JP2839974B2 - 厚膜感光性印刷版用光重合性組成物及びそれを用いた厚膜感光性印刷版の製造方法 - Google Patents
厚膜感光性印刷版用光重合性組成物及びそれを用いた厚膜感光性印刷版の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な厚膜感光性印刷
版用光重合性組成物、さらに詳しくは、厚膜の感光性印
刷版に好適な高感度の光重合性組成物及びそれを用いて
厚膜感光性印刷版を製造する方法に関するものである。
版用光重合性組成物、さらに詳しくは、厚膜の感光性印
刷版に好適な高感度の光重合性組成物及びそれを用いて
厚膜感光性印刷版を製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、印刷技術の急速な進展に伴い、感
光性印刷版が開発され、このものは印刷のスピードアッ
プ、より美麗な紙面作り、経済性の向上、作業環境の改
善をもたらすなど、優れた特徴を有することから、従来
の紙型鉛版、金属版、ゴム版などに代り、例えば新聞印
刷をはじめ、ビジネスフォーム印刷、ページ物印刷（雑
誌、書籍類）、シール・ラベル印刷、カタログ・ポスタ
ーなどの商業印刷、段ボールなどへのフレキソ印刷分野
や、印章分野などにおいて幅広く用いられている。
光性印刷版が開発され、このものは印刷のスピードアッ
プ、より美麗な紙面作り、経済性の向上、作業環境の改
善をもたらすなど、優れた特徴を有することから、従来
の紙型鉛版、金属版、ゴム版などに代り、例えば新聞印
刷をはじめ、ビジネスフォーム印刷、ページ物印刷（雑
誌、書籍類）、シール・ラベル印刷、カタログ・ポスタ
ーなどの商業印刷、段ボールなどへのフレキソ印刷分野
や、印章分野などにおいて幅広く用いられている。
【０００３】このような感光性印刷版としては、例えば
凸版、ＰＳ凸版、ＰＳ平版、フレキソ版など各種のもの
が知られており、これらの中で凸版印刷版は、通常基板
上に光重合性組成物を塗布して厚膜のネガ型感光性印刷
版材を作成し、これにネガフイルムなどの画像担体を介
して紫外線などの活性光線を照射し、画像形成露光を行
ったのち、未露光部を現像液により選択的に溶解除去
し、次いで乾燥、後露光処理を施すことにより、製版さ
れている。
凸版、ＰＳ凸版、ＰＳ平版、フレキソ版など各種のもの
が知られており、これらの中で凸版印刷版は、通常基板
上に光重合性組成物を塗布して厚膜のネガ型感光性印刷
版材を作成し、これにネガフイルムなどの画像担体を介
して紫外線などの活性光線を照射し、画像形成露光を行
ったのち、未露光部を現像液により選択的に溶解除去
し、次いで乾燥、後露光処理を施すことにより、製版さ
れている。
【０００４】この際の光重合性組成物は、通常線状ベー
スポリマーとエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性化
合物と光重合開始剤とを必須成分とするものであるが、
凸版印刷版においては０．４〜７ｍｍ程度の厚膜を必要
とするため、ネガ型感光性印刷版材に活性光線を照射し
ても、活性光線の吸収や酸素による減感などにより、活
性光線を底部に到達させるには過剰の活性光線を照射し
なければならない。しかしながら、過剰の活性光線を照
射した場合、表層部において照射量が過多となり、さら
には活性光線の回折現象により、非照射部が照射される
ことになって、解像度が低下し、所望パターンの印刷版
が得られにくいという問題が生じる。
スポリマーとエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性化
合物と光重合開始剤とを必須成分とするものであるが、
凸版印刷版においては０．４〜７ｍｍ程度の厚膜を必要
とするため、ネガ型感光性印刷版材に活性光線を照射し
ても、活性光線の吸収や酸素による減感などにより、活
性光線を底部に到達させるには過剰の活性光線を照射し
なければならない。しかしながら、過剰の活性光線を照
射した場合、表層部において照射量が過多となり、さら
には活性光線の回折現象により、非照射部が照射される
ことになって、解像度が低下し、所望パターンの印刷版
が得られにくいという問題が生じる。
【０００５】ところで、これまで光重合開始剤として
は、活性光線の作用でラジカルを発生する化合物、例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテルなどのベンゾイン類、ベンジルジメチル
ケタール、α，α‐ジエトキシアセトフェノンなどの
１，２‐ジカルボニルケタール類、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン、チオキサントンなどの芳香族ケトン類、
アントラキノン、フェナントレンキノンなどのキノン
類、α，α‐ジクロロ‐４‐フェノキシアセトフェノ
ン、α，α，α‐トリクロロ‐４‐第三ブチルアセトフ
ェノンなどのハロゲン化合物などが用いられており、ま
た重合活性をより向上させる目的で、２種以上の光重合
開始剤又は光増感剤を組み合わせることも行われてい
る。
は、活性光線の作用でラジカルを発生する化合物、例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテルなどのベンゾイン類、ベンジルジメチル
ケタール、α，α‐ジエトキシアセトフェノンなどの
１，２‐ジカルボニルケタール類、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン、チオキサントンなどの芳香族ケトン類、
アントラキノン、フェナントレンキノンなどのキノン
類、α，α‐ジクロロ‐４‐フェノキシアセトフェノ
ン、α，α，α‐トリクロロ‐４‐第三ブチルアセトフ
ェノンなどのハロゲン化合物などが用いられており、ま
た重合活性をより向上させる目的で、２種以上の光重合
開始剤又は光増感剤を組み合わせることも行われてい
る。
【０００６】しかしながら、厚膜の印刷版面の製造に際
し、十分な解像度を与え、しかも前記した操作上のトラ
ブルを伴わない高感度の光重合性組成物はまだ見い出さ
れていない。
し、十分な解像度を与え、しかも前記した操作上のトラ
ブルを伴わない高感度の光重合性組成物はまだ見い出さ
れていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の光重合性組成物が有する欠点を克服し、厚膜の感
光性印刷版の製造に際し、十分な解像度を与えうる感度
の高い厚膜感光性印刷版用光重合性組成物を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
従来の光重合性組成物が有する欠点を克服し、厚膜の感
光性印刷版の製造に際し、十分な解像度を与えうる感度
の高い厚膜感光性印刷版用光重合性組成物を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、厚膜の印
刷版面を製造するための厚膜感光性印刷版用光重合性組
成物を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、光重合開始剤
として構造の異なる２種の特定の化合物を組み合わせて
用いることにより、その目的を達成し得ることを見い出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
刷版面を製造するための厚膜感光性印刷版用光重合性組
成物を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、光重合開始剤
として構造の異なる２種の特定の化合物を組み合わせて
用いることにより、その目的を達成し得ることを見い出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００９】すなわち、本発明は、線状ベースポリマー
とエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性化合物と光重
合開始剤とを必須成分とする光重合性組成物において、
光重合開始剤として、（Ａ）一般式
とエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性化合物と光重
合開始剤とを必須成分とする光重合性組成物において、
光重合開始剤として、（Ａ）一般式
【化３】 （式中Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン
原子、ジアルキルアミノ基又は環状アミノ基、Ｒ3は炭
素数１〜８のアルキル基、Ｒ4はビニル基、フェニル基
又は１〜３個のアルキル基、アルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基、Ｒ5及びＲ6はそれぞ
れ炭素数１〜４のアルキル基であるか、あるいはＲ5と
Ｒ6が直接に又は酸素原子若しくは窒素原子を介して連
結し、五員又は六員複素環を形成するものである）で表
わされる化合物と、（Ｂ）一般式
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン
原子、ジアルキルアミノ基又は環状アミノ基、Ｒ3は炭
素数１〜８のアルキル基、Ｒ4はビニル基、フェニル基
又は１〜３個のアルキル基、アルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基、Ｒ5及びＲ6はそれぞ
れ炭素数１〜４のアルキル基であるか、あるいはＲ5と
Ｒ6が直接に又は酸素原子若しくは窒素原子を介して連
結し、五員又は六員複素環を形成するものである）で表
わされる化合物と、（Ｂ）一般式
【化４】 （式中のＲ7は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１
〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜８のアルキ
ル基、Ｒ8は水素原子、フェニル基又は炭素数１〜４の
アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基である）で表わされる
化合物との組合せを用いたことを特徴とする厚膜感光性
印刷版用光重合性組成物及びこの厚膜感光性印刷版用光
重合性組成物から成る、厚さ０．４〜７ｍｍの層を担持
した基板を画像形成露光処理したのち、層の未露光部分
を除去することによって厚膜感光性印刷版を製造する方
法を提供するものである。
〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜８のアルキ
ル基、Ｒ8は水素原子、フェニル基又は炭素数１〜４の
アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基である）で表わされる
化合物との組合せを用いたことを特徴とする厚膜感光性
印刷版用光重合性組成物及びこの厚膜感光性印刷版用光
重合性組成物から成る、厚さ０．４〜７ｍｍの層を担持
した基板を画像形成露光処理したのち、層の未露光部分
を除去することによって厚膜感光性印刷版を製造する方
法を提供するものである。
【００１０】本発明において用いる線状ベースポリマー
は、従来の感光性樹脂においてマトリックス樹脂を形成
するために通常使用されているものの中から任意に選ぶ
ことができる。このようなものとしては、例えばポリビ
ニルアルコールなどの水溶性樹脂、水又はアルコールな
どに可溶なポリアミド、テレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸を
用いたポリエステル、ポリイミド、ビニリデンクロリド
共重合体、エチレン・ビニルアセテート共重合体、セル
ロースエーテル、ポリエチレン、合成ゴム、セルロース
エステル、ポリビニルアセテート・アルキルアクリレー
ト、ポリビニルアセテート・アルキルメタクリレート、
ポリアルキルアクリレート、ポリα‐アルキルアクリレ
ート、高分子量ポリエチレンオキシド、ポリ塩化ビニル
及びその共重合体、ポリビニルアセタール、ポリホルム
アルデヒド、ポリウレタン、ポリカーボネート及びポリ
スチレンなどを挙げることができる。これらの有機高分
子重合体は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
は、従来の感光性樹脂においてマトリックス樹脂を形成
するために通常使用されているものの中から任意に選ぶ
ことができる。このようなものとしては、例えばポリビ
ニルアルコールなどの水溶性樹脂、水又はアルコールな
どに可溶なポリアミド、テレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸を
用いたポリエステル、ポリイミド、ビニリデンクロリド
共重合体、エチレン・ビニルアセテート共重合体、セル
ロースエーテル、ポリエチレン、合成ゴム、セルロース
エステル、ポリビニルアセテート・アルキルアクリレー
ト、ポリビニルアセテート・アルキルメタクリレート、
ポリアルキルアクリレート、ポリα‐アルキルアクリレ
ート、高分子量ポリエチレンオキシド、ポリ塩化ビニル
及びその共重合体、ポリビニルアセタール、ポリホルム
アルデヒド、ポリウレタン、ポリカーボネート及びポリ
スチレンなどを挙げることができる。これらの有機高分
子重合体は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
【００１１】次に、この線状ベースポリマーと組み合わ
せて用いられるエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性
化合物も、従来のこの種の感光性樹脂組成物の成分とし
て慣用されているものの中から任意に選ぶことができ
る。
せて用いられるエチレン性不飽和結合をもつ付加重合性
化合物も、従来のこの種の感光性樹脂組成物の成分とし
て慣用されているものの中から任意に選ぶことができ
る。
【００１２】このような付加重合性化合物の例として
は、例えば多価アルコールのアクリル酸エステル又はメ
タクリル酸エステル、グリセリンジアクリレート又はジ
メタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレー
ト又はモノメタクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート又はジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート又はジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート又はジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート又はトリメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレート又はトリメ
タクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレー
ト又はテトラメタクリレート、あるいはエポキシ化合物
とアクリル酸又はメタクリル酸の付加反応物、カルボキ
シル基を有する化合物とアクリル酸グリシジル又はメタ
クリル酸グリシジルの付加反応物、一級又は二級のアミ
ノ基を有する化合物とアクリル酸グリシジル又はメタク
リル酸グリシジルの付加反応物、さらにはアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、メチレンビスアクリルアミド、
メチレンビスメタクリルアミド、ジアセトンアクリルア
ミド、トリアクリルホルマールなどのアクリルアミド系
化合物、水酸基を有するエチレン性不飽和化合物とイソ
シアネート化合物との付加反応により得られる不飽和ウ
レタン化合物などが挙げられる。これらの付加重合性化
合物は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。
は、例えば多価アルコールのアクリル酸エステル又はメ
タクリル酸エステル、グリセリンジアクリレート又はジ
メタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレー
ト又はモノメタクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート又はジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート又はジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート又はジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート又はトリメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレート又はトリメ
タクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレー
ト又はテトラメタクリレート、あるいはエポキシ化合物
とアクリル酸又はメタクリル酸の付加反応物、カルボキ
シル基を有する化合物とアクリル酸グリシジル又はメタ
クリル酸グリシジルの付加反応物、一級又は二級のアミ
ノ基を有する化合物とアクリル酸グリシジル又はメタク
リル酸グリシジルの付加反応物、さらにはアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、メチレンビスアクリルアミド、
メチレンビスメタクリルアミド、ジアセトンアクリルア
ミド、トリアクリルホルマールなどのアクリルアミド系
化合物、水酸基を有するエチレン性不飽和化合物とイソ
シアネート化合物との付加反応により得られる不飽和ウ
レタン化合物などが挙げられる。これらの付加重合性化
合物は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。
【００１３】この際、常温で実質上非流動性の組成物を
形成させる場合には、その大気圧下における沸点が約１
００℃以上のものを用いるのが有利である。
形成させる場合には、その大気圧下における沸点が約１
００℃以上のものを用いるのが有利である。
【００１４】次に、本発明組成物においては、光重合開
始剤として、（Ａ）成分の前記一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物と（Ｂ）成分の前記一般式（ＩＩ）で表わされ
る化合物との組合せを用いることが必要である。
始剤として、（Ａ）成分の前記一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物と（Ｂ）成分の前記一般式（ＩＩ）で表わされ
る化合物との組合せを用いることが必要である。
【００１５】この一般式（Ｉ）中のＲ1，Ｒ2，Ｒ5及び
Ｒ6が炭素数１〜４のアルキル基の場合、これらは直鎖
状、枝分れ状のいずれでもよく、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル
基、第二ブチル基又は第三ブチル基などを挙げることが
できるが、好ましいのはメチル基である。Ｒ3の炭素数
１〜８のアルキル基としては、上記の例に加えて、さら
にペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、４‐ジメチル
‐１‐メチルブチル‐（１）基又はオクチル基などを挙
げることができるが、好ましいのはエチル基、ヘキシル
基又は４‐ジメチル‐１‐メチルブチル‐（１）基であ
り、特に好ましいのはエチル基である。
Ｒ6が炭素数１〜４のアルキル基の場合、これらは直鎖
状、枝分れ状のいずれでもよく、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル
基、第二ブチル基又は第三ブチル基などを挙げることが
できるが、好ましいのはメチル基である。Ｒ3の炭素数
１〜８のアルキル基としては、上記の例に加えて、さら
にペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、４‐ジメチル
‐１‐メチルブチル‐（１）基又はオクチル基などを挙
げることができるが、好ましいのはエチル基、ヘキシル
基又は４‐ジメチル‐１‐メチルブチル‐（１）基であ
り、特に好ましいのはエチル基である。
【００１６】また、Ｒ1及びＲ2が炭素数１〜４のアルコ
キシ基である場合の例としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基又はブトキシ基を挙げることができる
が、好ましいのはメトキシ基である。Ｒ1がハロゲン原
子の場合の例としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素
原子を挙げることができるが、好ましいのは塩素原子で
ある。
キシ基である場合の例としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基又はブトキシ基を挙げることができる
が、好ましいのはメトキシ基である。Ｒ1がハロゲン原
子の場合の例としては、フッ素原子、塩素原子又は臭素
原子を挙げることができるが、好ましいのは塩素原子で
ある。
【００１７】Ｒ1が環状アミノ基の場合あるいはＲ5とＲ
6とそれらが結合しているアミノ基の窒素原子とで環を
形成する場合、これは飽和環でも不飽和環でもよく、例
えばピロリジル基、ピロリル基、ピペリジノ基、モルホ
リノ基などを挙げることができるが、好ましいのはピロ
リル基である。
6とそれらが結合しているアミノ基の窒素原子とで環を
形成する場合、これは飽和環でも不飽和環でもよく、例
えばピロリジル基、ピロリル基、ピペリジノ基、モルホ
リノ基などを挙げることができるが、好ましいのはピロ
リル基である。
【００１８】Ｒ4が１〜３個のアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子で置換されたフェニル基である場合
の例としては、トリル基、キシリル基、メシチル基、エ
チルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェ
ニル基、３，４‐ジメトキシフェニル‐（１）基、クロ
ロフェニル基又はジクロロフェニル基を挙げることがで
きる。
基又はハロゲン原子で置換されたフェニル基である場合
の例としては、トリル基、キシリル基、メシチル基、エ
チルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェ
ニル基、３，４‐ジメトキシフェニル‐（１）基、クロ
ロフェニル基又はジクロロフェニル基を挙げることがで
きる。
【００１９】そして、一般式（Ｉ）の化合物で特に好ま
しいのは、Ｒ1が環状アミノ基、メトキシ基又は水素原
子、Ｒ2が水素原子又はメトキシ基、Ｒ3がエチル基、ヘ
キシル基又は４‐ジメチル‐１‐メチルブチル‐（１）
基、Ｒ4がフェニル基、Ｒ5とＲ6がそれぞれメチル基で
あるかあるいはＲ5とＲ6とが酸素を介して連結してモル
ホリノ基を形成している場合であって、さらに好ましい
のは、Ｒ1が環状アミノ基、Ｒ2が水素原子、Ｒ3がエチ
ル基、Ｒ4がフェニル基、Ｒ5及びＲ6がメチル基である
場合である。
しいのは、Ｒ1が環状アミノ基、メトキシ基又は水素原
子、Ｒ2が水素原子又はメトキシ基、Ｒ3がエチル基、ヘ
キシル基又は４‐ジメチル‐１‐メチルブチル‐（１）
基、Ｒ4がフェニル基、Ｒ5とＲ6がそれぞれメチル基で
あるかあるいはＲ5とＲ6とが酸素を介して連結してモル
ホリノ基を形成している場合であって、さらに好ましい
のは、Ｒ1が環状アミノ基、Ｒ2が水素原子、Ｒ3がエチ
ル基、Ｒ4がフェニル基、Ｒ5及びＲ6がメチル基である
場合である。
【００２０】この（Ａ）成分として用いられる化合物を
例示すれば、１‐（４‐ジメチルアミノベンゾイル）‐
１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパン、１‐（４
‐モルホリノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミノ‐１‐
ベンジルプロパン、１‐（４‐モルホリノベンゾイル）
‐１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルヘプタン、１‐
（４‐ジメチルアミノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミ
ノ‐１‐ベンジル‐２，４，４‐トリメチルペンタン、
１‐（４‐ピロリジルベンゾイル）‐１‐ジメチルアミ
ノ‐１‐ベンジルプロパン、１‐（３‐メトキシ‐４‐
ジメチルアミノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミノ‐１
‐ベンジルプロパン、１‐（４‐ジメチルアミノベンゾ
イル）‐１‐モルホリノ‐１‐ベンジルプロパン、２‐
ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐フェニルブタノン
‐（１）、２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（４‐メトキシフェニル）‐ブタノン‐（１）、２‐ベ
ンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐メチルフェニ
ル）‐ブタノン‐（１）、２‐ベンジル‐２‐ジメチル
アミノ‐１‐（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノ
ン‐（１）などを挙げることができるが、好ましいもの
は１‐（４‐モルホリノベンゾイル）‐１‐ジメチルア
ミノ‐１‐ベンジルプロパンと２‐ベンジル‐２‐ジメ
チルアミノ‐１‐（４‐メトキシフェニル）ブタノン‐
（１）と２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノン‐（１）で
あり、特に好ましいのは、１‐（４‐モルホリノベンゾ
イル）‐１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパンで
ある。そのほかヨーロッパ特許第２８４，５６１号明細
書に記載されたものも用いることができる。
例示すれば、１‐（４‐ジメチルアミノベンゾイル）‐
１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパン、１‐（４
‐モルホリノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミノ‐１‐
ベンジルプロパン、１‐（４‐モルホリノベンゾイル）
‐１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルヘプタン、１‐
（４‐ジメチルアミノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミ
ノ‐１‐ベンジル‐２，４，４‐トリメチルペンタン、
１‐（４‐ピロリジルベンゾイル）‐１‐ジメチルアミ
ノ‐１‐ベンジルプロパン、１‐（３‐メトキシ‐４‐
ジメチルアミノベンゾイル）‐１‐ジメチルアミノ‐１
‐ベンジルプロパン、１‐（４‐ジメチルアミノベンゾ
イル）‐１‐モルホリノ‐１‐ベンジルプロパン、２‐
ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐フェニルブタノン
‐（１）、２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（４‐メトキシフェニル）‐ブタノン‐（１）、２‐ベ
ンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐メチルフェニ
ル）‐ブタノン‐（１）、２‐ベンジル‐２‐ジメチル
アミノ‐１‐（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノ
ン‐（１）などを挙げることができるが、好ましいもの
は１‐（４‐モルホリノベンゾイル）‐１‐ジメチルア
ミノ‐１‐ベンジルプロパンと２‐ベンジル‐２‐ジメ
チルアミノ‐１‐（４‐メトキシフェニル）ブタノン‐
（１）と２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノン‐（１）で
あり、特に好ましいのは、１‐（４‐モルホリノベンゾ
イル）‐１‐ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパンで
ある。そのほかヨーロッパ特許第２８４，５６１号明細
書に記載されたものも用いることができる。
【００２１】前記一般式（ＩＩ）中のＲ7が炭素数１〜
４のアルコキシ基で置換されたアルキル基の場合の例と
しては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、エトキシエチル基などがあるが、好ましい
のはメトキシエチル基である。
４のアルコキシ基で置換されたアルキル基の場合の例と
しては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、エトキシエチル基などがあるが、好ましい
のはメトキシエチル基である。
【００２２】この一般式（ＩＩ）で表わされる化合物す
なわち（Ｂ）成分の中で好適なのは、式中のＲ7がメチ
ル基、エチル基又は１‐メチルプロピル‐（１）基、特
にメチル基であって、Ｒ8がフェニル基である化合物で
ある。
なわち（Ｂ）成分の中で好適なのは、式中のＲ7がメチ
ル基、エチル基又は１‐メチルプロピル‐（１）基、特
にメチル基であって、Ｒ8がフェニル基である化合物で
ある。
【００２３】この（Ｂ）成分として用いられる化合物の
例としては、α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセト
フェノン、α，α‐ジエトキシ‐α‐フェニルアセトフ
ェノン、α，α‐ジ（１‐メチルプロポキシ）‐α‐フ
ェニルアセトフェノンを挙げることができるが、特に好
ましいのは、α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセト
フェノンである。
例としては、α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセト
フェノン、α，α‐ジエトキシ‐α‐フェニルアセトフ
ェノン、α，α‐ジ（１‐メチルプロポキシ）‐α‐フ
ェニルアセトフェノンを挙げることができるが、特に好
ましいのは、α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセト
フェノンである。
【００２４】一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表わさ
れる化合物すなわち（Ａ）成分及び（Ｂ）成分は、いず
れも公知方法例えば米国特許第４，２８７，３６７号明
細書、ヨーロッパ特許第８５，０３１号及び第２８４，
５６１号明細書に記載されている方法によって製造する
ことができる。前記一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で
表わされる化合物すなわち（Ａ）成分及び（Ｂ）成分
は、それぞれ１種用いてもよいし、２種以上を組み合わ
せて用いてもよく、また、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の
配合割合は、通常モル比で１：１０ないし１０：１、好
ましくは１：５ないし５：１の範囲で選ばれる。この配
合割合が前記範囲を逸脱すると高感度、すなわち高い重
合活性を示す光重合性組成物が得られにくく、本発明の
目的が十分に達せられない。
れる化合物すなわち（Ａ）成分及び（Ｂ）成分は、いず
れも公知方法例えば米国特許第４，２８７，３６７号明
細書、ヨーロッパ特許第８５，０３１号及び第２８４，
５６１号明細書に記載されている方法によって製造する
ことができる。前記一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で
表わされる化合物すなわち（Ａ）成分及び（Ｂ）成分
は、それぞれ１種用いてもよいし、２種以上を組み合わ
せて用いてもよく、また、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の
配合割合は、通常モル比で１：１０ないし１０：１、好
ましくは１：５ないし５：１の範囲で選ばれる。この配
合割合が前記範囲を逸脱すると高感度、すなわち高い重
合活性を示す光重合性組成物が得られにくく、本発明の
目的が十分に達せられない。
【００２５】本発明組成物においては、光重合開始剤と
して、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外に、所望に応じ通
常使用されている光重合開始剤も併用することができ
る。このような光重合開始剤としては、例えばベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、チオキサントン、〔（１，６‐ｎ‐クメ
ン）（ｎ‐シクロペンタジエニル）鉄〕＋・六フッ化リ
ン酸−、２‐メチル‐〔４‐（メチルチオ）フェニル〕
‐２‐モルホリノプロパン‐１‐オンなどを挙げること
ができる。所望に応じ用いられるこれらの光重合開始剤
の配合量は、光重合開始剤全量の３０重量％を超えない
範囲で選ぶことが望ましく、この範囲を超えると得られ
る光重合性組成物を厚膜で使用する場合、実用上十分な
感度が得られにくい。
して、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外に、所望に応じ通
常使用されている光重合開始剤も併用することができ
る。このような光重合開始剤としては、例えばベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、チオキサントン、〔（１，６‐ｎ‐クメ
ン）（ｎ‐シクロペンタジエニル）鉄〕＋・六フッ化リ
ン酸−、２‐メチル‐〔４‐（メチルチオ）フェニル〕
‐２‐モルホリノプロパン‐１‐オンなどを挙げること
ができる。所望に応じ用いられるこれらの光重合開始剤
の配合量は、光重合開始剤全量の３０重量％を超えない
範囲で選ぶことが望ましく、この範囲を超えると得られ
る光重合性組成物を厚膜で使用する場合、実用上十分な
感度が得られにくい。
【００２６】本発明組成物においては、光重合開始剤の
配合量は、該組成物全量に基づき、通常０．０５〜２０
重量％、好ましくは０．１〜１０重量％の範囲で選ばれ
る。この量が０．０５重量％未満では紫外線などの活性
光線を照射した場合に、エチレン性不飽和化合物の重合
を開始させるためのラジカル発生量が少なく、重合が進
行しにくいおそれがあるし、２０重量％を超えると内部
硬化が不十分になったり、感光性が低下したりする傾向
がみられる。
配合量は、該組成物全量に基づき、通常０．０５〜２０
重量％、好ましくは０．１〜１０重量％の範囲で選ばれ
る。この量が０．０５重量％未満では紫外線などの活性
光線を照射した場合に、エチレン性不飽和化合物の重合
を開始させるためのラジカル発生量が少なく、重合が進
行しにくいおそれがあるし、２０重量％を超えると内部
硬化が不十分になったり、感光性が低下したりする傾向
がみられる。
【００２７】また、エチレン性不飽和結合をもつ付加重
合性化合物の配合量は、通常線状ベースポリマー１００
重量部当り２〜３００重量部、好ましくは５〜２００重
量部の範囲で選ばれる。この量が２重量部未満では光架
橋密度が低く、感光性が不十分であったり、現像液に対
する溶解度差が大きくならないため現像許容度が低かっ
たり、あるいは硬化物の機械的強度が低かったりして好
ましくないし、３００重量部を超えると固型版材として
の形状を保持しにくくなり、好ましくない。
合性化合物の配合量は、通常線状ベースポリマー１００
重量部当り２〜３００重量部、好ましくは５〜２００重
量部の範囲で選ばれる。この量が２重量部未満では光架
橋密度が低く、感光性が不十分であったり、現像液に対
する溶解度差が大きくならないため現像許容度が低かっ
たり、あるいは硬化物の機械的強度が低かったりして好
ましくないし、３００重量部を超えると固型版材として
の形状を保持しにくくなり、好ましくない。
【００２８】本発明組成物は、線状ベースポリマーとエ
チレン性不飽和結合をもつ付加重合性化合物と光重合開
始剤及び必要に応じて用いられる添加成分を必要量の溶
剤に溶解した溶液の形で通常の方法により流延し、乾燥
するか、又は機械的に混合し、０．４〜７ｍｍの厚さに
調整して使用される。この際用いられる溶剤としては、
水、アルコール、ケトン系溶剤が好適である。
チレン性不飽和結合をもつ付加重合性化合物と光重合開
始剤及び必要に応じて用いられる添加成分を必要量の溶
剤に溶解した溶液の形で通常の方法により流延し、乾燥
するか、又は機械的に混合し、０．４〜７ｍｍの厚さに
調整して使用される。この際用いられる溶剤としては、
水、アルコール、ケトン系溶剤が好適である。
【００２９】所定の成分を混合して本発明組成物を調製
する間に、早期重合が起るのを防止するために、熱重合
禁止剤として、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ
‐メトキシフェノール、β‐ナフトール、立体障害型フ
ェノール、例えば２，６‐ジ第三ブチル‐ｐ‐クレゾー
ルなどを用いることができる。また、少量の紫外線吸収
剤例えばベンゾトリアゾール型、ベンゾフェノン型又は
オキザールアニリド型の紫外線吸収剤や立体障害型アミ
ン（ＨＡＬＳ）のような遮光剤を加えることもできる。
する間に、早期重合が起るのを防止するために、熱重合
禁止剤として、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ
‐メトキシフェノール、β‐ナフトール、立体障害型フ
ェノール、例えば２，６‐ジ第三ブチル‐ｐ‐クレゾー
ルなどを用いることができる。また、少量の紫外線吸収
剤例えばベンゾトリアゾール型、ベンゾフェノン型又は
オキザールアニリド型の紫外線吸収剤や立体障害型アミ
ン（ＨＡＬＳ）のような遮光剤を加えることもできる。
【００３０】さらに、暗所に保存する際の安定性を増大
させるために、ナフテン酸銅、ステアリン酸銅、オクタ
ン酸銅のような銅化合物、トリフェニルホスフィン、ト
リブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リフェニル又は亜リン酸トリベンジルのようなリン化合
物、テトラメチルアンモニウムクロリド又はトリメチル
ベンジルアンモニウムクロリドのような第四級アンモニ
ウム化合物又はＮ‐ジエチルヒドロキシルアミンのよう
なヒドロキシルアミン誘導体を添加することができる。
させるために、ナフテン酸銅、ステアリン酸銅、オクタ
ン酸銅のような銅化合物、トリフェニルホスフィン、ト
リブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リフェニル又は亜リン酸トリベンジルのようなリン化合
物、テトラメチルアンモニウムクロリド又はトリメチル
ベンジルアンモニウムクロリドのような第四級アンモニ
ウム化合物又はＮ‐ジエチルヒドロキシルアミンのよう
なヒドロキシルアミン誘導体を添加することができる。
【００３１】次に、大気中の酸素による阻害効果を除く
ためには、パラフィンその他のロウ状物質を光重合性組
成物に添加するのが好ましい。このものは重合体への溶
解性が低いので、重合が開始すると表面に浮き出し、空
気の侵入を防止する透明な表面層を形成する。
ためには、パラフィンその他のロウ状物質を光重合性組
成物に添加するのが好ましい。このものは重合体への溶
解性が低いので、重合が開始すると表面に浮き出し、空
気の侵入を防止する透明な表面層を形成する。
【００３２】さらに、所定の波長の光は吸収するが、重
合開始剤に必要な吸収エネルギーは通過させるか、ある
いはそれ自体で付加的な開始剤として作用する増感剤も
用いることができるが、このようなものとしては、例え
ばチオキサントン、アントラセン、アントラキノン又は
クマリン誘導体がある。同様に、着色組成中で連鎖移動
剤として作用するので特に重要なアミン型促進剤とし
て、Ｎ‐メチルジエタノールアミン、トリエチルアミ
ン、ｐ‐ジメチルアミノ安息香酸エチル、ミヒエルケト
ンなどを添加することができる。このアミンの作用は、
ベンゾフェノン型のような芳香族ケトンを加えて強化す
ることができる。その他の促進剤として２‐メルカプト
‐５‐メチルチオ‐１，３，４‐チアゾールを用いるこ
ともできる。
合開始剤に必要な吸収エネルギーは通過させるか、ある
いはそれ自体で付加的な開始剤として作用する増感剤も
用いることができるが、このようなものとしては、例え
ばチオキサントン、アントラセン、アントラキノン又は
クマリン誘導体がある。同様に、着色組成中で連鎖移動
剤として作用するので特に重要なアミン型促進剤とし
て、Ｎ‐メチルジエタノールアミン、トリエチルアミ
ン、ｐ‐ジメチルアミノ安息香酸エチル、ミヒエルケト
ンなどを添加することができる。このアミンの作用は、
ベンゾフェノン型のような芳香族ケトンを加えて強化す
ることができる。その他の促進剤として２‐メルカプト
‐５‐メチルチオ‐１，３，４‐チアゾールを用いるこ
ともできる。
【００３３】本発明の厚膜感光性印刷版用光重合性組成
物には、その他の慣用成分として、充填剤、顔料、染
料、接着剤、湿潤剤、流動調節剤などを所望に応じて添
加することができる。
物には、その他の慣用成分として、充填剤、顔料、染
料、接着剤、湿潤剤、流動調節剤などを所望に応じて添
加することができる。
【００３４】次に、本発明方法に従って、厚膜印刷版を
製造するのに好適な実施態様の１例を示すと先ず鉄、ア
ルミニウムなどの金属板又はポリエステルなどのプラス
チックシートの上に該組成物を押し出し成形機などを用
いて所定の厚さに流延し、これを乾燥機中で乾燥して感
光性印刷版材を作成し、次いで紫外線を発光する低圧水
銀灯、高圧水銀灯、蛍光灯などの光源を用い、所要のマ
スクパターンを介して感光層に紫外線を照射する。紫外
線が照射された部分は光重合反応により硬化するので、
非照射部を現像液を用いて溶解除去することにより、所
望の印刷版が得られる。
製造するのに好適な実施態様の１例を示すと先ず鉄、ア
ルミニウムなどの金属板又はポリエステルなどのプラス
チックシートの上に該組成物を押し出し成形機などを用
いて所定の厚さに流延し、これを乾燥機中で乾燥して感
光性印刷版材を作成し、次いで紫外線を発光する低圧水
銀灯、高圧水銀灯、蛍光灯などの光源を用い、所要のマ
スクパターンを介して感光層に紫外線を照射する。紫外
線が照射された部分は光重合反応により硬化するので、
非照射部を現像液を用いて溶解除去することにより、所
望の印刷版が得られる。
【００３５】
【発明の効果】本発明の厚膜感光性印刷版用光重合性組
成物は、光重合開始剤として特定の化合物の組合せを使
用したことにより、従来の光重合性組成物では得られな
かった高感度化を達成することができるため、生産性の
向上された感光性印刷版材用として有用である。
成物は、光重合開始剤として特定の化合物の組合せを使
用したことにより、従来の光重合性組成物では得られな
かった高感度化を達成することができるため、生産性の
向上された感光性印刷版材用として有用である。
【００３６】
【実施例】次に、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの例によってなんら限定されるもの
ではない。
が、本発明はこれらの例によってなんら限定されるもの
ではない。
【００３７】実施例１〜７、比較例１〜４ ポリスチレン・ポリブタジエン・ポリスチレンのブロッ
クコポリマー（旭化成工業（株）製タフブレン） １０
０重量部 分子量１０００のポリブタジエン（日本曹達（株）製Ｎ
ＩＳＳＯ ＰＢ Ｂ７００） ５０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート １０重量部 表１記載の光重合開始剤 ３重量部 ２，６‐ジブチル‐４‐メチルフェノール ０．０５重
量部 メチルエチルケトン １００重量部
クコポリマー（旭化成工業（株）製タフブレン） １０
０重量部 分子量１０００のポリブタジエン（日本曹達（株）製Ｎ
ＩＳＳＯ ＰＢ Ｂ７００） ５０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート １０重量部 表１記載の光重合開始剤 ３重量部 ２，６‐ジブチル‐４‐メチルフェノール ０．０５重
量部 メチルエチルケトン １００重量部
【００３８】上記組成をフラスコ中で還流下に約２時間
かきまぜながら溶解して光重合性組成物を得た。これを
接着層が設けてある１００μｍ厚さのポリエステルシー
ト（ベースフイルム）上に乾燥後厚みが２．７４ｍｍと
なるように塗布し、６０℃で１２時間乾燥した。次に１
００μｍ厚さのポリエステルシートにアルコールに可溶
性のポリアミド（ヘンケル社製マクロメルト６９００，
登録商標）を乾燥膜厚５μｍに塗布したシートを表面に
ラミネートして感光性印刷版材を作成した。この版材を
ベースフイルム側から蛍光ランプ〔（株）東芝製ＦＬ４
０ＢＬ〕を用い、２ｃｍの距離から１分３０秒間紫外線
を版材全面に照射し、次いでこれとは反対面のポリエス
テルシートをはく離してステップタブレット（コダック
社製）及びテストチャートマスクを並べて重ね減圧密着
させて、前記の蛍光ランプにて１５分間紫外線を照射
後、トリクロロエタン：ブチルアルコール重量比３：１
から成る現像液にてブラシ式溶出機（デュポン社製 Ｃ
ｙｒｅｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）により１０分間現像し
た。その後４０℃で１時間乾燥して印刷版を作成した。
かきまぜながら溶解して光重合性組成物を得た。これを
接着層が設けてある１００μｍ厚さのポリエステルシー
ト（ベースフイルム）上に乾燥後厚みが２．７４ｍｍと
なるように塗布し、６０℃で１２時間乾燥した。次に１
００μｍ厚さのポリエステルシートにアルコールに可溶
性のポリアミド（ヘンケル社製マクロメルト６９００，
登録商標）を乾燥膜厚５μｍに塗布したシートを表面に
ラミネートして感光性印刷版材を作成した。この版材を
ベースフイルム側から蛍光ランプ〔（株）東芝製ＦＬ４
０ＢＬ〕を用い、２ｃｍの距離から１分３０秒間紫外線
を版材全面に照射し、次いでこれとは反対面のポリエス
テルシートをはく離してステップタブレット（コダック
社製）及びテストチャートマスクを並べて重ね減圧密着
させて、前記の蛍光ランプにて１５分間紫外線を照射
後、トリクロロエタン：ブチルアルコール重量比３：１
から成る現像液にてブラシ式溶出機（デュポン社製 Ｃ
ｙｒｅｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）により１０分間現像し
た。その後４０℃で１時間乾燥して印刷版を作成した。
【００３９】このようにして得られた印刷版の感度をコ
ダック社製のステップタブレットの段数で、また再現性
を１平方インチ当り、縦横に１３３線で分けて得られる
単位区画内の網点面積率（％）でそれぞれ表わし、表１
に示した。
ダック社製のステップタブレットの段数で、また再現性
を１平方インチ当り、縦横に１３３線で分けて得られる
単位区画内の網点面積率（％）でそれぞれ表わし、表１
に示した。
【００４０】
【表１】
【００４１】（注）表中の光重合開始剤の（Ａ‐１），
（Ａ‐２），（Ａ‐３）及び（Ｂ）はそれぞれ次の化合
物を表わす。 （Ａ‐１）：１‐（４‐モルホリノベンゾイル）‐１‐
ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパン （Ａ‐２）：２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（４‐メトキシフェニル）‐ブタノン‐（１） （Ａ‐３）：２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノン‐（１） （Ｂ）：α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセトフェ
ノン
（Ａ‐２），（Ａ‐３）及び（Ｂ）はそれぞれ次の化合
物を表わす。 （Ａ‐１）：１‐（４‐モルホリノベンゾイル）‐１‐
ジメチルアミノ‐１‐ベンジルプロパン （Ａ‐２）：２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（４‐メトキシフェニル）‐ブタノン‐（１） （Ａ‐３）：２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐
（３，４‐ジメトキシフェニル）‐ブタノン‐（１） （Ｂ）：α，α‐ジメトキシ‐α‐フェニルアセトフェ
ノン
【００４２】実施例８，９、比較例５，６ 表２に示す光重合開始剤を用いること以外は実施例１と
同じ組成の光重合性組成物を調製し、これをガラスビー
カー中に入れてその表面上２ｃｍの距離から蛍光ランプ
〔（株）東芝製ＦＬ４０ＢＬ〕で３分間照射した。次
に、これを実施例１と同様にして現像処理し、未硬化部
分を洗い流し、残留する固形分の断面の厚さを測定し
た。その結果を表２に示す。
同じ組成の光重合性組成物を調製し、これをガラスビー
カー中に入れてその表面上２ｃｍの距離から蛍光ランプ
〔（株）東芝製ＦＬ４０ＢＬ〕で３分間照射した。次
に、これを実施例１と同様にして現像処理し、未硬化部
分を洗い流し、残留する固形分の断面の厚さを測定し
た。その結果を表２に示す。
【００４３】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｇ０３Ｆ 7/033 (72)発明者 高木 利哉 神奈川県藤沢市亀井野1408−２ メゾン エスポリールＡ−３ (72)発明者 青山 俊身 神奈川県藤沢市遠藤539番地の４ 湘南 ライフタウン内Ｇ−31−８ (56)参考文献 特開 平２−188756（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−284213（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−230152（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−200535（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−185542（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/00,7/027,7/031,7/033
Claims (16)
- 【請求項１】 線状ベースポリマーとエチレン性不飽和
結合をもつ付加重合性化合物と光重合開始剤とを必須成
分とする光重合性組成物において、光重合開始剤とし
て、（Ａ）一般式 【化１】 （式中Ｒ1及びＲ2は、それぞれ水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン
原子、ジアルキルアミノ基又は環状アミノ基、Ｒ3は炭
素数１〜８のアルキル基、Ｒ4はビニル基、フェニル基
又は１〜３個のアルキル基、アルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基、Ｒ5及びＲ6はそれぞ
れ炭素数１〜４のアルキル基であるか、あるいはＲ5と
Ｒ6が直接に又は酸素原子若しくは窒素原子を介して連
結し、五員若しくは六員複素環を形成するものである）
で表わされる化合物と、（Ｂ）一般式 【化２】 （式中のＲ7は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１
〜４のアルコキシ基で置換された炭素数１〜８のアルキ
ル基、Ｒ8は水素原子、フェニル基又は炭素数１〜４の
アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基若しくはハロ
ゲン原子で置換されたフェニル基である）で表わされる
化合物との組合せを用いたことを特徴とする厚膜感光性
印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項２】 化１中のＲ4がフェニル基である請求項
１記載の厚膜感光性印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項３】 化１中のＲ1が水素原子、メチル基、メ
トキシ基、ジメチルアミノ基、モルホリノ基、ピロリル
基、ピペリジノ基又はピロリジル基であり、Ｒ2が水素
原子又はメトキシ基であり、Ｒ5及びＲ6がそれぞれメチ
ル基であるか、あるいは両者が酸素原子を介して連結
し、それらが結合している窒素原子と共にモルホリン環
を形成するものである請求項２記載の厚膜感光性印刷版
用光重合性組成物。 - 【請求項４】 化１中のＲ1が水素原子、メチル基又は
メトキシ基であり、Ｒ3がエチル基であり、Ｒ5及びＲ6
がメチル基である請求項３記載の厚膜感光性印刷版用光
重合性組成物。 - 【請求項５】 化１中のＲ1がジアルキルアミノ基又は
環状アミノ基である請求項２記載の厚膜感光性印刷版用
光重合性組成物。 - 【請求項６】 環状アミノ基がモルホリノ基である請求
項５記載の厚膜感光性印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項７】 化２中のＲ8がフェニル基である請求項
１記載の厚膜感光性印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項８】 化２中のＲ8がフェニル基であり、Ｒ7が
メチル基である請求項１記載の厚膜感光性印刷版用光重
合性組成物。 - 【請求項９】 （Ａ）成分と（Ｂ）成分とのモル比が
１：１０ないし１０：１である請求項１記載の厚膜感光
性印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項１０】 （Ａ）成分と（Ｂ）成分とのモル比が
１：５ないし５：１である請求項９記載の厚膜感光性印
刷版用光重合性組成物。 - 【請求項１１】 光重合開始剤の含有量が０．０５〜２
０重量％である請求項１記載の厚膜感光性印刷版用光重
合性組成物。 - 【請求項１２】 光重合開始剤の含有量が０．１〜１０
重量％である請求項１１記載の厚膜感光性印刷版用光重
合性組成物。 - 【請求項１３】 さらに別の光重合開始剤を含む請求項
１記載の厚膜感光性印刷版用光重合性組成物。 - 【請求項１４】 エチレン性不飽和結合をもつ付加重合
性化合物の量が線状ベースポリマー１００重量部当り、
２〜３００重量部である請求項１記載の厚膜感光性印刷
版用光重合性組成物。 - 【請求項１５】 エチレン性不飽和結合をもつ付加重合
性化合物の量が線状ベースポリマー１００重量部当り、
５〜２００重量部である請求項１４記載の厚膜感光性印
刷版用光重合性組成物。 - 【請求項１６】 請求項１ないし１５のいずれかに記載
の厚膜感光性印刷版用光重合性組成物から成る、厚さ
０．４〜７ｍｍの層を担持した基板を画像形成露光処理
したのち、層の未露光部分を除去することを特徴とする
厚膜感光性印刷版の製造方法。
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