JP2980743B2 - 光重合性組成物およびこの組成物を使用して調製した光重合性記録材料 - Google Patents
光重合性組成物およびこの組成物を使用して調製した光重合性記録材料Info
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Description
【０００１】本発明は、必須成分として重合体結合剤、
フリーラジカルにより重合し得るエチレン性不飽和化合
物および光反応開始剤を含む光重合性組成物に関する。
さらに本発明は、層支持体および上記の組成物を含む光
重合性層からなる光重合性記録材料にも関する。この種
の組成物および材料は印刷版、レリーフ画像およびフォ
トレジストの製造に使用される。
フリーラジカルにより重合し得るエチレン性不飽和化合
物および光反応開始剤を含む光重合性組成物に関する。
さらに本発明は、層支持体および上記の組成物を含む光
重合性層からなる光重合性記録材料にも関する。この種
の組成物および材料は印刷版、レリーフ画像およびフォ
トレジストの製造に使用される。
【０００２】特許文献には多数の光反応開始剤が開示さ
れている。これらの例としては、ベンゾフェノン、４，
４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、アン
トラキノン、チオキサントン誘導体、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、２，４，５−トリアリールイミダゾリ
ル二量体、アクリジン、フェナジンおよびキノリン誘導
体、およびトリクロロメチル化合物、特にトリクロロメ
チル−ｓ−トリアジンがある。
れている。これらの例としては、ベンゾフェノン、４，
４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、アン
トラキノン、チオキサントン誘導体、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、２，４，５−トリアリールイミダゾリ
ル二量体、アクリジン、フェナジンおよびキノリン誘導
体、およびトリクロロメチル化合物、特にトリクロロメ
チル−ｓ−トリアジンがある。
【０００３】２種類以上の光反応開始剤の組み合わせ、
例えば４，４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェ
ノンとベンゾフェノンまたは他の化合物との組合わせ、
ベンゾイルメチレン−Ｎ−アルキル−ナフトチアゾリン
とトリハロメチルトリアジンの組合わせ、２，４，５−
トリアリールイミダゾリル二量体とｐ−アミノフェニル
ケトンからなる組合わせ、ジメチルチオキサントンと４
−ジアルキルアミノ安息香酸塩の組合わせ（ＪＰ−Ａ
８２／２３６０２）、Ｎ−複素環式化合物、特にアクリ
ジン化合物とトリクロロメチル基を含む化合物との組合
わせ（ＥＰ−Ａ２４３７８４）およびこれら２つの成分
と光還元性染料の組合わせ（ＥＰ−Ａ２８７８１７）も
開示されている。
例えば４，４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェ
ノンとベンゾフェノンまたは他の化合物との組合わせ、
ベンゾイルメチレン−Ｎ−アルキル−ナフトチアゾリン
とトリハロメチルトリアジンの組合わせ、２，４，５−
トリアリールイミダゾリル二量体とｐ−アミノフェニル
ケトンからなる組合わせ、ジメチルチオキサントンと４
−ジアルキルアミノ安息香酸塩の組合わせ（ＪＰ−Ａ
８２／２３６０２）、Ｎ−複素環式化合物、特にアクリ
ジン化合物とトリクロロメチル基を含む化合物との組合
わせ（ＥＰ−Ａ２４３７８４）およびこれら２つの成分
と光還元性染料の組合わせ（ＥＰ−Ａ２８７８１７）も
開示されている。
【０００４】ＤＥ−Ａ ３５０３１１３は、アシルハロ
酢酸アミド誘導体およびこれらの光反応開始剤と４，
４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、ベン
ゾフェノン誘導体または環状ケトンの混合物を記載して
いる。ＵＳ−Ａ ３６６１５８８は、ｐ−アミノフェニ
ルケトンおよび活性メチレンまたはアミノ化合物からな
る光反応開始剤の混合物を開示している。Ｎ−フェニル
アクリドンとトリハロメチル化合物の混合物はＤＥ−Ａ
２６１０８４２に記載されている。
酢酸アミド誘導体およびこれらの光反応開始剤と４，
４' −ビス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、ベン
ゾフェノン誘導体または環状ケトンの混合物を記載して
いる。ＵＳ−Ａ ３６６１５８８は、ｐ−アミノフェニ
ルケトンおよび活性メチレンまたはアミノ化合物からな
る光反応開始剤の混合物を開示している。Ｎ−フェニル
アクリドンとトリハロメチル化合物の混合物はＤＥ−Ａ
２６１０８４２に記載されている。
【０００５】三元光反応開始剤系、例えば４，４' −ビ
ス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン誘導体およびトリハロメチル基を含む化合物からなる
混合物も開示されている（ＤＥ−Ａ ３３３９２２
８）。
ス−ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン誘導体およびトリハロメチル基を含む化合物からなる
混合物も開示されている（ＤＥ−Ａ ３３３９２２
８）。
【０００６】この種の組成物の重要な応用分野はドライ
レジスト材料の調製である。この用途では、１０〜１０
０μm のオーダーの厚さを有するフォトレジスト層が使
用され、したがって、現像されたレジスト線の側壁は、
基材、例えば回路基板上に被覆された線が使用された版
下にできるだけ正確に対応する様に、垂直方向にできる
だけ伸びている必要がある。したがって、ドライレジス
トは特に下記の３つの必要条件を満たしているべきであ
る。 １． 高感光性 ２． 高分解度 ３． 垂直な側壁構造
レジスト材料の調製である。この用途では、１０〜１０
０μm のオーダーの厚さを有するフォトレジスト層が使
用され、したがって、現像されたレジスト線の側壁は、
基材、例えば回路基板上に被覆された線が使用された版
下にできるだけ正確に対応する様に、垂直方向にできる
だけ伸びている必要がある。したがって、ドライレジス
トは特に下記の３つの必要条件を満たしているべきであ
る。 １． 高感光性 ２． 高分解度 ３． 垂直な側壁構造
【０００７】公知の光反応開始剤の組合わせにより感光
性を実質的に増加させることは可能であるが、同時に他
の２つの特性を改良することはこれまで不可能であっ
た。原則的に、高い感光性は陽性の側壁構造を引き起こ
す、すなわち作製されるレジスト線は上縁部よりも底部
が広くなる。そして、陽性または陰性の側壁構造は解像
度を損なう。
性を実質的に増加させることは可能であるが、同時に他
の２つの特性を改良することはこれまで不可能であっ
た。原則的に、高い感光性は陽性の側壁構造を引き起こ
す、すなわち作製されるレジスト線は上縁部よりも底部
が広くなる。そして、陽性または陰性の側壁構造は解像
度を損なう。
【０００８】本発明の目的は、上記の３つの必要条件を
満たす光重合性組成物を提案することである。
満たす光重合性組成物を提案することである。
【０００９】本発明は、必須成分として、 ａ）重合体結合剤、 ｂ）フリーラジカルにより重合することができ、少なく
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）光反応開始剤として作用するＮ−複素環式化合物 を含む光重合性組成物を提供する。
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）光反応開始剤として作用するＮ−複素環式化合物 を含む光重合性組成物を提供する。
【００１０】本発明の組成物は、さらに ｄ）式Ｉのチオキサントン誘導体、
【化７】 および ｅ）式IIおよびIII の内の一つのジアルキルアミノ化合
物
物
【化８】
【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は水素またはハロ
ゲン原子またはアルキル、アルコキシ、カルボキシル、
アルコキシカルボニルまたはアリールオキシカルボニル
基を表し、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10はアルキル基を
表し、Ｒ7 はアルキルまたはアルコキシアルキル基を表
し、Ｒ8 はアルキレン基を表す。）からなる他の光反応
開始剤成分を含むことを特徴とする。
ゲン原子またはアルキル、アルコキシ、カルボキシル、
アルコキシカルボニルまたはアリールオキシカルボニル
基を表し、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10はアルキル基を
表し、Ｒ7 はアルキルまたはアルコキシアルキル基を表
し、Ｒ8 はアルキレン基を表す。）からなる他の光反応
開始剤成分を含むことを特徴とする。
【００１１】また、本発明は、層支持体、および必須成
分として、 ａ）重合体結合剤、 ｂ）フリーラジカルにより重合することができ、少なく
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）光反応開始剤として作用するＮ−複素環式化合物 を含む光重合性層からなる光重合性記録材料をも提供す
る。
分として、 ａ）重合体結合剤、 ｂ）フリーラジカルにより重合することができ、少なく
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）光反応開始剤として作用するＮ−複素環式化合物 を含む光重合性層からなる光重合性記録材料をも提供す
る。
【００１２】本発明の記録材料は、光重合性層が追加の
光反応開始剤成分として、上記の化合物（ｄ）および
（ｅ）を含むことを特徴とする。
光反応開始剤成分として、上記の化合物（ｄ）および
（ｅ）を含むことを特徴とする。
【００１３】式Ｉのチオキサントンは、基Ｒ1 〜Ｒ4 の
少なくとも２つ、好ましくはこれらの基の３つが水素原
子である化合物が好ましい。これらの基がアルキルまた
はアルコキシ基であるか、あるいはアルキルまたはアル
コキシ基を含む場合、後者は一般に１〜６、特に１〜４
個の炭素原子を含むことができる。好ましいアリールオ
キシカルボニル基は、ハロゲン原子またはＣ1 −Ｃ3 ア
ルキル基により置換されていてもよいフェニルオキシカ
ルボニル基である。好ましいハロゲン原子は塩素および
臭素である。
少なくとも２つ、好ましくはこれらの基の３つが水素原
子である化合物が好ましい。これらの基がアルキルまた
はアルコキシ基であるか、あるいはアルキルまたはアル
コキシ基を含む場合、後者は一般に１〜６、特に１〜４
個の炭素原子を含むことができる。好ましいアリールオ
キシカルボニル基は、ハロゲン原子またはＣ1 −Ｃ3 ア
ルキル基により置換されていてもよいフェニルオキシカ
ルボニル基である。好ましいハロゲン原子は塩素および
臭素である。
【００１４】式IIおよびIII のジアルキル化合物中で、
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10は、一般に１〜８、好まし
くは１〜４個の炭素原子を有するアルキル基である。Ｒ
7 は、一般に１〜６、好ましくは１〜３個の炭素原子を
有するアルキル基、または２〜８、好ましくは３〜６個
の炭素原子を有するアルコキシアルキル基である。Ｒ8
は一般に２〜６個の炭素原子を有する。
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10は、一般に１〜８、好まし
くは１〜４個の炭素原子を有するアルキル基である。Ｒ
7 は、一般に１〜６、好ましくは１〜３個の炭素原子を
有するアルキル基、または２〜８、好ましくは３〜６個
の炭素原子を有するアルコキシアルキル基である。Ｒ8
は一般に２〜６個の炭素原子を有する。
【００１５】Ｒ1 がアルキルで、Ｒ2 〜Ｒ4 が水素であ
る式Ｉの化合物が好ましく、好ましい共開始剤は式IIの
化合物である。
る式Ｉの化合物が好ましく、好ましい共開始剤は式IIの
化合物である。
【００１６】好ましいＮ−複素環式化合物の例はＤＥ−
Ａ ２０２７４６７に記載されている。これらは、異原
子として追加の窒素原子を外側の芳香族環の一つに含
み、これらの環上に２個までの縮合ベンゼン環を有する
ことができる、アクリジンまたはフェナジン型の化合物
であるが、これらは、Ｈ、ハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アリール、アリールオキシ、アミノ、アシルアミ
ノまたはアラルケニル基からなる、３個までの同一また
は異なった置換基を有することができる。
Ａ ２０２７４６７に記載されている。これらは、異原
子として追加の窒素原子を外側の芳香族環の一つに含
み、これらの環上に２個までの縮合ベンゼン環を有する
ことができる、アクリジンまたはフェナジン型の化合物
であるが、これらは、Ｈ、ハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アリール、アリールオキシ、アミノ、アシルアミ
ノまたはアラルケニル基からなる、３個までの同一また
は異なった置換基を有することができる。
【００１７】さらに、ＤＥ−Ａ ２０３９８６１に開示
されている様に、キノキサリンおよびキナゾリンを含む
Ｎ−複素環式化合物も挙げることができる。ＥＰ−Ａ
３７４７０４に記載されている置換アクリジンも使用に
適している。
されている様に、キノキサリンおよびキナゾリンを含む
Ｎ−複素環式化合物も挙げることができる。ＥＰ−Ａ
３７４７０４に記載されている置換アクリジンも使用に
適している。
【００１８】その他のＮ−複素環式化合物の例は、ＥＰ
−Ａ ２２０５８９に記載されている。これらの化合物
は、キノリン、特に一般式IV
−Ａ ２２０５８９に記載されている。これらの化合物
は、キノリン、特に一般式IV
【化１０】 （式中、Ｒ11は、置換した、または置換していないｍ−
価の炭素環式または複素環式芳香族基であり、Ｒ12は、
水素原子、アルキル、アリール、アラルキルまたはアラ
ルケニル基であり、Ｒ13およびＲ14は、同じまたは異な
っており、水素またはハロゲン原子、アルキルまたはア
ルコキシ基を表し、ｎは０または１であり、ｍは１また
は２である。）の２，３−ジヒドロ−１Ｈ−シクロペン
タ［ｂ］キノリンである。
価の炭素環式または複素環式芳香族基であり、Ｒ12は、
水素原子、アルキル、アリール、アラルキルまたはアラ
ルケニル基であり、Ｒ13およびＲ14は、同じまたは異な
っており、水素またはハロゲン原子、アルキルまたはア
ルコキシ基を表し、ｎは０または１であり、ｍは１また
は２である。）の２，３−ジヒドロ−１Ｈ−シクロペン
タ［ｂ］キノリンである。
【００１９】また、好適なＮ−複素環式化合物には、Ｅ
Ｐ−Ａ １１７８６に記載されている様な、２−（アリ
ール−ビニル）−および２−（４−アリール−ブタジエ
ニル）キノリンもある。
Ｐ−Ａ １１７８６に記載されている様な、２−（アリ
ール−ビニル）−および２−（４−アリール−ブタジエ
ニル）キノリンもある。
【００２０】代表的なＮ−複素環式化合物には、９−フ
ェニルアクリジン、９−（ｐ−トリル）−アクリジン、
９−（４−メトキシフェニル）−アクリジン、９−（４
−ヒドロキシフェニル）−アクリジン、９−アセチルア
ミノ−アクリジン、ベンズ［ａ］フェナジン、８−メチ
ル−ベンズ［ａ］フェナジン、９，１０−ジメチル−ベ
ンズ［ａ］フェナジン、９−メチル−ベンズ［ａ］フェ
ナジン、１０−メチル−ベンズ［ａ］フェナジン、９−
メトキシ−ベンズ［ａ］フェナジン、１０−メトキシ−
ベンズ［ａ］フェナジン、ジベンズ［ａ，ｃ］フェナジ
ン、１１−メトキシ−ジベンズ［ａ，ｃ］フェナジン、
ジベンズ［ａ，ｊ］フェナジン、これらの中で特に９−
フェニルアクリジン、９−（ｐ−トリル）−アクリジ
ン、ベンズ［ａ］フェナジンおよび９−メチル−ベンズ
［ａ］フェナジン、キノキサリン誘導体、例えば６，
４' ，４''−トリメトキシ−２，３−ジフェニルキノキ
サリン、４' ，４''−ジメトキシ−２，３−ジフェニル
−５−アザキノキサリン、キナゾリン誘導体、２−スチ
リル−キノリン、シンナミリデン−キナルジンおよび３
−（ｏ−クロロ−ベンジリデン）−９−フェニル−２，
３−ジヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］キノリンがあ
る。
ェニルアクリジン、９−（ｐ−トリル）−アクリジン、
９−（４−メトキシフェニル）−アクリジン、９−（４
−ヒドロキシフェニル）−アクリジン、９−アセチルア
ミノ−アクリジン、ベンズ［ａ］フェナジン、８−メチ
ル−ベンズ［ａ］フェナジン、９，１０−ジメチル−ベ
ンズ［ａ］フェナジン、９−メチル−ベンズ［ａ］フェ
ナジン、１０−メチル−ベンズ［ａ］フェナジン、９−
メトキシ−ベンズ［ａ］フェナジン、１０−メトキシ−
ベンズ［ａ］フェナジン、ジベンズ［ａ，ｃ］フェナジ
ン、１１−メトキシ−ジベンズ［ａ，ｃ］フェナジン、
ジベンズ［ａ，ｊ］フェナジン、これらの中で特に９−
フェニルアクリジン、９−（ｐ−トリル）−アクリジ
ン、ベンズ［ａ］フェナジンおよび９−メチル−ベンズ
［ａ］フェナジン、キノキサリン誘導体、例えば６，
４' ，４''−トリメトキシ−２，３−ジフェニルキノキ
サリン、４' ，４''−ジメトキシ−２，３−ジフェニル
−５−アザキノキサリン、キナゾリン誘導体、２−スチ
リル−キノリン、シンナミリデン−キナルジンおよび３
−（ｏ−クロロ−ベンジリデン）−９−フェニル−２，
３−ジヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］キノリンがあ
る。
【００２１】Ｎ−複素環式化合物は０．０１〜３．０重
量％、好ましくは０．０５〜１．０重量％の量で使用す
る。
量％、好ましくは０．０５〜１．０重量％の量で使用す
る。
【００２２】チオキサントンおよびジアルキルアミノ化
合物の量は、それぞれの場合０．１〜４．０重量％、好
ましくは０．２〜２．０重量％である。一般に、ジアル
キルアミノ化合物１重量部あたり、０．３〜３、好まし
くは０．５〜２重量部のチオキサントンを使用する。
合物の量は、それぞれの場合０．１〜４．０重量％、好
ましくは０．２〜２．０重量％である。一般に、ジアル
キルアミノ化合物１重量部あたり、０．３〜３、好まし
くは０．５〜２重量部のチオキサントンを使用する。
【００２３】チオキサントン＋ジアルキルアミノ化合物
対Ｎ−複素環式化合物の量的比率は、一般に１：１〜２
０：１、好ましくは２：１〜１５：１の範囲内である。
対Ｎ−複素環式化合物の量的比率は、一般に１：１〜２
０：１、好ましくは２：１〜１５：１の範囲内である。
【００２４】本発明の組成物は、少なくとも一つの、好
ましくは少なくとも２つの末端エチレン性二重結合を有
する重合性化合物を含む。使用する重合性化合物には、
一般にアクリル酸またはメタクリル酸と多価、好ましく
は第一アルコールとのエステルがある。好適な多価アル
コールには、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、ブタンジオール−１，４、ブタンジオール−
１，３、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、分子量が２００〜１，０００のポリエチレンまたは
ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、
グリセロール、トリメチロールエタンおよびトリメチロ
ールプロパン、ペンタエリトリトール、ビスフェノール
−Ａ誘導体およびこれらの化合物とエチレンオキシドお
よび／またはプロピレンオキシドとの反応生成物があ
る。１モルのジイソシアネートと２モルのアクリル酸ヒ
ドロキシアルキルまたはメタクリル酸ヒドロキシアルキ
ルの反応により得られる、ウレタン基を含むビスアクリ
ル酸エステルおよびビスメタクリル酸エステルも効果的
に使用できる。ジイソシアネートは、ジオールを過剰モ
ルの単量体ジイソシアネートと反応させることにより得
られるオリゴマー性生成物でもよい。ウレタン基を含む
この種のモノマーおよび類似のモノマーは、ＤＥ−Ａ
２０６４０７９、２８２２１９０、３０４８５０２およ
び３５４０４８０に記載されている。
ましくは少なくとも２つの末端エチレン性二重結合を有
する重合性化合物を含む。使用する重合性化合物には、
一般にアクリル酸またはメタクリル酸と多価、好ましく
は第一アルコールとのエステルがある。好適な多価アル
コールには、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、ブタンジオール−１，４、ブタンジオール−
１，３、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、分子量が２００〜１，０００のポリエチレンまたは
ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、
グリセロール、トリメチロールエタンおよびトリメチロ
ールプロパン、ペンタエリトリトール、ビスフェノール
−Ａ誘導体およびこれらの化合物とエチレンオキシドお
よび／またはプロピレンオキシドとの反応生成物があ
る。１モルのジイソシアネートと２モルのアクリル酸ヒ
ドロキシアルキルまたはメタクリル酸ヒドロキシアルキ
ルの反応により得られる、ウレタン基を含むビスアクリ
ル酸エステルおよびビスメタクリル酸エステルも効果的
に使用できる。ジイソシアネートは、ジオールを過剰モ
ルの単量体ジイソシアネートと反応させることにより得
られるオリゴマー性生成物でもよい。ウレタン基を含む
この種のモノマーおよび類似のモノマーは、ＤＥ−Ａ
２０６４０７９、２８２２１９０、３０４８５０２およ
び３５４０４８０に記載されている。
【００２５】層に含まれるモノマーの量的比率は、一般
に約１０〜７５重量％、好ましくは２０〜６０重量％で
ある。
に約１０〜７５重量％、好ましくは２０〜６０重量％で
ある。
【００２６】多数の可溶性有機重合体を結合剤として使
用することができる。これらの例としては、ポリアミ
ド、ポリビニルエステル、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルエーテル、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミ
ド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルホルムア
ミド、ポリビニルメチルアセトアミド、および上記の単
独重合体を形成するモノマーの共重合体がある。
用することができる。これらの例としては、ポリアミ
ド、ポリビニルエステル、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルエーテル、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミ
ド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルホルムア
ミド、ポリビニルメチルアセトアミド、および上記の単
独重合体を形成するモノマーの共重合体がある。
【００２７】他の好適な結合剤は、天然物質または転化
した天然物質、例えばゼラチンおよびセルロースエーテ
ルである。
した天然物質、例えばゼラチンおよびセルロースエーテ
ルである。
【００２８】水には不溶であるが、アルカリ水溶液には
少なくとも膨潤し得る結合剤を含む層は、水性アルカリ
現像剤で現像できるので、特に有利である。その様な結
合剤には、例えば、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3 Ｈ2 、−ＳＯ
3 Ｈ、−ＳＯ2 ＮＨ、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＳＯ2 −および
−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−の基を含むことができる。これ
らの結合剤の例としては、マレイン酸エステル樹脂、β
−メタクリロイル−オキシエチル−Ｎ−（ｐ−トリルス
ルホニル）−カルバメートの重合体およびこれらのモノ
マーおよび類似のモノマーと他のモノマーとの共重合体
および酢酸ビニルとクロトン酸の共重合体およびスチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体がある。ＤＥ−Ａ ２０
６４０８０、２３６３８０６および３４２７５１９に記
載される様なメタクリル酸アルキル／メタクリル酸共重
合体およびメタクリル酸、高分子量メタクリル酸アルキ
ルおよびメタクリル酸メチルおよび／またはスチレン、
アクリロニトリル、その他の共重合体が好ましい。ＤＥ
−Ａ ３８０５７０６に記載されているα，β−不飽和
カルボン酸、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステ
ルおよび芳香族置換基を含む化合物からなる結合剤も効
果的に使用できる。
少なくとも膨潤し得る結合剤を含む層は、水性アルカリ
現像剤で現像できるので、特に有利である。その様な結
合剤には、例えば、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3 Ｈ2 、−ＳＯ
3 Ｈ、−ＳＯ2 ＮＨ、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＳＯ2 −および
−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−の基を含むことができる。これ
らの結合剤の例としては、マレイン酸エステル樹脂、β
−メタクリロイル−オキシエチル−Ｎ−（ｐ−トリルス
ルホニル）−カルバメートの重合体およびこれらのモノ
マーおよび類似のモノマーと他のモノマーとの共重合体
および酢酸ビニルとクロトン酸の共重合体およびスチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体がある。ＤＥ−Ａ ２０
６４０８０、２３６３８０６および３４２７５１９に記
載される様なメタクリル酸アルキル／メタクリル酸共重
合体およびメタクリル酸、高分子量メタクリル酸アルキ
ルおよびメタクリル酸メチルおよび／またはスチレン、
アクリロニトリル、その他の共重合体が好ましい。ＤＥ
−Ａ ３８０５７０６に記載されているα，β−不飽和
カルボン酸、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステ
ルおよび芳香族置換基を含む化合物からなる結合剤も効
果的に使用できる。
【００２９】組成物に含むことができる他の通常の成分
には、重合防止剤、他の安定剤、水素供与体、感光性調
整剤、染料、ロイコ染料、光酸化剤、例えばトリブロモ
メチル−フェニルスルホン、顔料、可塑剤および熱的に
活性化し得る架橋剤がある。
には、重合防止剤、他の安定剤、水素供与体、感光性調
整剤、染料、ロイコ染料、光酸化剤、例えばトリブロモ
メチル−フェニルスルホン、顔料、可塑剤および熱的に
活性化し得る架橋剤がある。
【００３０】本発明に係る組成物が感応性を示す活性線
放射としては、重合の開始に十分なエネルギーを有する
ならどの様な電磁放射でも使用できる。可視および紫外
線、Ｘ線および電子線が特に好適である。可視および紫
外領域におけるレーザー放射を使用することもできる。
短波長可視および近紫外線が好ましい。
放射としては、重合の開始に十分なエネルギーを有する
ならどの様な電磁放射でも使用できる。可視および紫外
線、Ｘ線および電子線が特に好適である。可視および紫
外領域におけるレーザー放射を使用することもできる。
短波長可視および近紫外線が好ましい。
【００３１】本発明の組成物で調製する記録材料に使用
する層支持体の例としては、アルミニウム、鋼、亜鉛、
銅、スクリーンまたはプラスチックフィルム、例えばポ
リエチレンテレフタレートがある。支持体表面は、化学
的または機械的方法により前処理し、層の密着性を適切
に調整することができる。
する層支持体の例としては、アルミニウム、鋼、亜鉛、
銅、スクリーンまたはプラスチックフィルム、例えばポ
リエチレンテレフタレートがある。支持体表面は、化学
的または機械的方法により前処理し、層の密着性を適切
に調整することができる。
【００３２】本発明に係る組成物は、転写性ドライフォ
トレジスト材料の形で使用するのが好ましい。この目的
には、この組成物を使用して調整し、予め加工した、転
写性ドライレジストフィルムを公知の方法で、処理すべ
き加工品、例えば回路基板用の支持体材料に適用するこ
とができる。ドライレジスト材料を調製するには、一般
に、組成物を溶剤に溶解した溶液を好適な層支持体、例
えばポリエステルフィルムに塗布し、乾燥させる。レジ
スト層の厚さは約１０〜８０μm 、好ましくは２０〜６
０μm にすることができる。層の自由表面は、適宜、ト
ップフィルム、例えばポリエチレンまたはポリプロピレ
ンのフィルムで覆う。完成したラミネートは大型ロール
で貯蔵し、これを必要な幅のレジストロールに裁断す
る。
トレジスト材料の形で使用するのが好ましい。この目的
には、この組成物を使用して調整し、予め加工した、転
写性ドライレジストフィルムを公知の方法で、処理すべ
き加工品、例えば回路基板用の支持体材料に適用するこ
とができる。ドライレジスト材料を調製するには、一般
に、組成物を溶剤に溶解した溶液を好適な層支持体、例
えばポリエステルフィルムに塗布し、乾燥させる。レジ
スト層の厚さは約１０〜８０μm 、好ましくは２０〜６
０μm にすることができる。層の自由表面は、適宜、ト
ップフィルム、例えばポリエチレンまたはポリプロピレ
ンのフィルムで覆う。完成したラミネートは大型ロール
で貯蔵し、これを必要な幅のレジストロールに裁断す
る。
【００３３】フィルムはドライレジスト技術で通常使用
されている装置により、処理することができる。市販の
ラミネーターで、トップフィルムを剥離し、フォトレジ
スト層を、ドリル穴開けした銅めっき支持体材料に張り
合わせる。その様にして調製した基板を次に原画を通し
て露光し、支持体フィルムを除去した後、この技術にお
いて公知の方法で現像する。
されている装置により、処理することができる。市販の
ラミネーターで、トップフィルムを剥離し、フォトレジ
スト層を、ドリル穴開けした銅めっき支持体材料に張り
合わせる。その様にして調製した基板を次に原画を通し
て露光し、支持体フィルムを除去した後、この技術にお
いて公知の方法で現像する。
【００３４】好適な現像剤としては、有機溶剤、例えば
トリクロロエタン、または所望により水と混和し得る有
機溶剤または湿潤剤を少量加えた、水溶液、好ましくは
例えばアルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩また
はアルカリ金属ケイ酸塩のアルカリ性水溶液がある。
トリクロロエタン、または所望により水と混和し得る有
機溶剤または湿潤剤を少量加えた、水溶液、好ましくは
例えばアルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩また
はアルカリ金属ケイ酸塩のアルカリ性水溶液がある。
【００３５】本発明に係る組成物は、各種の用途に使用
できる。これらの組成物は、金属、例えば銅の支持体材
料上のレジスト、すなわちエッチングレジスト層または
電気めっきレジストを製造するためのドライレジストフ
ィルムの形で使用するのが特に有利である。
できる。これらの組成物は、金属、例えば銅の支持体材
料上のレジスト、すなわちエッチングレジスト層または
電気めっきレジストを製造するためのドライレジストフ
ィルムの形で使用するのが特に有利である。
【００３６】本発明の光反応開始剤の組合わせを使用し
て、使用するフィルム原画（陽画または陰画）に関係な
く、高い感光性、優れた解像力および垂直なレジスト側
壁を示すフォトレジスト層が得られる。光反応開始剤と
してＮ−複素環式化合物だけを使用すると、解像力が低
下し、電気めっき用途に特に不利な陽性レジスト側壁を
もたらす。チオキサントン／アミン混合物だけを使用す
ると、感光性が低下し、レジストベースの硬化が不十分
になる。この場合、得られたレジスト側壁は、陽画原画
を使用する（電気めっき用途）場合は陽性になり、陰画
原画を使用する（エッチング用途）場合は陰性になる。
どちらも実用には不利である。
て、使用するフィルム原画（陽画または陰画）に関係な
く、高い感光性、優れた解像力および垂直なレジスト側
壁を示すフォトレジスト層が得られる。光反応開始剤と
してＮ−複素環式化合物だけを使用すると、解像力が低
下し、電気めっき用途に特に不利な陽性レジスト側壁を
もたらす。チオキサントン／アミン混合物だけを使用す
ると、感光性が低下し、レジストベースの硬化が不十分
になる。この場合、得られたレジスト側壁は、陽画原画
を使用する（電気めっき用途）場合は陽性になり、陰画
原画を使用する（エッチング用途）場合は陰性になる。
どちらも実用には不利である。
【００３７】下記の実施例により、本発明の好ましい実
施形態を説明する。量的比率および百分率は、他に指示
がない限り重量単位とする。成分の量は一般的に重量部
で表す。各例の後の文字（Ｃ）は比較例を表わす。
施形態を説明する。量的比率および百分率は、他に指示
がない限り重量単位とする。成分の量は一般的に重量部
で表す。各例の後の文字（Ｃ）は比較例を表わす。
【００３８】実施例１ それぞれ ２１重量部の、５０％濃度の溶液（４２重量部）として
エタノール／ブタノン１： １に加えた、
メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸メチル、
アクリル酸ブチルおよびスチレン（１６：
５：４２：２７：１０） の重合体、９重
量部のポリエチレングリコール−４００−ジメタクリル
酸エステル、０．４５重量部のロイコクリスタルバイオ
レット、０．０１２重量部のビクトリアピュアブルーＦ
ＧＡ（Ｃ．Ｉ．４２５９８）および０．０３重量部のト
リブロモメチルフェニルスルホンを２７重量部のブタノ
ンおよび２２重量部のエタノールに溶解して原料溶液を
調製し、これらの溶液に下記の光反応開始剤 Ａ（Ｃ） ０．０６重量部の９−フェニルアクリジン、 Ｂ（Ｃ） ０．２４重量部のイソプロピルチオキサント
ンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチル
ベンゾエート、または Ｃ ０．０６重量部の９−フェニルアクリジン、
０．２４重量部のイソプロピルチオキサントンおよび
０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチルベンゾエ
ート を溶解した。
エタノール／ブタノン１： １に加えた、
メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸メチル、
アクリル酸ブチルおよびスチレン（１６：
５：４２：２７：１０） の重合体、９重
量部のポリエチレングリコール−４００−ジメタクリル
酸エステル、０．４５重量部のロイコクリスタルバイオ
レット、０．０１２重量部のビクトリアピュアブルーＦ
ＧＡ（Ｃ．Ｉ．４２５９８）および０．０３重量部のト
リブロモメチルフェニルスルホンを２７重量部のブタノ
ンおよび２２重量部のエタノールに溶解して原料溶液を
調製し、これらの溶液に下記の光反応開始剤 Ａ（Ｃ） ０．０６重量部の９−フェニルアクリジン、 Ｂ（Ｃ） ０．２４重量部のイソプロピルチオキサント
ンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチル
ベンゾエート、または Ｃ ０．０６重量部の９−フェニルアクリジン、
０．２４重量部のイソプロピルチオキサントンおよび
０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチルベンゾエ
ート を溶解した。
【００３９】二軸延伸しヒートセットした２５μm 厚の
ポリエチレンテレフタレートフィルムにこれらの溶液
を、それぞれの場合に１００℃で乾燥後に層重量が４５
g/m2になる様にスピンコーティングした。
ポリエチレンテレフタレートフィルムにこれらの溶液
を、それぞれの場合に１００℃で乾燥後に層重量が４５
g/m2になる様にスピンコーティングした。
【００４０】この様にして調製したドライレジストを、
市販のラミネーターを使用し、３５μm 厚の銅ホイルで
被覆したフェノール樹脂ラミネート板に１１５℃で張り
合わせた。次いで、５kWハロゲン化金属ランプを使用
し、真空複写フレーム中で、下記の露光原画１および２
を通して５秒間、露光原画３を通して８秒間露光し、続
いて１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現像した。
市販のラミネーターを使用し、３５μm 厚の銅ホイルで
被覆したフェノール樹脂ラミネート板に１１５℃で張り
合わせた。次いで、５kWハロゲン化金属ランプを使用
し、真空複写フレーム中で、下記の露光原画１および２
を通して５秒間、露光原画３を通して８秒間露光し、続
いて１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現像した。
【００４１】露光原画１ 黒 ４７μm （線） 透明 ３００μm （空間） 形成された通路の幅 Ａ（Ｃ） − 解像されず （上縁部／底縁部） Ｂ（Ｃ） ７１／５８μm 陽性レジスト側壁 １：１に再現されず レジストが剥離 Ｃ ４７／４７μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００４２】露光原画２ 黒 ３００μm 透明 ４６μm レジスト線の幅 Ａ（Ｃ） ４６／５０μm 陽性レジスト側壁 （上縁部／底縁部） Ｂ（Ｃ） ３４／３１μm 陰性レジスト側壁 １：１に再現されず レジストが剥離 Ｃ ４５／４５μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００４３】露光原画３ 黒 ７１μm 透明 ３００μm 通路 Ａ（Ｃ） − 解像されず （上縁部／底縁部） Ｂ（Ｃ） ８５／７６μm 陽性レジスト側壁 １：１に再現されず Ｃ ６９／６９μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００４４】添付の図面（図１）は、対応するレジスト
試料の断面の顕微鏡写真を示す。
試料の断面の顕微鏡写真を示す。
【００４５】実施例２ それぞれ ２０重量部の、５０％濃度の溶液（４０重量部）として
エタノール／ブタノン１： １に加えた、
実施例１に示す重合体、４重量部のトリメチロールプロ
パントリアクリレート４重量部の、２モルのメタクリル
酸ヒドロキシエチルおよび１モルの２，２，４−トリメ
チル−ヘキサメチレン−ジイソシアネートから得たジウ
レタン、２重量部の、１モルのメタクリル酸ヒドロキシ
エチルを５モルのエチレンオキシドおよび１モルのブチ
ルイソシアネートと反応させて得た生成物０．４５重量
部のロイコクリスタルバイオレット、０．０１２重量部
のビクトリアピュアブルーＦＧＡおよび０．０３重量部
のトリブロモメチルフェニルスルホンを２６重量部のブ
タノンおよび１３重量部のエタノールに溶解して原料溶
液を調製し、下記の光反応開始剤 Ａ（Ｃ） ０．０６重量部の９−（４−メトキシ−フェ
ニル）−アクリジン、 Ｂ（Ｃ） ０．２４重量部のイソプロピルチオキサント
ンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチル
ベンゾエート、または Ｃ ０．０６重量部の９−（４−メトキシ−フェ
ニル）−アクリジン、０．２４重量部のイソプロピルチ
オキサントンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミ
ノ−エチルベンゾエートを加えた。
エタノール／ブタノン１： １に加えた、
実施例１に示す重合体、４重量部のトリメチロールプロ
パントリアクリレート４重量部の、２モルのメタクリル
酸ヒドロキシエチルおよび１モルの２，２，４−トリメ
チル−ヘキサメチレン−ジイソシアネートから得たジウ
レタン、２重量部の、１モルのメタクリル酸ヒドロキシ
エチルを５モルのエチレンオキシドおよび１モルのブチ
ルイソシアネートと反応させて得た生成物０．４５重量
部のロイコクリスタルバイオレット、０．０１２重量部
のビクトリアピュアブルーＦＧＡおよび０．０３重量部
のトリブロモメチルフェニルスルホンを２６重量部のブ
タノンおよび１３重量部のエタノールに溶解して原料溶
液を調製し、下記の光反応開始剤 Ａ（Ｃ） ０．０６重量部の９−（４−メトキシ−フェ
ニル）−アクリジン、 Ｂ（Ｃ） ０．２４重量部のイソプロピルチオキサント
ンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミノ−エチル
ベンゾエート、または Ｃ ０．０６重量部の９−（４−メトキシ−フェ
ニル）−アクリジン、０．２４重量部のイソプロピルチ
オキサントンおよび０．３０重量部の４−ジメチルアミ
ノ−エチルベンゾエートを加えた。
【００４６】実施例１に記載する様にして、ドライレジ
スト層をスピンコーティングにより調製した。張り合わ
せた後、レジストを下記の露光原画４、５および６を通
して９秒間露光し、１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現
像した。
スト層をスピンコーティングにより調製した。張り合わ
せた後、レジストを下記の露光原画４、５および６を通
して９秒間露光し、１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現
像した。
【００４７】露光原画４ 黒 ４３μm 透明 ３００μm 通路 Ａ（Ｃ） − 解像されず （上縁部／底縁部） Ｂ（Ｃ） ５４／４０μm 陽性レジスト側壁 １：１に再現されず Ｃ ４４／４２μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００４８】露光原画５ 黒 ５６μm 透明 ３００μm 通路 Ａ（Ｃ） ５８／４２μm 陽性レジスト側壁 （上縁部／底縁部） １：１に再現されず Ｂ（Ｃ） ７０／６１μm Ａと同様 Ｃ ５６／５４μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００４９】露光原画６ 黒 ６５μm 透明 ３００μm 通路 Ａ（Ｃ） ６５／４５μm 陽性レジスト側壁 （上縁部／底縁部） １：１に再現されず Ｂ（Ｃ） ７７／６９μm Ａと同様 Ｃ ６６／６４μm 垂直レジスト側壁 １：１再現
【００５０】フェニルアクリジンで解像度がより乏しく
なり、同時に、著しく陽性のレジスト側壁が生じ、レジ
スト縁部が丸くなる。チオキサントン／アミンの混合物
を使用すると、感光性が低下し、構造が１：１で再現さ
れない。その上、レジスト側壁が特に微細構造の場合に
陽性構造を有する。これらの試料の断面を図２に示す。
なり、同時に、著しく陽性のレジスト側壁が生じ、レジ
スト縁部が丸くなる。チオキサントン／アミンの混合物
を使用すると、感光性が低下し、構造が１：１で再現さ
れない。その上、レジスト側壁が特に微細構造の場合に
陽性構造を有する。これらの試料の断面を図２に示す。
【００５１】実施例３ それぞれ ５４重量部の、メタクリル酸、メタクリル酸メチルおよ
びメタクリル酸ヘキシル（３５：５：６０）の重合体、
１６重量部の、２モルのメタクリル酸ヒドロキシエチル
および１モルの２，２，４−トリメチル−ヘキサメチレ
ン−ジイソシアネートから得たジウレタン、３０重量部
のポリエチレングリコール−４００−ジメタクリル酸エ
ステル、０．１重量部の１，４−ビス−（４−tert. ブ
トキシ−フェニルアミノ）−５，８−ジヒドロキシアン
トラキノンおよび０．０５重量部のサマロンネービーブ
ルーＨＲ（Ｃ．Ｉ．分散ブルー２９０）を１１０重量部
のブタノンおよび１１０重量部のエタノールに溶解して
４つの原料溶液を調製し、光反応開始剤として Ａ（Ｃ） ０．５重量部の９−メチルベンズ［ａ］フェ
ナジン、 Ｂ ０．５重量部の９−メチルベンズ［ａ］フェ
ナジン、０．５重量部のイソプロピルチオキサントンお
よび０．５重量部の４−ジメチルアミノ−ブチルベンゾ
エート、 Ｃ（Ｃ） ０．５重量部の２，３−ビス（ｐ−メトキシ
フェニル）−６−メトキシキノキサリン、 Ｄ ０．５重量部の２，３−ビス（ｐ−メトキシ
フェニル）−６−メトキシキノキサリン、０．５重量部
のイソプロピルチオキサントンおよび０．５重量部の４
−ジメチルアミノ−ブチルベンゾエートを加えた。
びメタクリル酸ヘキシル（３５：５：６０）の重合体、
１６重量部の、２モルのメタクリル酸ヒドロキシエチル
および１モルの２，２，４−トリメチル−ヘキサメチレ
ン−ジイソシアネートから得たジウレタン、３０重量部
のポリエチレングリコール−４００−ジメタクリル酸エ
ステル、０．１重量部の１，４−ビス−（４−tert. ブ
トキシ−フェニルアミノ）−５，８−ジヒドロキシアン
トラキノンおよび０．０５重量部のサマロンネービーブ
ルーＨＲ（Ｃ．Ｉ．分散ブルー２９０）を１１０重量部
のブタノンおよび１１０重量部のエタノールに溶解して
４つの原料溶液を調製し、光反応開始剤として Ａ（Ｃ） ０．５重量部の９−メチルベンズ［ａ］フェ
ナジン、 Ｂ ０．５重量部の９−メチルベンズ［ａ］フェ
ナジン、０．５重量部のイソプロピルチオキサントンお
よび０．５重量部の４−ジメチルアミノ−ブチルベンゾ
エート、 Ｃ（Ｃ） ０．５重量部の２，３−ビス（ｐ−メトキシ
フェニル）−６−メトキシキノキサリン、 Ｄ ０．５重量部の２，３−ビス（ｐ−メトキシ
フェニル）−６−メトキシキノキサリン、０．５重量部
のイソプロピルチオキサントンおよび０．５重量部の４
−ジメチルアミノ−ブチルベンゾエートを加えた。
【００５２】実施例１に記載する様にして、これらの溶
液をポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、乾
燥させた。
液をポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、乾
燥させた。
【００５３】これらのレジストフィルムを、銅ホイルで
被覆したフェノール樹脂ラミネート板上に張り合わせ、
５０μm 幅の黒色線および５０μm 幅の空間の線パター
ンからなる原画および灰色ステップウェッジを通して露
光し、１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現像（３０℃、
４５秒間噴霧）した後、ステップ８（光学密度１．１
８）の下のレジストも十分に硬化し、支持体上に残って
いたが、ステップ９（光学密度１．３３）の下のレジス
トは現像剤により溶解し、除去された。
被覆したフェノール樹脂ラミネート板上に張り合わせ、
５０μm 幅の黒色線および５０μm 幅の空間の線パター
ンからなる原画および灰色ステップウェッジを通して露
光し、１％濃度の炭酸ナトリウム溶液で現像（３０℃、
４５秒間噴霧）した後、ステップ８（光学密度１．１
８）の下のレジストも十分に硬化し、支持体上に残って
いたが、ステップ９（光学密度１．３３）の下のレジス
トは現像剤により溶解し、除去された。
【００５４】次いで、得られた解像度を評価した。本発
明に係る試料ＢおよびＤは、５０μm 線図形の再現性が
優れていた。試料ＡおよびＣでは、露光下線が「混じり
合った」、すなわち黒色線の下でも、一定の光架橋およ
び光硬化が起きた。
明に係る試料ＢおよびＤは、５０μm 線図形の再現性が
優れていた。試料ＡおよびＣでは、露光下線が「混じり
合った」、すなわち黒色線の下でも、一定の光架橋およ
び光硬化が起きた。
【図１】実施例１における、対応するレジスト試料の断
面の粒子構造を示す顕微鏡写真。
面の粒子構造を示す顕微鏡写真。
【図２】実施例２における、対応するレジスト試料の断
面の粒子構造を示す顕微鏡写真。
面の粒子構造を示す顕微鏡写真。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ (73)特許権者 596090409 100 Ｎｏｒｔｈ Ｒｉｖｅｒｓｉｄｅ Ｐｌａｚａ，Ｃｈｉｃａｇｏ，Ｉｌｌ ｉｎｏｉｓ 60606−1596，ＵＳＡ (72)発明者 ハンス、ルーケルト ドイツ連邦共和国ウィースバーデン、エ ルプゼンアーカー、21 (56)参考文献 特開 平２−62545（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−67558（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−35438（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/028 G03F 7/004 G03F 7/027 G03F 7/032 G03F 7/038
Claims (9)
- 【請求項１】必須成分として、 ａ）重合体結合剤、 ｂ）フリーラジカルにより重合することができ、少なく
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）アクリジン、フェナジン、キノキサリンまたはキノ
リン化合物からなる群から選択される、光反応開始剤と
して作用するＮ−複素環式化合物を含む光重合性組成物
であって、この組成物が、さらに ｄ）式Ｉのチオキサントン誘導体、 【化１】 および ｅ）式IIおよびIII の内の一つのジアルキルアミノ化合
物 【化２】 【化３】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は水素またはハロ
ゲン原子またはアルキル、アルコキシ、カルボキシル、
アルコキシカルボニルまたはアリールオキシカルボニル
基を表し、 Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10はアルキル基を表し、 Ｒ7 はアルキルまたはアルコキシアルキル基を表し、 Ｒ8 はアルキレン基を表す。）からなる他の光反応開始
剤成分を含むことを特徴とする組成物。 - 【請求項２】Ｎ−複素環式化合物を０．０１〜３．０重
量％の量で含むことを特徴とする、請求項１に記載の組
成物。 - 【請求項３】それぞれ０．１〜４重量％の化合物（ｄ）
および化合物（ｅ）を含むことを特徴とする、請求項１
に記載の組成物。 - 【請求項４】Ｎ−複素環式化合物（ｃ）１重量部あた
り、（ｄ）＋（ｅ）を総量で１〜２０重量部含むことを
特徴とする、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項５】（ｄ）対（ｅ）の量的比率が３：１〜１：
３であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項６】結合剤が水に不溶で、アルカリ水溶液に可
溶であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項７】２０〜９０重量％の結合剤および１０〜７
５重量％の重合性化合物を含むことを特徴とする、請求
項１に記載の組成物。 - 【請求項８】層支持体、および必須成分として、 ａ）重合体結合剤、 ｂ）フリーラジカルにより重合することができ、少なく
とも一つの末端エチレン性二重結合を有する化合物、お
よび ｃ）アクリジン、フェナジン、キノキサリンまたはキノ
リン化合物からなる群から選択される、光反応開始剤と
して作用するＮ−複素環式化合物を含む光重合性層から
なる光重合性記録材料であって、光重合性層に含まれる
他の光反応開始剤が ｄ）式Ｉのチオキサントン誘導体、 【化４】 および ｅ）式IIおよびIII の内の一つのジアルキルアミノ化合
物 【化５】 【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は水素またはハロ
ゲン原子またはアルキル、アルコキシ、カルボキシル、
アルコキシカルボニルまたはアリールオキシカルボニル
基を表し、 Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ9 およびＲ10はアルキル基を表し、 Ｒ7 はアルキルまたはアルコキシアルキル基を表し、 Ｒ8 はアルキレン基を表す。）からなることを特徴とす
る光重合性記録材料。 - 【請求項９】層支持体が、光重合性層に取り外しできる
様に接続された可撓性の透明プラスチックフィルムから
なり、その層が、その層支持体からそれた方の表面上
に、層支持体よりも弱く光重合性層に密着した可撓性の
トップフィルムを有することを特徴とする、請求項８に
記載の光重合性記録材料。
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