JPS5978434A - 電磁式対物レンズ - Google Patents
電磁式対物レンズInfo
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- JPS5978434A JPS5978434A JP57187870A JP18787082A JPS5978434A JP S5978434 A JPS5978434 A JP S5978434A JP 57187870 A JP57187870 A JP 57187870A JP 18787082 A JP18787082 A JP 18787082A JP S5978434 A JPS5978434 A JP S5978434A
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- JP
- Japan
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- lens
- magnetic field
- magnetic pole
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 abstract 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、走査型電子顕微鏡や電子線露光装置あるいは
Ｘ線マイクロアナライザ等に用いられる電磁式対物レン
ズに関する。
Ｘ線マイクロアナライザ等に用いられる電磁式対物レン
ズに関する。
従来の走査型電子顕微鏡等の電磁式対物レンズとしては
、第１図に示すようなものがあり、相互間に長さがＳの
レンズ形成用隙間を有する上部磁極片１および下部磁極
片２が設けられており、これらの磁極片１，２は、励磁
コイル３を内蔵するヨーク４によって連結されている。
、第１図に示すようなものがあり、相互間に長さがＳの
レンズ形成用隙間を有する上部磁極片１および下部磁極
片２が設けられており、これらの磁極片１，２は、励磁
コイル３を内蔵するヨーク４によって連結されている。
また、各磁極片１，２には、電子線通過孔５゜６が形成
されている。
されている。
なお、第１図中の符号７，８は偏向コイル。
９は傾動可能な試料、１０はＣＲＴ （陰極線管）へ検
出信号を送る検出器を示している。
出信号を送る検出器を示している。
しかしながら、従来の電磁式対物レンズでは、球面収差
を小さくするために、励磁を強くして、第２図に示すよ
うに、レンズ主面と試料９との距離をＺＯから２０／へ
と短くすれば、試料９が軸上磁場分布すの強い磁場内に
置かれてしまい、２次電子の検出が困難になって、試料
観察を十分に行なえないという問題点がある。
を小さくするために、励磁を強くして、第２図に示すよ
うに、レンズ主面と試料９との距離をＺＯから２０／へ
と短くすれば、試料９が軸上磁場分布すの強い磁場内に
置かれてしまい、２次電子の検出が困難になって、試料
観察を十分に行なえないという問題点がある。
なお、第２図中の符号ａは励磁を強める前の軸上磁場分
布を示している。
布を示している。
また、第３図に示すごとく、下部磁極片２の電子線通過
孔径Ｄ ｌ’を従来のものＤｌよりも大きくして、半値
幅Ｗ１を従来のものＷよりも広くすることによ、す、球
面収差を小びくすることも考えられるが、このような従
来の電磁式対物レンズでも、同じく軸上磁場分布Ｃが従
来のものａに比ベレンズ下方（試料側）にまで拡がるた
め、試料９が強い磁場内に置かれてしまい、やはり第２
図に示す場合と同様の問題点が生じる。
孔径Ｄ ｌ’を従来のものＤｌよりも大きくして、半値
幅Ｗ１を従来のものＷよりも広くすることによ、す、球
面収差を小びくすることも考えられるが、このような従
来の電磁式対物レンズでも、同じく軸上磁場分布Ｃが従
来のものａに比ベレンズ下方（試料側）にまで拡がるた
め、試料９が強い磁場内に置かれてしまい、やはり第２
図に示す場合と同様の問題点が生じる。
本発明は、このような問題点を解決しようとするもので
、励磁を強くしても、軸上磁場分布がレンズ下方にまで
拡がらないようにした、電磁式対物レンズを提供するこ
とを目的とする。
、励磁を強くしても、軸上磁場分布がレンズ下方にまで
拡がらないようにした、電磁式対物レンズを提供するこ
とを目的とする。
このため、本発明の電磁式対物レンズは、荷電粒子線通
過孔を有し相互間にレンズ形成用隙間を有する上部磁極
片および下部磁極片をそなえ、上記の上部磁極片と下部
磁極片とで形成される磁場とは逆の極性を有する補正磁
場を形成しつる補正レンズが、上記下部磁極片の近傍に
設けられたことを特徴としている。
過孔を有し相互間にレンズ形成用隙間を有する上部磁極
片および下部磁極片をそなえ、上記の上部磁極片と下部
磁極片とで形成される磁場とは逆の極性を有する補正磁
場を形成しつる補正レンズが、上記下部磁極片の近傍に
設けられたことを特徴としている。
以下、図面により本発明の一実施例としての走査型電子
顕微鏡用電磁式対物レンズについて説明すると、第４図
はその要部断面図、第５図はその縦断面状態とその軸上
磁場分布とを共に示す説明図、第６図はその変形例を示
す要部断面図であり、各図中、第１〜３図と同じ符号は
ほぼ同様の部分を示している。
顕微鏡用電磁式対物レンズについて説明すると、第４図
はその要部断面図、第５図はその縦断面状態とその軸上
磁場分布とを共に示す説明図、第６図はその変形例を示
す要部断面図であり、各図中、第１〜３図と同じ符号は
ほぼ同様の部分を示している。
第４図に示すごとく、上部磁極片１と下部磁極片２とが
設けられており、これらの磁極片］。
設けられており、これらの磁極片］。
２は、電子線通過孔（荷電粒子線通過孔）５゜６を有し
５且つ、相互間にレンズ形成用隙間を有している。
５且つ、相互間にレンズ形成用隙間を有している。
また、下部磁極片２０下面には、補正レンズ］−１が着
脱可能に設けられており、このレンズ１１の励磁コイル
ｌｌ＆は励磁電流制御器１２に接続されている。
脱可能に設けられており、このレンズ１１の励磁コイル
ｌｌ＆は励磁電流制御器１２に接続されている。
゛したがって、この制御器１２からの励磁電流を制御す
ることにより、第５図に示すごとく、上部磁極片１と下
部磁極片２とで形成される磁場ｄ（この磁場ｄは対物レ
ンズのつくる磁場である。）とは逆の極性を有する補正
磁場ｅを形成することができ、これにより一部の磁場を
相殺して合成磁場をｆのようにすることができる。
ることにより、第５図に示すごとく、上部磁極片１と下
部磁極片２とで形成される磁場ｄ（この磁場ｄは対物レ
ンズのつくる磁場である。）とは逆の極性を有する補正
磁場ｅを形成することができ、これにより一部の磁場を
相殺して合成磁場をｆのようにすることができる。
その結果強い磁場の部分がレンズ下方にまで拡がること
がなくなるので、試料９をレンズに近付けていっても５
２次電子の検出効率を悪くすることなく、球面収差係数
を小さくできるため、極めて高性能な分解能の良い対物
レンズを実現することができる。
グなお、第６図に示すごとく、補正レンズとして磁
石式レンズ１１’を用いても、同様の効果ないし利点が
得られる。
がなくなるので、試料９をレンズに近付けていっても５
２次電子の検出効率を悪くすることなく、球面収差係数
を小さくできるため、極めて高性能な分解能の良い対物
レンズを実現することができる。
グなお、第６図に示すごとく、補正レンズとして磁
石式レンズ１１’を用いても、同様の効果ないし利点が
得られる。
また、補正レンズｌ ］、 、 ］、 ］、’を下部磁
極片２に取付ける代わりに、下部磁極片２の近傍にこれ
とは離隔して設けてもよい。
極片２に取付ける代わりに、下部磁極片２の近傍にこれ
とは離隔して設けてもよい。
さらに、本対物レンズは、走査型電子顕微鏡に限らず、
これに類似の装置にも適用できることはいうまでもない
。
これに類似の装置にも適用できることはいうまでもない
。
以上詳述したように、本発明の電磁式対物レンズによれ
ば、上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場とは逆
の極性を有する補正磁場を形成しつる補正レンズが５下
部磁極片の近傍に設けられているので、対物レンズの軸
上磁場分布がレンズ下方にまで拡がることがなくなり、
これにより試料をレンズに近付けていっても、２次電子
の検出効率を悪くすることなく、しかも球面収差係数を
小さくできるため、レンズ性能を極めて高くできる利点
がある。
ば、上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場とは逆
の極性を有する補正磁場を形成しつる補正レンズが５下
部磁極片の近傍に設けられているので、対物レンズの軸
上磁場分布がレンズ下方にまで拡がることがなくなり、
これにより試料をレンズに近付けていっても、２次電子
の検出効率を悪くすることなく、しかも球面収差係数を
小さくできるため、レンズ性能を極めて高くできる利点
がある。
第１，２図は従来の電磁式対物レンズを示すもので、第
１図はその縦断面図、第２図はその縦断面状態とその軸
上磁界分布とを共に示す説明図であり、第３図は他の従
来の電磁式対物レンズを第２図に対応させて示す説明図
であり、第４〜６図は本発明の一実施例としての電磁式
対物レンズを示すもので、第４図はその要部断面図、第
５図はその縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す
説明図、第６図はその変形例を示す要部断面図である。 １・・上部磁極片、２・・下部磁極片、３・・励磁コイ
ル、４・・ヨーク、５．６・・荷電粒子線通過孔として
の電子線通過孔、７，８・・偏向コイル、９・・試料、
１０・・検出器、１１ 、 ］、 １’・・補正レンズ
、１１ａ・拳励磁コイル、１２・・励磁電流制御器。 代理人 弁理士 飯 沼 義 彦 第１図 第２図 第３図 第４図
１図はその縦断面図、第２図はその縦断面状態とその軸
上磁界分布とを共に示す説明図であり、第３図は他の従
来の電磁式対物レンズを第２図に対応させて示す説明図
であり、第４〜６図は本発明の一実施例としての電磁式
対物レンズを示すもので、第４図はその要部断面図、第
５図はその縦断面状態とその軸上磁場分布とを共に示す
説明図、第６図はその変形例を示す要部断面図である。 １・・上部磁極片、２・・下部磁極片、３・・励磁コイ
ル、４・・ヨーク、５．６・・荷電粒子線通過孔として
の電子線通過孔、７，８・・偏向コイル、９・・試料、
１０・・検出器、１１ 、 ］、 １’・・補正レンズ
、１１ａ・拳励磁コイル、１２・・励磁電流制御器。 代理人 弁理士 飯 沼 義 彦 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (4)
- （１）荷電粒子線通過孔を有し相互間にレンズ形成用隙
間を有する上部磁極片および下部磁極片をそなえ、上記
の上部磁極片と下部磁極片とで形成される磁場とは逆の
極性を有する補正磁場を形成しうる補正レンズが、上記
下部磁極片の近傍に設けられたことを特徴とする、電磁
式対物レンズ。 - （２）上記補正レンズが電磁式レンズとして構成されて
、上記補正磁場の状態を制御すべく、このレンズの励磁
コイルに励磁電流制御器が接続されている特許請求の範
囲第１項に記載の電磁式対物レンズ。 - （３）上記補正レンズが磁石式レンズとして構成σれた
特許請求の範囲第１項に記載の電磁式対物レンズ。 - （４）上記補正レンズが上記下部磁極片の下面に着脱自
在に設けられている特許請求の範囲第１項ないし第３項
のいずれかに記載の電磁式対物レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187870A JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187870A JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978434A true JPS5978434A (ja) | 1984-05-07 |
| JPH0234418B2 JPH0234418B2 (ja) | 1990-08-03 |
Family
ID=16213653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57187870A Granted JPS5978434A (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 電磁式対物レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978434A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1018757A1 (en) * | 1996-09-24 | 2000-07-12 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| WO2007060017A2 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Particle-optical component |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568871U (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-17 | 出光石油化学株式会社 | 二重容器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573357A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Jeol Ltd | Objective lens for scanning electron microscope |
| JPS57145259A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-08 | Akashi Seisakusho Co Ltd | Scanning type electron microscope and its similar device |
-
1982
- 1982-10-26 JP JP57187870A patent/JPS5978434A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573357A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Jeol Ltd | Objective lens for scanning electron microscope |
| JPS57145259A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-08 | Akashi Seisakusho Co Ltd | Scanning type electron microscope and its similar device |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1018757A1 (en) * | 1996-09-24 | 2000-07-12 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| EP1018757B1 (en) * | 1996-09-24 | 2007-11-28 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| WO2007060017A2 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Particle-optical component |
| WO2007060017A3 (en) * | 2005-11-28 | 2007-08-23 | Zeiss Carl Smt Ag | Particle-optical component |
| JP2009517816A (ja) * | 2005-11-28 | 2009-04-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 粒子光学部品 |
| US10622184B2 (en) | 2005-11-28 | 2020-04-14 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Objective lens arrangement usable in particle-optical systems |
| US11527379B2 (en) | 2005-11-28 | 2022-12-13 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Objective lens arrangement usable in particle-optical systems |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0234418B2 (ja) | 1990-08-03 |
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