JPH0234418B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0234418B2 JPH0234418B2 JP57187870A JP18787082A JPH0234418B2 JP H0234418 B2 JPH0234418 B2 JP H0234418B2 JP 57187870 A JP57187870 A JP 57187870A JP 18787082 A JP18787082 A JP 18787082A JP H0234418 B2 JPH0234418 B2 JP H0234418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- pole piece
- magnetic pole
- magnetic field
- correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、走査型電子顕微鏡や電子線露光装置
あるいはＸ線マイクロアナライザ等に用いられる
電磁式対物レンズに関する。
あるいはＸ線マイクロアナライザ等に用いられる
電磁式対物レンズに関する。
従来の走査型電子顕微鏡等の電磁式対物レンズ
としては、第１図に示すようなものがあり、相互
間に長さがＳのレンズ形成用〓間を有する上部磁
極片１および下部磁極片２が設けられており、こ
れらの磁極片１，２は、励磁コイル３を内蔵する
ヨーク４によつて連結されている。
としては、第１図に示すようなものがあり、相互
間に長さがＳのレンズ形成用〓間を有する上部磁
極片１および下部磁極片２が設けられており、こ
れらの磁極片１，２は、励磁コイル３を内蔵する
ヨーク４によつて連結されている。
また、各磁極片１，２には、電子線通過孔５，
６が形成されている。
６が形成されている。
なお、第１図中の符号７，８は偏向コイル、９
は傾動可能な試料、１０はCRT（陰極線管）へ検
出信号を送る検出器を示している。
は傾動可能な試料、１０はCRT（陰極線管）へ検
出信号を送る検出器を示している。
しかしながら、従来の電磁式対物レンズでは、
球面収差を小さくするために、励磁を強くして、
第２図に示すように、レンズ主面と試料９との距
離Z0からZ0′へと短くすれば、試料９が軸上磁場
分布ｂの強い磁場内に置かれてしまい。２次電子
の検出が困難になつて、試料観察を十分に行なえ
ないという問題点がある。
球面収差を小さくするために、励磁を強くして、
第２図に示すように、レンズ主面と試料９との距
離Z0からZ0′へと短くすれば、試料９が軸上磁場
分布ｂの強い磁場内に置かれてしまい。２次電子
の検出が困難になつて、試料観察を十分に行なえ
ないという問題点がある。
なお、第２図中の符号ａは励磁を強める前の軸
上磁場分布を示している。
上磁場分布を示している。
また、第３図に示すごとく、下部磁極片２の電
子線通過孔径Ｄ１′を従来のものＤ１よりも大き
くして、半値幅Ｗ１を従来のものＷよりも広くす
ることにより、球面収差を小さくすることも考え
られるが、このような従来の電磁式対物レンズで
も、同じく軸上磁場分布ｃが従来のものａに比べ
レンズ下方（試料側）にまで拡がるため、試料９
が強い磁場内に置かれてしまい、やはり第２図に
示す場合と同様の問題点が生じる。
子線通過孔径Ｄ１′を従来のものＤ１よりも大き
くして、半値幅Ｗ１を従来のものＷよりも広くす
ることにより、球面収差を小さくすることも考え
られるが、このような従来の電磁式対物レンズで
も、同じく軸上磁場分布ｃが従来のものａに比べ
レンズ下方（試料側）にまで拡がるため、試料９
が強い磁場内に置かれてしまい、やはり第２図に
示す場合と同様の問題点が生じる。
本発明は、これらの問題点を解決しようとする
もので、励磁を強くしても、軸上磁場分布がレン
ズ下方まで拡がらないようにした、電磁式対物レ
ンズを提供することを目的とする。
もので、励磁を強くしても、軸上磁場分布がレン
ズ下方まで拡がらないようにした、電磁式対物レ
ンズを提供することを目的とする。
このため、本発明の電磁式対物レンズは、荷電
粒子線通過孔を有し相互間にレンズ形成用〓間を
有する上部磁極片および下部磁極片をそなえ、上
記の上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場
とは逆の極性を有する補正磁場を形成しうる補正
レンズが、上記下部磁極片の近傍に設けられ、同
補正レンズが励磁コイルを有する電磁式レンズと
して構成されて、上記補正磁場の状態を制御すべ
く、上記補正レンズの励磁コイルに励磁電流制御
器が接続されていることを特徴としている。
粒子線通過孔を有し相互間にレンズ形成用〓間を
有する上部磁極片および下部磁極片をそなえ、上
記の上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場
とは逆の極性を有する補正磁場を形成しうる補正
レンズが、上記下部磁極片の近傍に設けられ、同
補正レンズが励磁コイルを有する電磁式レンズと
して構成されて、上記補正磁場の状態を制御すべ
く、上記補正レンズの励磁コイルに励磁電流制御
器が接続されていることを特徴としている。
以下、図面により本発明の一実施例としての走
査型電子顕微鏡用電磁式対物レンズについて説明
すると、第４図はその要部断面図、第５図はその
縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す説明
図であり、各図中、第１〜３図と同じ符号はほぼ
同様の部分を示している。
査型電子顕微鏡用電磁式対物レンズについて説明
すると、第４図はその要部断面図、第５図はその
縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す説明
図であり、各図中、第１〜３図と同じ符号はほぼ
同様の部分を示している。
第４図に示すごとく、上部磁極片１と下部磁極
片２とが設けられており、これらの磁極片１，２
は、電子線通過孔（荷電粒子線通過孔）５，６を
有し、且つ、相互間にレンズ形成用〓間を有して
いる。
片２とが設けられており、これらの磁極片１，２
は、電子線通過孔（荷電粒子線通過孔）５，６を
有し、且つ、相互間にレンズ形成用〓間を有して
いる。
また、下部磁極片２の下面には、補正レンズ１
１が着脱可能に設けられており、このレンズ１１
の励磁コイル１１ａは励磁電流制御器１２に接続
されている。
１が着脱可能に設けられており、このレンズ１１
の励磁コイル１１ａは励磁電流制御器１２に接続
されている。
したがつて、この制御器１２からの励磁電流を
制御することにより、第５図に示すごとく、上部
磁極片１と下部磁極片２とで形成される磁場ｄ
（この磁場ｄは対物レンズのつくる磁場である。）
とは逆の極性を有する補正磁場ｅを形成すること
ができ、これにより一部の磁場を相殺して合成磁
場をｆのようにすることができる。
制御することにより、第５図に示すごとく、上部
磁極片１と下部磁極片２とで形成される磁場ｄ
（この磁場ｄは対物レンズのつくる磁場である。）
とは逆の極性を有する補正磁場ｅを形成すること
ができ、これにより一部の磁場を相殺して合成磁
場をｆのようにすることができる。
そして、上記軸上磁場ｅの形成は、制御器１２
を介し励磁電流を制御することにより、適切に行
なわれるのである。
を介し励磁電流を制御することにより、適切に行
なわれるのである。
その結果強い磁場の部分がレンズ下方まで拡が
ることがなくなるので、試料９をレンズに近付け
ていつても、２次電子の検出効率を悪くすること
なく、球面収差係数を小くできるため、極めて高
性能な分解能の良い対物レンズを実現することが
できる。
ることがなくなるので、試料９をレンズに近付け
ていつても、２次電子の検出効率を悪くすること
なく、球面収差係数を小くできるため、極めて高
性能な分解能の良い対物レンズを実現することが
できる。
また、補正レンズ１１を下部磁極片２に取付け
る代わりに、下部磁極片２の近傍にこれとは離隔
して設けてもよい。
る代わりに、下部磁極片２の近傍にこれとは離隔
して設けてもよい。
さらに、本対物レンズは、走査型電子顕微鏡に
限らず、これに類似の装置にも摘用できることは
いうまでもない。
限らず、これに類似の装置にも摘用できることは
いうまでもない。
以上詳述したように、本発明の電磁式対物レン
ズによれば、上部磁極片と下部磁極片とで形成さ
れる磁場とは逆の極性を有する補正磁場を形成し
うる補正レンズが、励磁コイルを有する電磁式レ
ンズとして下部磁極片の近傍に設けられているの
で、対物レンズの軸上磁場分布がレンズ下方にま
で拡がることがなく、これにより試料をレンズに
近付けていつても、２次電子の検出効率を悪くす
ることなく、しかも球面収差係数を小さくできる
ため、レンズ性能を大幅に向上させる利点があ
る。
ズによれば、上部磁極片と下部磁極片とで形成さ
れる磁場とは逆の極性を有する補正磁場を形成し
うる補正レンズが、励磁コイルを有する電磁式レ
ンズとして下部磁極片の近傍に設けられているの
で、対物レンズの軸上磁場分布がレンズ下方にま
で拡がることがなく、これにより試料をレンズに
近付けていつても、２次電子の検出効率を悪くす
ることなく、しかも球面収差係数を小さくできる
ため、レンズ性能を大幅に向上させる利点があ
る。
また、上記補正レンズとしての電磁式レンズの
励磁コイルが励磁電流制御器に接続されているの
で、上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場
とは逆の極性を有する補正磁場が、きわめて適切
に形成される利点もある。
励磁コイルが励磁電流制御器に接続されているの
で、上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場
とは逆の極性を有する補正磁場が、きわめて適切
に形成される利点もある。
第１，２図は従来の電磁式対物レンズを示すも
ので、第１図はその縦断面図、第２図はその縦断
面状態とその軸上磁界分布とを共に示す説明図で
あり、第３図は他の従来の電磁式対物レンズを第
２図に対応させて示す説明図であり、第４〜６図
は本発明の一実施例としての電磁式対物レンズを
示すもので、第４図はその要部断面図、第５図は
その縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す
説明図である。 １……上部磁極片、２……下部磁極片、３……
励磁コイル、４……ヨーク、５，６……荷電粒子
線通過孔としての電子線通過孔、７，８……偏向
コイル、９……試料、１０……検出器、１１……
補正レンズ、１１ａ……励磁コイル、１２……励
磁電流制御器。
ので、第１図はその縦断面図、第２図はその縦断
面状態とその軸上磁界分布とを共に示す説明図で
あり、第３図は他の従来の電磁式対物レンズを第
２図に対応させて示す説明図であり、第４〜６図
は本発明の一実施例としての電磁式対物レンズを
示すもので、第４図はその要部断面図、第５図は
その縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す
説明図である。 １……上部磁極片、２……下部磁極片、３……
励磁コイル、４……ヨーク、５，６……荷電粒子
線通過孔としての電子線通過孔、７，８……偏向
コイル、９……試料、１０……検出器、１１……
補正レンズ、１１ａ……励磁コイル、１２……励
磁電流制御器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 荷電粒子線通過孔を有し相互間にレンズ形成
用〓間を有する上部磁極片および下部磁極片をそ
なえ、上記の上部磁極片と下部磁極片とで形成さ
れる磁場とは逆の極性を有する補正磁場を形成し
うる補正レンズが、上記下部磁極片の近傍に設け
られ、同補正レンズが励磁コイルを有する電磁式
レンズとして構成されて、上記補正磁場の状態を
制御すべく、上記補正レンズの励磁コイルに励磁
電流制御器が接続されていることを特徴とする、
電磁式対物レンズ。 ２ 上記補正レンズが上記下部磁極片の下面に着
脱自在に設けられている特許請求の範囲第１項に
記載の電磁式対物レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787082A JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787082A JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978434A JPS5978434A (ja) | 1984-05-07 |
| JPH0234418B2 true JPH0234418B2 (ja) | 1990-08-03 |
Family
ID=16213653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18787082A Granted JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978434A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568871U (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-17 | 出光石油化学株式会社 | 二重容器 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69738332T2 (de) * | 1996-09-24 | 2008-11-27 | Hitachi, Ltd. | Ladungsträgerstrahl-emittiervorrichtung |
| EP2211368B1 (en) * | 2005-11-28 | 2012-06-27 | Carl Zeiss SMT GmbH | Particle-optical component |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573357A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Jeol Ltd | Objective lens for scanning electron microscope |
| JPS57145259A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-08 | Akashi Seisakusho Co Ltd | Scanning type electron microscope and its similar device |
-
1982
- 1982-10-26 JP JP18787082A patent/JPS5978434A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573357A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Jeol Ltd | Objective lens for scanning electron microscope |
| JPS57145259A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-08 | Akashi Seisakusho Co Ltd | Scanning type electron microscope and its similar device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568871U (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-17 | 出光石油化学株式会社 | 二重容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5978434A (ja) | 1984-05-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3372138B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
| GB2092365A (en) | Electron lens with three magnetic polepieces | |
| JPH0337260B2 (ja) | ||
| US20010011702A1 (en) | Electron beam apparatus | |
| US4219732A (en) | Magnetic electron lens | |
| US5225676A (en) | Electrooptical viewing apparatus capable of switching depth of focus | |
| JP2777840B2 (ja) | 電子線装置 | |
| US6653632B2 (en) | Scanning-type instrument utilizing charged-particle beam and method of controlling same | |
| US5847399A (en) | Deflection system | |
| JPH0234418B2 (ja) | ||
| EP0085323B1 (en) | Electromagnetic lens polepiece structure | |
| JP2739485B2 (ja) | 走査型電子線装置 | |
| JPS6357906B2 (ja) | ||
| JP3351647B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2000149842A (ja) | 荷電粒子ビ―ムフォ―カシング用磁気レンズ | |
| EP0989583A1 (en) | Method and device for focusing a charged particle beam | |
| JPH05225936A (ja) | 走査電子顕微鏡の対物レンズ | |
| JP3288239B2 (ja) | 電子線装置 | |
| JP3280187B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| TW548664B (en) | Split magnetic lens for controlling a charged particle beam | |
| JP2529286B2 (ja) | 電子ビ−ム加工装置 | |
| JPS5845782B2 (ja) | 走査電子顕微鏡等の対物レンズ | |
| JP3195589B2 (ja) | 走査型電子線装置 | |
| JPS6328518Y2 (ja) | ||
| JP2003115275A (ja) | 走査形電子顕微鏡 |