JPH02113250A

JPH02113250A - 光重合性組成物

Info

Publication number: JPH02113250A
Application number: JP26665488A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Imahashi; 聰今橋; Katsuhiro Yamashita; 山下　克浩
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1988-10-22
Filing date: 1988-10-22
Publication date: 1990-04-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。

（従来の技術）光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。

これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している．と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。

また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザ−などの可視部ｗｔ誠に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている．そのために可視光線に対して高
い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対し
て高感度な光閏始剤が必要である。

特開昭５４−１５５２９２号公報にはへキサアリールビ
スイミダゾールを含む系、特開昭５８−１５５０３号公
報には活性ハロゲン化合物と３−ケト置換クマリン化合
物の系、特開昭５６−４６０４号公報には３−ケト置換
クマリンとＮ−フェニルグリシンの系、特開昭６１−９
７６５０号公報には３−ｉ！ｆ換クマクマリンナゾリノ
ン誘導体との組合せ、特開昭６１−１２３６０３号公報
にはへキサアリールビイミダゾールと３−ケト置換クマ
リンとの組合せの光開始剤系が開示されている。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。

（課題を解決するための手段）本発明者は以上の問題点を解決すべく、つまり、光重合
性組成物の可視光に対する感度を向上させる目的で、光
開始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発
明を完成するに到った。すなわち本発明は（、ＩＯ少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性
不飽和化合物、ら）　下記一般式（１）で示される鉄アレン錯体、（ｃ
）　　下記一般式（ｎ）で示される３−置換クマリン化
合物および／または下記一般式（ＤＩ）で示されるピリ
ジン誘導体またはその塩および／または下記一般式（Ｉ
Ｖ）で示されるＰ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
および、（（支）　下記一般式（Ｖ）で示される化合物および／
または下記一般式（ＶＩ）で示される環状ジケトン化合
物を含有することを特徴とする光重合性組成物である。

（式中Ｒ１、Ｒ２は同じか又は異なる基であり、Ｒ＝は
ベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよい、Ｘ
はＢＦ、　、ＰＦ、　、＾ｓＰ６．５ｂＦｉ、ＦｅＣｊ
！　ｈＳｎＣｌ　ｈ　、ＳｂＣｌ　＆、ＢｉＣｊ！　＆
を示す、）Ｒ′ （式中Ｐ％Ｒ′はＣ＋　””　Ｃ６のアルキル基、Ａは
ピリジン環に縮合したアリール基を示す、）（式中、Ｒ
３、Ｒ４、Ｒ５％Ｒ６は水素、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基
、または２つで縮合環系または縮合複素環系を形成して
もよい、Ｚはアリール基、複素環基、または　Ｏ −Ｃ−Ｒ）を示す　Ｒ？はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
複素環基を示す、）（式中ｍ、ｎはそれぞれ０または１であり、Ｒ１・、１
７目　は水素原子または炭素原子数１〜５のアルキル基
、またはＣＨ１ＣＯＯＲ口　（（Ｅｌｆ、ｌｉ”は水素
または炭素数１〜５のアルキル基、アルカリ金属、アン
モニウム、アミンを示す）、またはＣｌＨ４ＣＦ３、Ｃ
ｔＨａｌ　５ＣｔＨ４Ｂｒ、ＣｘＨａＣｊ！　ＣｔＨａ
ＦＣｘＨｎＣＮ％ＣｘＨａＮＯ□、Ｒ目はメチリジン基
またはＲＩ３と結合してカルボニル基とともに環を形成
することができる炭素原子数１〜５のアルキレン−イリ
ジン基、Ｒ１′は炭素原子、置換または非置換フェニル
基、もしくはＲｌｇとカルボニル基とともにインダノン
またはテトラロンを形成する基、（式中Ｒ１、ＲＩＭ、　１７１１は同じか又は異なる基
であり　に（Ｉｑはベンゼン環と縮合多環化合物を形成
していてもより、Ｒ２・、Ｒ２１はベンゼン環と結合し
て環を形成することもできる。ＸはＳ、　Ｓｅ、　Ｎ−
Ｒ”で、Ｈａｔは水素またはＣ５〜Ｃ６のアルキル基を
示す、）（但し１ｌｌｌｋ、Ｒｌｇは水素原子または炭
素原子数１〜５のアルキル基、またはＣＨＩＣＯＯＩＩ
”　（但しＲＩＭは水素原子または炭素数１〜５のアル
キル基を示す）、アルカリ金属、アンモニウム、アミン
またはＣｔＨｓＣＦ３．ＣｔＨｄ、ＣｚｌｌＪｒ、Ｃｚ
ＨａＣｊ！　、Ｃｌ３Ｆ　、ＣｚＨｎＣＮ、　ＣＪＪＯ
ｚである。）Ｒｘ＋（式中Ｒは水素または置換または非置換のアルキルまた
はアラルキル基であり、Ｇは二価の有機基である。）本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリットトリアクリレ
ート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが
上げられる。

第２の成分（ｂ）は前記一般式（Ｉ）で表わされる鉄ア
レン錯体であり、Ｃｈｅｍｉｋｅｒ−Ｚｅｉｔｕｎｇ。

■…１１）３４５〜３５４　（１９８４）に数多くの化
合物が記載されている。一般式（１）におけるＲ１、Ｒ
１はＣ８〜Ｃ＋Ｚのアルキル基、Ｃ２〜Ｃ＋Ｚ　のアル
ケニル基、Ｃ２〜目のアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６のアル
コキシ基、シアノ基、アルキルチオ基、フェノキシ基、
Ｃ２〜Ｃ１のモノカルボン酸およびエステルおよびアミ
ド、フェニル基、Ｃ２〜Ｃ８のアルカノイル基、アンモ
ニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフ
ィニル基、アルキルスルフォニル基、スルファモイル基
より選ばれる。

具体的には（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジ
ェニル）鉄（Ｕ）−へキサフルオロホスフェート、（η
６−トルエン）（η５−シクロペンタジニエル）鉄（１
１）へキサフルオロホスフェート、（η６−クメン）（
η−シクロペンタジェニル）鉄（ｎ）へキサフルオロホ
スフェート、（η−−ベンゼン）（η５−シクロペンタ
ジェニル）鉄（Ｉｆ）へキサフルオロアルセネート、（
η６−ベンゼン）（ηＳ−シクロペンタジェニル）鉄（
■）テトラフルオロボレート、（η６ナフタレン）（η
５−シクロペンタジェニル）鉄（ｎ）へキサフルオロホ
スフェート、（η４−アントラセン）（η５−シクロペ
ンタジェニル）鉄（ｎ）へキサフルオロホスフェート、
（η６−ピレン）（η５−シクロペンタジェニル）鉄（
ＩＩ）へキサフルオロホスフェート（η４−ベンゼン）
（η５−シアノシクロペンタジェニル）鉄（■）へキサ
フルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５−ア
セチルシクロペンタジェニル）鉄（ＩＩ）へキサフルオ
ロホスフェート、（η６−クメン）（η１−クロルシク
ロペンタジェニル）鉄（ｎ）テトラフルオロボレート、
（η６−ベンゼン）（η５−カルボエトキシシグロへキ
サジェニル）鉄（ｒｌ）へキサフルオロホスフェート、
（η６−ベンゼン）（η’　−１，３−ジクロルシクロ
へキサジェニル）鉄（ＩＩ）へキサフルオロホスフェー
ト、（η−−シアノベンゼン）（η５−シクロヘキサジ
ェニル）鉄（ｎ）へキサフルオロホスフェート、（ηｂ
−アセトフェノン）（η５−シクロへキサジェニル）鉄
（Ｉｔ）へキサフルオロホスフェート、（η１−メチル
ベンゾエート）（η５シクロペンタジェニル）鉄（■）
へキサフルオロホスフェート、（ηｂ−ベンゼンスルホ
ンアミド）（η５−シクロペンタジェニル）鉄（ｎ）テ
トラフルオロボレート、（η６−ペンズアミド）（η５
シクロペンタジェニル）鉄（■）へキサフルオロホスフ
ェート、（η６−ジアツベンゼン）（η５シアノシクロ
ペンタジェニル）鉄（ｎ）へキサフルオロホスフェート
、（η６−クロルナフタレン）（η５−シクロペンタジ
ェニル）鉄（■）へキサフルオロホスフェート、（η６
−アントラセン）（η５−シアノシクロペンタジェニル
）鉄（■）へキサフルオロホスフェートなどがあげられ
る。これらの化合物は、Ｄｏｋｌ、　Ａｋｄ、　Ｎａｕ
ｋ　５ＳＳＲ」■−６１５　（１９６３）に記載された
方法により合成できる。

第３の成分（ｃ）である前記一般式（ＩＩ）で表わされ
る３−置換クマリン化合物として、具体的には７−ジニ
チルアミノー３−（２−ベンゾチアジル）−クマリン、
７−ジニチルアミノー３−（２−ベンズイミダゾリル）
−クマリン、７−ジエチルアミノ−３−ベンゾイルクマ
リン、７−ダニチルアミノ−３−チエノイルクマリン、
７−ジニチルアミノー３．３′−カルポニルビスタマリ
ン、３．３′−カルボニルビス（７−ジエチルアミノス
チリル／）９９’カルボニルビス４、５−テトラヒドロ
−３Ｈ、６）１，　１０８　　［　１　］ベンゾピラノ
［９、９ａ，　　１　　ｇｈ］キノラジンー１０−オン
）などがあげられる、これらの化合物の合成方法は、Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗｓ　３６１（１９４５）
およびＴｓＬｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｊ３　　（　９　）　
１２０３〜１２１１（１９８２）に記載されている。

また第３の成分（ｃ）である前記一般式（ＩＩＩ）で表
わされるジアルキルアミノフェニル基と共役したピリジ
ン誘導体として、具体的には４−（Ｐージメチルアミノ
スチリル）ピリジン、４−（Ｐジエチルアミノスチリル
）ピリジン、２−（Ｐジメチルアミノスチリル）ピリジ
ン、２−（Ｐジエチルアミノスチリル）ピリジン、４−
（Ｐージメチルアミノスチリル）キノリン、４−（Ｐ−
ジエチルアミノスチリル）キノリン、２−（Ｐジメチル
アミノスチリル）キノリン、２−（Ｐ−ジエチルアミノ
スチリル）キノリン、２−（Ｐジメチルアミノスチリル
）−６−ニトキシキノリン、４−（Ｐ−ジメチルアミノ
スチリル）ピリジニウム塩酸塩、４−（Ｐ−ジメチルア
ミノスチリル）キノリニウム臭化水素塩、２−（Ｐ−ジ
メチルアミノスチリル）キノリニウムヘキサフルオロホ
スフェートなどがあげられる。

第３の成分（ｃ）である前記一般式（ＩＶ）で表わされ
るＰ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物として具体的
には２．５−ビス（４′−ジエチルアミノベンジリデン
）シクロペンタノン、２．５ビス（４′−ジメチルアミ
ノベンジリデン）シクロペンタノン、２．６ービス（４
′−ジエチルアミノベンジリデン）シクロヘキサノン、
２６ビス（４′−ジメチルアミノベンジリデン）シクロ
ヘキサノン、２，５−ビス（４′−ジメチルアミノベン
ジリデン）シクロペンタノン、２６−ビス（４′−ジメ
チルアミノシンナミリデン）シクロヘキサノン、１．３
−ビス（４′−ジメチルアミノシンナミリデン）アセト
ン、２−（４′ジエチルアミノベンジリデソ）−１−イ
ンダノン、２−（９’−ジェロリリデン）−１−インダ
ノン、２−（４′−ジエチルアミノベンジリデン）−１
−テトラロン、４′ジエチルアミノ−２′−メチルベン
ジリデン−アセトフェノン、２．５−ビス（４’−Ｎ−
エチル−Ｎ−カルボキシメチルアミノベンジリデン）ペ
ンタノン、およびそのナトリウム塩、２．５−ビス（４
′−Ｎ−メチル−Ｎシアノエチルアミノベンジリデン）
シクロペンタノン、２．５−ビス（４′−Ｎ−エチル−
Ｎ−クロルエチルアミノシンナリデン）シクロペンタノ
ン、２．６ービス（４’−Ｎ−シアノエチルアミノベン
ジリデン）シクロヘキサノン、２−（４−Ｎ−エチル−
Ｎ−力ルボキシメチルアミンベンジリデン）−１−イン
ダノン、２−（４’−Ｎエチル−Ｎ−カルボキシメチル
アミノベンジリデン）−１−テトラロンのナトリウム塩
、２−（４−エチル−Ｎ−シアノエチルアミノベンジリ
デン）−１−インダノンなどが挙げられる。

第４の成分（ｄ）である前記一般式（Ｖ）で表わされる
化合物として、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（Ｐ−メチ
ルフェニル）グリシン、Ｎ−（Ｐ−メチルフェニル）グ
リシン、Ｎ−（Ｐ−シアノフェニル）クリシン、Ｎ−（
Ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−シアノフェ
ニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、
インドール酢酸、Ｎ−メチルインドール酢酸、６−ジア
ツインドール酢酸などがあげられる。

第４成分（ｄ）である環状ジケトン化合物は前記一般式
（ＩＶ）で表わされ、不安定な水素原子を有する活性メ
チレン基のある環状β−ジカルボニル化合物である０式
中Ｒは水素、アルキル、置換アルキル、またはアラルキ
ルであり、Ｇは二価の有機基で基の側中にヘテロ原子を
含有していてもよくまた場合により炭素又はへテロ原子
の一方またはその両者上に置換基を有していてもよいも
のである。前記においてアルキル基はＣＩ−ＣＩｚのア
ルキルであり、置換アルキルとして、例えばヒドロキシ
ルアルキル、シアノアルキル、ハロアルキル、アルコキ
シアルキレン、アルキレンチオエーテル、アリールオキ
シアルキレンなどがあげられる。アラルキル基のアリー
ル部分は６〜１０個の炭素原子を含有し得る。前記二価
の有機基Ｇは環を完成させるものである。この部分は、
ヘテロ原子例えば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。

これらの化合物の具体例として、５．５−ジメチル１．
３−シクロヘキサンジオン、２−メチル−１，３−シク
ロヘキサンジオン、２−メチル−１，３−シクロペンタ
ジオン、２．４−ジエチル−１゜３−シクロブタンジオ
ン、２−メチル−１，３−シクロブタンジオン、５−メ
チル−２−チオバルビッール酸、バルビッール酸、３−
エチルテトロン酸、２．４ジメチル−３−オキソ−５−
ヒドロキシ−５−メトキシペンテン酸８−ラクトン、１
．３．５−トリメチルバルビッール酸、１．３−ジメチ
ル−５−エチルバルビッール酸、２−メチルジメドン、
１．３−インダンジオン、２−メチルインダンジオン、
ビス−［５−（１，３−ジメチルバルビツリル）］メタ
ン、１．５−ジフェニル−３−［２−（フェニルチオ）
エチル］　−２，４−ピロリジンジオン、ｌフェニル−
３，５−ジケト−４−ｎ−ブチルテトラヒドロピラゾー
ル、２．２−ジメチル−ｍ−ジオキサン−４，６−ジオ
ン、２．２．５−１−ジメチル−ｍ−ジオキサン−４，
６−ジオン、などがあげられる。

本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機重
合体結合剤を存在させてもよい０重合体結合剤タイプと
しては（ｉ）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコ
ポリエステル、（ｉｉ）ポリアミド、（ｉｉ）ビニリデ
ンクロリド共重合体、（ｉｖ）エチレン／ビニルアセテ
ート共重合体、（Ｖ）セルロースエーテル、（ｖｉ）ポ
リエチレン、（ｖｉｉ）合性ゴム、（ｖｉｉｉ）セルロ
ースエステル、（ｉｘ）ポリビニルアセテート／アクリ
レートおよびポリビニルアセテート／メタクリレート共
重合体を含むポリビニルエステル、（Ｘ）ポリアクリレ
ートおよびポリα−アルキルアクリレートエステル例え
ばポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタクリ
レート、（ｘｉ）　４．０００〜４，０００，０００の
重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキシド重合
体（ポリエチレングリコール）　、（ｘｉｉ）ポリ塩化
ビニルおよびその共重合体、（ｘｉｉ＋）ポリビニルア
セクール、（ｘｉｖ）　ポリホルムアルデヒド、（ＸＶ
）ポリウレタン、（ｘｖｉ）　　ポリカーボネートおよ
び（ｘｖｉｉ）ポリスチレンがあげられる。

本発明の特に好ましい態様においては、未露光光重合性
コーティングが例えばアルカリ性溶液である主として水
性の溶液には可溶性であるが、活性線放射に露光後は比
較的それに不溶性となるように、光重合性結合剤を選ぶ
。典型的にはこれらの要求を満足させる重合体はカルボ
キシル化重合体例えば遊離カルボン酸基含存ビニル付加
重合体である、好ましい結合剤としてはイソブタノール
混合物で部分エステル化された酸価的１９０、重量平均
分子量的１０，０００のスチレン／マレイン酸無水物（
１：　１）の共重合体、およびスチレン／マレイン酸無
水物の共重合体とエチルアクリレート／メチルメタクリ
レート／アクリル酸のターポリマーとの組み合わせがあ
げられる。その他の好ましい結合剤群としては、ポリア
クリレートエステルおよびポリα−アルキルアクリレー
トエステル特にポリメチルメタクリレートがあげられる
。

その他の不活性添加剤例えば非重合性可塑剤、染料、顔
料および充填剤は当業者には既知であるこれら添加剤は
一般に少量で存在せしめられ、そしてこれは光重合性層
の露光を阻害させるものであるべきではない。

本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分（ａ
）であるエチレン性不飽和化合物１００重量部に対する
重量部で表わすと、成分（ｂ）である鉄アレン錯体は０
．０１〜５０重量部、特に好ましくは０．１〜３０重量
部、成分（ｃ）である置換クマリン化合物またはジアル
キルアミノフェニル基と共役したピリジン誘導体または
Ｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物はそれぞれｏ、
ｏｉ〜２ｏ重量部、特に好ましくは０．１〜２０１量部
、成分（ｄ）である一般式（Ｖ）で表わされる化合物ま
たは環状ジケトン化合物はそれぞれ０．０１〜２０重量
部、特に好ましくは０．１〜２０重量部、結合剤は０〜
１０００重量部、好ましくは０〜５０重量部である。

本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材上にコーテ
ィングすることができる。

ｒ基材」とはすべての天然または合成支持体、好ましく
は可撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在
しうるちのを意味している０例えば基材は金属シートま
たは箔、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロ
ース紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の
２種またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の
基材としてはアルミナプラストアルミニウム、アノード
処理アルミニウム、アルミブラストポリエチレンテレフ
タレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム例えば樹脂下引きポリエチレンテレフタレートフィル
ム、静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィルム
、ポリビニルアルコールコーティングした紙、交叉結合
ポリエステルコーティング紙、ナイロン、ガラス、セル
ロースアセテートフィルムその他があげられる。

特定の基材は一般に関連する適用目的により決定される
。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファイ
バーボード上に銅コーテイングしたプレートでありうる
。平版印刷プレートの製造においては、基材はアノード
処理アルミニウムである。

好ましくは光重合性組成物の層は０．０００１インチ（
０，０００２５ｃ＋＊）〜約０．０１インチ（０，０２
５ｃｍ）の範囲の厚さを有しており、そして光重合性層
に活性な放射を通過しうる薄く可撓性の重合体フィルム
支持体に程度ないし中等度接着性をもって接着されてい
る。それに保護カバー層またはカバーシートを接着させ
ることができる。このシートはフィルム支持体と層との
間の接着力よりも小さい接着力を層に対して存している
。特に好ましい支持体は約０．００１インチ（０，００
２５Ｃ１１）　〜約０．４インチ（１，０ＣＩｌ）の範
囲の厚さを有する透明ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムである。また、ｏ、ｏｏｏｓインチ（０，０Ｏ１３
Ｃ１）　〜０．０４インチ（０，ｌＯｃｍ）のポリエチ
レンは好ましいカバーシートであり、ポリビニルアルコ
ールコーティングは好ましいカバー層である。

通常の光源としては４０５．４３６および５４６ｎ侮（
Ｈｇ）波長に中心を有する狭いかまたは広い光バンドを
与える蛍光燈、水銀灯、金属添加ランプおよびアークラ
ンプがあげられる。干渉光源はパルス式キセノン、アル
ゴンイオン、ヘリウム−カドミウム、およびイオン化ネ
オンレーザ−などである、プリントアウト系に広く使用
されている可視光発生陰極線管もまた本発明の組成物に
関して有用である。これらは−最に電気エネルギーを光
エネルギーに変換させるための手段として紫外または可
視光発生性燐光体内部コーティングをそして放射を光感
受性ターゲットに導くための手段として光学ファイバー
フェイスプレートを包含している。

（作用）本発明の増感剤すなわち成分（ｃ）は本来、本発明に使
用される光開始剤すなわち成分（ｂ）が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない可視光を効率よ
く吸収し、活性化される。

その状態で本発明の増感剤は本発明で使用される光開始
剤に作用し、結果的に活性なラジカルを発生させ、その
ラジカルが組成物中のエチレン性不飽和化合物を攻撃し
て、重合を起こすわけである。

（実施例）以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに部
および％は重量基準ある。

実施例１〜４０、比較例１〜５下引き層を有する１００μ厚さの透明なポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗
布し、熱風乾燥機にて９０℃１分間乾燥し、厚さ３μの
塗膜を得た。次いでその上に７％ポリビニルアルコール
（完全ケン化、重合度５００）の水溶液を塗布し熱風乾
燥機で１００”Ｃ１分間乾燥して１μのオーバーコート
層を設けて、感度テスト片を得た。

（感光層塗工液組成）ポリ　（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）５２部７０　／　３０モル比テトラエチレングリコールジアクリレート　４０成分ｂ
５成分Ｃ３成分ｄ３メタノール　　　　　　　　　　　　　２００部酢酸エ
チル　　　　　　　　　　　　　　　８０クロロホルム
　　　　　　　　　　　　　　１２０上記感度テスト片
上にネガフィルムとして２１ｆ２ステツプタブレツト（
大日本スクリーン社製グレーフィルムスケール）を重ね
て、キセノンランプ（ウシオ電機社製ＵＸＬ−５００Ｄ
−０）に東芝社製干渉フィルターＫＬ−４９と同色ガラ
スフィルターＹ−４５を組み合わせた光源（４９０ｎｍ
Ａ）で１５１の距離から５分間露光した後、３０°Ｃ０
０７％炭酸ナトリウム水溶液に１０秒間浸漬し、水洗し
て未硬化部分を除去し乾燥した後、２１ｆ２ステツプタ
ブレツトの完全硬化の段数（ステップ）を調べ、それを
表１〜表４に示す。また比較例を表５に示す。

（発明の効果）表１〜表５より明らかなように本発明の実施例１〜４０
は比較例１〜５に比べ４９０ｎ−の光に対して高感度で
あることが判る。

本発明の光重合性組成物は、可視光に対して高感度を示
すため、低いエネルギーの露光光源を使用することがで
き、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像で
きる。

また、露光源を原版より遠ざけることができるため、そ
の光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、垂
直の側部を有するシャープな網点を形成することができ
るなど種々の利点を有する。

特許出願人　　東洋紡績株式会社

Claims

【特許請求の範囲】（ａ）少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物、（ｂ）下記一般式（ I ）で示される鉄アレン錯体、（ｃ）下記一般式（II）で示される３−置換クマリン化
合物および／または下記一般式（III）で示されるピリ
ジン誘導体またはその塩および／または下記一般式（I
V）で示されるｐ−アミノフェニル不飽和ケトン化合物
および、（ｄ）下記一般式（Ｖ）で示される化合物および／また
は下記一般式（VI）で示される環状ジケトン化合物を含
有することを特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（ｍ＋ｎ≧１）（式中Ｒ＾１、Ｒ＾２は同じか又は異なる基であり、Ｒ
＾２はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよ
い、ＸはＢＦ＿４、ＰＦ＿６、ＡｓＦ＿６、ＳｂＦ＿６
、ＦｅＣｌ＿６、ＳｎＣｌ＿６、ＳｂＣｌ＿６、ＢｉＣ
ｌ＿６を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒ＾２、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６は水素、アル
キル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキル
アミノ基、シアノ基、または２つで縮合環系または縮合
複素環系を形成してもよい。Ｚはアリール基、複素環基
、または ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。Ｒ＾７はア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ
基、複素環基を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中Ｒ＾８、Ｒ＾９はＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキル基、
Ａはピリジン環に縮合したアリール基を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中ｍ、ｎはそれぞれ０または１であり、Ｒ＾１＾０
、Ｒ＾１＾１は水素原子または炭素原子数１〜５のアル
キル基、またはＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾１＾５（但しＲ＾１
＾５は水素または炭素数１〜５のアルキル基、アルカリ
金属、アンモニウム、アミンを示す）、Ｈ＿４ＦＣ＿２
Ｈ＿４ＣＮ、Ｃ＿２Ｈ＿４ＮＯ＿２、Ｒ＾１＾２はメチ
リジン基またはＲ＾１＾３と結合してカルボニル基とと
もに環を形成することができる炭素原子数１〜５のアル
キレン−イリジン基、Ｒ＾１＾３は炭素原子、置換また
は非置換フェニル基、もしくはＲ＾１＾２とカルボニル
基とともにインダノンまたはテトラロンを形成する基、Ｒ＾１＾４は▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＾１＾６、Ｒ＾１＾７は水素原子または炭素原
子数１〜５のアルキル基、またはＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾１
＾８（但しＲ＾１＾８は水素原子または炭素数１〜５の
アルキル基を示す）、アルカリ金属、アンモニウム、ア
ミンまたはＣ＿２Ｈ＿４ＣＦ＿３、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｉ、Ｃ
＿２Ｈ＿４Ｂｒ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｃｌ、Ｃ＿２Ｈ＿４Ｆ、
Ｃ＿２Ｈ＿４ＣＮ、Ｃ＿２Ｈ＿４ＮＯ＿２である。） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）（式中Ｒ＾１＾９、Ｒ＾２＾０、Ｒ＾２＾１は同じか又
は異なる基であり、Ｒ＾１＾９はベンゼン環と縮合多環
化合物を形成していてもよく、Ｒ＾２＾０、Ｒ＾２＾１
はベンゼン環と結合して環を形成することもできる。Ｘ
はＳ、Ｓｅ、Ｎ−Ｒ＾２＾２で、Ｒ＾２＾２は水素また
はＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキル基を示す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）（式中Ｒは水素または置換または非置換のアルキルまた
はアラルキル基であり、Ｇは二価の有機基である。）