JPH02157760A

JPH02157760A - 光重合性組成物

Info

Publication number: JPH02157760A
Application number: JP31274788A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Imahashi; 聰今橋; Satoshi Nakamura; 智中村
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1988-12-10
Filing date: 1988-12-10
Publication date: 1990-06-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。

（従来の技術）光重合性組成物は多数の用途に広（利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。

これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。

また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザなどの可視部領域に大きな発振強度を
有するレーザーで走査露光することが画像形成技術とし
て要求されている。そのために可視光線に対して高い感
度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して高
感度な光開始剤が必要である。

特開昭５４−１５５２９２号公報にはへキサアリールビ
スイミダゾールを含む系、特開昭５８−１５５０３号公
報には活性ハロゲン化合物と３−ケト置換クマリン化合
物の系、特開昭５６−４６０４号公軸には３−ケト置換
クマリンとＮ−フェニルグリシンの系、特開昭６１−９
７６５０号公報には３−ｉ１Ｆ換クマリンとキナゾリノ
ン誘導体との組合せ、特開昭６１−１２３６０３号公報
にはヘキサアリールビイミダゾールと３−ケト置換クマ
リンとの組合せの光開始剤系が開示されている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。

（問題点を解決するための手段）本発明者は以上の問題点を解決すべく、つまり、光重合
性組成物の可視光に対する感度を同上させる目的で、光
開始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発
明を完成するに到った。すなわち本発明は（ａ）少なく
とも一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物、
（ｂ）下記−ａ式（１）で示されるホウ酸塩化合物およ
び（ｃ１下記−服代（１１）で示される３−置換クマリ
ン化合物および／または下記一般式（ＩＩＩ）で示され
るピリジン誘導体またはその塩および／または下記一般
式（ＩＶ）で示されるＰ−アミノフェニル不飽和ケトン
化合物および／または下記一般式（Ｖ）で示されるキサ
ンテンまたはチオキサンテン化合物および／または下記
一般式（Ｖｌ）で示されるビリリウム塩、チアピリリウ
ム塩またはセレノビリリウム塩を含有することを特徴と
する光重合性組成物である。

Ｒ１Ｖ（式中Ｒ１，Ｒ４はアルキル基、アリール基、アルカリ
ール基、アリル基、アルアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、脂環式および飽和または不飽和の複素環式
の基から独立に選ばれ、Ｍはアルカリ金属、オニウム化
合物、または遷移金属錯体を示す。）（式中、Ｒ’　、Ｒ’　、Ｒマ、Ｒ＠は水素、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ノ凸、シアノ基、または２つで縮合環糸または縮合複素
環系を形成してもよい。Ｚはアリール基、複素環基、ま
たは〇 −と−Ｒ″を示す。Ｒ９はアルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、複素環基を示す。）（式中ＲＩＯＪＩＩはＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ａはピ
リジン環に縮合したリアール基を示す、）〔式中、Ａ′
は酸素原子または硫黄原子、Ｘは水素原子またはハロゲ
ン原子、Ｙは炭素原子または窒素原子（ただし、Ｙが炭
素原子の場合は隣接する炭素原子との間（点線で示した
箇所）は二重結合であり、Ｙが窒素原子の場合には隣接
する炭素での間は一重結合である。）、Ｚ′は酸素原子
（この場合には隣接する炭素との間は二重結合である。

）アルコキシ基またはアルカノイルオキシ基、Ｒ１１は
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキ
ル基、ジアルキルアミノアルキル基または了り−ル基、
Ｒ２ｔは水素原子、アルコキシ基、アルキル基、ジアル
キルアミノ基である。〕（式中Ｒ＊３　　Ｒ２４、Ｒｌ
Ｓは水素原子、ハロゲン、アルキル基、ハロアルキル基
、エチレニル基、スチリル基、アルコキシ基、無置換ま
たは置換フェニル基、ナフチル基、ニトロ基、アミノ基
、水酸基、Ｘ′は酸素原子、硫黄原子、セレン原子、Ｙ
′はアニオン官能基を示す。）本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
Ｊ離うジカルで開始される連鎖成長付加反応に通した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリットトリアクリレ
ート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙
げられる。

第２の成分（ｂ）は、前記−触式（１）で表わされるホ
ウ酸塩化合物である。Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３およびＲ４のう
ち少なくとも１個、ただし３個以下がアルキル基であり
、さらに好ましくはアルキル基と了り−ル基またはアル
アルキル基との組合せであり、さらに好ましくは３個の
アリール基と１個のアルキル基との組合せである　Ｒ１
〜Ｒ４で表わされるアルキル基としてメチル、エチル、
ブロビル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリルなどが挙げられ、また１個または１個ヨリ多り
のハロゲン、シアノ、アシルオキシ、アシル、アルコキ
シあるいはヒドロキシ基によって置換されていてもよい
、アリール基としてはフェニル、ナフチル、およびフェ
ニルのような置換アリール基、アルアルキル基としては
メチルフェニル、ジメチルフェニル、アルアルキル基と
してはベンジル基などが挙げられる。

また脂環基としてはシクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、アルキニル基としてはプロピニル、エチ
ニル、アルケニル基としてはビニル基などが挙げられる
。

Ｍは、アルカリ金属としてリチウム、ナトリウム、カリ
ウムなど、オニウム化合物としては、テトラメチルアン
モニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルア
ンモニウム、メチルピリジニウム、エチルキノリニウム
などのアンモニウム化合物、ジフェニルヨードニウム、
ｐ−ブトキシフェニル−ｐ−メチルフェニルヨードニウ
ム、ビス（ｐ−アミノフェニル）ヨードニウムなどのヨ
ードニウム化合物、トリフェニルスルホニウム、ｐ−メ
トキシフエニルジフェニルスル、ホニウム、ビス（ｐ−
クロロフェニル）メチルスルホニウムなどのスルホニウ
ム化合物、テトラフェニルホスホニウム、トリフェニル
フェナシルホスホニウム、トリフェニル−ρ−アミンフ
ェニルホスホニウムなどのホスホニウム化合物、ジフェ
ニルフェナシルセレノニウム、ビス（Ｐ−ニトロフェニ
ル）スチリルセレノニウムなどのセレノニウム化合物、
トリフェニルメチルスチホニウム、トリフェニルフェナ
シルスチボニウム、などのスチボニウム化合物、トリフ
ェニルフェナシルアルソニウム、トリフェニル−ｐ−ヒ
ドロキシフェニルアルソニウム、ｐ−クロロフェニル−
トリスチリルアルソニウムなどのアルソニウム化合物が
挙げられる。また遷移金属錯体として（η５−シクロペ
ンタジェニル）（η６−ベンゼン）鉄（Ｉｆ）カチオン
、（η５−シクロペンダジェニル）（η１−クロルベン
ゼン）鉄（■）カチオンなどが挙げられる。

具体的にはテトラメチルアンモニウムトリフェニル（ｎ
−ブチル）ホレート、テトラエチルアンモニウムトリフ
ェニルエチルボレート、ナトリウムトリフェニル（ｎ−
ブチル）ボレート、リチウムトリフェニル（１ｓｏ−プ
ロピル）ホレート、Ｎ−メチルピリジニウムトリフェニ
ル（ｎ−ブチル）ボレート、ジフェニルヨードニウムト
リフェニル（ｎ−ブチル）ボレート、ｐ−ブトキシフェ
ニル−ｐ−メチルフェニルヨードニウム）　＋７　フェ
ニルエチルボレート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ェニル（ｎ−ブチル）ボレート、ビス（ｐ−クロロフェ
ニル）メチルスルホニウムトリフェニル（ｎ−ブチル）
ボレート、テトラフェニルボスボニウムトリフェニルメ
チルボレート、トリフェニル（ｐ−クロロフェニル）ホ
スホニウムトリフェニル（ｎ−ブチル）ボレート、ジフ
ェニルフェナシルセレノニウムトリフェニル（５ｓｏ　
−ブチル）ボレート、トリフェニルメチルスチボニウム
トリフェニル（ｎ−ブチル）ボレート、トリスチリルア
ニソニウムトリフェニル（ｎ−ブチル）ボレート、（η
５−シクロペンタジェニル）（ηｂ−ヘンゼン）鉄（「
）トリフェニル（ｎ−ブチル）ボレート、（η５−シク
ロペンタジェニル）（η６−ジアツヘンゼン）鉄（■）
トリフェニル（ｉｓ。

−ブチル）ボレートなどが挙げられる。

第３の成分（ｃ）である前記一般式（ＩＩ）で表わされ
る３−置換クマリン化合物として、具体的には７−ジニ
チルアミノー３−（２−ベンゾチアジル）クマリン、７
−ジニチルアミノー３−．（２−ベンズイミダゾリル）
−クマリン、７−シエチルアミノー３−ヘンジイルクマ
リン、７−シエチルアミノー３−チエノイルクマリン、
７−ジエチルアミノ−３，３′−カルボニルビスクマリ
ン、３゜３′−カルボニルビス（７−シエチルアミノク
マリン）、９．９゛カルボニルビス（１，２，４゜５−
テトラヒト０　３Ｈ，６Ｈ，１０Ｈ［Ｉ］べ７ゾピラノ
［９，９ａ、　　！−ｇｈ］牛ノラジンー１０−オン）
などが挙げられる。これら　の化合物の合成方法は、Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗｓ　３且　（１９４５）
およびＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　３８　（９）　１２０
３〜１２１１　（１９Ｂ２）に記載されている。

また第３の成分（ｃ）である前記一般式（Ｉ［［）で表
わされるジアルキルアミノフェニル基と共役したピリジ
ン誘導体として、具体的には４−（ｐ−ジメチルアミノ
スチリル）ピリジン、４−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ピ
リジン、２−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピリジン
、４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリン、４−
（ｐ−ジエチルアミノスチリル）キノリン、２−（ｐ−
ジメチルアミノスチリル）キノリン、２−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）キノリン、２７（ｐ−ジメチルアミ
ノスチリル）−６−ニトキシキノリン、４−（ｐ−ジメ
チルアミノスチリル）ピリジニウム塩酸塩、４−（ｐ−
ジメチルアミノスチリル）キノリニウム臭化水素塩、２
−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリニウムヘキサ
フルオロホスフェートなどがあげられる。

第３の成分（ｃ）である前記一般式（ＩＶ）で表わされ
るｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物として具体的
には２．５−ビス（４′−ジエチルアミノベンジリデン
）シクロペンタノン、２．５−ビス（４′−ジメチルア
ミノベンジリデン）シクロペンタノン、２６−ビス（４
′−ジエチルアミノベンジリデン）シクロヘキサノン、
２．６−ビス（４′−ジメチルアミノベンジリデン）シ
クロヘキサノン、２．５−ビス（４゛−ジメチルアミノ
シンナミリデン）シクロペンタノン、２，６ビス（４′
−ジメチルアミノシンナミリデン）シクロヘキサノン、
１８３−ビス（４′−ジメチルアミノベンジリデン）ア
セトン、２−　（４’−ジエチルアミノベンジリデン）
−１−インダノン、２−（９’−ジュロリリデン）−１
−インダノン、２−（４’−ジエチルアミノベンジリデ
ン）−１テトラロン、４′−ジエチルアミン−２′−メ
チルヘンジリデンーアセトフエノン、２５−ビス（４’
−Ｎ−エチル−Ｎ−カルボメトキシメチルアミノベンジ
リデン）シクロペンタノン、２゜５−ビス（４′−Ｎ−
エチル−Ｎ＝カルボキシメチルアミノベンジリデン）ペ
ンタノンおよびそのナトリウム塩、２．５−ビス（４’
−Ｎ−メチル−Ｎ−シアノエチルアミノヘンジリデン）
シクロペンタノン、２．５−ビス（４’−Ｎ−エチル−
Ｎ−クロルエチルアミノシンナリデン）シクロペンタノ
ン、２，６−ビス（４’−Ｎ−シアノエチルアミノヘン
ジリデン）シクロヘキサノン、２（４’−Ｎ−エチル−
Ｎ−力ルボキシメチルアミンベンジリデン）−１−イン
ダノン、２−（４’−Ｎ−エチル−Ｎ−カルボキシメチ
ルアミノベンジリデン）−１−テトラロンのナトリウム
塩、２（４′−エチル−Ｎ−シアノエチルアミノヘンジ
リデン）−１−インダノンなどが挙げられる。

第３成分（ｃ）である前記一般式（Ｖ）で表わされるキ
サンテンまたはチオキサンテン化合物として、具体的に
は、（Ｖ）においてＸは水素、塩素、臭素など、Ｚ′は
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、アセチルオキン、プ
ロピオニルオキシなど、Ｒｆｆｉｌはメチル、エチル、
プロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メト
キシメチル、メトキシエチル、ジメチルアミノメチル、
ジエチルアミノプロビル、フェニル、キシリル、トリル
、アニリルなど、Ｒ２２としては水素、メトキシ、エト
キシ、メチル、エチル、プロピル、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノなどが挙げられる。

第３成分（ｃ）である前記一般式（Ｖｌ）で表わされる
ピリリウム塩、チアピリリウム塩、またはセレノピリリ
ウム塩として、具体的には２，４．６−ドリフエニルピ
リリウムパークロレート、４−（４−メトキシフェニル
）−２，６−シフエニルビリリウムバークロレート、２
，４．６−）リフェニルビリリウムテトラフルオロボレ
ート、２４．６−１リス（４−メトキシフェニル）ビリ
リウムへキサフルオロボスフェート、２４６トリフエニ
ルチアピリリウムバークロレート、２゜４−ビス（４−
メトキシフェニル）−６−フェニルチアピリリウムテト
ラフルオロボレート、２゜４．６−）リフェニルチアビ
リリウムサルフエート、２−（４−アミロキシフェニル
）−４，６ジフエニルチアピリリウムへキサフルオロホ
スフェート、４−（４−メトキシフェニル）−２，６−
ビス（４−メチルフェニル）チアピリリウムバークロレ
ート、６−（β−メチル−４−ジメチルアミノスチリル
）−２，４−ジフェニルピリリウムへキサフルオロホス
フェート、２．６−ビス（４−メトキシフェニル）−４
−メチルピリリウムテトラフルオロボレート、２−ヒド
ロキシ−４゜６−ビス（４−ジメチルアミノスチリル）
ピリリウムバークロレート、２−ニトロ−４−（４−メ
トキシスチリル）−６−フェニルビリリウムバークロレ
ート、２−アミノ−４，６−ビス（４−ブトキシフェニ
ル）チアピリリウムバークロレート。

２　４　６−）リフェニルセレノビリリウムへキサフル
オロホスフェート、２−（４−メトキシフェニル）−４
，６−ジフエニルセレノビリリウムテトラフルオロポレ
ートなどが挙げられる。

本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機重
合体結合剤を存在させてもよい０重合体績合剤タイプと
しては（ｉ）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコ
ポリエステル、（ｉｉ　）ポリアミド、（ｉｎ）ビニリ
デンクロリド共重合体、（ｉｖ　）エチレン／ビニルア
セテート共重合体、（ｖ）セルロースエーテル、（ｖｉ
）ポリエチレン、（ｖｉ）合成ゴム、（ｖｉｉ　）セル
ロースエステル、（ｉｘ　）ポリビニルアセテート／ア
クリレートおよびポリビニルアセテート／メタクリレー
ト共重合体を含むポリビニルエステル、（Ｘ）ポリアク
リレートおよびポリα−アルキルアクリレートエステル
例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタ
クリレート、（ｘ　ｉ　）　４．０００〜４．０００．
ＯＯＯの重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキ
シド重合体（ポリエチレングリコール）、（ｘｉｉ）ポ
リ塩化ビニルおよびその共重合体、（ｘ　ｉ　ｉ　ｉ　
）ポリビニルアセクール、（ｘｉｖ）ポリホルムアルデ
ヒド、（ＸＶ）ポリウレタン、（ｘｖｉ）ポリカーボネ
ートおよび（ｘｖｉｉ）ポリスチレンがあげられる。

本発明の特に好ましい態様においては、未露光光重合性
コーティングが例えばアルカリ性溶液である主として水
性の溶液には可溶性であるが、活性線放射に露光後は比
較的それに不溶性となるように、光重合性結合剤を選ぶ
、典型的にはこれらの要求を満足させる重合体はカルボ
キシル化重合体例えばＴｌ離カルボン酸基含有ビニル付
加重合体である。好ましい結合剤としてはイソブタノー
ル混合物で部分エステル化された酸価約１９０、重量平
均分子量約１０．０００のスチレン／マレイン酸無水物
（１：　１）の共重合体、およびスチレン／マレイン酸
無水物の共重合体とエチルアクリレート／メチルメタク
リレート／アクリル酸のターポリマーとの組み合わせが
あげられる。その他の好ましい結合剤群としては、ポリ
アクリレートエステルおよびポリα−アルキルアクリに
−）エステル特にポリメチルメタクリレートがあげられ
る。

その他の不活性添加剤例えば非重合性可塑剤、染料、顔
料および充填剤は光重合性層の露光を阻害させない程度
に配合させてもよい。

本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分（ａ
）であるエチレン性不飽和化合物１００１ｉ１部に対す
るｆｆ１部で表わすと、成分（′ｂ）であるホウ酸塩化
合物は０．０１〜５０重量部、特に好ましくは０．１〜
３０重量部、成分（ｃ）である置換クマリン化合物また
はジアルキルアミノフェニル基と共役したピリジン誘導
体またはｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物または
キサンテンまたはチオキサンテン化合物またはビリリウ
ム塩、チアピリリウム塩またはセレノビリリウム塩はそ
れぞれ０．０１〜２０重量部、特に好ましくは０．１〜
２（［１部、結合剤は０〜１０００重量部、好ましくは
０〜５０重量部である。

なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材上にコ
ーティングすることができる。

ｒ基材」とはすべての天然または合成支持体、好ましく
は可撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在
しうるちのを意味している。例えば基材は金属シートま
たは箔、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロ
ース紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の
２種またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の
基材としてはアルミナプラストアルミニウム、アノード
処理アルミニウム、アルミプラストポリエチレンテレフ
タレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム例えば樹脂下引きポリエチレンテレフタレートフィル
ム、静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィルム
、ポリビニルアルコールコーティングした紙、交叉結合
ポリエステルコーティング紙、ナイロン、ガラス、セル
ロースアセテートフィルムその他があげられる。

特定の基材は一般に関連する適用目的により決定される
。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファイ
バーボード上に銅コーテイングしたプレートでありうる
。平版印刷プレートの製造においては、基材はアノード
処理アルミニウムである。

本発明において、光重合性組成物の層は好ましくは約０
．０００１インチ（０゜０００２５Ｃ１１）〜約０．０
１インチ（０，０２５ｃＩｍ）の範囲の厚さを有してお
り、そして光重合性層に活性な放射を通過しうる薄い可
撓性の重合体フィルム支持体に程度ないし中等度接着性
をもって接着されている。それに保護カバー層またはカ
バーシートを接着させることができる。

このシートはフィルム支持体と層との間の接着力よりも
小さい接着力を層に対して有している。特に好ましい支
持体は約０．００１　インチ（０，００２５ｃｍ　）〜
約０．４　インチ（１，０ｃｍ）の範囲の厚さを有する
透明ポリエチレンテレフタレートフィルムである。

また、ｏ、ｏｏｏｓインチ（０，００１３ｃｍ）〜０．
０４インチ（０，１０ｃｍ）　　のポリエチレンは好ま
しいカバーシートであり、ポリビニルアルコールコーテ
ィングは好ましいカバー層である。

本発明組成物を露光する際、通常の光源としては４０５
．４３６および５４６ｎｍ（Ｈｇ）波長に中心を有する
狭いかまたは広い光バンドを与える蛍光燈、水銀灯、金
属添加ランプおよびアークランプが挙げられる。干渉光
源はパルス式キセノン、アルゴンイオン、ヘリウム−カ
ドミウム、およびイオン化ネオンレーザ−などである。

プリントアウト系に広く使用されている可視光発生陰極
線管もまた本発明の組成物に関して有用である。これら
は−般に電気エネルギーを光エネルギーに変換させるた
めの手段として紫外または可視光発生性燐光体内部コー
ティングをそして放射を光感受性クーゲットに導くため
の手段として光学ファイバーフェイスプレートを包含し
ている。

（作　用）本発明の増感剤すなわち成分（ｃ）は本来、本発明に使
用される光開始剤すなわち成分（ｂ）が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない可視光を効率よ
く吸収し、活性化される。その状態で本発明の増感剤は
本発明で使用される光開始剤に作用し、結果的に活性な
ラジカルを発生させ、そのラジカルが組成物中のエチレ
ン性不飽和化合物を攻撃して、重合を起こすわけである
。

（実施例）以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに部
および％は型槽基準ある。

実施例１〜４９、比較例１〜６下引き層を有する１００　μ厚さの透明なポリエチレン
テレフタレートフィルム上に下記組成の惑九層塗工液を
塗布し、熱風乾燥機にて９０°Ｃ１分間乾燥し、厚さ３
μの塗膜を得た０次いでその上に７％ポリビニルアルコ
ール（完全ケン化、重合度５００）の水溶液を塗布し熱
風乾燥機で１００’ｃ１分間乾燥して１ｕのオーバーコ
ート層を設けて、感度テスト片を得た。

（感光Ｎ塗工液組成）ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）５２部７０／３０モル比テトラエチレングリコールジアクリレート４０部成分（ｂ）５部成分（ｃ）３部メタノール　　　　　　　　　　　　　２００部酢酸エ
チル　　　　　　　　　　　　　　８０部クロロホルム
　　　　　　　　　　　　　１２０部上記怒度テスト片
上にネガフィルムとして２１ｒＴステツプタブレ・ント
（大日本スクリーン社製クレーフィルムスケール）を重
ねて、キセノンランプ（ウシオ電機社製ＵＸＬ−５００
０−０）に東芝社製干渉フィルターＫＬ−４９と同色ガ
ラスフィルターＹ−４５を組み合わせた光ｉｆｉ　（４
９０ｎｍＡ）で１５　ｃｍの距離から５分間露光した後
、３０”Ｃ０，７％炭酸ナトリウム水溶液に１０秒間浸
漬し、水洗して未硬化部分を除去し乾燥した後、２ｔ、
ｒｒステップタブレットの完全硬化の段数（ステップ）
を調べ、それを表１〜表６に示す。また比較例を表７に
示す４表１〜表７より明らかなように本発明の実施例１
〜４９は比較例１〜６に比べ４９０ｎｍの光に対して高
恣度であることが判る。

以下余白（発明の効果）本発明の光重合性組成物は、可視光に対して高感度を示
すため、低いエネルギーの露光光源を使用することがで
き、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像で
きる。

また、露光源を原版より遠ざけることができるため、そ
の光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、垂
直の側部を有するシャープな網点を形成することができ
るなど種々の利点を有する。

特許出願人　　東洋紡績株式会社

Claims

【特許請求の範囲】（ａ）少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物。（ｂ）下記一般式（ I ）で示されるホウ酸塩化合物。（ｃ）下記一般式（II）で示される３−置換クマリン化
合物および／または下記一般式（III）で示されるピリ
ジン誘導体またはその塩および／または下記一般式（I
V）で示されるｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
および／または下記一般式（Ｖ）示されるキサンテンま
たはチオキサンテン化合物および／または下記一般式（
VI）で示されるピリリウム塩、チアピリリウム塩または
セレノピリリウム塩を含有することを特徴とする光重合
性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中Ｒ＾１〜Ｒ＾４はアルキル基、アリール基、アル
カリール基、アリル基、アルアルキル基、アルケニル基
、アルキニル基、脂還式および飽和または不飽和の複素
環式の基から独立に選ばれ、Ｍはアルカリ金属、オニウ
ム化合物、または遷移金属錯体を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、は水素、ア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキ
ルアミノ基、シアノ基、または２つで縮合環系または縮
合複素環系を形成してもよい。Ｚはアリール基、複素環
基、または ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。Ｒ＾９はア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ
基、複素環基を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中Ｒ＾１＾０、Ｒ＾１＾１はＣ＿１〜Ｃ＿６のアル
キル基、Ａはピリジン環に縮合したアリール基を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔式中ｍ、ｎはそれぞれ０または１でありＲ＾１＾２、Ｒ＾１＾３は水素原子または炭素原子数１
〜５のアルキル基、またはＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾１＾７（
但しＲ＾１＾７は水素原子または炭素数の１〜５のアル
キル基、アルカリ金属、アンモニウム、アミンを示す、
またはＣ＿２Ｈ＿４ＣＦ＿３、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｉ、Ｃ＿２
Ｈ＿４Ｂｒ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｃｌ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｆ、Ｃ＿
２Ｈ＿４ＣＮ、Ｃ＿２Ｈ＿４ＮＯ＿２Ｒ＾１＾４はメチ
リジン基またはＲ＾１＾５と結合してカルボニル基とと
もに環を形成することができる炭素原子数１〜５のアル
キレン−イリジン基、Ｒ＾１＾５は炭素原子、置換また
は非置換フェニル基、もしくはＲ＾１＾４とカルボニル
基とともにインダノンまたはテトラロンを形成する基、Ｒ＾１＾６は▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＾１＾８、Ｒ＾１＾９は水素原子または炭素原
子数１〜５のアルキル基、またはＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾２
＾０（但しＲ＾２＾０水素原子または炭素数１〜５のア
ルキル基を示す）、アルカリ金属、アンモニウム、アミ
ンまたはＣＨ＿４ＣＦ＿２、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｉ、Ｃ＿２Ｈ
＿４Ｂｒ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｃｌ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｆ、Ｃ＿２
Ｈ＿４ＣＮ、Ｃ＿２Ｈ＿４ＮＯ＿２である。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）〔式中、Ａ′は酸素原子または硫黄原子、Ｘは水素原子
またはハロゲン原子、Ｙは炭素原子または窒素原子（た
だし、Ｙが炭素原子の場合は隣接する炭素原子との間（
点線で示した箇所）は二重結合であり、Ｙが窒素原子の
場合には隣接する炭素との間は一重結合である。）、Ｚ
′は酸素原子（この場合には隣接する炭素との間は二重
結合である。）アルコキシ基またはアルカノイルオキシ
基、Ｒ＾２＾１はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、
またはアリール基、Ｒ＾２＾２は水素原子、アルコキシ
基、アルキル基、ジアルキルアミノ基である。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）（式中Ｒ＾２＾３、Ｒ＾２＾４、Ｒ＾２＾５は水素原子
、ハロゲン、アルキル基、ハロアルキル基、エチレニル
基、スチリル基、アルコキシ基、無置換または置換フェ
ニル基、ナフチル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、Ｘ
′は酸素原子、硫黄原子、セレン原子、Ｙ′はアニオン
官能基を示す。）