JP2001100408A - 光重合可能な混合物およびそれから製造された記録材料 - Google Patents

光重合可能な混合物およびそれから製造された記録材料

Info

Publication number
JP2001100408A
JP2001100408A JP2000248474A JP2000248474A JP2001100408A JP 2001100408 A JP2001100408 A JP 2001100408A JP 2000248474 A JP2000248474 A JP 2000248474A JP 2000248474 A JP2000248474 A JP 2000248474A JP 2001100408 A JP2001100408 A JP 2001100408A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymerizable
group
weight
mixture
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000248474A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001100408A5 (ja
Inventor
Thorsten Lifka
トルステン・リフカ
Sabine Kosack
ザビネ・コザク
Thomas Leichsenring
トマス・ライヒゼンリング
Hans-Joachim Schlosser
ハンス−ヨアヒム・シユロツサー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JP2001100408A publication Critical patent/JP2001100408A/ja
Publication of JP2001100408A5 publication Critical patent/JP2001100408A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外光及び可視光に対し高い感度を示し、特
にコンピューター製版の記録材料として好適な光重合可
能な混合物の提供。 【解決手段】 重合体結合剤、少なくとも1種の光で酸
化し得る基および2個またはそれ以上のエチレングリコ
ール単位を含む少なくとも1種のポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレートを有する少なくとも1種の重
合可能な化合物を含んでいるラジカル的に光重合し得る
成分、光で還元し得る染料およびメタロセンを含有する
光重合可能な混合物に関する。この混合物は特に高分解
能を示す高速度感光性記録材料、特に小さいネガの字体
に対する記録材料の製造に使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は重合体結合剤、フリーラジカル的
に光重合し得る成分、光で還元し得る染料およびメタロ
センを含む光重合可能な混合物に関する。さらに本発明
は支持体および光重合可能な混合物の層から成る記録材
料に関する。この記録材料は特にオフセット印刷用の版
の製造に用いられる。
【0002】この種の光重合可能な混合物は既に公知で
ある。例えばヨーロッパ特許A0364 735号およ
び同A 447 930号には、重合体結合剤および光
重合可能な化合物の他に、光で還元し得る染料、光によ
って開裂し得るトリハロメチル化合物およびメタロセン
化合物の組合せを含む混合物が記載されている。光重合
可能な化合物は例えば2価または多価のアルコールのア
クリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルである。
特に好適な具体化例においては、光重合可能な化合物は
さらに少なくとも1個の光で酸化し得る基と少なくとも
1個のウレタン基を分子中に含む2価または多価のアル
コールの(メタ)アクリル酸エステルである。この混合
物は、特に可視スペクトルの領域において重合速度が速
いことを特徴としている。従ってこれから製造された記
録材料は可視レーザー光、例えばアルゴンイオン・レー
ザーによって励起されたレーザー光(488nm)で像
を記録させるのに特に適している。ヨーロッパ特許A
573 805号には、結合剤の割合を減らしメタロセ
ンの割合を増やすことにより感光度をさらに増加させる
可能性が記載されている。ヨーロッパ特許A 445
624号には、ジシクロペンタジエニル−ビス−(2,
4,6−トリフルオロフェニル)チタンおよびジルコニ
ウムがこの混合物に含ませるのに非常に適したメタロセ
ンであり、近紫外領域および可視領域において高い感光
性を有し、また良好な熱的貯蔵安定性をもっていること
が記載されている。
【0003】最低限度の保守しか必要としない低価格の
レーザーが使用できるような記録材料の最適な速度を得
ることに努力が向けられている。しかしこの種のレーザ
ーは一般に低エネルギーのレーザーであり、感光度の高
い材料に対してしか使用できない。他方光で酸化し得る
基を含む単量体を用いると、必要な高い感光速度が達成
される。しかしこれらの単量体は水性のアルカリ現像液
にはあまり溶解せず、従って全く或いは僅かしか露光さ
れなかったネガとして作用する感光層の区域で現像性が
損なわれる。実際にこの欠点は、現像しても像のある区
域と無い区域との差が十分でなく、版に現像した後では
像の無い区域のあまり露光されなかった部分は像のある
区域と無い区域との間の分離区域の中に入ってしまうと
いう形で明瞭に現れる。特にコンピュータ製版における
ハーフトーンの要素において、版の上に現像されたハー
フトーンのドットは露光されたドットが本来もっている
大きさよりも大きくなる。この予想外のドットの利得の
結果、コンピュータ製版法によってつくられるネガの字
体(type)で大きさが5ポイントよりも小さいもの
は明らかにうまく再現されないであろう。
【0004】従って紫外光および可視光に対して高い感
度を示し、特にコンピュータ製版のレーザー記録材料と
して適した光重合可能な混合物を提供する必要が従来か
ら存在して来た。この記録材料は、特に現像後にドット
の利得の著しい低下が全くないか或いは僅かしかなく、
従って小さいネガの字体を正しく詳細に再現するもので
なければならない。さらにこの記録材料からつくられた
印刷用の版は長期間印刷に使用できなければならない。
【0005】本発明においてこの目的は、1種またはそ
れ以上の光で酸化し得る基を含む光重合可能な化合物の
他に、さらに少なくとも2個のエチレングリコール単位
を含むポリエチレングリコールジ(アルク)アクリレー
トを含んだ上記種類の混合物を用いることによって達成
されることが見出された。
【0006】本発明に従えば、重合体結合剤、ラジカル
的に光重合可能な成分、光で還元し得る染料およびメタ
ロセンから成り、該光重合可能な成分は少なくとも1種
の光で酸化し得る基を含む少なくとも1種の光重合可能
な成分と、2個またはそれ以上のエチレングリコール単
位を含む少なくとも1種のポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする光重合可
能な混合物が提供される。
【0007】好適具体化例においてはこの混合物はまた
予め適切な有機重合体に分散させたフタロシアニン顔料
を含んでいる。
【0008】結合剤は有機重合体の完全な系列から選ぶ
ことができる。異なった結合剤の混合物も使用すること
ができる。有用な結合剤には例えば塩素化されたポリア
ルキレン(特に塩素化されたポリエチレンおよび塩素化
されたポリプロピレン)、ポリ(メタ)アクリル酸アル
キルエステルもしくはアルケニルエステル(特にポリ
(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エ
チル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)ア
クリル酸イソブチル、ポリ(メタ)アクリル酸ヘキシ
ル、ポリ(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルおよび
ポリ(メタ)アクリル酸アリル)、(メタ)アクリル酸
アルキルエステルもしくはアルケニルエステルと他の共
重合可能な単量体(特に(メタ)アクリロニトリル、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、スチレンおよび/またはブ
タジエン)との共重合体、ポリ塩化ビニル(PVC)、
塩化ビニル/アクリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニ
リデン(PVDC)、塩化ビニリデン/アクリロニトリ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、
ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル/スチレン共
重合体、(メタ)アクリルアミド/(メタ)アクリル酸
アルキル共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/ス
チレン(ABS)三元共重合体、ポリスチレン、ポリ
(α−メチルスチレン)、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリエステル、メチルセルロース、エチルセルロース、
アセチルセルロース、ヒドロキシ−(C1〜C4)−アル
キルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビ
ニルホルマールおよびポリビニルブチラールが含まれ
る。水に不溶な結合剤が特に適しているが、アルカリ水
溶液に溶解するかその中で少なくとも膨潤し得る結合剤
も適している。他の有効な結合剤は通常の有機性被覆用
溶媒に可溶な結合剤である。
【0009】本発明の目的に対しては、カルボキシル基
を含む結合剤、特にα,β−不飽和カルボン酸またはジ
カルボン酸(好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、ク
ロトン酸、ビニル酢酸、マレイン酸またはイタコン酸)
単位を含む共重合体が特に適している。有用な共重合体
の好適な例としては(メタ)アクリル酸単位および(メ
タ)アクリル酸アルキル、メタクリル酸アリルおよび/
または(メタ)アクリロニトリル単位を含む共重合体、
並びにクロトン酸単位および(メタ)アクリル酸アルキ
ルおよび/または(メタ)アクリロニトリル単位を含む
共重合体、および最後にビニル酢酸/(メタ)アクリル
酸アルキル共重合体がある。マレイン酸無水物またはマ
レイン酸モノアルキルエステル単位を含む共重合体も適
当である。これらの中には例えばマレイン酸無水物とス
チレン、置換スチレン、不飽和エーテルもしくはエステ
ルまたは不飽和脂肪族炭化水素単位を含む共重合体、お
よびこのような共重合体から得られるエステル化生成物
がある。他の適した結合剤としてはヒドロキシル含有重
合体をジカルボン酸の分子内無水物で変性して得られる
ものがある。本発明において「共重合体」という用語は
少なくとも2種の異なった単量体の単位を含む重合体で
あると理解されたい。従って三元共重合体およびさらに
高級の混合重合体も含むものとする。さらに他の有用な
結合剤は酸性水素原子を有する基が存在しそのいくつか
または全部が活性化されたイソシアネートと反応した重
合体である。このような重合体の例にはヒドロキシル含
有重合体を脂肪族または芳香族のスルフォニルイソシア
ネートまたはフォスフィン酸イソシアネートと反応させ
て得られる生成物がある。最後に脂肪族または芳香族の
ヒドロキシル基を有する重合体、例えばヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、ヒドロ
キシスチレンまたはビニルアルコール単位を含む共重合
体、並びにエポキシ樹脂で、十分な数の遊離のOH基を
含んでいるもの、およびヒドロキシル芳香族化合物(特
にフェノール、o−、m−またはp−クレゾールまたは
キシレノール)とアルデヒドまたはケトン(特にフォル
ムアルデヒドまたはアセトン)との縮合生成物も適して
いる。後者の生成物の中ではフェノール/フォルムアル
デヒド重縮合生成物、特にノヴォラックが特に適してい
る。
【0010】本発明に関連にして「(メタ)アクリル
酸」という用語は「アクリル酸」および/または「メタ
クリル酸」を意味するものとする。(メタ)アクリロニ
トリル、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリ
ルアミドについても同様な意味を表すものとする。
【0011】結合剤として使用する有機重合体は一般に
平均分子量Mwが600〜200,000、好ましくは
1,000〜100,000である。さらに酸価が10
〜250、好ましくは20〜200であるか、ヒドロキ
シル価が50〜750、好ましくは100〜500であ
る重合体が好適である。
【0012】結合剤の量は一般に混合物の非揮発成分の
全重量に関し10〜90重量%、好ましくは30〜80
重量%である。
【0013】少なくとも1個の光で酸化し得る基を含む
ラジカル的に重合可能な化合物は完全な系列の化合物か
ら選ぶことができる。適当な化合物の第1のグループは
第1級、第2級および特に第3級アミノ基をもつもので
ある。第3級アミノ基の他にさらに少なくとも1個の尿
素および/またはウレタン基を含む重合可能な化合物が
特に好適である。本発明に関連して「尿素基」と云う用
語は式>N−CO−N<をもつ基であって窒素原子の原
子価が水素原子および炭化水素基で飽和されているもの
を表す(主たる条件は2個の窒素原子の中のいずれかの
1個の原子価だけが1個の水素原子で飽和されているこ
とである)。しかし1個の窒素原子上の一つの原子価が
カルバモイル基(即ち−CO−NH−基)に結合しビュ
ーレット構造をつくっていることもできる。
【0014】光で酸化し得るアミノ、尿素またはチオ基
が複素環の構成要素にもなっている化合物も適してい
る。光で酸化し得るエノール基を含む化合物を使用する
こともできる。光で酸化し得る基の具体的な例はトリエ
タノーアミノ、トリフェニルアミノ、チオ尿素、イミダ
ゾール、オキサゾール、チアゾール、アセチルアセトニ
ル、N−フェニルグリシンおよびアスコルビン酸基であ
る。特に適した化合物は下記式(I)に対応する光で酸
化し得る基を含む単量体である。
【0015】
【化2】
【0016】ここでQは
【0017】
【化3】
【0018】を表し、Rは(C2〜C8)アルキル基、
(C2〜C8)ヒドロキシアルキル基または(C 6
14)アリール基であり、R1およびR2は独立に水素原
子、アルキルまたはアルコキシアルキル基を表し、R3
は水素原子、メチルまたはエチル基を表し、X1は炭素
数1〜12の直鎖または分岐した飽和炭化水素基を表
し、X2は(c+1)価の炭化水素基であって最大5個
のメチレン基が酸素原子によって置換されていることが
でき、D1およびD2は独立に炭素数1〜5の飽和炭化水
素基であり、Eは炭素数2〜12の2価の飽和炭化水素
基、環の中に最大2個の窒素、酸素および/または硫黄
原子を含み得る2価の5〜7員環の飽和の同素環式(iso
cyclic)または複素環式の基、炭素数6〜12の2価の
芳香族単環または二環式の同素環式の基、または2価の
5〜6員環の芳香族複素環式の基を表し、aは0〜4の
整数であり、bは0または1であり、cは1〜3の整数
であり、mは2〜4の整数であり、そしてnは1〜mの
整数である。
【0019】この種の化合物およびその製造法はヨーロ
ッパ特許A0 287 818号に広く記載されてい
る。一般式(I)の化合物が数個の基Rまたは角括弧の
間に示された構造の数個の基を含む場合、即ち(n−
m)>1でn>1の場合には、これらの基は同一である
か互いに相異なることができる。式(I)においてn=
mの化合物が特に好適である。この場合、すべての基は
重合可能な基を含んでいる。好ましくは係数a=1であ
り;数個の基が存在する場合a=0は1個以下の基に適
用できる。Rがアルキルまたはヒドロキシアルキル基で
ある場合には、Rは一般に2〜8、好ましくは2〜4個
の炭素原子を含んでいる。アリール基Rは一般に単核ま
たは複核であるが、単核であることが好ましく、(C1
〜C5)アルキルまたは(C1〜C5)アルコキシ基で置
換されていることができる。R1およびR2がアルキルま
たはアルコキシ基である場合、これらの基は好ましくは
1〜5個の炭素原子を含んでいる。R3は水素原子また
はメチル基であることが好ましい。X1は好ましくは直
鎖または分岐した脂肪族および/または脂環式の基であ
り、その炭素数は4〜10であることが好ましい。好適
具体化例においてはX2は2〜15個の炭素原子を含
み、特にこの量の炭素数を含む飽和の直鎖または分岐し
た脂肪族および/または脂環式の基である。これらの基
の中の最高5個のメチレン基は酸素原子によって置換さ
れていることができる。X2が純粋な炭素鎖から構成さ
れている場合には、この基は一般に2〜12個、好まし
くは2〜6個の炭素原子を有している。X2は炭素数5
〜10の脂環式の基、特にシクロヘキサンジイル基であ
ることもできる。D1,D2および両方の窒素原子により
形成される飽和の複素環式の環は一般に5〜10員環、
特に6員環である。従って後者の場合複素環式の環はピ
ペラジンおよびそれから誘導される基、ピペラジン−
1,4−ジイル基であることが好ましい。好適な具体化
例においては基Eは通常炭素数約2〜6のアルカンジイ
ル基である。好ましくは2価の5〜7員環の飽和の同素
環式の基Eはシクロヘキサンジイル基、特にシクロヘキ
サン−1,4−ジイル基である。2価の同素環式の芳香
族の基Eはo−、m−またはp−フェニレン基であるこ
とが好ましい。最後に2価の5又は6員環の芳香族複素
環式の基Eは複素環の中に好ましくは窒素および/また
は硫黄原子を含んでいる。cは好ましくは1、即ち角括
弧の中に示された基は一般に唯1個の重合可能な基、特
に唯1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を含んでい
る。
【0020】式(I)においてb=1であり、従って角
括弧の中で示される基の各々に2個のウレタン基を含む
化合物は、遊離のヒドロキシル基を含むアクリル酸エス
テルまたはアルクアクリル酸エステル(α−アルキルア
クリル酸エステル)を等モル量のジイソシアネートを用
いて公知方法で反応させることにより製造することがで
きる。次いで過剰のイソシアネート基を例えばトリス
(ヒドロキシアルキル)アミン、N,N’−ビス(ヒド
ロキシアルキル)ピペリジンまたはN,N,N’,N’
−テトラキス(ヒドロキシアルキル)アルキレンジアミ
ンと反応させる。これらの化合物の各々では個々のヒド
ロキシアルキル基はアルキルまたはアリール基Rによっ
て置換されていることができる。a=0の場合、その結
果は尿素グループとなる。ヒドロキシアルキルアミン原
料の例はジエタノールアミン、トリエタノールアミン、
トリス(2−ヒドロキシプロピル)アミン、トリス(2
−ヒドロキシブチル)アミンおよびアルキル−ビス−ヒ
ドロキシアルキルアミンである。適当なジイソシアネー
トの例はヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4
−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,4
−シクロヘキシレンジイソシアネート(=1,4−ジイ
ソシアナートシクロヘキサン)、および1,1,3−ト
リメチル−3−イソシアナートメチル−5−イソシアナ
ートシクロヘキサンである。使用されるヒドロキシル含
有エステルは好ましくはヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
およびヒドロキシイソプロピル(メタ)アクリレートで
ある。
【0021】式(I)においてb=0の重合可能な化合
物は上記のヒドロキシアルキルアミノ化合物をイソシア
ネート含有アクリル酸エステルまたはアルクアクリル酸
エステルと反応させることによって製造される。好適な
イソシアネート含有エステルは2−イソシアナートエチ
ル(メタ)アクリレートである。
【0022】本発明の目的に適した光で酸化し得る基を
含む他の重合可能な化合物は下記式(II)の化合物で
ある。
【0023】
【化4】
【0024】ここでa’およびb’は1〜4の整数であ
り、Q、R、R1、R2、R3、nおよびmは上記と同じ
意味を有し、Qは式>N−E’−N<の基であり、ここ
で基E’は下記式(III)に対応する。
【0025】
【化5】
【0026】ここでcは式(I)と同じ意味を有し、
(p)C64はp−フェニレンを表す。
【0027】式(II)の化合物は式(I)の化合物と
同様に製造されるが、この場合ヒドロキシルアルキルア
クリレートまたはアルクアクリレートとジイソシアネー
トとの反応生成物は対応するアクリル酸およびアルクア
クリル酸グリシドエステルによって置き換えられてい
る。式(II)の化合物およびその製造法はヨーロッパ
特許A0 316 706号に記載されている。
【0028】光で酸化し得る基を含む他の有用な重合可
能な化合物は式(IV)のアクリル酸エステルおよびア
ルクアクリル酸エステルである。
【0029】
【化6】
【0030】ここでQは
【0031】
【化7】
【0032】を表し、X1’は−Ci2i−または
【0033】
【化8】
【0034】を表し、D3は炭素数4〜8の飽和炭化水
素基を表し、これは窒素原子と一緒になって5または6
員環の複素環を形成し、Zは水素原子かまたは式CkH2K-
O-CO-NH(-X1-NH-CO-O)b-X2-O-CO-CR3=CH2の基を表し、
iおよびkは独立に1〜12の整数を表し、そしてn’
は1〜3の整数を表す。
【0035】aはQに結合した少なくとも一つの基にお
いては0である。
【0036】X1、R3、aおよびbは上記式(IV)に
おけるのと同じ意味を有し、X2は2価の炭化水素基で
あって、その最高5個のメチレン基が酸素原子で置換さ
れていることができる。この式において係数aは0また
は1であることが好ましく、iは好ましくは2〜10の
間の数を表す。好適な基Qはピペラジン−1,4−ジイ
ル(D1=D2=CH2−CH2)、ピペリジン−1−イル
(D3=(CH25、Z=H)および2−(2−ヒドロ
キシエチル)−ピペリジン−1−イル(D3=(C
2)5、Z=CH2−CH2OH)である。
【0037】式(IV)の化合物の中で、尿素基の他に
少なくとも1個のウレタン基を含むものが好適である。
この場合も「尿素基」と云う用語は既に上記に説明した
式>N−CO−N<の基を意味するものと了解された
い。式(IV)の化合物およびその製造法はヨーロッパ
特許A0 355 387号に記載されている。
【0038】光で酸化し得る基を含む重合可能な化合物
の量は混合物の非揮発成分の全重量に関し5〜75重量
%、好ましくは10〜65重量%である。
【0039】ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レートは少なくとも2個、好ましくは3〜5個のエチレ
ングリコール単位を含んでいる。平均分子量が約200
〜400のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ートが好適である。これらは特にジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレートを含んでいる。ポリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレートの量は一般に本
発明の混合物の非揮発成分の全重量に関し5〜75重量
%、好ましくは10〜65重量%である。
【0040】さらに本発明の混合物は架橋剤として多官
能性のアクリレートまたはアルクアクリレート化合物を
含んでいることができる。これらの化合物はアクリレー
トおよび/またはアルクアクリレート基を2個よりも多
く、好ましくは3〜6個含む化合物である。これらの化
合物には特に飽和脂肪族または脂環式の3価または多価
のアルコール、例えばトリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタメチロールプロパン、ペンタエ
リスリトールまたはジペンタエリスリトールの(メタ)ア
クリル酸エステルが含まれる。
【0041】さらに本発明の混合物はヒドロキシル基の
一部が(メタ)アクリル酸でエステル化された多価アル
コールを含むモノイソシアネートまたはジイソシアネー
トの反応生成物を含んでいる。好適な生成物はヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレートとジイソシアネートと
の反応から得られるものである。このような単量体は公
知であり、例えばドイツ特許A28 22 190号に
記載されている。
【0042】すべての重合可能な化合物の全量は一般に
本発明の混合物の非揮発成分の全重量に関し約10〜9
0重量%、好ましくは約20〜80重量%である。
【0043】本発明の混合物はさらに少なくとも1種の
光で還元し得る染料を含んでいる。キサンテン、ベンゾ
キサンテン、ベンゾチオキサンテン、チアジン、ピロニ
ン、ポルフィリンまたはアクリジン染料が好適である。
適当なキサンテンおよびチアジン染料は例えばヨーロッ
パ特許A0 287 817号に記載されている。適当
なベンゾキサンテンおよびベンゾチオキサンテン染料は
ヨーロッパ特許A0321 828号に記載されてい
る。特に適したポルフィリン染料は例えばヘマトポルフ
ィリン−IXであり、適当なアクリジン染料は例えば塩
化アクリフラビニウム塩酸塩である。キサンテン染料の
例はEosine B(C.I.No.45 40
0)、アルコール可溶性のEosine(C.I.N
o. 45386)、黄色を帯びたEosine(C.
I.No. 45 380)、メチルEosine
(C.I.No. 45 385)、Cyanosin
e(C.I.No. 45 410)、Bengal
Rose(C.I.No. 45440)、Erith
rosine(Acid red 51;C.I.N
o. 45 430)、2,3,7−トリヒドロキシ−
9−フェニルキサンテノン、Rhodamine 6G
(C.I.No. 45 160)、およびRhoda
mine B(C.I.No. 45 170)であ
る。チアジン染料の例はThionine(C.I.N
o. 52 000)、Azure A(C.I.N
o. 52 005)、およびAzure C(C.
I.No. 52002)である。ピロニン染料の例は
Pyronine B(C.I.No.45 010)
およびPyronine GY(C.I.No. 45
005)である。特に適したエオシン染料は一般にア
ルコール部分に直鎖の(C3〜C1 8)アルキル基を含む
エオシンエステルである。
【0044】光で還元し得る染料の量は光重合し得る混
合物の非揮発成分の全重量に関し約0.01〜10.0
重量%、好ましくは約0.05〜4.0重量%である。
【0045】本発明の混合物中の光開始剤として使用し
得るメタロセンはそれ自身は公知である。これらの化合
物は大部分、例えば米国特許A3,717,558号お
よび同A4,707,432号に記載されているよう
に、光開始剤または光開始剤の組合せの成分として使用
されることが知られている。周期律表の第IV副族の元
素、特にチタンおよびジルコニウムの化合物を含むメタ
ロセンが好適である。この種の化合物はヨーロッパ特許
A318,893号、同A318,894号、同A40
1,165号および同A401,166号に記載されて
いる。公知の広い範囲のメタロセンの中で特にチタノセ
ン、即ち一般式(V)に対応する化合物が好適である。
【0046】
【化9】
【0047】ここでMeは4個の錯体結合を形成し得る
金属原子、特にチタンまたはジルコニウムであり;R4
およびR5は同一または相異なる置換基を有し得るシク
ロペンタジエニル基を表し;R6およびR7はフェニル基
を表し、これは基R4およびR5とは独立に同一または相
異なる置換基を有することができる。好ましくはこのシ
クロペンタジエニル基は塩素原子、炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数5〜7のシクロアルキル基(特にシクロ
ヘキシル基)または炭素数6〜10のアリール基(特に
フェニル基)で置換されている。このシクロペンタジエ
ニル基はアルキレン基によって互いに連結していること
ができる。R6およびR7は好ましくは2個のオルトの位
置(即ち金属に対する結合に対して隣接した位置)のい
ずれかがフッ素原子で置換されたフェニル基である。或
いはまた、或いはこれに加えて、このフェニル基はF、
Clおよび/またはBrのようなハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭
素数6〜10のアリール基、炭素数4〜9のヘテロアリ
ール基(この基は通常芳香核の一員としてO、Sおよび
/またはN原子を含んでいる)で置換されていることが
できる。他の適当な置換基にはポリオキシアルキレン基
でその末端のヒドロキシル基が炭素数1〜18のアルキ
ルまたはアシル基によってエーテル化またはエステル化
されているものが含まれる。一般にこれらの基は1〜6
個のオキシアルキレン単位、特にエチレングリコールま
たはプロピレングリコール単位を含み、金属に対する結
合に関しパラの位置にあることが有利である。
【0048】特に好適なメタロセンは、R4およびR5
置換基をもち得るシクロペンタジエニル基を表し、R6
およびR7がテトラ−もしくはペンタフルオロフェニル
基かまたは式(VI)の基を表すものである。
【0049】
【化10】
【0050】ここでR8およびR9は独立に水素またはフ
ッ素原子を表し、R10〜R13は独立に水素、フッ素、塩
素原子または臭素原子、炭素数1〜12のアルキル基、
炭素数1〜12のアルコキシ基、ポリオキシアルキレン
基、又は炭素数1〜18のアルキル基によってエーテル
化されるか炭素数1〜18のアシル基によってエステル
化されたポリオキシアルキレン基を表す。
【0051】式(V)の特に好適なチタノセンはビス
(η5−シクロペンタジエニル)−ビス−ペンタフルオ
ロフェニルチタンであり、式(VI)の特に好適なチタ
ノセンはビス(η5−シクロペンタジエニル)−ビス−
(2,6−ジフルオロ−3−ピロール−1−イル−フェ
ニル)チタンである。ここでηはハプト数(hapti
city)を表す(シクロペンタジエンはペンタハプト
の配位子である)。
【0052】メタロセンの量は一般に光重合可能な混合
物の非揮発成分の全重量に関し約0.01〜20重量
%、好ましくは0.05〜12重量%である。
【0053】予め分散させた随時使用されるフタロシア
ニン顔料は主として本発明の混合物およびそれからつく
られる層を着色するのに用いられる。その量は一般に約
1〜10重量%、好ましくは約2〜7重量%である。特
に適した予め分散させたフタロシアニン顔料は未公刊の
ドイツ特許A199 15 717号および同A199
33 139号に記載されている。金属を含まないフ
タロシアニン顔料が好適である。
【0054】感光度を増加させるために、本発明の混合
物はさらに他の光開始剤を含んでいることができる。こ
のような共光開始剤には例えば光反応的に開裂し得る少
なくとも1個のトリハロメチル基、特にトリクロロメチ
ルまたはトリブロモメチル基を含む化合物が含まれる。
この種の化合物も公知である。トリハロメチル基は直接
または共役二重結合を介し、或いは一連の共役二重結合
を介して芳香族炭素環式の核または複素環式の核に連結
していることができる。好適な化合物は、例えばヨーロ
ッパ特許A137,452号および同A563,925
号記載のように、基本構造としてトリアジン核を有し、
これに好ましくは2個のトリハロメチル基が結合してい
る化合物である。これらの化合物は300〜500nm
の紫外/可視スペクトル領域で光を強く吸収する。画像
を生成させるために照射するスペクトル領域において光
を僅かしか或いは全く吸収しないトリハロメチル基を含
む化合物、例えば(飽和の)脂肪族置換基或いはメソメ
リスム(共鳴)可能なπ−電子系が比較的短い範囲にし
か広がっていない不飽和の置換基を含むトリハロメチル
トリアジンも適している。他の基本的な構造をもった短
波長の紫外領域で吸収する化合物、例えばフェニルトリ
ハロメチルスルフォン、特にフェニルトリブロモメチル
スルフォン、およびフェニルトリハロメチルケトンも原
理的には適している。一般にこれらのハロメチル化合物
の量は光重合可能な本発明の混合物の非揮発成分の全重
量に関し0.01〜4.0重量%、好ましくは0.05
〜1.0重量%である。
【0055】最後に本発明の混合物はさらに他の開始剤
構成成分としてアクリジン、フェナジンおよび/または
キノキサリン化合物を含んでいることができる。これら
の化合物は既に例えばドイツ特許A20 27 467
号および同A20 39 861号に記載されている。
これらの化合物を加えることにより、混合物の感光度は
特に近紫外領域で増加する。この種の化合物の適当な代
表例は9−置換アクリジン、例えば9−フェニル、9ー
(4ーメトキシフェニル)および9−アセチルアミノア
クリジン、或いは融合した芳香核を有するアクリジン誘
導体、例えばベンゾ[a]アクリジンである。特に適し
たフェナジン誘導体は例えば9,10−ジメチルベンゾ
[a]フェナジンである。適当なキノキサリン誘導体は
特に2,3−ジフェニル誘導体であり、これはフェニル
基にさらにメトキシ基が置換していることが好ましい。
一般に、アクリジン誘導体が好ましい。本発明の混合物
中のアクリジン、フェナジンまたはキノキサリン化合物
の量は光重合可能な混合物の非揮発成分の全重量に関し
0.01〜4.0重量%、好ましくは0.05〜1.0
重量%である。
【0056】さらに他の適当な共開始剤はケトオキシム
化合物である。この種の化合物の例はヨーロッパ特許A
0 724 197号および同A0 860 741号
に記載されている。これらの化合物の特に代表となるも
のは下記式(VII)に対応するケトオキシムエーテル
である。
【0057】
【化11】
【0058】ここでR14は置換基をもち或いはもたない
脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族の基である。
14は例えばCH2−CO2CH3またはCH2−(p)−
64−CH=CH2を表す。一般に共開始剤として用
いられるケトオキシム誘導体の量は光重合可能な混合物
の非揮発成分の全重量に関し0.01〜4.0重量%、
好ましくは0.05〜1.0重量%である。
【0059】他の適当な共開始剤は芳香族ケトンをベー
スにした化合物である。この種類に属する光開始剤は
J.P.FounassierおよびJ.F.Babe
ck著の単行本「Radiation Curing
in Polymer Science and Te
chnology」(1993年)77〜117ページ
に記載されている。この種の共開始剤の好適な例は置換
基をもち或いはもたないベンゾフェノン、α−ヒドロキ
シケトン、(特に(1−ヒドロキシシクロヘキシル)フ
ェニルケトン、別名1−ベンゾイルシクロヘキサノー
ル、および1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フ
ェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−
オン)、α−アミノケトン(特に2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノ−4−イル−フ
ェニル)−ブタン−1−オンおよび2−メチル−1−
(4−メチルスルフォニルフェニル)−2−モルフォリ
ノ−4−イル−プロパン−1−オン)、ベンジルジアル
キルケタール(特に2、2−ジメトキシ−1,2−ジフ
ェニルエタン−1−オン)、アシルフォスフィン(特に
(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニル−フ
ォスフィンオキシドおよびフェニル−ビス−(2,4,
6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルフォスフィンオ
キシド)である。
【0060】一般に芳香族ケトンをベースにした共開始
剤の量は光重合可能な混合物の非揮発成分の全重量に関
し0.01〜4.0重量%、好ましくは0.05〜1.
0重量%である。
【0061】同時に使用する開始剤としてボレート(b
orate)を使用することができる。このものは一般
に式[R1516BR1718-+に対応している。ここ
でZ +はアルカリ金属の陽イオンまたは第4級アンモニ
ウムの陽イオンである。基R1 5〜R18は独立に置換基を
もちまたはもたない(C1〜C16)アルキル基、置換基
をもちまたはもたない(C6〜C14)アリール基、また
は(C7〜C20)アラルキル基である。基R15〜R18
中の2個は互いに連結していることもできる。開始剤と
して適したボレートおよびその製造法はドイツ特許A1
96 48 282号に記載されている。ボレート共開
始剤で特に代表となるものはトリアルキルアンモニウム
−アルキルトリフェニルボレート、トリアルキルアンモ
ニウム−(アルキルナフチルジフェニルボレート、およ
びトリアルキルアンモニウム−[アルキル−トリス−
(3−フルオロフェニル)ボレート]である。ボレート
の量は一般に光重合可能な混合物の非揮発成分の全重量
に関し0.01〜4.0重量%、好ましくは0.05〜
1.0重量%である。
【0062】最後に、ヘキサアリールビイミダゾールを
ベースにした共開始剤も適している。この中には2,
4,5,2’,4’,5’−ヘキサフェニル−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
5,4’,5’−テトラフェニル−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,5,
4’,5’−テトラフェニル−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,5,
4’,5’−テトラフェニル−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4’,
5’−テトラキス(3−メトキシフェニル)−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,6−ジクロロ−フェニ
ル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2−ニトロフェニル)−4,
5,4’,5’−テトラフェニル−ビイミダゾール、
2,2’−ジ−o−トリル−4,5,4’,5’−テト
ラフェニル−ビイミダゾール、および2,2’−ビス
(2,6−ジフルオロフェニル)−4,5,4’,5’
−テトラフェニル−ビイミダゾールが含まれる。ヘキサ
アリールビイミダゾールをベースにした共開始剤の量は
一般に光重合可能な混合物の非揮発成分の全重量に関し
0.01〜4.0重量%、好ましくは0.05〜1.0
重量%である。
【0063】光開始剤および共開始剤の量は一般に光重
合可能な混合物の非揮発成分の全重量に関し0.05〜
5.0重量%、好ましくは0.1〜2.0重量%であ
る。
【0064】本発明の光重合可能な混合物の性質を個々
の用途の目的にさらに適合させるために、この混合物は
さらに添加剤を含むことができる。
【0065】全可視スペクトル領域におけるこの混合物
の感度は、ジベンジリデンアセトンまたはクマリン型の
化合物を加えることによりさらに増加させることができ
る。これらの化合物の適当な代表例は、例えば4,4−
ビス(ジエチルアミノ)ベンジリデンアセトン、4,
4’−ジメトキシベンジリデンアセトンおよび3,4,
3’,4’−テトラメトキシベンジリデンアセトンであ
る。適当なクマリン型の化合物は、例えば7−ジアルキ
ルアミノクマリンで、これはアルキル、アリールまたは
ヘテロアリール基が2−または3−の位置に置換してい
ることができる。置換基をもった7−ジアルキルアミノ
クマリンの例は3−ベンズイミダゾール−2−イル−7
−ジエチルアミノクマリンである。この種のクマリンは
約500nmの波長の所まで増感を行なうのに非常に効
果がある。500nmよりも上の領域で増感を行なうた
めには、ケトクマリンが特に効果がある。ケトクマリン
には例えば3−アセチル−7−ジエチルアミノクマリン
およびカルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)が含まれる。さらにヨーロッパ特許A747,77
1号およびヨーロッパ特許A704,765号に記載さ
れたクマリン誘導体も使用できる。ジベンジリデンアセ
トンまたはクマリン型の化合物の量は一般に混合物の非
揮発性成分の全重量に関し0.01〜4.0重量%、好
ましくは0.05〜1.0重量%である。
【0066】最後に、本発明の混合物は熱重合を防止す
るための重合禁止剤としての添加物を含んでいることが
できる。さらに水素供与体、染料、着色したまたは無色
の顔料、色生成剤、指示薬、可塑剤および/または連鎖
伸長剤が存在することができる。これらの添加剤は画像
を生成させるための照射線の活性範囲においてできるだ
け光を吸収しないように選ぶことが便利である。
【0067】本発明の混合物の感度は約250nmから
約700nmに亙る広い波長範囲に及んでいる。従って
この混合物は可視光および長波長の紫外線を用いて画像
を生成させるのに適しているばかりでなく、短波長の紫
外線、紫外線レーザー光(例えば波長266nmのレー
ザー照射線)、電子ビーム照射線およびX線を用いる場
合にも適している。
【0068】最後に、基質および感光性の被膜から成る
記録材料を提供することも本発明の目的である。それを
製造するためには、本発明の混合物を有機溶媒の中に効
果的に溶解または分散させ、得られた溶液または分散液
をカーテン被覆法、噴霧被覆法、浸漬被覆法、ローラ被
覆法、または当業界に公知の同様な方法により薄いフィ
ルムとして塗布する。乾燥後、例えば凸版印刷法、平版
印刷法、グラビア印刷法、およびスクリーン印刷法の版
の製造に使用することができる。この材料はまたレリー
フの複製の製造、例えばBraille点字のテキスト
の複製、個別的なコピーの製作、タンニン処理した画
像、顔料処理した画像、または同様な画像構造をもった
製品の製作に使用することができる。また本発明の混合
物はエッチングの防食材の製造、例えばプリント回路板
または名前用の標識の製造、または化学ミリング(ch
emical milling)のための防食材の製造
に使用することができる。しかし本発明の混合物はフォ
トレジスト層の製造および平版印刷用の版の記録材料の
製造に応用することが好適である。
【0069】印刷の版のための適当な基質材料は金属、
特にアルミニウムまたはアルミニウム合金、鋼、亜鉛、
銅、或いはプラスティックス、特にポリエステル、特に
ポリ(エチレンテレフタレート)、または酢酸セルロー
スからつくられたシート地、ウエブまたは板であり、ス
クリーン印刷用としてはPerlonのゲージがある。
多くの場合基質の表面を化学的および/または電気化学
的に予備処理して感光層の基質への接着性を最適化する
か、或いは画像をつくるのに使用する照射線の活性範囲
における基質表面の反射率を減少させる(ハレーション
防止)。オフセット印刷用の版に対する好ましい基質は
アルミニウムまたはアルミニウム合金から成り、その表
面は電気化学的に粒状化した後陽極酸化処理が行なわ
れ、また随時親水化処理剤、例えばポリ(ビニルフォス
フォン酸)で処理されている。
【0070】本発明の記録材料は広いスペクトル感度を
もっているから、当業界に公知の殆どすべての照射光
源、即ち蛍光管、パルス式キセノンランプ、金属ハロゲ
ン化物をドーピングした高圧水銀蒸気ランプ、および炭
素アーク灯を用いて画像生成のための照射を行なうこと
ができる。
【0071】平版印刷用の判の製造に使用される本発明
の記録材料は、通常の白熱灯から得られる光を用いて、
或いは金属フィラメントのランプを用いる通常の投光器
および拡大器を用い、画像接触法により像をつくること
ができる。記録材料の露光は直接、即ち画像の原図を用
いないでコンピュータ制御されたレーザー照射により行
なうこともできる。従って使用されるレーザーは予め定
められた最低の出力を示す。適当なレーザーは特にアル
ゴンイオン・レーザー、クリプトンイオン・レーザー、
ダイ・レーザー、ヘリウム−カドミウム・レーザー、ヘ
リウム−ネオン・レーザー、および随時振動数を2倍に
したNd:YAGレーザー、およびダイオード・レーザ
ーである。レーザー・ビームの波長は一般に250〜6
50nmである。
【0072】本発明の記録材料は特に高い画像性生成性
能を有し、レーザー・ビームを用いるディジタル画像生
成に非常に適している。以後の現像工程において非画像
区域および画像区域の間に正確な差異が得られ、ドット
の利得が驚くほど著しく減少する。その結果、小さいネ
ガの字体も明瞭に再生される。またこの材料は広い波長
範囲に亙って非常に高い感度を示す。
【0073】光化学的に誘起される光重合の過程中感光
層が大気中の酸素の影響を受けないように保持すること
が一般に有利である。この目的には感光層の上面に酸素
を全く透過しないかまたは僅かしか透過しない適当な保
護上塗り層を被覆することが推奨される(「僅かしか透
過しない」という言葉はDIN 53 380号に従っ
て23℃で測定された透過率が100cm32/m2
d・バール以下であることを意味する)。このような保
護上塗り層は自己支持性をもち、次の現像工程の前に剥
ぎ取ることができる。この場合保護上塗り層は例えば感
光層に積層化されたポリエステルフィルムから成ってい
る。保護上塗り層はまた少なくとも非硬化区域が現像溶
液に溶解または分散し得る材料から成っている。アルカ
リ性の現像水溶液に全区域で溶解性を有する(即ち全面
的に可溶な)保護上塗り層に適した材料は、例えばポリ
(ビニルアルコール)、ポリビニルピロリドン、ポリフ
ォスフェート、蔗糖等を含んでいる。このような保護上
塗り層は一般に厚さが0.1〜10μm、好ましくは1
〜5μmである。
【0074】画像に従って露光された記録材料は当業界
に公知通常の方法に従って以後の処理が行なわれる。露
光した区域の架橋を改善するためには画像に従って露光
した材料を後で加熱した後、現像を行なう。現像は有機
溶媒またはその混合物を用いて行なわれるが、好ましく
はpHが10〜14、好ましくは11〜13で最高約1
5重量%、好ましくは最高5重量%の水と混合する有機
溶媒を含むアルカリ性水溶液を用いる。また現像剤は湿
潤剤、染料、塩および/または他の添加剤を含んでいる
ことができる。現像の際層の露光されなかった部分は除
去され、層の露光された、即ち硬化した区域は基質の上
に残る。
【0075】下記実施例により本発明を例示する。記号
(wt)は「重量部」を表し、記号(vp)は「容積
部」を表す。特記しない限り割合は重量%による。
【0076】対照例1〜5 2.88重量部の平均分子量Mwが25,000のメタ
クリル酸メチル/メタクリル酸共重合体(メタクリル酸
メチル単位対メタクリル酸単位のモル比4:1、酸価1
10)、4.72重量部の表1の単量体、0.28重量
部のビス−(η5−シクロペンタジエニル)−ビス−
(2,6−ジフルオロ−3−ピロール−1−イル−フェ
ニル)チタン、および0.12重量部のRenol b
lue(C.I.74 160)を、55.20重量部
のプロピレングリコールモノメチルエーテル(Dowa
nol(R)PM)、および36.80重量部のブタノン
の中に含む混合物を、電気化学的に陽極処理を行なって
粗くした(酸化物層重量:3g/m2)アルミニウムの
印刷用の版の基質に予めポリビニルフォスフォン酸で親
水性を賦与して乾燥したものの上に回転被覆した。乾燥
(空気循環乾燥器中100℃において2分間)した後、
この感光被膜はは重さが1.5〜1.7g/m2であっ
た。次に感光層を10%のポリビニルアルコール(残留
アセチル基12%、K値4)水溶液で被覆し、再び空気
循環乾燥器の中で100℃において2分間乾燥した。こ
のようにして得られた上塗り被膜は重さが2.5〜2.
7g/m2であった。全製造工程は赤色の安全照明光下
で行なった。
【0077】次にこのようにして得られた記録材料を、
振動数を2倍にしたNd:YAGレーザー(放射波長5
32nm)を取付たAgfa−Gevaert AG製
(R )Polaris 100 レーザー・イメージセ
ッターの中で、密度増分ΔD=0.15の13段階の露
光ウエッジ(exposure wedge)(UGR
Aオフセット試験ウエッジ)を通して画像に従って露光
した。露光エネルギーは現像後連続色調段階の三つのウ
エッジの段階が硬化するように選ばれる(デンシトメー
ターによる光学密度がフィルターなしで露光した印刷用
の版のむらのない部分(solid)の密度の97%で
ある場合に連続色調段階の完全な硬化が得られる。この
場合、デンシトメーターの測定はDIN16536号に
よりマゼンタのフィルターが取付られたGretag製
のDC−19デンシトメーターを用いて行なわれる)。
露光した印刷用の版をその上で1分間100℃に加熱
し、23℃においてアルカリ性現像液(Agfa−Ge
vaert AG製 (R)Ozasol EN 231
C)を用い通過速度1.0m/分でTechnigra
ph製のVSC 82処理機で現像する。
【0078】次に同様な記録材料に、分解能2,400
dpi(ドット/インチ)で上記の露光エネルギーを用
い、イメージセッターの較正を行なうことなく、”Ti
mes New Roman”のフォントをもつ4ポイ
ントのネガの字体の4ポイントのフォント・タイプを使
用し、133 lpi(ライン/インチ)のスクリーン
をもつ理論%ドット区域が40%のディジタル・コント
ロール要素(DGPlateControl)を露光し
た。上記の方法で現像を行なった後、%ドット区域が4
0%のスクリーン要素をデンシトメーターで測定するこ
とにより、スクリーン・コントロール要素の中の印刷版
のドット利得を決定した。ドット利得を%ドット区域4
0%からの偏差として下記の表に示す。完全には明瞭に
再現されなかったネガのフォントの字体の文字の数を使
用して再現性の品質を評価する。印刷版の感光度は下記
の式に従ってイメージセッターに設定されたレーザーエ
ネルギーから計算した。
【0079】感光度[μJ/cm2]=5.1・レーザ
ーエネルギー+15
【0080】
【表1】
【0081】対照例 6〜10 光で酸化できる基を含みまたは含まない唯1種の単量
体、光で還元できる染料およびトリアジンから成る混合
物(ヨーロッパ特許A0 364 735号参照)。
【0082】2.80重量部のメタクリル酸メチル/メ
タクリル酸共重合体(対照例1〜5と同様)、4.46
重量部の表2の単量体、0.16重量部のビス(η5
シクロペンタジエニル)−ビス−(2,6−ジフルオロ
−3−ピロール−1−イル−フェニル)チタン、0.1
2重量部のRenol blue(C.I.7416
0)、0.24重量部のアルコール可溶性エオシン
(C.I.45 386)、および0.04重量部の
2,4−ビス−ジクロロメチル−6−(4−スチリルフ
ェニル)−[1,3,5]トリアジンを、55.20重
量部のプロピレングリコールモノメチルエーテル(Do
wanol(R)PM),および36.80重量部のブタ
ノン中に含む混合物を、対照例1〜5に既に記載したア
ルミニウム基質の上に回転被覆して乾燥した。感光層の
重量は1.5g/m2であった。
【0083】再び前記対照例の場合と同様にして画像に
従った露光を行なった。表2には、このようにしてつく
られた印刷版に対し感光性、ドット利得および明瞭には
再現できなかった文字の数に関するデータを示す。
【0084】
【表2】
【0085】対照例 11〜14 光で酸化できる基を含みまたは含まない異なった量のの
単量体、光で還元できる染料およびトリアジンから成る
混合物(ヨーロッパ特許A0 573 805号参
照)。
【0086】x重量部のメタクリル酸メチル/メタクリ
ル酸共重合体(対照例1〜5と同様)、y重量部の表3
の単量体、0.16重量部のビス(η5−シクロペンタ
ジエニル)−ビス−(2,6−ジフルオロ−3−ピロー
ル−1−イル−フェニル)チタン、0.12重量部のR
enol blue(C.I.74160)、0.24
重量部のアルコール可溶性エオシン(C.I.45 3
86)、および0.04重量部の2,4−ビス−ジクロ
ロメチル−6−(4−スチリルフェニル)−[1,3,
5]トリアジンを、55.20重量部のプロピレングリ
コールモノメチルエーテル(Dowanol(R)
M)、および36.80重量部のブタノン中に含む混合
物を、対照例1〜5に既に記載したアルミニウム基質の
上に回転被覆して乾燥した。感光層の重量は1.5g/
2であった。
【0087】再び前記対照例の場合と同様にして画像に
従った露光を行なった。表3には、このようにしてつく
られた各印刷版に対し感光性、ドット利得および明瞭に
は再現できなかった文字の数に関するデータを示す。
【0088】
【表3】
【0089】対照例 15および16 唯1種の単量体(光で酸化できる基を含む)、光で還元
できる染料、トリアジンおよびチタノセンから成る光感
光性混合物(ヨーロッパ特許A0 445 624号参
照) 2.80重量部のメタクリル酸メチル/メタクリル酸共
重合体(対照例1〜5と同様)、4.64重量部の1モ
ルのヘキサメチレンイソシアネート、1モルのメタクリ
ル酸2−ヒドロキシエチルおよび0.5モルの2−(2
−ヒドロキシエチル)ピペリジンの反応生成物、0.1
6重量部の表4記載のチタノセン、0.12重量部のR
enol blue(C.I.74160)、0.24
重量部のアルコール可溶性エオシン(C.I.45 3
86)、および0.04重量部の2,4−ビス−ジクロ
ロメチル−6−(4−スチリルフェニル)−[1,3,
5]トリアジンを、55.20重量部のプロピレングリ
コールモノメチルエーテル(Dowanol(R)
M)、および36.80重量部のブタノン中に含む混合
物を、対照例1〜5に既に記載したアルミニウム基質の
上に回転被覆して乾燥した。感光層の重量は1.5g/
2であった。
【0090】再び前記対照例の場合と同様にして画像に
従った露光を行なった。表4には、このようにしてつく
られた各印刷版に対し感光性、ドット利得および明瞭に
は再現できなかった文字の数に関するデータを示す。
【0091】
【表4】
【0092】実施例 17〜21(本発明) 2.80重量部のメタクリル酸メチル/メタクリル酸共
重合体(対照例1〜5と同様)、x重量部の光で酸化し
得る基を含む実施例2の単量体、y重量部の表5(単量
体2)記載のポリエチレングリコールジアクリレートま
たはジメタクリレート、ここでx+y=4.64重量
部、0.16重量部のビス−(η5−シクロペンタジエ
ニル)−ビス−(2,6−ジフルオロ−3−ピロール−
1−イル−フェニル)チタン、0.12重量部のRen
ol blue(C.I.74160)、0.24重量
部のアルコール可溶性エオシン(C.I.45 38
6)、および0.04重量部の2,4−ビス−ジクロロ
メチル−6−(4−スチリルフェニル)−[1,3,
5]トリアジンを、55.20重量部のプロピレングリ
コールモノメチルエーテル(Dowanol(R)
M)、および36.80重量部のブタノン中に含む混合
物を、対照例1〜5に既に記載したアルミニウム基質の
上に回転被覆して乾燥した。感光層の重量は1.5g/
2であった。
【0093】再び前記対照例の場合と同様にして画像に
従った露光を行なった。表5には、このようにしてつく
られた各印刷版に対し感光性、ドット利得および明瞭に
は再現できなかった文字の数に関するデータを示す。
【0094】
【表5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/029 G03F 7/029 7/031 7/031 7/032 7/032 7/09 501 7/09 501 7/11 501 7/11 501 (72)発明者 トマス・ライヒゼンリング ドイツ・デー−55129マインツ・グロスゲ バン24 (72)発明者 ハンス−ヨアヒム・シユロツサー ドイツ・デー−65207ビースバーデン−ナ ウロート・アムローゼンガルテン2アー

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重合体結合剤、ラジカル的に光重合し得
    る成分、光で還元し得る染料およびメタロセンを含み、
    該光重合し得る成分は、少なくとも1種の光で酸化し得
    る基と、2個またはそれ以上のエチレングリコール単位
    を含む少なくとも1種のポリエチレングリコールジ(メ
    タ)アクリレートとを有する少なくとも1種の重合可能
    な化合物を含んでいる光重合可能な混合物。
  2. 【請求項2】 ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
    リレートが3〜5個のエチレングリコール単位を含んで
    いる請求項1記載の光重合可能な混合物。
  3. 【請求項3】 ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
    リレートの量が本発明の混合物の非揮発成分の全重量に
    関し5〜75重量%、好ましくは10〜65重量%であ
    る請求項1または2記載の光重合可能な混合物。
  4. 【請求項4】 該混合物が少なくとも1種のさらに他の
    光開始剤を含んでいる請求項1〜3のいずれかに記載の
    光重合可能な混合物。
  5. 【請求項5】 該他の光開始剤が光反応的に開裂し得る
    少なくとも1種のトリハロメチル基、特にトリクロロメ
    チル基またはトリブロモメチル基を含む化合物である請
    求項4記載の光重合可能な混合物。
  6. 【請求項6】 該メタロセンが周期律表の第IV副族の
    金属、特にチタンまたはジルコニウムを含んでいる請求
    項1〜5のいずれかに記載の光重合可能な混合物。
  7. 【請求項7】 該メタロセンが式(V) 【化1】 但し式中Meは4個の錯体結合を生成し得る金属原子、
    特にチタンまたはジルコニウムを表し、 R4およびR5は同一または異なった置換基をもち得るシ
    クロペンタジエニル基を表し、 R6およびR7はR4およびR5とは独立に同一または異な
    った置換基をもち得るフェニル基を表す、に対応する請
    求項6記載の光重合可能な混合物。
  8. 【請求項8】 メタロセンの量が光重合可能な混合物の
    非揮発成分の全重量に関し0.01〜20重量%、好ま
    しくは0.05〜12重量%である請求項1〜7のいず
    れかに記載の光重合可能な混合物。
  9. 【請求項9】 光で酸化し得る基を含む光重合可能な化
    合物の量が該混合物の非揮発成分の全重量に関し5〜7
    5重量%、好ましくは10〜65重量%である請求項1
    〜8のいずれかに記載の光重合可能な混合物。
  10. 【請求項10】 光で還元し得る染料がエオシン染料で
    ある請求項1〜9のいずれかに記載の光重合可能な混合
    物。
  11. 【請求項11】 基質および感光性の光重合可能な層か
    ら成り、該層は請求項1〜10のいずれかに記載の光重
    合可能な混合物から成っている記録材料。
  12. 【請求項12】 光重合可能な層が上塗り被膜で被覆さ
    れ、0.1〜10μm、特に1〜5μmの厚さを示す請
    求項11記載の記録材料。
  13. 【請求項13】 該上塗り被膜が少なくとも硬化してい
    ない区域で現像液に溶解または分散し得る材料からつく
    られている請求項12記載の記録材料。
  14. 【請求項14】 基質が金属、特にアルミニウムまたは
    アルミニウム合金、鋼、亜鉛、銅、或いはプラスティッ
    クス、特にポリエステルからつくられた箔、ウエブまた
    は板である請求項11〜13のいずれかに記載の記録材
    料。
JP2000248474A 1999-08-27 2000-08-18 光重合可能な混合物およびそれから製造された記録材料 Withdrawn JP2001100408A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19940921.8 1999-08-27
DE19940921A DE19940921A1 (de) 1999-08-27 1999-08-27 Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001100408A true JP2001100408A (ja) 2001-04-13
JP2001100408A5 JP2001100408A5 (ja) 2007-09-27

Family

ID=7919947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000248474A Withdrawn JP2001100408A (ja) 1999-08-27 2000-08-18 光重合可能な混合物およびそれから製造された記録材料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6844136B1 (ja)
EP (1) EP1079276A1 (ja)
JP (1) JP2001100408A (ja)
DE (1) DE19940921A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005292581A (ja) * 2004-04-01 2005-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成方法
JP2019203052A (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 東洋インキScホールディングス株式会社 ラジカル重合性組成物

Families Citing this family (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1262829A1 (en) * 2001-05-28 2002-12-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
US7291655B2 (en) * 2001-06-01 2007-11-06 Borealis Technology Oy Polymerisation method and device for carrying out a polymerisation method
US7316891B2 (en) 2002-03-06 2008-01-08 Agfa Graphics Nv Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
US7074546B2 (en) 2002-06-24 2006-07-11 Konica Corporation Light sensitive planographic printing plate precursor and its processing method
DE10255663B4 (de) * 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
DE10255664B4 (de) * 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Für lithographische Druckplatten geeignete Photopolymerzusammensetzung
JP2005084092A (ja) * 2003-09-04 2005-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
ES2372289T3 (es) 2004-05-19 2012-01-18 Agfa Graphics N.V. Método de fabricación de una plancha de impresión de fotopolímero.
EP1614541A3 (en) 2004-07-08 2006-06-07 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate.
TWI347499B (en) * 2005-05-12 2011-08-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd A method for increasing optical stability of three-dimensional micro moldings
ATE426191T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
EP1788442B1 (en) 2005-11-18 2010-07-28 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
EP1788431B1 (en) 2005-11-18 2009-01-28 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
EP1788434B2 (en) 2005-11-18 2019-01-02 Agfa Nv Method of making a lithographic printing plate
EP1788429B1 (en) 2005-11-18 2009-03-18 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
DE602005012630D1 (de) 2005-11-18 2009-03-19 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ES2358120T3 (es) 2005-11-18 2011-05-05 Agfa Graphics N.V. Método de elaboración de una plancha de impresión litográfica.
EP1788443B1 (en) 2005-11-18 2014-07-02 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
DK1788435T3 (da) 2005-11-21 2013-06-17 Agfa Graphics Nv Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade
EP1788449A1 (en) 2005-11-21 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
ES2324542T3 (es) 2005-11-21 2009-08-10 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.
US20090263744A1 (en) * 2005-12-19 2009-10-22 Takaaki Kuroki Ethylenically unsaturated compound, light sensitive composition, light sensitive planographic printing plate material and printing process employing the same
US7279255B2 (en) 2006-02-07 2007-10-09 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7601482B2 (en) * 2006-03-28 2009-10-13 Az Electronic Materials Usa Corp. Negative photoresist compositions
US7524614B2 (en) 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4911455B2 (ja) * 2006-09-27 2012-04-04 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
US7862984B2 (en) 2007-03-28 2011-01-04 Eastman Kodak Company Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same
US7781143B2 (en) 2007-05-31 2010-08-24 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
EP2098367A1 (en) 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
US8084182B2 (en) 2008-04-29 2011-12-27 Eastman Kodak Company On-press developable elements and methods of use
ES2382371T3 (es) 2008-10-23 2012-06-07 Agfa Graphics N.V. Plancha de impresión litográfica
US20100151385A1 (en) 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US20120090486A1 (en) 2010-10-18 2012-04-19 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors and methods of use
US8900798B2 (en) 2010-10-18 2014-12-02 Eastman Kodak Company On-press developable lithographic printing plate precursors
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120141942A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
US8632941B2 (en) 2011-09-22 2014-01-21 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes
US9029063B2 (en) 2011-09-22 2015-05-12 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
CN104334351B (zh) 2012-06-05 2016-08-17 爱克发印艺公司 平版印刷版前体
ES2588075T3 (es) 2013-01-11 2016-10-28 Agfa Graphics Nv Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
US9568822B2 (en) 2013-06-14 2017-02-14 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
EP2883699B1 (en) 2013-12-11 2017-05-03 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor and monomer
EP2916171B1 (en) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
EP3392709A1 (en) 2017-04-21 2018-10-24 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3431290B1 (en) 2017-07-20 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3495891B1 (en) 2017-12-08 2021-06-16 Agfa Nv A method for making a lithographic printing plate
EP3768514A1 (en) 2018-03-22 2021-01-27 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
WO2019219560A1 (en) 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3587113B1 (en) 2018-06-21 2023-01-04 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP3587112B1 (en) 2018-06-21 2024-04-03 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
CN113168096B (zh) 2018-12-10 2024-05-24 易客发有限公司 Uv或紫色敏化的平版印刷版的在机加工
EP3686011A1 (en) 2019-01-23 2020-07-29 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3815900A1 (en) 2019-10-31 2021-05-05 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles
EP3875271A1 (en) 2020-03-04 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3892469B1 (en) 2020-04-10 2023-11-08 Eco3 Bv Lithographic printing plate precursor
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
CN115697708A (zh) 2020-06-24 2023-02-03 爱克发胶印有限公司 平版印刷版前体
EP3928983B1 (en) 2020-06-24 2023-09-27 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP4171958A1 (en) 2020-06-24 2023-05-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP3960455A1 (en) 2020-08-31 2022-03-02 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
WO2022073849A1 (en) 2020-10-09 2022-04-14 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4263224A1 (en) 2020-12-16 2023-10-25 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method
EP4035897A1 (en) 2021-01-28 2022-08-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4129682A1 (en) 2021-08-05 2023-02-08 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4223534A1 (en) 2022-02-07 2023-08-09 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4239411A1 (en) 2022-03-04 2023-09-06 Eco3 Bv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor
EP4382306A1 (en) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3856885A (en) * 1971-10-28 1974-12-24 Dainippon Toryo Kk Process for molding thermosetting resinous compositions
US4707432A (en) * 1985-09-23 1987-11-17 Ciba-Geigy Corporation Ferrocenium/alpha-cleavage photoinitiator systems for free radical polymerizable compositions
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4217495A1 (de) * 1992-05-27 1993-12-02 Hoechst Ag Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6306557B1 (en) * 2000-04-20 2001-10-23 Industrial Technology Research Foundation Process for preparing water dispersible negative-type photosensitive compositions

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005292581A (ja) * 2004-04-01 2005-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成方法
JP4485239B2 (ja) * 2004-04-01 2010-06-16 富士フイルム株式会社 パターン形成方法
JP2019203052A (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 東洋インキScホールディングス株式会社 ラジカル重合性組成物
JP7070086B2 (ja) 2018-05-22 2022-05-18 東洋インキScホールディングス株式会社 ラジカル重合性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
DE19940921A1 (de) 2001-03-01
EP1079276A1 (en) 2001-02-28
US6844136B1 (en) 2005-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001100408A (ja) 光重合可能な混合物およびそれから製造された記録材料
US5229253A (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
US5049479A (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
US5114832A (en) Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom, having a photoinitiating set of compounds which give increased absorption below 450 nm
US5922508A (en) Photopolymerizable recording material
JP2980743B2 (ja) 光重合性組成物およびこの組成物を使用して調製した光重合性記録材料
US7574959B2 (en) Radiation-sensitive compositions and imageable elements based thereon
JP2736124B2 (ja) 光重合可能な記録材料
US20030190548A1 (en) Light-sensitive composition
JPH023686A (ja) 複素環式化合物、感光性組成物、および該化合物の製造法
JP2003295426A (ja) 300〜450nmの波長範囲に関して増感された光重合可能な組成物
AU631731B2 (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
EP0704764B1 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
US4987055A (en) Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups, and a recording material produced therefrom
JP2538992B2 (ja) 光重合性組成物
JPH04261544A (ja) 光重合性記録材料の造像的照射による印刷板またはフォトレジストの製法
CA2097038A1 (en) Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom
US5273862A (en) Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
JPH086245A (ja) 光重合性組成物
US5043249A (en) Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups and a recording material produced therefrom
JP3275439B2 (ja) 光重合性組成物
EP0537630B1 (en) Photopolymerizable composition
JPH10195119A (ja) 光重合性組成物
JPH075685A (ja) 光重合性組成物
JPH08297367A (ja) 光重合性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070809

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070809

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20071214