JPH0233979A - 光半導体装置 - Google Patents
光半導体装置Info
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- JPH0233979A JPH0233979A JP63184364A JP18436488A JPH0233979A JP H0233979 A JPH0233979 A JP H0233979A JP 63184364 A JP63184364 A JP 63184364A JP 18436488 A JP18436488 A JP 18436488A JP H0233979 A JPH0233979 A JP H0233979A
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- JP
- Japan
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- center
- chip
- light
- optical semiconductor
- epoxy resin
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- Pending
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 17
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、受光領域と受光動作に関与する周辺回路素子
を備えた光半導体装置に関するものである。
を備えた光半導体装置に関するものである。
従来の技術
近年、外来ノイズの低減と集積度向上のため、受光素子
と受光信号処理回路を１つのチップに付設した光半導体
装置が利用されるようになってきた。
と受光信号処理回路を１つのチップに付設した光半導体
装置が利用されるようになってきた。
以下、従来の光半導体装置について説明する。
第４図は従来の光半導体チップ（以後チップと表現する
）の概略平面図であり、１はチップ、２は受光領域、３
は受光動作に関与する周辺回路部である。図において、
受光領域２は、周辺回路部３の素子配置および配線が容
易になるように任意の場所に配置されている。光半導体
装置は、第５図（ａ）、 （ｂ）の各平面図のように、
上記チップ１をリードフレーム４に搭載し、透明エポキ
シ樹脂５でモールドしたものである。
）の概略平面図であり、１はチップ、２は受光領域、３
は受光動作に関与する周辺回路部である。図において、
受光領域２は、周辺回路部３の素子配置および配線が容
易になるように任意の場所に配置されている。光半導体
装置は、第５図（ａ）、 （ｂ）の各平面図のように、
上記チップ１をリードフレーム４に搭載し、透明エポキ
シ樹脂５でモールドしたものである。
チップをリードフレームに搭載する仕方として、チップ
の中心が透明エポキシ樹脂の中心と一致するように搭載
する仕方と、チップ内部の受光領域の中心を透明エポキ
シ樹脂の中心と一致させる搭載の仕方がある。
の中心が透明エポキシ樹脂の中心と一致するように搭載
する仕方と、チップ内部の受光領域の中心を透明エポキ
シ樹脂の中心と一致させる搭載の仕方がある。
第５図（ａ）、 （ｂ）はそれぞれの例を示す。
発明が解決しようとする課題
第５図（ａ）の搭載の仕方では、実装時の受光領域の中
心合せかむずかしく、また、受光領域に光を照射する場
合も受光領域への位置合せが困難であった。
心合せかむずかしく、また、受光領域に光を照射する場
合も受光領域への位置合せが困難であった。
一方、第５図（ｂ）の仕方では、受光領域の中心は透明
エポキシ樹脂の中心と一致しているので、実装時の位置
合せは容易であるが、チップが透明エポキシ樹脂の一部
分に偏るため、チップとリードフレームを接続する金属
細線が極端に長く、あるいは短くなることがあった。こ
の場合、金属細線を張る条件を一本一本変える必要があ
った。
エポキシ樹脂の中心と一致しているので、実装時の位置
合せは容易であるが、チップが透明エポキシ樹脂の一部
分に偏るため、チップとリードフレームを接続する金属
細線が極端に長く、あるいは短くなることがあった。こ
の場合、金属細線を張る条件を一本一本変える必要があ
った。
本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、受光領
域の中心位置合せが容易に、かつ精度良く、また組立て
も容易な光半導体装置を提供することを目的とする。
域の中心位置合せが容易に、かつ精度良く、また組立て
も容易な光半導体装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために、本発明の光半導体装置は、
受光領域の中心とチップの中心が一致した構成を有して
いる。
受光領域の中心とチップの中心が一致した構成を有して
いる。
作用
この構成によって、実装時に光照射時の受光領域中心位
置合せは透明エポキシ樹脂の中心に合わせればよいこと
になるため、微小な受光領域や複雑な形状の受光領域で
も高精度な中心位置合せが可能となる。
置合せは透明エポキシ樹脂の中心に合わせればよいこと
になるため、微小な受光領域や複雑な形状の受光領域で
も高精度な中心位置合せが可能となる。
さらに、透明エポキシ樹脂の中央にチップが来るため、
リードフレームとチップを接続する金属細線の長さが、
はぼ等しくなる。従って同一条件で効率よく金属細線を
張ることができる。
リードフレームとチップを接続する金属細線の長さが、
はぼ等しくなる。従って同一条件で効率よく金属細線を
張ることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第１図、第２図は本発明の一実施例における光半導体装
置の平面図を示すものである。
置の平面図を示すものである。
受光領域２は、その中心がチップ１の中心と一致するよ
うに配置され、周辺回路部３は受光領域２を取巻くよう
に配置されている６４はリードフレーム、５は透明エポ
キシ樹脂で、これらは従来例の構成と同じである。
うに配置され、周辺回路部３は受光領域２を取巻くよう
に配置されている６４はリードフレーム、５は透明エポ
キシ樹脂で、これらは従来例の構成と同じである。
チップｌは、透明エポキシ樹脂５の中央に位置するよう
にリードフレーム４に搭載されている。
にリードフレーム４に搭載されている。
このとき、受光領域２の中心はチップ１の中心と一致し
ているので、透明エポキシ樹脂５の中心とも一致する。
ているので、透明エポキシ樹脂５の中心とも一致する。
上記光半導体装置を実現する場合、受光領域中心の位置
決めをするためには透明エポキシ樹脂５に外形を基準に
して位置合せを行なえばよい。
決めをするためには透明エポキシ樹脂５に外形を基準に
して位置合せを行なえばよい。
以上のように本実施例によれば、受光領域をチップの中
央に配置したことにより受光領域の中心が透明エポキシ
樹脂の中心と一致するため、透明エポキシ樹脂の外形が
位置合せの基準となり高密度な位置合せが容易になる。
央に配置したことにより受光領域の中心が透明エポキシ
樹脂の中心と一致するため、透明エポキシ樹脂の外形が
位置合せの基準となり高密度な位置合せが容易になる。
第３図は本発明の別の実施例の平面図を示したものであ
る。図において６．７，８．９は４分割の受光領域であ
り、１０，１１．１２．１３はそれぞれの受光領域で発
生した光電流を電圧に変換して増幅する周辺回路部であ
る。この場合の受光領域の大きさは１つ約１００μｍｏ
であり、４つ合せても約２００μｍ口にすぎない、１４
．１５．１６゜１７は受光領域の中心を示すマークであ
り、１のパターンによって形成されている。
る。図において６．７，８．９は４分割の受光領域であ
り、１０，１１．１２．１３はそれぞれの受光領域で発
生した光電流を電圧に変換して増幅する周辺回路部であ
る。この場合の受光領域の大きさは１つ約１００μｍｏ
であり、４つ合せても約２００μｍ口にすぎない、１４
．１５．１６゜１７は受光領域の中心を示すマークであ
り、１のパターンによって形成されている。
このような微小な受光領域でも透明エポキシ樹脂の外形
が位置合せの基準となるため、位置精度の高い実装が可
能となる。
が位置合せの基準となるため、位置精度の高い実装が可
能となる。
発明の効果
本発明によれば、受光領域の中心をチップの中心と一致
させることにより、受光領域の中心が透明エポキシ樹脂
の中心と一致するため、受光領域中心の位置合せが高精
度に行なうことができる。
させることにより、受光領域の中心が透明エポキシ樹脂
の中心と一致するため、受光領域中心の位置合せが高精
度に行なうことができる。
さらに、チップを透明エポキシ樹脂の中央に搭載するた
め、チップとリードフレームを接続する金属細線を、は
ぼ同じ長さにできるので金属細線を張る条件を一定にす
ることができ、容易で効率のよい組立てが可能となる。
め、チップとリードフレームを接続する金属細線を、は
ぼ同じ長さにできるので金属細線を張る条件を一定にす
ることができ、容易で効率のよい組立てが可能となる。
第１図、第２図、第３図は本発明の各実施例の平面図、
第４図、第５図は従来例の平面図である。 １・・・・・・光半導体チップ、２，６，７．８．９・
・・・・・受光領域、３．１０．１１，１２．１３・旧
・・周辺回路部、４・・・・・・リードフレーム、５・
・・・・・透明工ボキシ樹脂、 １４゜ １５゜ １６゜ ７・・・・・・中心を 示すマーク。
第４図、第５図は従来例の平面図である。 １・・・・・・光半導体チップ、２，６，７．８．９・
・・・・・受光領域、３．１０．１１，１２．１３・旧
・・周辺回路部、４・・・・・・リードフレーム、５・
・・・・・透明工ボキシ樹脂、 １４゜ １５゜ １６゜ ７・・・・・・中心を 示すマーク。
Claims (2)
- （１）少なくとも１つの受光領域と受光動作に関与する
周辺回路素子とを同一のチップに付設した光半導体装置
において、前記受光領域の中心とチップの中心を一致さ
せたことを特徴とする光半導体装置。 - （２）前記チップの周辺に受光領域の中心を示すマーク
を設置したことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の光半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184364A JPH0233979A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 光半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184364A JPH0233979A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 光半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0233979A true JPH0233979A (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=16151941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63184364A Pending JPH0233979A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 光半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0233979A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5444726A (en) * | 1990-11-07 | 1995-08-22 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor laser device |
| US5488623A (en) * | 1990-11-07 | 1996-01-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Mold-type semiconductor laser device with reduced light-emitting point displacement during operation |
| US11186084B2 (en) | 2018-05-11 | 2021-11-30 | Matthews International Corporation | Electrode structures for micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11479041B2 (en) | 2018-05-11 | 2022-10-25 | Matthews International Corporation | Systems and methods for sealing micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11639057B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-05-02 | Matthews International Corporation | Methods of fabricating micro-valves and jetting assemblies including such micro-valves |
| US11660861B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-05-30 | Matthews International Corporation | Systems and methods for controlling operation of micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11794476B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-10-24 | Matthews International Corporation | Micro-valves for use in jetting assemblies |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63184364A patent/JPH0233979A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5444726A (en) * | 1990-11-07 | 1995-08-22 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor laser device |
| US5488623A (en) * | 1990-11-07 | 1996-01-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Mold-type semiconductor laser device with reduced light-emitting point displacement during operation |
| US5590144A (en) * | 1990-11-07 | 1996-12-31 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor laser device |
| US11186084B2 (en) | 2018-05-11 | 2021-11-30 | Matthews International Corporation | Electrode structures for micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11479041B2 (en) | 2018-05-11 | 2022-10-25 | Matthews International Corporation | Systems and methods for sealing micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11639057B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-05-02 | Matthews International Corporation | Methods of fabricating micro-valves and jetting assemblies including such micro-valves |
| US11660861B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-05-30 | Matthews International Corporation | Systems and methods for controlling operation of micro-valves for use in jetting assemblies |
| US11794476B2 (en) | 2018-05-11 | 2023-10-24 | Matthews International Corporation | Micro-valves for use in jetting assemblies |
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