JPH0234603A - 光重合開始剤及び感光性組成物 - Google Patents
光重合開始剤及び感光性組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は新規な光重合開始剤、及びそれを用いた感光
性組成物に関する。更に詳細には、新規なホウ酸塩から
なる光重合開始剤、及びそれを用いた感光性組成物に関
する。
性組成物に関する。更に詳細には、新規なホウ酸塩から
なる光重合開始剤、及びそれを用いた感光性組成物に関
する。
光重合開始剤としては数多くの化合物が知られており、
例えば、アゾ化合物、有機イオウ化合物、カルボニル化
合物、第二鉄イオンによる酸化量元系がある。現在、汎
用的によく使われているものは、有機カルボニル化合物
類であり、これらは比較的感度がよい、安定性がある、
合成が容易であるという長所がある反面、感光波長域が
化合物自身の吸収波長域であるため、高々450nm程
度までであるという制約がある。
例えば、アゾ化合物、有機イオウ化合物、カルボニル化
合物、第二鉄イオンによる酸化量元系がある。現在、汎
用的によく使われているものは、有機カルボニル化合物
類であり、これらは比較的感度がよい、安定性がある、
合成が容易であるという長所がある反面、感光波長域が
化合物自身の吸収波長域であるため、高々450nm程
度までであるという制約がある。
これに対して、近年、ビリリウム系色素と過酸化物との
組合せで感光波長域の長波畏化が実現されているが、過
酸化物の経時安定性が悪いためにシェルフライフが短い
という問題がある。
組合せで感光波長域の長波畏化が実現されているが、過
酸化物の経時安定性が悪いためにシェルフライフが短い
という問題がある。
ところで、光重合開始剤の感光波長域の長波化というニ
ーズは、近年の著しいレーザー技術の進歩により起こっ
てきたものである。即ち、従来短波長光(紫外線など)
で行われてきたレジストのパターニング、製版など種々
の記録をレーザー光を使って行いたいというニーズがあ
る。特に、安価、小型である半導体レーザーを使いたい
という要望があるが、半導体レーザー光は[!50nm
以下にはならないと言われている。このため、650n
■以上の光に感度を有する光重合開始剤の研究が活発に
行われている。
ーズは、近年の著しいレーザー技術の進歩により起こっ
てきたものである。即ち、従来短波長光(紫外線など)
で行われてきたレジストのパターニング、製版など種々
の記録をレーザー光を使って行いたいというニーズがあ
る。特に、安価、小型である半導体レーザーを使いたい
という要望があるが、半導体レーザー光は[!50nm
以下にはならないと言われている。このため、650n
■以上の光に感度を有する光重合開始剤の研究が活発に
行われている。
例えば、特開昭82−143044には、染料のポレー
ト塩を使用して、500n■以上に感度を有する光重合
開始剤が提示されている。
ト塩を使用して、500n■以上に感度を有する光重合
開始剤が提示されている。
ところが、これは、化合物の合成が困難であるというこ
とと、化合物自身及び感光性組成物としての安定性に欠
けるという欠点を有するものである。
とと、化合物自身及び感光性組成物としての安定性に欠
けるという欠点を有するものである。
この発明は、上記のような問題点を解決した50Qnm
以上の長波長光に感度を有し、化合物の合成が容易であ
り、かつ安定性の高い新規光重合開始剤及びそれを含む
感光性組成物を提供するものである。
以上の長波長光に感度を有し、化合物の合成が容易であ
り、かつ安定性の高い新規光重合開始剤及びそれを含む
感光性組成物を提供するものである。
この発明による光重合開始剤は、下記一般式(I)で表
わされるホウ斂塩であることを特徴とする。
わされるホウ斂塩であることを特徴とする。
この式において、R1、R2、R3及びR4は各々、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、脂環基、アリール基、アリーロキシル基、アラルキル
基、複素環基のうちのいずれかであり、互いに同一であ
っても異っていてもよい、またR′と)12、またはR
2とR3が結合して環を形成してもよい0Mは、カウン
ターカチオン原子を示し、Cu、Ag又はHgのいずれ
かである。nは、1又は2の整数を示す。
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、脂環基、アリール基、アリーロキシル基、アラルキル
基、複素環基のうちのいずれかであり、互いに同一であ
っても異っていてもよい、またR′と)12、またはR
2とR3が結合して環を形成してもよい0Mは、カウン
ターカチオン原子を示し、Cu、Ag又はHgのいずれ
かである。nは、1又は2の整数を示す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子があげられる。
子、ヨウ素原子があげられる。
アルキル基としては、炭素数1〜10の置換あるいは無
置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ましく、例えば
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、オクチ
ル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、エトキシメ
チル、メトキシイソプロピル、エトキシプロピル、N、
N−ジメチルアミノエチル、N、N−ジメチルアミノプ
ロピル等である。
置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ましく、例えば
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、オクチ
ル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、エトキシメ
チル、メトキシイソプロピル、エトキシプロピル、N、
N−ジメチルアミノエチル、N、N−ジメチルアミノプ
ロピル等である。
アルケニル基としては、炭素数2〜12のものが好まし
く1例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ドデシニル基、プレニル基等があげられる。
く1例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ドデシニル基、プレニル基等があげられる。
アルキニル基としては、炭素数2〜10のものが好まし
く、例えば、アセチレン基、プロパルギル基、ブチニル
基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプテニル基等があ
げられる。
く、例えば、アセチレン基、プロパルギル基、ブチニル
基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプテニル基等があ
げられる。
脂環基としては、炭素数5〜8のものが好ましく1例え
ば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基等があげられ、これらにアル
キル基等が置換されていてもよい。
ば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基等があげられ、これらにアル
キル基等が置換されていてもよい。
アリール基としては、置換又は無置換のアリール基で、
例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、
N、トジメチルアミノフェニル基、クロロナフチル基、
メトキシナフチル基、ジフェニルアミノフェニル基等で
ある。
例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、
N、トジメチルアミノフェニル基、クロロナフチル基、
メトキシナフチル基、ジフェニルアミノフェニル基等で
ある。
アラルキル基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、
フエニルジオキシ基、p−)リルオキシ基等があげられ
る。
フエニルジオキシ基、p−)リルオキシ基等があげられ
る。
アラルキル基としては、置換あるいは無置換のアラルキ
ル基で例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチ
ルメチル基、β−ナフチルメチル基、p−メトキシベン
ジル基、p−クロロベンジル基等である。
ル基で例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチ
ルメチル基、β−ナフチルメチル基、p−メトキシベン
ジル基、p−クロロベンジル基等である。
複素環基としては、例えば、ピリジル基、キノリル基、
レピジル基、メチルビリジル基、フリル基、チエニル基
、インドリル基、ビロール基、カルバゾリル基、N−エ
チルカルバゾリル基等があげられる。
レピジル基、メチルビリジル基、フリル基、チエニル基
、インドリル基、ビロール基、カルバゾリル基、N−エ
チルカルバゾリル基等があげられる。
ホウ素アニオンの具体例としては、テトラメチルポレー
ト、テトラエチルポレート、テトラブチルポレート、ト
リイソブチルメチルポレート、ジ−t−ブチル−ジブチ
ルポレート、トリフルオロメチルトリフロオロポレート
、テトラ−n−ブチルポレート、テトラフェニルポレー
ト、トリ2エニルメチルポレート、トリフェニルエチル
ポレート。
ト、テトラエチルポレート、テトラブチルポレート、ト
リイソブチルメチルポレート、ジ−t−ブチル−ジブチ
ルポレート、トリフルオロメチルトリフロオロポレート
、テトラ−n−ブチルポレート、テトラフェニルポレー
ト、トリ2エニルメチルポレート、トリフェニルエチル
ポレート。
トリフェニルプロピルポレート、トリフェニル−n−ブ
チルポレート、トリフェニルヘキシルポレート、トリメ
ジチルブチルポレート、トリトリルイソプロピルポレー
ト、トリフェニルベンジルポレート、テトラフェニルポ
レート、テトラベンジルポレート、トリフェニルフェネ
チルポレート、トリフェニル−p−クロロベンジルポレ
ート、トリメタリルフェニルポレート、トリシクロヘキ
シルブチルポレート、トリ(フェニルエチニル)ブチル
ポレート、ジ(α−ナフチル)ジプロピルポレート、ジ
イソピノカンフエニルジアミルポレート等があげられる
が、特にジフェニルジブチルポレート、トリフェニルブ
チルポレート、ジフェニルジブチルポレート、トリフロ
オロメチルトリプルオロポレートが好ましい。
チルポレート、トリフェニルヘキシルポレート、トリメ
ジチルブチルポレート、トリトリルイソプロピルポレー
ト、トリフェニルベンジルポレート、テトラフェニルポ
レート、テトラベンジルポレート、トリフェニルフェネ
チルポレート、トリフェニル−p−クロロベンジルポレ
ート、トリメタリルフェニルポレート、トリシクロヘキ
シルブチルポレート、トリ(フェニルエチニル)ブチル
ポレート、ジ(α−ナフチル)ジプロピルポレート、ジ
イソピノカンフエニルジアミルポレート等があげられる
が、特にジフェニルジブチルポレート、トリフェニルブ
チルポレート、ジフェニルジブチルポレート、トリフロ
オロメチルトリプルオロポレートが好ましい。
この発明による光重合開始剤におけるホウ素アニオンは
、トリアリールホウ素あるいは三フフ化ホウ素等のホウ
素化合物と、リチウム化合物あるいはグリニヤール試薬
等の求核試薬との反応により得ることができる。これら
の合成例は、例えば、 ジェルナール9フユアー拳プラクティッシュ・ケミ−(
Journal fur Praktigche Ch
e*1e)26巻(11364年)15頁 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサIティ
93巻(1971年) 181B頁ジャー
ナル・オブ拳アメリカン慟ケミカル拳ンサイティ
9θ巻(19138年) 5280頁アナーレン
健デフ11ケミ− 618巻(1958年)31頁 アナーレン・デア・ケミ− 563巻(1949年) 110頁 インオーガニックeケミストリー 1巻(1862年)738頁 ジャーナル・オブ・オーガニー2り・ケミストリー
19B4年 187I頁等に記載
されている。
、トリアリールホウ素あるいは三フフ化ホウ素等のホウ
素化合物と、リチウム化合物あるいはグリニヤール試薬
等の求核試薬との反応により得ることができる。これら
の合成例は、例えば、 ジェルナール9フユアー拳プラクティッシュ・ケミ−(
Journal fur Praktigche Ch
e*1e)26巻(11364年)15頁 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサIティ
93巻(1971年) 181B頁ジャー
ナル・オブ拳アメリカン慟ケミカル拳ンサイティ
9θ巻(19138年) 5280頁アナーレン
健デフ11ケミ− 618巻(1958年)31頁 アナーレン・デア・ケミ− 563巻(1949年) 110頁 インオーガニックeケミストリー 1巻(1862年)738頁 ジャーナル・オブ・オーガニー2り・ケミストリー
19B4年 187I頁等に記載
されている。
このようにして得られるホウ素アニオンを、水溶液中で
硝酸銀、硫酸第二銅等と反応させることにより、この発
明の光重合開始剤のホウ素塩が得られる。
硝酸銀、硫酸第二銅等と反応させることにより、この発
明の光重合開始剤のホウ素塩が得られる。
後述の実施例に於ては、ホウ素アニオンの水中での合成
を例示したが、適当なバインダー、例えばゼラチン、カ
ルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ポリビ
ニルアルコール等の保護コロイド剤となるような系中で
合成してもよい。
を例示したが、適当なバインダー、例えばゼラチン、カ
ルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ポリビ
ニルアルコール等の保護コロイド剤となるような系中で
合成してもよい。
この発明による光重合開始剤の特徴としては、ホウ素ア
ニオンのCu、Ag又はHgの金属ホウ酸塩であるため
、耐温性、経時安定性に優れている。
ニオンのCu、Ag又はHgの金属ホウ酸塩であるため
、耐温性、経時安定性に優れている。
また、本発明の光重合開始剤に種々の増感剤を加えるこ
とにより、光重合時の感光液長城を選択することができ
る。増感色素としては、シアニン系色素、メロシアニン
系色素、7ニリノ基を有するポリメチン系色素、アズレ
ン系色素、ピリリウム系色素、トリアリールアミン系色
素、トリアリールメタン系色素、キサンチン系色素等が
使用される。
とにより、光重合時の感光液長城を選択することができ
る。増感色素としては、シアニン系色素、メロシアニン
系色素、7ニリノ基を有するポリメチン系色素、アズレ
ン系色素、ピリリウム系色素、トリアリールアミン系色
素、トリアリールメタン系色素、キサンチン系色素等が
使用される。
上記光重合開始剤系とともに使用される重合性化合物と
しては、不飽和二重結合を一つ以上有するラジカル重合
性化合物及び/またはカチオン重合性化合物が用いられ
る。具体的には例えば、スチレン、メチルスチレン、ク
ロルスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジ
メチルアミノスチレン、シアノスチレン、ニトロスチレ
ン、ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、カルボキシ
スチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、
メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エー
テル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル醜シクロヘキシル、ビ
ニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミ
ダゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチル−2−
ビニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル。
しては、不飽和二重結合を一つ以上有するラジカル重合
性化合物及び/またはカチオン重合性化合物が用いられ
る。具体的には例えば、スチレン、メチルスチレン、ク
ロルスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジ
メチルアミノスチレン、シアノスチレン、ニトロスチレ
ン、ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、カルボキシ
スチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、
メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エー
テル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル醜シクロヘキシル、ビ
ニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミ
ダゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチル−2−
ビニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル。
β−クロロエチルビニルエーテル、フェニルビニルエー
テル、p−メチルフェニルビニルエーテル。
テル、p−メチルフェニルビニルエーテル。
p−クロルフェニルビニルエーテルなどの一価の単量体
;例えばジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、ヤロ
ン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジス
チリル、アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル
、フマル酸ジスチリル、β、β−ジメチルグルタル酸ジ
スチリル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α°
−ジクロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチ
リル、シュウ酸ジ(アク・リロイロキシエチル)、シュ
ウ酸ジ(アクリロイロキシプロピル)、マロン酸ジ(ア
クリロイロキシエチル)、マロン酸ジ(アクリロイロキ
シプロピル)、コハク酸ジ(アクリロイロキシエチル)
、グルタル酸ジ(アクリロイロキシエチル)、アジピン
酸ジ(アクリロイロキシエチル)、マレイン酸ジ(アク
リロイロキシエチル)、フマル酸ジ(アクリロイロキシ
エチル)、β、β−ジメチルグルタル酸ジ(アクリロイ
ロキシエチル)、エチレンジアクリルアミド、プロピレ
ンジアクリルアミド、1.4−フェニレンジアクリルア
ミド、1.4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレ
ート) 、 1.4−フェニレンビス(オキシメチルエ
チルアクリレ−))、1.4−ビス(アクリロイルオキ
シエトキシ)シクロヘキサン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4−
ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベン
ゼン、1,4−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキ
シカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイ
ルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス
(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキ
シル)メタン、シュウ酸ジ(メタクリロイロキシエチル
)、シュウ酸ジ(メタクリロイロキシプロビル)、マロ
ン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、マロン酸ジ(メ
タクリロイロキシプロビル)、コハク酸ジ(メタクリロ
イロキシエチル)、コハク酸ジ(メタクリロイロキシプ
ロビル)、グルタル酸ジ(メタクリロイロキシエチル)
、アジピン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、マレイ
ン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、フマル酸ジ(メ
タクリロイロキシエチル)、フマル酸ジ(メタクリロイ
ロキシプロビル)、β、β°−ジメチルグルタル酸ジ(
メタクリロイロキシエチル) 、 1.4−フェニレン
ビス(オキシエチルメタクリレート)、 1.4−ビス
(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサンアク
リロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルなどの2
価の単量体;例えばペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリ (ヒドロキシスチレン)、シア
ヌル酸トリアクリレート。
;例えばジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、ヤロ
ン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジス
チリル、アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル
、フマル酸ジスチリル、β、β−ジメチルグルタル酸ジ
スチリル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α°
−ジクロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチ
リル、シュウ酸ジ(アク・リロイロキシエチル)、シュ
ウ酸ジ(アクリロイロキシプロピル)、マロン酸ジ(ア
クリロイロキシエチル)、マロン酸ジ(アクリロイロキ
シプロピル)、コハク酸ジ(アクリロイロキシエチル)
、グルタル酸ジ(アクリロイロキシエチル)、アジピン
酸ジ(アクリロイロキシエチル)、マレイン酸ジ(アク
リロイロキシエチル)、フマル酸ジ(アクリロイロキシ
エチル)、β、β−ジメチルグルタル酸ジ(アクリロイ
ロキシエチル)、エチレンジアクリルアミド、プロピレ
ンジアクリルアミド、1.4−フェニレンジアクリルア
ミド、1.4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレ
ート) 、 1.4−フェニレンビス(オキシメチルエ
チルアクリレ−))、1.4−ビス(アクリロイルオキ
シエトキシ)シクロヘキサン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4−
ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベン
ゼン、1,4−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキ
シカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロイ
ルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス
(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキ
シル)メタン、シュウ酸ジ(メタクリロイロキシエチル
)、シュウ酸ジ(メタクリロイロキシプロビル)、マロ
ン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、マロン酸ジ(メ
タクリロイロキシプロビル)、コハク酸ジ(メタクリロ
イロキシエチル)、コハク酸ジ(メタクリロイロキシプ
ロビル)、グルタル酸ジ(メタクリロイロキシエチル)
、アジピン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、マレイ
ン酸ジ(メタクリロイロキシエチル)、フマル酸ジ(メ
タクリロイロキシエチル)、フマル酸ジ(メタクリロイ
ロキシプロビル)、β、β°−ジメチルグルタル酸ジ(
メタクリロイロキシエチル) 、 1.4−フェニレン
ビス(オキシエチルメタクリレート)、 1.4−ビス
(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサンアク
リロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルなどの2
価の単量体;例えばペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリ (ヒドロキシスチレン)、シア
ヌル酸トリアクリレート。
シアヌル酸トリメタクリレート、1,1.1−トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、1,1.1− トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、シアヌル酸ト
リ(アクリロイロキシエチル) 、 1,1.i)リメ
チロールプロパントリ(アクリロイロキシエチル)、シ
アヌル酸トリ(エチルビニルエーテル) 、 1.1.
1−)リメチロールプロパントリ (トルエンジイソシ
アネート)とヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(ヘキサン
ジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレンとの縮合
物などの3価の単量体;例えばエチレンテトラアクリル
アミド、プロピレンテトラアクリルアミドとアクリル酸
の縮合物などの4価の単量体など、更には、オリゴマー
又はポリマーの末端に反応性ビニル基を残した重合性化
合物あるいはオリゴマー又はポリマーの側鎖に反応性ビ
ニル基をつけた重合性化合物などの他に、ビニルエーテ
ル基、エポキシ基、チイラン基、スピロオルソエステル
類、スピロオルソローボネート類、ビシクロオルソエス
テル類、トリオキサン類、トリシロキサン類、トリメチ
レンスルフィド類などの基をもつ化合物が用いられる。
ロールプロパントリアクリレート、1,1.1− トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、シアヌル酸ト
リ(アクリロイロキシエチル) 、 1,1.i)リメ
チロールプロパントリ(アクリロイロキシエチル)、シ
アヌル酸トリ(エチルビニルエーテル) 、 1.1.
1−)リメチロールプロパントリ (トルエンジイソシ
アネート)とヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(ヘキサン
ジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレンとの縮合
物などの3価の単量体;例えばエチレンテトラアクリル
アミド、プロピレンテトラアクリルアミドとアクリル酸
の縮合物などの4価の単量体など、更には、オリゴマー
又はポリマーの末端に反応性ビニル基を残した重合性化
合物あるいはオリゴマー又はポリマーの側鎖に反応性ビ
ニル基をつけた重合性化合物などの他に、ビニルエーテ
ル基、エポキシ基、チイラン基、スピロオルソエステル
類、スピロオルソローボネート類、ビシクロオルソエス
テル類、トリオキサン類、トリシロキサン類、トリメチ
レンスルフィド類などの基をもつ化合物が用いられる。
これらの重合性化合物は、単独あるいは適宜2種類以上
用いてもよい。
用いてもよい。
上記重合性化合物100部に対して、この発明による光
重合開始剤を好ましくは0.01部から30部、特に好
ましくは0.1部から15部使用することにより、感光
性材料を調製することができる。
重合開始剤を好ましくは0.01部から30部、特に好
ましくは0.1部から15部使用することにより、感光
性材料を調製することができる。
使用する光重合開始剤が多過ぎる場合には、重合性化合
物の重合度が高くならず、充分に硬化された重合画像を
得ることができず、又、少な過ぎる場合には重合反応が
実質的に起らない。
物の重合度が高くならず、充分に硬化された重合画像を
得ることができず、又、少な過ぎる場合には重合反応が
実質的に起らない。
また、これらの他に、バインダー類、染料、可塑剤、熱
重合禁止剤等を添加してもよい。
重合禁止剤等を添加してもよい。
この発明による感光性組成物はレジスト材料、製版材料
等の他に、インク、塗料等にも用いることができる。
等の他に、インク、塗料等にも用いることができる。
次に、本発明の具体例を実施例を挙げて説明する。
実験例1
ジフェニルジブチルホウ酸銀の合成
暗室下、マグネシウム5gと臭化ブチル34gから、乾
燥テトラヒドロフラン170+JL中でグリニヤール試
薬を調製し、これに攪拌下、ジフェニルクロロホウ素3
5gの乾燥テトラヒドロフラフ50■文溶液を徐々に滴
下した。1時間反応後、2NN水化化ナトリウム水溶液
500■を加え、10分間攪拌を続けた。有機層を分離
し、塩化カルシウムで脱水したのち、減圧下、溶剤を留
去し乾固した。これに蒸留水600■見を加え、濾過し
たのち、塩析させた。白色沈澱を濾過、乾燥した。収量
は46gであった。
燥テトラヒドロフラン170+JL中でグリニヤール試
薬を調製し、これに攪拌下、ジフェニルクロロホウ素3
5gの乾燥テトラヒドロフラフ50■文溶液を徐々に滴
下した。1時間反応後、2NN水化化ナトリウム水溶液
500■を加え、10分間攪拌を続けた。有機層を分離
し、塩化カルシウムで脱水したのち、減圧下、溶剤を留
去し乾固した。これに蒸留水600■見を加え、濾過し
たのち、塩析させた。白色沈澱を濾過、乾燥した。収量
は46gであった。
こうして得たジフェニルジブチルホウ酸ナトリウム2.
0gを水40talに溶かし、J’l拌下1.1gの硝
酸銀の10m1水溶液を滴下した。30分攪拌後、白色
沈澱物を濾過、水洗後、乾燥した。収量は2.5gであ
った。
0gを水40talに溶かし、J’l拌下1.1gの硝
酸銀の10m1水溶液を滴下した。30分攪拌後、白色
沈澱物を濾過、水洗後、乾燥した。収量は2.5gであ
った。
実験例2
トリアニスブチルホウS銀の合成
暗室下、トリアニスホウ素40gを乾燥ベンゼン250
m1に溶解させた。攪拌下、ブチルリチウム−テトラヒ
ドロフラン溶液1.2倍当量をゆっくり滴下した。2時
間攪拌を続けたのち、減圧下溶媒を留去し濃縮した。2
時間から3時間放置したのち、白色沈澱を濾過、乾燥し
た。収量は37gであった。
m1に溶解させた。攪拌下、ブチルリチウム−テトラヒ
ドロフラン溶液1.2倍当量をゆっくり滴下した。2時
間攪拌を続けたのち、減圧下溶媒を留去し濃縮した。2
時間から3時間放置したのち、白色沈澱を濾過、乾燥し
た。収量は37gであった。
こうして得たトリアニスブチルホウ酸リチウム2.0g
を水4〇−文にとかし、室温、攪拌下、硝酸銀0.82
gの Ion文水溶水溶液下した。30分攪拌後、白色
沈澱物を濾過、水洗したのち乾燥した。収量は2.3g
であった。
を水4〇−文にとかし、室温、攪拌下、硝酸銀0.82
gの Ion文水溶水溶液下した。30分攪拌後、白色
沈澱物を濾過、水洗したのち乾燥した。収量は2.3g
であった。
実験例3
トリアニスブチルホウ酸銀の合成
暗室下1合成例2で合成したトリアニスブチルホウ酸リ
チウム2.0gを水4部菖文にとかし、室温、攪拌下0
.45gの硫酸第2銅のIQmJL水溶液を滴下した。
チウム2.0gを水4部菖文にとかし、室温、攪拌下0
.45gの硫酸第2銅のIQmJL水溶液を滴下した。
30分攪拌後、沈澱物を濾過、水洗したのち乾燥した。
収量は1.8gであった。
実験例4
トリフェニルブチル水銀の合成
トリフェニルブチルホウ酸リチウム2.0gを水501
又にとかし、室温、攪拌下1.11gの硝酸第二水銀の
30部文水溶液を滴下した。30分攪拌後、沈澱物を濾
過、水洗したのち乾燥した。収量は2.2gであった。
又にとかし、室温、攪拌下1.11gの硝酸第二水銀の
30部文水溶液を滴下した。30分攪拌後、沈澱物を濾
過、水洗したのち乾燥した。収量は2.2gであった。
実施例1
暗室下、以下の組成からなる感光液を調整した。
トリメチロールプロパントリ 15部アクリ
レート ポリメチルメタクリレート10 m p−ジメチルアミノ安息香酸エチル 0.6部ジフ
ェニルジブチルホウ酸銀 1.4部オイルブル
ー(住友化学製)2.0部 NK−190(日本感光色素製) 0.02部1
.2−ジクロロエタン 70部これ
を表面処理した37gmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルムにアプリケーターを用いて乾燥膜厚
4IL謬に塗布した。さらにこの上にPVA (ポリビ
ニルアルコール)の3終層のオーバーコート層を設けた
。
レート ポリメチルメタクリレート10 m p−ジメチルアミノ安息香酸エチル 0.6部ジフ
ェニルジブチルホウ酸銀 1.4部オイルブル
ー(住友化学製)2.0部 NK−190(日本感光色素製) 0.02部1
.2−ジクロロエタン 70部これ
を表面処理した37gmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルムにアプリケーターを用いて乾燥膜厚
4IL謬に塗布した。さらにこの上にPVA (ポリビ
ニルアルコール)の3終層のオーバーコート層を設けた
。
感光性試験は370Wのキセノンランプを用いて500
am以下の光をカットするフィルターを通し、マスクを
介して3秒間露光した。PVA層を水洗いしたのち、エ
タノール浴で1分間のエツチング処理により未露光部は
除去され、PET上に青色の画像が残った。
am以下の光をカットするフィルターを通し、マスクを
介して3秒間露光した。PVA層を水洗いしたのち、エ
タノール浴で1分間のエツチング処理により未露光部は
除去され、PET上に青色の画像が残った。
実施例2
暗室下、以下の組成からなる感光液を調整した。
1.8−ビス〔2−(アクリロキシ)10部アセトキシ
〕ヘキサン トリメチロールプロパントリ 5部アクリレ
ート ポリメチルメタクリレート 10部2−メ
ルカプトベンゾオキサゾール 0.6部トリアニス
ブチルホウ酸銀 L、8部デイスパースレッ
ド 2.0部NK−190(日本感光
色素型) 0.02部1.2−ジクロロエタン
70部これを陽極酸化処理したアル
ミ板上に乾燥膜厚が2終−になるように塗布した。さら
にこの上にPVAの3牌腸のオーバーコート層を設けた
。
〕ヘキサン トリメチロールプロパントリ 5部アクリレ
ート ポリメチルメタクリレート 10部2−メ
ルカプトベンゾオキサゾール 0.6部トリアニス
ブチルホウ酸銀 L、8部デイスパースレッ
ド 2.0部NK−190(日本感光
色素型) 0.02部1.2−ジクロロエタン
70部これを陽極酸化処理したアル
ミ板上に乾燥膜厚が2終−になるように塗布した。さら
にこの上にPVAの3牌腸のオーバーコート層を設けた
。
感光性試験は実施例1で用いたと同様の光源で同様のフ
ィルターを通し5秒間露光した。PVA層を水洗いした
のち、エタノール浴で1分間エツチング処理すると、未
露光部は除去され、赤色の画像が残った。
ィルターを通し5秒間露光した。PVA層を水洗いした
のち、エタノール浴で1分間エツチング処理すると、未
露光部は除去され、赤色の画像が残った。
実施例3
実施例2でトリアニスブチルホウ酸銀1.8部をテトラ
フェニルホウ酸銀1.8部にかえた以外は、実施例2と
同様に感光体を作成し、試験した。露光7秒で画像を得
ることが出来た。
フェニルホウ酸銀1.8部にかえた以外は、実施例2と
同様に感光体を作成し、試験した。露光7秒で画像を得
ることが出来た。
実施例4
暗室下、以下の組成からなる感光液を調整した。
1.3−ビス〔2−(アクリロキシアセトキ 5部シ
)エトキシカルバモイル〕ベンゼン グリシジルアクリレート 2部ペンタエ
リスリトールトリアクリレート 8部ポリエチルメタク
リレート 12部p−ジメチルアミノ安息
香酸エチル 0.5部トリアニスブチルホウ酸銅
1.4部オイルブルー
2.0部NK−190(日本感光色素型) 0
.02部1.2−ジクロロエタン
70部これを表面処理した374aのPETフィルムに
乾燥膜厚2#Lsになるように塗布した。これにオーバ
ーコート層2終■を設けたのち、感光性試験を実施例1
と同様に行った。10秒間の露光により青色の画像が形
成された。
)エトキシカルバモイル〕ベンゼン グリシジルアクリレート 2部ペンタエ
リスリトールトリアクリレート 8部ポリエチルメタク
リレート 12部p−ジメチルアミノ安息
香酸エチル 0.5部トリアニスブチルホウ酸銅
1.4部オイルブルー
2.0部NK−190(日本感光色素型) 0
.02部1.2−ジクロロエタン
70部これを表面処理した374aのPETフィルムに
乾燥膜厚2#Lsになるように塗布した。これにオーバ
ーコート層2終■を設けたのち、感光性試験を実施例1
と同様に行った。10秒間の露光により青色の画像が形
成された。
実施例5
実施例1においてジフェニルジブチルホウ酸銀1.4部
をトリフェニルブチル水銀1.7部にかえた以外は実施
例1と同様に感光体を作成し、評価した。露光7秒で画
像を得ることが出来た。
をトリフェニルブチル水銀1.7部にかえた以外は実施
例1と同様に感光体を作成し、評価した。露光7秒で画
像を得ることが出来た。
以上説明したように、この発明による光重合開始剤は、
容易に合成できるホウ酸塩からなり、化合物自身及び感
光性組成物として安定に作用し、500a11以上の長
波長光に感度を有するものである。
容易に合成できるホウ酸塩からなり、化合物自身及び感
光性組成物として安定に作用し、500a11以上の長
波長光に感度を有するものである。
特許出願人 キャノン株式会社
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )で表わされるホウ酸塩である
ことを特徴とする光重合開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 但し、式中R^1、R^2、R^3及びR^4は各々、
ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、脂環基、アリール基、アリーロキシル基、アラルキ
ル基、複素環基のうちのいずれかであり、互いに同一で
あっても異っていてもよい。 またR^1とR^2、またはR^2とR^3とが結合し
て環を形成してもよい。 Mは、Cu、AgまたはHgのいずれかである。 nは、1又は2の整数を示す。 - (2)ラジカル重合性化合物及び/またはカチオン重合
性化合物と、請求項1に記載の光重合開始剤とを含むこ
とを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63184594A JP2641260B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光重合開始剤及び感光性組成物 |
EP89307560A EP0353030B1 (en) | 1988-07-26 | 1989-07-25 | Photopolymerization initiator and photosensitive composition employing the same |
DE68921677T DE68921677T2 (de) | 1988-07-26 | 1989-07-25 | Photopolymerisationsinitiator und photoempfindliche Zusammensetzungen die ihn verwenden. |
US07/758,714 US5124235A (en) | 1988-07-26 | 1991-09-09 | Photopolymerization initiator and photosensitive composition employing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63184594A JP2641260B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光重合開始剤及び感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0234603A true JPH0234603A (ja) | 1990-02-05 |
JP2641260B2 JP2641260B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=16155940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63184594A Expired - Fee Related JP2641260B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光重合開始剤及び感光性組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5124235A (ja) |
EP (1) | EP0353030B1 (ja) |
JP (1) | JP2641260B2 (ja) |
DE (1) | DE68921677T2 (ja) |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JPH02157760A (ja) * | 1988-12-10 | 1990-06-18 | Toyobo Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH09176112A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物および硬化性組成物 |
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FR2688790B1 (fr) * | 1992-03-23 | 1994-05-13 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adhesifs. |
US5514728A (en) * | 1993-07-23 | 1996-05-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalysts and initiators for polymerization |
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JP2002522601A (ja) * | 1998-08-11 | 2002-07-23 | ロディア・シミ | 電子ビーム及び/又はγ放射線下での重合及び/又は架橋方法 |
FR2782320B1 (fr) * | 1998-08-11 | 2003-08-15 | Rhodia Chimie Sa | Nouveaux amorceurs de polymerisation et/ou de reticulation activables sous faisceau d'electrons |
EP1002817B1 (en) * | 1998-11-17 | 2004-04-28 | Showa Denko K.K. | Photocurable composition |
CN100524019C (zh) * | 2001-08-29 | 2009-08-05 | 住友化学工业株式会社 | 光刻胶组合物 |
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SU384826A1 (ru) * | 1971-04-15 | 1973-05-29 | А. И. Холькин, В. П. Козицкий, Л. М. Гиндин , Л. Г. Коропова Институт неорганической химии Сибирского отделени СССР | Способ получения тетрафенилборатов металлов |
US4307182A (en) * | 1980-05-23 | 1981-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Imaging systems with tetra(aliphatic) borate salts |
US4450227A (en) * | 1982-10-25 | 1984-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dispersed imaging systems with tetra (hydrocarbyl) borate salts |
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-
1988
- 1988-07-26 JP JP63184594A patent/JP2641260B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1989
- 1989-07-25 EP EP89307560A patent/EP0353030B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-25 DE DE68921677T patent/DE68921677T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-09-09 US US07/758,714 patent/US5124235A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0353030A3 (en) | 1991-08-07 |
EP0353030B1 (en) | 1995-03-15 |
EP0353030A2 (en) | 1990-01-31 |
JP2641260B2 (ja) | 1997-08-13 |
DE68921677D1 (de) | 1995-04-20 |
US5124235A (en) | 1992-06-23 |
DE68921677T2 (de) | 1995-08-03 |
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