印刷配線板を成形する際などに用いられる。
プリプレグシートは、普通シランカップリング剤等の表
面処理剤で表面処理された基材に樹脂ワニスを含浸させ
た後、樹脂が半硬化するように乾燥させてつくられてい
る。この乾燥工程で、基材表面の処理剤と樹脂の反応は
ある程度進行し、更に積層板や多層印刷配線板を成形す
る際の加熱時にも進行して基材−樹脂間の接着性を高め
ている。
面処理剤で表面処理された基材に樹脂ワニスを含浸させ
た後、樹脂が半硬化するように乾燥させてつくられてい
る。この乾燥工程で、基材表面の処理剤と樹脂の反応は
ある程度進行し、更に積層板や多層印刷配線板を成形す
る際の加熱時にも進行して基材−樹脂間の接着性を高め
ている。
従来の基材を用いたプリプレグシートでは、基材−樹脂
間の接着性は、表面処理の形態や官能基の種類等により
樹脂との反応性を変えである程度制御している。
間の接着性は、表面処理の形態や官能基の種類等により
樹脂との反応性を変えである程度制御している。
しかし、このような方法でつくられたプリプレグシート
は、積層板や多層印刷配線板を形成した場合、処理剤と
樹脂との反応が十分に完結しない等の原因によりドリル
穴あけ時にガラス繊維が掘り起こされて発生する穴内壁
粗さが大きくなり易く、熱処理等による寸法変化も大き
いため、更に高密度、高多層印刷配線板を成形する場合
に各層間の導通不良や位置ズレ等の問題が生じる。
は、積層板や多層印刷配線板を形成した場合、処理剤と
樹脂との反応が十分に完結しない等の原因によりドリル
穴あけ時にガラス繊維が掘り起こされて発生する穴内壁
粗さが大きくなり易く、熱処理等による寸法変化も大き
いため、更に高密度、高多層印刷配線板を成形する場合
に各層間の導通不良や位置ズレ等の問題が生じる。
本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、積層板や多
層印刷配線板を成形した際のドリル穴あけ時に発生する
穴内壁粗さが小さく、寸法安定性にも優れたプリプレグ
シートの製造法を提供するものである。
層印刷配線板を成形した際のドリル穴あけ時に発生する
穴内壁粗さが小さく、寸法安定性にも優れたプリプレグ
シートの製造法を提供するものである。
本発明者らは、ドリル穴あけ時に発生する穴内壁粗さや
寸法安定性に優れたプリプレグシートの製造法を種々検
討した結果、基材と樹脂との接着性を高める表面処理剤
及び樹脂と表面処理剤との反応を促進する物質の両者を
用いて処理した基材を用いて基材−樹脂間の界面反応を
制御することによりその目的を達成し得ることを見い出
し本発明を完成するに至った。
寸法安定性に優れたプリプレグシートの製造法を種々検
討した結果、基材と樹脂との接着性を高める表面処理剤
及び樹脂と表面処理剤との反応を促進する物質の両者を
用いて処理した基材を用いて基材−樹脂間の界面反応を
制御することによりその目的を達成し得ることを見い出
し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の請求項1記載の発明は、基材と樹脂
との接着性を高める表面処理剤で処理した処理基材に樹
脂ワニスを含浸させ、しかる後これを乾燥させるプリプ
レグシートの製造法において、処理基材として基材を表
面処理剤で処理した後、樹脂と表面処理剤との反応を促
進する物質を塗布して得られたものを用いることを特徴
とする。
との接着性を高める表面処理剤で処理した処理基材に樹
脂ワニスを含浸させ、しかる後これを乾燥させるプリプ
レグシートの製造法において、処理基材として基材を表
面処理剤で処理した後、樹脂と表面処理剤との反応を促
進する物質を塗布して得られたものを用いることを特徴
とする。
また請求項2記載の発明は基材と樹脂との接着性を高め
る表面処理剤で処理した処理基材に樹脂ワニスを含浸さ
せ、しかる後これを乾燥させるプリプレグシートの製造
法において、処理基材として基材に表面処理剤及び樹脂
と表面処理剤との反応を促進する物質との混合溶液を塗
布して得られたものを用いることを特徴とする。
る表面処理剤で処理した処理基材に樹脂ワニスを含浸さ
せ、しかる後これを乾燥させるプリプレグシートの製造
法において、処理基材として基材に表面処理剤及び樹脂
と表面処理剤との反応を促進する物質との混合溶液を塗
布して得られたものを用いることを特徴とする。
以下、本発明について詳述する。
本発明で用いられる基材は、金属箔張り積層板や多層印
刷配線板を製造する際に用いられるものであれば特に制
限されないが、通常織布、不織布等の繊維基材が用いら
れ、特にガラス繊維の織布が好ましく用いられる。
刷配線板を製造する際に用いられるものであれば特に制
限されないが、通常織布、不織布等の繊維基材が用いら
れ、特にガラス繊維の織布が好ましく用いられる。
また、これらの基材に用い゛られる基材と樹脂との接着
性を高める表面処理剤は特に制限されないが、通常エポ
キシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系
あるいはこれらの複合系等が用いられる。
性を高める表面処理剤は特に制限されないが、通常エポ
キシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系
あるいはこれらの複合系等が用いられる。
請求項1記載の発明においては、この表面処理剤で処理
された基材に樹脂と表面処理剤との反応を促進する物質
(促進剤)を薄く塗布し乾燥させる。この場合、促進剤
の塗布量は特に制限されないが、促進剤が0.5〜1.
0重量%の溶剤溶液に基材を浸漬し、基材に対し0.1
〜0.2重量%程度塗布させることが好ましく、その際
の浸漬時間は表面処理剤等が溶は出さない2〜5秒程度
の短時間とし乾燥温度は促進剤等の種類によっても異な
るが一般に100°C前後の低温で行い、促進剤の揮発
を極力少なくすることが好ましい。
された基材に樹脂と表面処理剤との反応を促進する物質
(促進剤)を薄く塗布し乾燥させる。この場合、促進剤
の塗布量は特に制限されないが、促進剤が0.5〜1.
0重量%の溶剤溶液に基材を浸漬し、基材に対し0.1
〜0.2重量%程度塗布させることが好ましく、その際
の浸漬時間は表面処理剤等が溶は出さない2〜5秒程度
の短時間とし乾燥温度は促進剤等の種類によっても異な
るが一般に100°C前後の低温で行い、促進剤の揮発
を極力少なくすることが好ましい。
この後、樹脂ワニスを含浸させ従来法と同様に乾燥させ
てプリプレグシートを得る。
てプリプレグシートを得る。
本発明で用いる樹脂と表面処理剤との反応を促進する物
質は特に限定されず、第3級アミン、第4級アンモニウ
ム塩、イミダゾール、アルカリ金属水酸化物、ハロゲン
化ホスホニウム、スルホニウム塩、第3級ホスフィン等
が用いられる。第3級アミンとしては、ベンジルジメチ
ルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等がある。
質は特に限定されず、第3級アミン、第4級アンモニウ
ム塩、イミダゾール、アルカリ金属水酸化物、ハロゲン
化ホスホニウム、スルホニウム塩、第3級ホスフィン等
が用いられる。第3級アミンとしては、ベンジルジメチ
ルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等がある。
第4級アンモニウム塩としては、ペンジルトリメチルア
ンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド
、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチル
アンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムク
ロライド、N−セチルピリジニウムクロライド等がある
。イミダゾールとしては、2−メチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾー
ル等がある。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等がある。
ンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド
、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチル
アンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムク
ロライド、N−セチルピリジニウムクロライド等がある
。イミダゾールとしては、2−メチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾー
ル等がある。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等がある。
ハロゲン化ホスホニウム塩としては、エチルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウ
ムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、
メチルトリフェニルホスホニウムアイオダイド等がある
。スルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウム
クロライド、ベンジルジメチルスルホニウムクロライド
、ジメチルプロピルスルホニウムブロマイド等がある。
ルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウ
ムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、
メチルトリフェニルホスホニウムアイオダイド等がある
。スルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウム
クロライド、ベンジルジメチルスルホニウムクロライド
、ジメチルプロピルスルホニウムブロマイド等がある。
第3級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、
トリブチルホスフィン等がある。
トリブチルホスフィン等がある。
また、希釈溶剤は特に限定しないがアセトン、メタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトン、水等の100″
C以下の低沸点の溶剤やこれらの混合溶剤等が好ましく
用いられる。
ル、エタノール、メチルエチルケトン、水等の100″
C以下の低沸点の溶剤やこれらの混合溶剤等が好ましく
用いられる。
本発明で用いる樹脂ワニスは特に限定されず、エポキシ
樹脂、ポリイミド樹脂、トリアジン樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の1種又は2種以上
の溶剤溶液である。溶剤はどのようなものでもよく、例
えばメチルエチルケトン、メチルグリコール、ジメチル
ホルムアミド、アセトン、メタノール、ジオキサン等が
あり、数種類を併用した混合溶剤を用いることもできる
。
樹脂、ポリイミド樹脂、トリアジン樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の1種又は2種以上
の溶剤溶液である。溶剤はどのようなものでもよく、例
えばメチルエチルケトン、メチルグリコール、ジメチル
ホルムアミド、アセトン、メタノール、ジオキサン等が
あり、数種類を併用した混合溶剤を用いることもできる
。
樹脂ワニスとしては、エポキシ樹脂ワニスが好適に使用
される。硬化剤としては、従来公知の種々のものを使用
することができ、例えば、樹脂ワニスとしてエポキシ樹
脂ワニスを用いる場合には、ジシアンジアミド、ジアミ
ノジフェニルメタン、無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、フェノールノボラック、タレゾールノボラック等を
あげることができ、これに硬化剤と樹脂との反応を促進
させる目的で、基材に塗布する促進剤と同様の各種硬化
促進剤を併用してもよい。
される。硬化剤としては、従来公知の種々のものを使用
することができ、例えば、樹脂ワニスとしてエポキシ樹
脂ワニスを用いる場合には、ジシアンジアミド、ジアミ
ノジフェニルメタン、無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、フェノールノボラック、タレゾールノボラック等を
あげることができ、これに硬化剤と樹脂との反応を促進
させる目的で、基材に塗布する促進剤と同様の各種硬化
促進剤を併用してもよい。
請求項2記載の発明は、基材の処理を前記樹脂と前記表
面処理剤との反応を促進する物質(促進剤)及び表面処
理剤とを混合した液を塗布し乾燥することにより行う。
面処理剤との反応を促進する物質(促進剤)及び表面処
理剤とを混合した液を塗布し乾燥することにより行う。
この場合、混合する表面処理剤や促進剤の量は特に制限
されないが、0.5〜5重量%程度の表面処理剤溶液に
0.5〜1.0重量%程度の促進剤溶液を混合した溶液
を用いることが好ましく、表面処理剤と促進剤が基材に
付着する量は基材の0.1〜0.5重量%程度が好まし
い。溶液を塗布した後、乾燥温度は表面処理剤、促進剤
及び溶剤の種類によって異なるが、一般に100〜13
0°C程度の低温で行い、溶剤を十分揮発させ促進剤等
の揮発は極力少なくすることが好ましい。
されないが、0.5〜5重量%程度の表面処理剤溶液に
0.5〜1.0重量%程度の促進剤溶液を混合した溶液
を用いることが好ましく、表面処理剤と促進剤が基材に
付着する量は基材の0.1〜0.5重量%程度が好まし
い。溶液を塗布した後、乾燥温度は表面処理剤、促進剤
及び溶剤の種類によって異なるが、一般に100〜13
0°C程度の低温で行い、溶剤を十分揮発させ促進剤等
の揮発は極力少なくすることが好ましい。
この後、基材に樹脂ワニスを含浸させ、従来法と同様に
乾燥させてプリプレグシートを得る。
乾燥させてプリプレグシートを得る。
本発明により基材と樹脂の界面反応を制御したプリプレ
グシートで成形した積層板や多層印刷配線板は、ドリル
穴あけ時の穴内壁粗さも減少し、再加熱等の熱処理に対
する寸法安定性にも優れている。
グシートで成形した積層板や多層印刷配線板は、ドリル
穴あけ時の穴内壁粗さも減少し、再加熱等の熱処理に対
する寸法安定性にも優れている。
以下、実施例に基づいて説明するが、本発明の範囲は、
これらの例によりなんら限定されるものではない。
これらの例によりなんら限定されるものではない。
実施例1
ベンジルジメチルアミン1.0重量部をメチルエチルケ
トン100重量部で希釈し、約1.0重量%の促進剤溶
液を得た。これに厚さ0.1 trmO力チオエチオニ
ックシラン処理ス布基材を約2秒浸漬し、100°Cで
2分乾燥を行い、促進剤の塗布量が0゜1〜0.2重量
%のガラス布基材を得た。このガラス布基材にエピコー
ト1001 (ビスフェノール型エポキシ樹脂、油化シ
ェルエポキシ株式会社製商品名)100重量部、ジシア
ンジアミド1.5重滑部をメチルエチルケトンとメチル
グリコールの重量比が25:1である溶剤中で混合し、
固形分60重量%とした樹脂ワニスを含浸させ、170
°Cで3分乾燥を行い樹脂量55重量%のプリプレグシ
ートを得た。
トン100重量部で希釈し、約1.0重量%の促進剤溶
液を得た。これに厚さ0.1 trmO力チオエチオニ
ックシラン処理ス布基材を約2秒浸漬し、100°Cで
2分乾燥を行い、促進剤の塗布量が0゜1〜0.2重量
%のガラス布基材を得た。このガラス布基材にエピコー
ト1001 (ビスフェノール型エポキシ樹脂、油化シ
ェルエポキシ株式会社製商品名)100重量部、ジシア
ンジアミド1.5重滑部をメチルエチルケトンとメチル
グリコールの重量比が25:1である溶剤中で混合し、
固形分60重量%とした樹脂ワニスを含浸させ、170
°Cで3分乾燥を行い樹脂量55重量%のプリプレグシ
ートを得た。
該プリプレグシートを14枚用いて両側に銅箔を配置し
、温度170°C1圧力40kgf/dで9゛0分間ワ
ニスし金属箔張り積層板を成形した。銅箔は全て電解銅
箔を使用した。この後、両側の銅箔はエツチング処理に
より除去し積層板を得た。また、得られた積層板の半分
については180°C11時間の熱処理を行った。
、温度170°C1圧力40kgf/dで9゛0分間ワ
ニスし金属箔張り積層板を成形した。銅箔は全て電解銅
箔を使用した。この後、両側の銅箔はエツチング処理に
より除去し積層板を得た。また、得られた積層板の半分
については180°C11時間の熱処理を行った。
この未熱処理、熱処理済積層板について径が0゜9ff
11のドリルを用い回転数60.00Orpm、送り速
度2 、 100 m110+inで穴あけを行った。
11のドリルを用い回転数60.00Orpm、送り速
度2 、 100 m110+inで穴あけを行った。
スルーホールメツキを施し、大断面の観察より各15穴
の穴内壁での粗さの最大値の平均を算出した。また、未
熱処理の積層板のタテ糸方向を熱機械分析装置を用いて
昇温速度5℃/ffl1n 180℃まで加熱し、18
0℃、1時間保持した後5℃/winで冷却し、タテ糸
方向の室温時の収縮量を測定した。結果を表1に示す。
の穴内壁での粗さの最大値の平均を算出した。また、未
熱処理の積層板のタテ糸方向を熱機械分析装置を用いて
昇温速度5℃/ffl1n 180℃まで加熱し、18
0℃、1時間保持した後5℃/winで冷却し、タテ糸
方向の室温時の収縮量を測定した。結果を表1に示す。
比較例1
カチオニックシラン処理のガラス布基材に上記実施例1
で得られた樹脂ワニスを含浸させ、170°Cで3分乾
燥を行いプリプレグシートとし上記と同じワニス条件で
成形し、エツチング処理により銅箔を除去し積層板を得
た。得られた積層板の穴内壁粗さ及び収縮率を表1に示
す。
で得られた樹脂ワニスを含浸させ、170°Cで3分乾
燥を行いプリプレグシートとし上記と同じワニス条件で
成形し、エツチング処理により銅箔を除去し積層板を得
た。得られた積層板の穴内壁粗さ及び収縮率を表1に示
す。
表1
実施例2
エポキシシラン系のカップリング剤1.0重量部とベン
ジルジメチルアミン1.0重量部をメ°チルエチルケト
ン100重量部で希釈し、約2.0重量%の表面処理剤
・促進剤混合溶液を得た。これに厚さ0.1閣の表面処
理剤が施されていないガラス布基材を約2秒浸漬し、1
00°Cで20分乾燥を行い、表面処理剤・促進剤の塗
布量が0.2〜0.4重量%のガラス布基材を得た。こ
のガラス布基材にエピコート1001 (ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂、油化シェルエポキシ株式会社製商品
名)100重量部、ジシアンジアミド1.5重量部をメ
チルエチルケトンとメチルグリコールの重量比が25:
lである溶剤中で混合し、固形分60重量%とじた樹脂
ワニスを含浸させ、170℃で3分乾燥を行い樹脂量5
5重量%のプリプレグシートを得た。
ジルジメチルアミン1.0重量部をメ°チルエチルケト
ン100重量部で希釈し、約2.0重量%の表面処理剤
・促進剤混合溶液を得た。これに厚さ0.1閣の表面処
理剤が施されていないガラス布基材を約2秒浸漬し、1
00°Cで20分乾燥を行い、表面処理剤・促進剤の塗
布量が0.2〜0.4重量%のガラス布基材を得た。こ
のガラス布基材にエピコート1001 (ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂、油化シェルエポキシ株式会社製商品
名)100重量部、ジシアンジアミド1.5重量部をメ
チルエチルケトンとメチルグリコールの重量比が25:
lである溶剤中で混合し、固形分60重量%とじた樹脂
ワニスを含浸させ、170℃で3分乾燥を行い樹脂量5
5重量%のプリプレグシートを得た。
該プリプレグシートを14枚用いて両側に銅箔を配置し
、温度170°C1圧力40kgf/c艷で90分間ワ
ニスし金属箔張り積層板を成形した。銅箔は全て電解銅
箔を使用した。この後、両側の銅箔はエツチング処理に
より除去し積層板を得た。また、得られた積層板の半分
については180″011時間の熱処理を行った。
、温度170°C1圧力40kgf/c艷で90分間ワ
ニスし金属箔張り積層板を成形した。銅箔は全て電解銅
箔を使用した。この後、両側の銅箔はエツチング処理に
より除去し積層板を得た。また、得られた積層板の半分
については180″011時間の熱処理を行った。
この未熱処理、熱処理済積層板について径が0゜9 m
mのドリルを用い回転数60.OOOrpm、送り速度
2 、 100 in/minで穴あけを行った。
mのドリルを用い回転数60.OOOrpm、送り速度
2 、 100 in/minで穴あけを行った。
スルーホールメツキを施し、大断面の観察より各15穴
の穴内壁での粗さの最大値の平均を算出した。また、未
熱処理の積層板のタテ糸方向を熱機械分析装置を用いて
昇温速度5°C/min 180°Cまで加熱し、1
80°C11時間保持した後5°C/minで冷却し、
タテ糸方向の室温時の収縮量を測定した。結果を表2に
示す。
の穴内壁での粗さの最大値の平均を算出した。また、未
熱処理の積層板のタテ糸方向を熱機械分析装置を用いて
昇温速度5°C/min 180°Cまで加熱し、1
80°C11時間保持した後5°C/minで冷却し、
タテ糸方向の室温時の収縮量を測定した。結果を表2に
示す。
表2
比較例2
エポキシシラン系のカップリング剤1.0重量部をメチ
ルエチルケトン100重量部で希釈し、約1.0重量%
の表面処理剤溶液を得た。これに厚さ0.1Mの表面処
理剤が施されていないガラス布基材に上記実施例1で得
られた樹脂ワニスを含浸させ、170°Cで3分乾燥を
行いプリプレグシートとし上記と同じワニス条件で成形
し、エツチング処理により銅箔を除去し積層板を得た。
ルエチルケトン100重量部で希釈し、約1.0重量%
の表面処理剤溶液を得た。これに厚さ0.1Mの表面処
理剤が施されていないガラス布基材に上記実施例1で得
られた樹脂ワニスを含浸させ、170°Cで3分乾燥を
行いプリプレグシートとし上記と同じワニス条件で成形
し、エツチング処理により銅箔を除去し積層板を得た。
得られた積層板の穴内壁粗さ及び収縮率を表2に示す。
本発明の方法によれば、積層板や多層印刷配線板を成形
した場合に、ドリル穴あけ時に発生する穴内壁粗さが小
さく、再加熱等の熱処理による収縮率の小さい寸法安定
性に優れたプリプレグシートを得ることができる。
した場合に、ドリル穴あけ時に発生する穴内壁粗さが小
さく、再加熱等の熱処理による収縮率の小さい寸法安定
性に優れたプリプレグシートを得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基材と樹脂との接着性を高める表面処理剤で処理し
た処理基材に樹脂ワニスを含浸させ、しかる後これを乾
燥させるプリプレグシートの製造法において、処理基材
として基材を表面処理剤で処理した後、樹脂と表面処理
剤との反応を促進する物質を塗布して得られたものを用
いることを特徴とするプリプレグシートの製造法。 2、基材と樹脂との接着性を高める表面処理剤で処理し
た処理基材に樹脂ワニスを含浸させ、しかる後これを乾
燥させるプリプレグシートの製造法において、処理基材
として基材に表面処理剤及び樹脂と表面処理剤との反応
を促進する物質との混合溶液を塗布して得られたものを
用いることを特徴とするプリプレグシートの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18479688A JPH0234639A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | プリプレグシートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18479688A JPH0234639A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | プリプレグシートの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0234639A true JPH0234639A (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=16159443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18479688A Pending JPH0234639A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | プリプレグシートの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0234639A (ja) |
-
1988
- 1988-07-25 JP JP18479688A patent/JPH0234639A/ja active Pending
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