JPH023081A - 光重合性組成物及び屈折率画像用エレメント - Google Patents
光重合性組成物及び屈折率画像用エレメントInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、固体結像組成物及び、曝露後、非画像領域と
異なった屈折率を有する画像領域を有するエレメントに
関する。更に詳細には、本発明は、この屈折率画像がホ
ログラムである上記の系に関する。
異なった屈折率を有する画像領域を有するエレメントに
関する。更に詳細には、本発明は、この屈折率画像がホ
ログラムである上記の系に関する。
技術の背景と従来の技術
「画像記録J (image recording)の
用語は、記録媒体中に光吸収の空間パターン(spat
ial pattern)を形成する過程を意味するも
のとされている。
用語は、記録媒体中に光吸収の空間パターン(spat
ial pattern)を形成する過程を意味するも
のとされている。
しかし、広義の意味にお(・て、「画像J (imag
c、)なる語は、試料中を通過する光線のビームに所望
の変調を生じさせるような試料の光学的性質の空間変化
(spatial variation)を意味してい
る。
c、)なる語は、試料中を通過する光線のビームに所望
の変調を生じさせるような試料の光学的性質の空間変化
(spatial variation)を意味してい
る。
一般に屈折率像、そして特にホログラムは、像を通過す
る光ビームの振幅ではなく、位相を変調するが、通常位
相ホログラム(phase holograms)とい
われる。位相ホログラム像記録系は、記録媒体中に光学
的吸収ではなく変動する屈折率の空間パターンを作り、
かくして光ビームを吸収することなしにそれを変調する
ことができる。
る光ビームの振幅ではなく、位相を変調するが、通常位
相ホログラム(phase holograms)とい
われる。位相ホログラム像記録系は、記録媒体中に光学
的吸収ではなく変動する屈折率の空間パターンを作り、
かくして光ビームを吸収することなしにそれを変調する
ことができる。
この形式の屈折率画像はまた外見上は吸収画像にあまり
似ていないいくつかの光学エレメント又はデバイスを包
含する。これらの例には、ホログラフィ−レンズ、回折
格子、鏡、および光学的導波管などがある。
似ていないいくつかの光学エレメント又はデバイスを包
含する。これらの例には、ホログラフィ−レンズ、回折
格子、鏡、および光学的導波管などがある。
ホログラフィ−は、光学的情報貯蔵の1形態である。そ
の一般原理は、いくつかの文献、例えば5CIENTI
FICAMERICAN 、 212 、6号、24〜
35 (1965年6月)中E、N、レイス及びJ、ア
パトニークスによる[レーザーによる写真」に記載され
ている。要約すると、写真をとるか又は画像化される対
象はコヒーレントな例えば、レーザーからの光で照明さ
れ、感光性の記録媒体、例えば写真用乾板がこの対象か
ら反射された光を受けるように配置される。対象上の各
点は、全記録媒体の全面に向けて光を反射し、媒体上の
各点は、全対象からの光を受は取る。この反射されてき
た光ビームは対象ビーム(objectbeam )と
呼ばれて(・る。コヒーレント光の一部は、対象をバイ
パスして媒体に対して直接鏡により同時に照射される。
の一般原理は、いくつかの文献、例えば5CIENTI
FICAMERICAN 、 212 、6号、24〜
35 (1965年6月)中E、N、レイス及びJ、ア
パトニークスによる[レーザーによる写真」に記載され
ている。要約すると、写真をとるか又は画像化される対
象はコヒーレントな例えば、レーザーからの光で照明さ
れ、感光性の記録媒体、例えば写真用乾板がこの対象か
ら反射された光を受けるように配置される。対象上の各
点は、全記録媒体の全面に向けて光を反射し、媒体上の
各点は、全対象からの光を受は取る。この反射されてき
た光ビームは対象ビーム(objectbeam )と
呼ばれて(・る。コヒーレント光の一部は、対象をバイ
パスして媒体に対して直接鏡により同時に照射される。
このビームは参照ビーム(reference bea
m )と呼ばれている。記録媒体上で記録されるものは
、媒体上に当った参照ビームと対象ビームとの干渉から
生じた干渉じま(interference patt
、arm)である。次に処理された記録媒体が照明され
、適切に観察される時、照明光源からの光は、対象から
媒体に最初に到達した波面を再現するようにホログラム
によって回折され、その結果窓を通じた物体の実際の像
と似たホログラムが完全なる次元の形で完全な視差を伴
なって観察される。
m )と呼ばれている。記録媒体上で記録されるものは
、媒体上に当った参照ビームと対象ビームとの干渉から
生じた干渉じま(interference patt
、arm)である。次に処理された記録媒体が照明され
、適切に観察される時、照明光源からの光は、対象から
媒体に最初に到達した波面を再現するようにホログラム
によって回折され、その結果窓を通じた物体の実際の像
と似たホログラムが完全なる次元の形で完全な視差を伴
なって観察される。
参照ビームと対象ビームと記録媒体の同一の側から入射
させて形成されるホログラムは、透過ホログラムとして
知られる。記録媒体中対象及び参照ビームとの相互作用
は異なる屈折率をもつ材料のフリン−)(fringe
s)を形成し、これは記録媒体の面に対して垂直又は垂
直に近い。このホログラムを透過光を用いて観察するこ
とによって再生(play back)する時、これら
のフリンジは、光を屈折して視られる虚像を作る。上記
の透過ホログラムは、米国特許第5,506,527:
米国特許第3,838,903及び米国特許第5,89
4,787(これらのおのおのは、参考文献として明細
書に組み入れられる)中に開示されているような当該技
術において周知である方法によって得ることができる。
させて形成されるホログラムは、透過ホログラムとして
知られる。記録媒体中対象及び参照ビームとの相互作用
は異なる屈折率をもつ材料のフリン−)(fringe
s)を形成し、これは記録媒体の面に対して垂直又は垂
直に近い。このホログラムを透過光を用いて観察するこ
とによって再生(play back)する時、これら
のフリンジは、光を屈折して視られる虚像を作る。上記
の透過ホログラムは、米国特許第5,506,527:
米国特許第3,838,903及び米国特許第5,89
4,787(これらのおのおのは、参考文献として明細
書に組み入れられる)中に開示されているような当該技
術において周知である方法によって得ることができる。
参照及び対象ビームを記録媒体の反対の側から両者がほ
ぼ反対の方向に入射するようにし【形成されるホログラ
ムは、反射ホログラムとして知られる。記録媒体中対象
ビーム及び参照ビームとの相互作用は、異なる屈折率を
もつ材料のフリンジを形成し、それらはほぼ記録媒体の
平面に対して平行な平面である。ホログラムが再生され
る時、これらのフリンジは、観察者に入射光を後に反射
する鏡として作用する。その故に、このホログラムは、
透過光よりもむしろ反射光で観察される。この型のホロ
グラムの波長感度はきわめて高いので、再生のために白
色光を使用してよい。軸外し法(off−axis p
rocess)によって得られる反射ホログラムは、米
国特許3.532,406(これは参考文献として明細
書に組み入れられる)中間水されている。
ぼ反対の方向に入射するようにし【形成されるホログラ
ムは、反射ホログラムとして知られる。記録媒体中対象
ビーム及び参照ビームとの相互作用は、異なる屈折率を
もつ材料のフリンジを形成し、それらはほぼ記録媒体の
平面に対して平行な平面である。ホログラムが再生され
る時、これらのフリンジは、観察者に入射光を後に反射
する鏡として作用する。その故に、このホログラムは、
透過光よりもむしろ反射光で観察される。この型のホロ
グラムの波長感度はきわめて高いので、再生のために白
色光を使用してよい。軸外し法(off−axis p
rocess)によって得られる反射ホログラムは、米
国特許3.532,406(これは参考文献として明細
書に組み入れられる)中間水されている。
回折格子は最も簡単な透過ホログラムである。
それは、2つのコヒーレント平面波のホログラムであり
、単一のレーザービームを分割し、記録媒体においてこ
れらのビームを再び合体させることによってつくり出す
ことができる。
、単一のレーザービームを分割し、記録媒体においてこ
れらのビームを再び合体させることによってつくり出す
ことができる。
このコヒーレントでありかつ互に偏光されていない2つ
の平面波によって作られた干渉Aターンは正弦波強度分
布をもつ一組の均一に間隔がおかれたフリンジである。
の平面波によって作られた干渉Aターンは正弦波強度分
布をもつ一組の均一に間隔がおかれたフリンジである。
記録媒体に入射する時、それらは屈折率が正弦の変動を
有する均一に間隔がおかれた一組のフリンジを作り、2
つのビームの間の角度の2等分線に平行に配列されてお
り、一般に回折格子といわれている。
有する均一に間隔がおかれた一組のフリンジを作り、2
つのビームの間の角度の2等分線に平行に配列されてお
り、一般に回折格子といわれている。
もしもこの2つの波が記録媒体の表面に関して等しい角
度で入射し、記録媒体の同じ側で共に入射する場合には
、このフリンジは媒体の表面に対して垂直であり、そし
て回折格子は非傾斜であるといわれる。得られるホログ
ラム格子は、それを通過する光が回折されるので、透過
格子であるといわれる。この格子がフリンジの間の距離
よりずっと厚い場合には、それは厚型(thick)と
いわれ一般に空間格子と呼ばれる。
度で入射し、記録媒体の同じ側で共に入射する場合には
、このフリンジは媒体の表面に対して垂直であり、そし
て回折格子は非傾斜であるといわれる。得られるホログ
ラム格子は、それを通過する光が回折されるので、透過
格子であるといわれる。この格子がフリンジの間の距離
よりずっと厚い場合には、それは厚型(thick)と
いわれ一般に空間格子と呼ばれる。
回折格子は、その回折効率、即ち回折される入射光のパ
ーセント並びKその厚さにより特性化される。一般に「
カップル波理論J (coupledwave the
ory)として知られる、厚いホログラム回折格子につ
いての単純であるが有用な理論がコゲルニク(H,コゲ
ルニク、厚いホログラムfv−ナイングーについてのカ
ップル波理論、Be11.sYt。
ーセント並びKその厚さにより特性化される。一般に「
カップル波理論J (coupledwave the
ory)として知られる、厚いホログラム回折格子につ
いての単純であるが有用な理論がコゲルニク(H,コゲ
ルニク、厚いホログラムfv−ナイングーについてのカ
ップル波理論、Be11.sYt。
Tech、 J、、 48.2909〜2947.19
69)によって開発されている。この理論は、回折効率
、格子厚み、入射光の波長、並びに入射放射線の角度の
間の関係を取扱へ、屈折率記録系についてこの理論の有
用な考察は、トミリンソン及びチャンドロスによる論文
C)i′!節中折中提示ている(W、J。
69)によって開発されている。この理論は、回折効率
、格子厚み、入射光の波長、並びに入射放射線の角度の
間の関係を取扱へ、屈折率記録系についてこの理論の有
用な考察は、トミリンソン及びチャンドロスによる論文
C)i′!節中折中提示ている(W、J。
トミリンソン及びE、A、チャンドロス、有機光化学屈
折率像記録系、Adv、 inphotochem、、
12巻、J、N、ビッツ、ジュニア、、 G、S、ハ
モンド、並ヒニK。ゴリニツク編、ウィリーーインター
サイエンス、ニューヨーク、1980.201〜281
頁)。
折率像記録系、Adv、 inphotochem、、
12巻、J、N、ビッツ、ジュニア、、 G、S、ハ
モンド、並ヒニK。ゴリニツク編、ウィリーーインター
サイエンス、ニューヨーク、1980.201〜281
頁)。
屈折事変% (refrattivt> 1ndeX
modulation)は、ホログラム又は7毬折率像
を有する他の記録媒体の像及び非像部分の間の屈折率の
変化の定量的尺度である。回折格子の場合には、屈折率
変調は、ホログラフィ−像が記録される時得られる記録
媒体内の屈折率の正弦変調のS幅の尺度である。記録媒
体に、−)いで、屈折率変調、或いはインデックス変調
は、媒体中格子をホログラフィ−によって形成し1.コ
ゲルニクのカッグル波理論及び形成された格子の測定さ
れたパラメーター、即ち、回折効率、媒体の厚さ等を使
用り。
modulation)は、ホログラム又は7毬折率像
を有する他の記録媒体の像及び非像部分の間の屈折率の
変化の定量的尺度である。回折格子の場合には、屈折率
変調は、ホログラフィ−像が記録される時得られる記録
媒体内の屈折率の正弦変調のS幅の尺度である。記録媒
体に、−)いで、屈折率変調、或いはインデックス変調
は、媒体中格子をホログラフィ−によって形成し1.コ
ゲルニクのカッグル波理論及び形成された格子の測定さ
れたパラメーター、即ち、回折効率、媒体の厚さ等を使
用り。
てインデックス変調を計算することによって最もよ(決
定される。
定される。
種々の材料が容積ホログラム(volume bolo
grams)を記録するために使用されている。より重
要なものの中には次のものがある:・〜ロゲン化銀ゴマ
ルジョン、硬化重クロム酸処理(dicbrcma j
ed >ゼラチン、強誘電性結晶、光重合体、フォトク
ロミックス及びフォトクロミックス。これらの材料の特
性は、L、ンリマー及びり、J、クックによる’Vol
ume Holography and ’Volum
e C)ratings 、アカデミツク・ブレス、ニ
ューヨーク、1981年、10章、254〜304頁中
示されて(・る。
grams)を記録するために使用されている。より重
要なものの中には次のものがある:・〜ロゲン化銀ゴマ
ルジョン、硬化重クロム酸処理(dicbrcma j
ed >ゼラチン、強誘電性結晶、光重合体、フォトク
ロミックス及びフォトクロミックス。これらの材料の特
性は、L、ンリマー及びり、J、クックによる’Vol
ume Holography and ’Volum
e C)ratings 、アカデミツク・ブレス、ニ
ューヨーク、1981年、10章、254〜304頁中
示されて(・る。
重クロム酸処理ゼラチン(dichramaLed g
e)、etic)は、容積ホログラムを記録するために
最も広く使用される材料である。この材料は、その高(
・回折効率及び低ノイス゛特性の故に普遍的な選択にな
って(・る、1〜カバ、−1この材料は、貯蔵寿命が短
かく、かつ百へ処理を必要とする1、感光板を新らたに
調製されるが、或いは予め硬化されたゼラチンが使用さ
れなければならない。湿式処理は、追加の’T1’Aが
ホログラムのv8段の際必要とされ、又処理・0間にゼ
ラチンの膨潤及び次の収縮のためホログラムの変化をお
こすことがある。ホログラムがつくられるたびに新らた
に感光板を調製することおよび湿式処理に伴なう問題は
、重クロム酸処理のゼラチシ/を用いて再現性を達成す
ることをきわめて困難にしている。
e)、etic)は、容積ホログラムを記録するために
最も広く使用される材料である。この材料は、その高(
・回折効率及び低ノイス゛特性の故に普遍的な選択にな
って(・る、1〜カバ、−1この材料は、貯蔵寿命が短
かく、かつ百へ処理を必要とする1、感光板を新らたに
調製されるが、或いは予め硬化されたゼラチンが使用さ
れなければならない。湿式処理は、追加の’T1’Aが
ホログラムのv8段の際必要とされ、又処理・0間にゼ
ラチンの膨潤及び次の収縮のためホログラムの変化をお
こすことがある。ホログラムがつくられるたびに新らた
に感光板を調製することおよび湿式処理に伴なう問題は
、重クロム酸処理のゼラチシ/を用いて再現性を達成す
ることをきわめて困難にしている。
いくつかの処理工程を必要とするハロゲン化銀、液体光
重合体、或いは重クロム酸処理コロイドから初期のホロ
グラムが調製されたが、1回処理工程のみを必要とする
固体光重合性エレメントが提案されている。ハウ氏への
米国特許5.658.52.6は、1回工程法により面
体光重合性層から安定な高分解能ホログラムの製造を開
示しており、その際ホログラフィ−情報を保持”する化
学作用放射線への光重合性層の1回の画像状露光(im
agewise exposure )によって永久的
屈折率画像が得られる。形成されるホログラフィ−像は
、引き続く均一な活性輻射線露光によって破壊されず、
むしろ定着又は増強される。
重合体、或いは重クロム酸処理コロイドから初期のホロ
グラムが調製されたが、1回処理工程のみを必要とする
固体光重合性エレメントが提案されている。ハウ氏への
米国特許5.658.52.6は、1回工程法により面
体光重合性層から安定な高分解能ホログラムの製造を開
示しており、その際ホログラフィ−情報を保持”する化
学作用放射線への光重合性層の1回の画像状露光(im
agewise exposure )によって永久的
屈折率画像が得られる。形成されるホログラフィ−像は
、引き続く均一な活性輻射線露光によって破壊されず、
むしろ定着又は増強される。
ハウ氏によって提案された固体光重合性層は、先行技術
に比して多くの利点を与えようとするものであるが、そ
の効率は低い。これらの層は典型的には0.001〜0
.003の範囲の変調の屈折率を有する。その結果、光
重合体のみの薄い層中形成される再構築されたホログラ
フィ−像は限られた輝度しか有しない。光重合体の比較
的厚い層を用いることによって輝度を増大させることが
できるが、この解決の結果は、視角に対して実質的な低
下となり、製造者に対してはるかに多量の光重合体を使
用させる結果となる。
に比して多くの利点を与えようとするものであるが、そ
の効率は低い。これらの層は典型的には0.001〜0
.003の範囲の変調の屈折率を有する。その結果、光
重合体のみの薄い層中形成される再構築されたホログラ
フィ−像は限られた輝度しか有しない。光重合体の比較
的厚い層を用いることによって輝度を増大させることが
できるが、この解決の結果は、視角に対して実質的な低
下となり、製造者に対してはるかに多量の光重合体を使
用させる結果となる。
ハウ氏によつ【提案されている被覆された層は、一般に
速度及び回折効率の損失なしく室温において長時間貯蔵
することができないことも留意されるべきである。かく
して、ホログラフィ−を含む、屈折率結像応用のための
改良された光重合体組成物及びエレメントに対する必要
性が存在し続けている。
速度及び回折効率の損失なしく室温において長時間貯蔵
することができないことも留意されるべきである。かく
して、ホログラフィ−を含む、屈折率結像応用のための
改良された光重合体組成物及びエレメントに対する必要
性が存在し続けている。
発明の要約
本発明は、貯蔵安定性、固体、光重合性組成物及び化学
作用放射線に改善された反応を有し、改善された輝度の
ホログラムを生じる感光性エレメントを提供する。更に
詳細には、1実施態様において本発明は、唯一の処理工
程として化学作用放射線に曝露すると屈折率像を形成す
る実質的に固体の光重合性組成物であって、本質的に (a125〜75%の溶媒可溶性、熱可塑性重合体結合
剤; (b)5〜60%の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付加重合をする
ことができる) (C) O,1〜10%の、化学作用放射線に曝露す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子(乞ransmiss
ion grating)から632.8nmの放射線
を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率変調を
有し、この透過格子は該組成物の層からホログラフィ−
によって製造される〕よりなる組成物を提供する。
作用放射線に改善された反応を有し、改善された輝度の
ホログラムを生じる感光性エレメントを提供する。更に
詳細には、1実施態様において本発明は、唯一の処理工
程として化学作用放射線に曝露すると屈折率像を形成す
る実質的に固体の光重合性組成物であって、本質的に (a125〜75%の溶媒可溶性、熱可塑性重合体結合
剤; (b)5〜60%の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付加重合をする
ことができる) (C) O,1〜10%の、化学作用放射線に曝露す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子(乞ransmiss
ion grating)から632.8nmの放射線
を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率変調を
有し、この透過格子は該組成物の層からホログラフィ−
によって製造される〕よりなる組成物を提供する。
本発明の組成物について屈折率は、コゲルニクのカップ
ル波理論を使用して、652.8皿の放射線を用いて測
定された回折効率及び各組成物の層中ホログラフィ−に
よって形成された格子の層の厚さ(ただしこのグレーテ
ィングは、駕あたり約1000ライン、即ち諺あたり9
00〜1100ラインの空間頻度を有する)から計算さ
れる。この方法及び後に定義されるとおりの一定の条件
を使用すると、本発明の材料の場合のインデックス変調
は、先行技術のものから区別される。
ル波理論を使用して、652.8皿の放射線を用いて測
定された回折効率及び各組成物の層中ホログラフィ−に
よって形成された格子の層の厚さ(ただしこのグレーテ
ィングは、駕あたり約1000ライン、即ち諺あたり9
00〜1100ラインの空間頻度を有する)から計算さ
れる。この方法及び後に定義されるとおりの一定の条件
を使用すると、本発明の材料の場合のインデックス変調
は、先行技術のものから区別される。
本発明の好適な1実施態様においては、成分(al及び
(blは、重合体材料(alか又は液体単量体(blの
一方がフェニル、フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、
3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素
原子、並びにそれらの混合物よりなる群から選択される
置換分を有し、他方の成分が該基又は原子を実質的に含
まないように選択される。
(blは、重合体材料(alか又は液体単量体(blの
一方がフェニル、フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、
3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素
原子、並びにそれらの混合物よりなる群から選択される
置換分を有し、他方の成分が該基又は原子を実質的に含
まないように選択される。
本発明の別の1実施態様においては、固体の光重合性組
成物は、第4の成分(d)として燐酸トリス(2−エチ
ルヘキシル)、トリ酪酸グリセリル、並びに一般式 %式%) (式中R1及びR2は、おのおの1〜10の炭素原子の
アルキルであり、R3は、H又は8〜16の炭素原子の
アルキルであり、ガは、H又はCR2であり、Xは1〜
4であり、yは2〜20であり、2は1〜20である)
を有する化合物よりなる群からとられる液体可塑剤を含
有する。
成物は、第4の成分(d)として燐酸トリス(2−エチ
ルヘキシル)、トリ酪酸グリセリル、並びに一般式 %式%) (式中R1及びR2は、おのおの1〜10の炭素原子の
アルキルであり、R3は、H又は8〜16の炭素原子の
アルキルであり、ガは、H又はCR2であり、Xは1〜
4であり、yは2〜20であり、2は1〜20である)
を有する化合物よりなる群からとられる液体可塑剤を含
有する。
図面の簡単な説明
図は、屈折率変調をホログラフィ−によって決定するの
に使用される実験配置を例示する。
に使用される実験配置を例示する。
発明の詳細な説明
本発明の改善された光重合性組成物は、実質的に固体で
あり、典型的には永久的基質に適用される層として使用
される。この組成物は、任意の常法によって基質上に直
接被覆してよく、或いはポリエチレンテレフタレートの
ような一時的な支持フィルムにはく離できるように接着
されている光重合性の層よりなる貯蔵安定性の予め形成
されたエレメントとしてそれに積層してよい。
あり、典型的には永久的基質に適用される層として使用
される。この組成物は、任意の常法によって基質上に直
接被覆してよく、或いはポリエチレンテレフタレートの
ような一時的な支持フィルムにはく離できるように接着
されている光重合性の層よりなる貯蔵安定性の予め形成
されたエレメントとしてそれに積層してよい。
光重合性の層は熱可塑性組成物であり、それは化学作用
放射線に@露すると、交さ結合又はより高し・分子量の
重合体を生成して組成物の屈折率及びレオロジー特性を
変化させる。好適な光重合性組成物は、通常末端位置に
おいて、1つ又はそれ以上のエチレン系不飽和基を有す
る化合物の遊離う・ノカル付加重合及び交さ結合が組成
物を硬化し、不溶化する組成物である。光重合性組成物
の感受性は、実用放射線源、例えば、可視光に対して組
成物を感受性にする成分を含有することができる光開始
性の系によって増強される。
放射線に@露すると、交さ結合又はより高し・分子量の
重合体を生成して組成物の屈折率及びレオロジー特性を
変化させる。好適な光重合性組成物は、通常末端位置に
おいて、1つ又はそれ以上のエチレン系不飽和基を有す
る化合物の遊離う・ノカル付加重合及び交さ結合が組成
物を硬化し、不溶化する組成物である。光重合性組成物
の感受性は、実用放射線源、例えば、可視光に対して組
成物を感受性にする成分を含有することができる光開始
性の系によって増強される。
常法では、本発明使用される間にフィルム又は積層物が
持つ物理的性質が何であるかについて、結合剤は、実質
的に乾式の光重合性フィルム又は層の最も有意義な成分
である。結合剤は、露光の前単量体及び光開始剤のため
の含有用媒体として作用し、ベースライン屈折率を提供
し、露光後には、形成される屈折率像のために必要とさ
れる物理的及び屈折率特性に寄与する。屈折率の外に粘
着力、接着、柔軟性、混和性、引張り強度が、屈折率媒
体中使用するのに結合剤が適してし・るかどうか決定す
る多くの性質のうちのいくつかである。本発明を実施す
るにあたっては種々の型の乾式フィルム光重合性エレメ
ントは、それらが液体単量体を含有し、屈折率変調判定
基準に適合しているかぎり、使用することができる。
持つ物理的性質が何であるかについて、結合剤は、実質
的に乾式の光重合性フィルム又は層の最も有意義な成分
である。結合剤は、露光の前単量体及び光開始剤のため
の含有用媒体として作用し、ベースライン屈折率を提供
し、露光後には、形成される屈折率像のために必要とさ
れる物理的及び屈折率特性に寄与する。屈折率の外に粘
着力、接着、柔軟性、混和性、引張り強度が、屈折率媒
体中使用するのに結合剤が適してし・るかどうか決定す
る多くの性質のうちのいくつかである。本発明を実施す
るにあたっては種々の型の乾式フィルム光重合性エレメ
ントは、それらが液体単量体を含有し、屈折率変調判定
基準に適合しているかぎり、使用することができる。
これらの型のエレメントは、多種多様の透過性の基質上
光重合性組成物を常法によって被覆することにより調製
される。「基質J (substrata)とは、任意
の天然又は合成支持体、好適には柔軟性又は剛性フィル
ム又はシートの形態で存在することができるものを意味
する。例えば、基質は、合成有機樹脂、或いは2種又は
それ以上の材料の複合物の7−ト又はフィルムであるこ
とができた。特定の基質は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、例えば樹脂下塗り型ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、火炎又ハ静電気放電処理されたポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ガラス、セルロースア
セテートフィルム等を包含する。特定の基質は、包含さ
れる応用によって一般に決定される。
光重合性組成物を常法によって被覆することにより調製
される。「基質J (substrata)とは、任意
の天然又は合成支持体、好適には柔軟性又は剛性フィル
ム又はシートの形態で存在することができるものを意味
する。例えば、基質は、合成有機樹脂、或いは2種又は
それ以上の材料の複合物の7−ト又はフィルムであるこ
とができた。特定の基質は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、例えば樹脂下塗り型ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、火炎又ハ静電気放電処理されたポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ガラス、セルロースア
セテートフィルム等を包含する。特定の基質は、包含さ
れる応用によって一般に決定される。
光重合性の層は、均一な厚さの固体シートであるが、次
の6つの主成分から構成される=(A1固体、溶媒可溶
性、予め形成された重合体材料;(Bl付加重合して予
め形成された重合体材料と実質的に異なった屈折率をも
つ重合体材料を得ることができる、少なくとも1攬の液
体エチレン系不飽和単量体;並びに(C1化学作用放射
線によって活性化することができる光開始剤系。この層
は固体組成物であるが、最終の均一処理(これは、通常
化学作用放射線に更に均一曝露することである)Kよっ
て固定又は破壊されるまで、結像曝露の前、その間及び
その後に成分は相互拡散する。相互拡散は、外の場合に
は不活性である本発明の可塑剤中に配合することによっ
て更に促進させることができる。液体単量体の外K、こ
の組成物は、固体組成物中相互拡散し。
の6つの主成分から構成される=(A1固体、溶媒可溶
性、予め形成された重合体材料;(Bl付加重合して予
め形成された重合体材料と実質的に異なった屈折率をも
つ重合体材料を得ることができる、少なくとも1攬の液
体エチレン系不飽和単量体;並びに(C1化学作用放射
線によって活性化することができる光開始剤系。この層
は固体組成物であるが、最終の均一処理(これは、通常
化学作用放射線に更に均一曝露することである)Kよっ
て固定又は破壊されるまで、結像曝露の前、その間及び
その後に成分は相互拡散する。相互拡散は、外の場合に
は不活性である本発明の可塑剤中に配合することによっ
て更に促進させることができる。液体単量体の外K、こ
の組成物は、固体組成物中相互拡散し。
液体単量体と反応して予め形成された重合体材料の屈折
率からシフトされた屈折率をもつ共重合体を形成するこ
とができる固体単量体成分を含有していてよい。
率からシフトされた屈折率をもつ共重合体を形成するこ
とができる固体単量体成分を含有していてよい。
この組成物の単量体の結像重合(imPLgingpo
lymerization)の結果としておこる屈折率
のシフトは、この組成物の層中ホログラフによって形成
される格子のJRラメ−ターから計算される屈折率変調
として最もよく測定される。この測定は、図中例示され
る50°ホログラフ格子系を使用して達成される。この
系においては488nm及び−〇において操作されるア
ルゴンイオンレーデ−10がレーデ−ビーム12を生じ
、これは鏡14及び光束エレベータ−16によりアテヌ
エータ−18を通ってビームスプリッタ−20中に向け
られ、そこでこのビームは、2つのほぼ等しいビームセ
グメント22に分けられる。各ビームセグメントは、鏡
24 Kよって反射され空間フィルター26及びコリメ
ーター40を通って約30°の角度でガラスに取付けら
れた試料28の平面中被写域に至り、その2等分線は、
格子ホログラム30を形成するように試料28の平面に
ほぼ垂直である。格子30形成は、He : Neレー
ザー34からの632.8nmのビームをブラッグ角に
おいて曝露領域の中心を通すことによって実時間で測定
され、試料28によってデフラクトされたレーザー光束
320強度が検出器36を用いてモニターされる。
lymerization)の結果としておこる屈折率
のシフトは、この組成物の層中ホログラフによって形成
される格子のJRラメ−ターから計算される屈折率変調
として最もよく測定される。この測定は、図中例示され
る50°ホログラフ格子系を使用して達成される。この
系においては488nm及び−〇において操作されるア
ルゴンイオンレーデ−10がレーデ−ビーム12を生じ
、これは鏡14及び光束エレベータ−16によりアテヌ
エータ−18を通ってビームスプリッタ−20中に向け
られ、そこでこのビームは、2つのほぼ等しいビームセ
グメント22に分けられる。各ビームセグメントは、鏡
24 Kよって反射され空間フィルター26及びコリメ
ーター40を通って約30°の角度でガラスに取付けら
れた試料28の平面中被写域に至り、その2等分線は、
格子ホログラム30を形成するように試料28の平面に
ほぼ垂直である。格子30形成は、He : Neレー
ザー34からの632.8nmのビームをブラッグ角に
おいて曝露領域の中心を通すことによって実時間で測定
され、試料28によってデフラクトされたレーザー光束
320強度が検出器36を用いてモニターされる。
本発明の実施においては、随意にはポリプロピレン、ポ
リエチレン、或いはポリエチレンテレフタレートカバー
シートによって保護されている、約10〜60μ毒の厚
さの固体の光重合性層が被覆されている柔軟性、透過性
のポリエチレンテレフタレート支持シートよりなるフィ
ルムエレメントが調製される。このフィルムエレメント
の1区分を切り、カバーシート(存在する場合には)を
除去し、次Kfラスの表面にカバーのない層の表面を手
で積層することKよって4×5インチのガラスグレート
上に取付ける。
リエチレン、或いはポリエチレンテレフタレートカバー
シートによって保護されている、約10〜60μ毒の厚
さの固体の光重合性層が被覆されている柔軟性、透過性
のポリエチレンテレフタレート支持シートよりなるフィ
ルムエレメントが調製される。このフィルムエレメント
の1区分を切り、カバーシート(存在する場合には)を
除去し、次Kfラスの表面にカバーのない層の表面を手
で積層することKよって4×5インチのガラスグレート
上に取付ける。
この層は固体であるが、その表面は、典型的には粘着性
であり、ガラスの表面に容易に接着される。粘性がない
場合には、熱及び圧力を使用してガラス基質の表面に光
重合性層を積層してよい。典型的にはポリエチレンテレ
フタレートフィルム支持体は、積層物上そのまま残され
、取扱い及び露光操作の間層を保護する作用をする。
であり、ガラスの表面に容易に接着される。粘性がない
場合には、熱及び圧力を使用してガラス基質の表面に光
重合性層を積層してよい。典型的にはポリエチレンテレ
フタレートフィルム支持体は、積層物上そのまま残され
、取扱い及び露光操作の間層を保護する作用をする。
ガラスに取付けられた光重合性層28は、上述した30
6ホログラフイ一格子系中評価され、その際発生するコ
リメーター処理された光束38の強度比は約1:1に保
たれ、絶対強度は、光束58あたり3〜10 mW/m
2の範囲である。各発生ビーム(emerging b
eam) 5Bの直径は大体13である。光重合性層2
8は、50〜600mJ/crn2の全露光に相当する
ビーム38の被写域で変調されたレーデ−放射線に4〜
32秒露光される。この像露光の後約1分に、2つの発
生ビームの一方を使用して格子を約1〜2分間再露光し
て全党重合性層28Vcわたって固定又は重合を完了さ
せる。
6ホログラフイ一格子系中評価され、その際発生するコ
リメーター処理された光束38の強度比は約1:1に保
たれ、絶対強度は、光束58あたり3〜10 mW/m
2の範囲である。各発生ビーム(emerging b
eam) 5Bの直径は大体13である。光重合性層2
8は、50〜600mJ/crn2の全露光に相当する
ビーム38の被写域で変調されたレーデ−放射線に4〜
32秒露光される。この像露光の後約1分に、2つの発
生ビームの一方を使用して格子を約1〜2分間再露光し
て全党重合性層28Vcわたって固定又は重合を完了さ
せる。
前に説明したとおり、He : Neレーザー34の非
化学作用632.8皿のビーム32及び検出器36(こ
れは、ストリップチャート記録計に連結されている干渉
モデル212パワーメーターである)を使用して格子3
0の形成をモニターする。回折効率(η)は、回折され
たビーム強度(■d1ff)対被膜を通過した後の露光
前の回折されていないビーム強度(工。)の比: η=”diff/Io (1)として計算さ
れる。被覆の厚さは、常用の厚さ測定系を使用して光硬
化された試料について測定される。
化学作用632.8皿のビーム32及び検出器36(こ
れは、ストリップチャート記録計に連結されている干渉
モデル212パワーメーターである)を使用して格子3
0の形成をモニターする。回折効率(η)は、回折され
たビーム強度(■d1ff)対被膜を通過した後の露光
前の回折されていないビーム強度(工。)の比: η=”diff/Io (1)として計算さ
れる。被覆の厚さは、常用の厚さ測定系を使用して光硬
化された試料について測定される。
記録された格子中屈折率変調は、コゲルニクのカップル
波理論を使用して測定された回折効率及び被膜の厚さか
ら計算され、それは非傾斜透過回折格子系については次
の式になる:πd 式中M==折率変調 λ=自自由空間中口ローブ放射線波長632.8nm)
K対してθ。=12.93°) η=格子の回折効率 d=格子の厚さ 記録用媒体内のグローブビームの内角θ。=12.93
°は、スネルの法則ニ ーθ。=nOIII!Iθ。(3) 及びBraggの法則: 2△画θ。=λ/n 0(4) (式中△はしまスペーシングであり、noは媒体の平均
屈折率である)を使用してフィルム面に垂直である線と
488 nmの記録光束との間の外角θ=15°から計
算される。すべての計算においてnoに対してt50の
値が使用される。
波理論を使用して測定された回折効率及び被膜の厚さか
ら計算され、それは非傾斜透過回折格子系については次
の式になる:πd 式中M==折率変調 λ=自自由空間中口ローブ放射線波長632.8nm)
K対してθ。=12.93°) η=格子の回折効率 d=格子の厚さ 記録用媒体内のグローブビームの内角θ。=12.93
°は、スネルの法則ニ ーθ。=nOIII!Iθ。(3) 及びBraggの法則: 2△画θ。=λ/n 0(4) (式中△はしまスペーシングであり、noは媒体の平均
屈折率である)を使用してフィルム面に垂直である線と
488 nmの記録光束との間の外角θ=15°から計
算される。すべての計算においてnoに対してt50の
値が使用される。
この特定された操作を使用して調製測定されたホログラ
フィ−グレーティングは、典型的には■あたりほぼ10
00ライン、即ち、■あたり900〜1100ラインの
空間頻度を有する。本発明の目的に対しては、屈折率変
調は、特定された操作によって調製された、■あたりほ
ぼ1000ラインの空間頻度を有する透過格子から、6
32.8nmのプローブ放射線を用いて測定された屈折
率変調と定義される。この屈折率変調は、空間頻度が実
質的に異なり、異なったプローブ放射線を用いて測定さ
れる場合、或いは全体として異なった測定操作、例えば
干渉顕微鏡分析法の操作と対照的である。
フィ−グレーティングは、典型的には■あたりほぼ10
00ライン、即ち、■あたり900〜1100ラインの
空間頻度を有する。本発明の目的に対しては、屈折率変
調は、特定された操作によって調製された、■あたりほ
ぼ1000ラインの空間頻度を有する透過格子から、6
32.8nmのプローブ放射線を用いて測定された屈折
率変調と定義される。この屈折率変調は、空間頻度が実
質的に異なり、異なったプローブ放射線を用いて測定さ
れる場合、或いは全体として異なった測定操作、例えば
干渉顕微鏡分析法の操作と対照的である。
本発明の改善された固体光重合性組成物は、使用可能な
明るくかつ鋭゛い透過ホログラムを生じたが、この操作
及び系を使用して計算すると少なくともほぼ0.005
の屈折率変調Mを有する。
明るくかつ鋭゛い透過ホログラムを生じたが、この操作
及び系を使用して計算すると少なくともほぼ0.005
の屈折率変調Mを有する。
本発明の組成物においては、予め形成された重合体材料
及び液体単量体は、予め形成された重合体材料か又は単
量体の一方が置換又は非置換フェニル、フェノキシ、ナ
フチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテ
ロ芳香族、塩素、臭素、よりなる群からとられる1つ又
はそれ以上の部分を有し、残りの成分がこれらの特定さ
れた部分を実質的に含まないように選択される。単量体
がこれらの部分を含有する場合には、この光重合性の系
は以下「単量体配向型系J (Monomer 0ri
ented System )と称され、重合体材料が
これらの部分を含有する場合には、この光重合性の系は
以下「結合剤配合型系J (BinderOrient
ed System)と称される。
及び液体単量体は、予め形成された重合体材料か又は単
量体の一方が置換又は非置換フェニル、フェノキシ、ナ
フチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテ
ロ芳香族、塩素、臭素、よりなる群からとられる1つ又
はそれ以上の部分を有し、残りの成分がこれらの特定さ
れた部分を実質的に含まないように選択される。単量体
がこれらの部分を含有する場合には、この光重合性の系
は以下「単量体配向型系J (Monomer 0ri
ented System )と称され、重合体材料が
これらの部分を含有する場合には、この光重合性の系は
以下「結合剤配合型系J (BinderOrient
ed System)と称される。
本発明の安定、固体、光重合性組成物は、この「単量体
配向型系」及び「結合剤配合型系」Kついて更に詳細説
明される。
配向型系」及び「結合剤配合型系」Kついて更に詳細説
明される。
単量体配向型系
単量体配向型系の単量体は、付加重合することができ、
100℃より高い沸点を有する液体、エチレン系不飽和
化合物である。この単量体は、フェニル、フェノキシ、
ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘ
テロ芳香族、塩素、並びに臭素よりなる群からの置換分
を含有する。この単量体は、少なくとも1つの上記の部
分を含有し、単量体が液体で保たれるかぎり、この群の
同−又は異なった部分の2つ又はそれ以上を含有してい
てよい。この基に均等と企図されているのは、光重合性
の層中単量体が液体かつ拡散性で保たれるかぎり、置換
分が低級アルキル、アルコキシ、ヒrcrキシ、カルボ
キシ、カルボニル、アミノ、アミド、イミr又はそれら
の組合せであってよい置換された群である。
100℃より高い沸点を有する液体、エチレン系不飽和
化合物である。この単量体は、フェニル、フェノキシ、
ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘ
テロ芳香族、塩素、並びに臭素よりなる群からの置換分
を含有する。この単量体は、少なくとも1つの上記の部
分を含有し、単量体が液体で保たれるかぎり、この群の
同−又は異なった部分の2つ又はそれ以上を含有してい
てよい。この基に均等と企図されているのは、光重合性
の層中単量体が液体かつ拡散性で保たれるかぎり、置換
分が低級アルキル、アルコキシ、ヒrcrキシ、カルボ
キシ、カルボニル、アミノ、アミド、イミr又はそれら
の組合せであってよい置換された群である。
単一の単量体として、又はこの型の液体単量体と組合せ
て使用することができる適当な単量体ハ、スチレン、2
−クロロスチレン、2−ブロモスチレン、メトキシスチ
レン、アクリル酸フェニル、アクリル酸p−クロロフェ
ニル、アクリル酸2−フェニルエチル、アクリル酸2−
フェノキシエチル、メタクリル酸2−フェノキシエチル
、フェノールエトキシレートアクリレート、アクリル酸
2−(p−クロロフェノキシ)エチル、アクリル酸ベン
ジル、アクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エチル、2
,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)ソロノぞンジアク
リレート又はジメタクリレート、2,2−ジ(p−ヒド
ロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、ポリオキ
シエチル−2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロ
パンジメタクリレート、ビスフェノール−Aの、)(2
−メタクリロキシエチル)エーテル、エトキシル化ヒス
フェノール−Aジアクリレート、ビスフェノール−Ao
)ジ(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エ
ーテル、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエ
チル)エーテル、テトラクロロ−ビスフェノール−Aの
ジ(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エー
テル、テトラクロロ−ビスフェノール−Aのり(2−メ
タクリロキシエチル)エーテル、テトラブロモ−ビスフ
ェノール−Aのジ(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、テトラブロモ−ビスフェノール
−Aのり(2−メタクリロキシエチル)エーテル、ジフ
ェノール酸の・り(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、1,4−ベンゼン・フォールジ
メタクリレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、
1,3.5−) IJ イソプロペニルベンゼン、ベン
ゾキノンモノメタクリレート、並びにアクリル酸2−〔
β−(N−カルバジル)プロピオニロキシ〕エチルを包
含するが、これらに限定されない。
て使用することができる適当な単量体ハ、スチレン、2
−クロロスチレン、2−ブロモスチレン、メトキシスチ
レン、アクリル酸フェニル、アクリル酸p−クロロフェ
ニル、アクリル酸2−フェニルエチル、アクリル酸2−
フェノキシエチル、メタクリル酸2−フェノキシエチル
、フェノールエトキシレートアクリレート、アクリル酸
2−(p−クロロフェノキシ)エチル、アクリル酸ベン
ジル、アクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エチル、2
,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)ソロノぞンジアク
リレート又はジメタクリレート、2,2−ジ(p−ヒド
ロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、ポリオキ
シエチル−2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロ
パンジメタクリレート、ビスフェノール−Aの、)(2
−メタクリロキシエチル)エーテル、エトキシル化ヒス
フェノール−Aジアクリレート、ビスフェノール−Ao
)ジ(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エ
ーテル、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエ
チル)エーテル、テトラクロロ−ビスフェノール−Aの
ジ(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エー
テル、テトラクロロ−ビスフェノール−Aのり(2−メ
タクリロキシエチル)エーテル、テトラブロモ−ビスフ
ェノール−Aのジ(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、テトラブロモ−ビスフェノール
−Aのり(2−メタクリロキシエチル)エーテル、ジフ
ェノール酸の・り(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、1,4−ベンゼン・フォールジ
メタクリレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、
1,3.5−) IJ イソプロペニルベンゼン、ベン
ゾキノンモノメタクリレート、並びにアクリル酸2−〔
β−(N−カルバジル)プロピオニロキシ〕エチルを包
含するが、これらに限定されない。
本発明の単量体配向型系中使用するためK特に好適な液
体単量体は、アクリル酸2−フェノキシエチル、メタク
リル酸2−フェノキシエチル、アクリル酸フェノールエ
トキシレートアクリレート、アクリル酸2−(p−クロ
ロフェノキシ)エチル、アクリル酸p−クロロフェニル
、アクリル酸フェニル、アクリル酸2−フェニルエチル
、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエチル)
エーテル、エトキシル化ヒスフェノール−Aジアクリレ
ート、並びにアクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エチ
ルである。
体単量体は、アクリル酸2−フェノキシエチル、メタク
リル酸2−フェノキシエチル、アクリル酸フェノールエ
トキシレートアクリレート、アクリル酸2−(p−クロ
ロフェノキシ)エチル、アクリル酸p−クロロフェニル
、アクリル酸フェニル、アクリル酸2−フェニルエチル
、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエチル)
エーテル、エトキシル化ヒスフェノール−Aジアクリレ
ート、並びにアクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エチ
ルである。
本発明にお(・て有用である単量体は液体であるが、そ
れらはN−ビニルカルバシーA/ ; H,カ(197
9)に開示されているようなエチレン系不飽和カルバゾ
ール単量体;アクリル酸2−ナフチル;アクリル酸イン
タクロロフエ=ル;アクリル酸2,4.6− ) IJ
ジブロモェニル、ビスフェノール−Aジアクリレート;
アクリル酸2−(2−す7チロキシ)エチル; 並ヒK
N−フェニルマレイミドのような第2の固体単量体と
混合して使用してよい。
れらはN−ビニルカルバシーA/ ; H,カ(197
9)に開示されているようなエチレン系不飽和カルバゾ
ール単量体;アクリル酸2−ナフチル;アクリル酸イン
タクロロフエ=ル;アクリル酸2,4.6− ) IJ
ジブロモェニル、ビスフェノール−Aジアクリレート;
アクリル酸2−(2−す7チロキシ)エチル; 並ヒK
N−フェニルマレイミドのような第2の固体単量体と
混合して使用してよい。
単量体配向型系の溶媒可溶性重合体材料又は結合剤は、
フェニル、フェノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、5つ
までの芳香族環を有するヘテロ芳香族、塩素、並びに臭
素よりなる群からの置換分を実質的に含まない。
フェニル、フェノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、5つ
までの芳香族環を有するヘテロ芳香族、塩素、並びに臭
素よりなる群からの置換分を実質的に含まない。
この類の適当な結合剤は、溶媒可溶性の熱可塑性重合体
であるが、単独でか又は互に組合せて使用することがで
き、次のものを包含するニアクリレート及びアルファー
アルキルアクリレートエステル及び酸性重合体及びイン
ターポリマー、例えば、ポリメタクリル酸メチル及びポ
リメタクリル酸エチル;ポリビニルエステル、例えば、
ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸/アクリル酸ビニル、ポリ酢
酸/メタクリル酸ビニル及び加水分解型ポリ酢酸ビニル
;エチレン/酢酸ビニル共重合体;飽和及び不飽和ポリ
ウレタン;ブタジェン及びイソプレン重合体及び共重合
体及びほぼ4,000〜1,000,000の平均分子
量を有するポリグリコールの高分子量ポリ酸化エチレン
:エポキシ化物、例えば、アクリレート又はメタクリレ
ート基を有するエポキシ化物;ポリアミP、例えば、N
−メトキシメチルポリヘキサメチレンアシツクミド;セ
ルロースエステル、例、t ハ、セルロースアセテート
、セルロースアセテートサクシネート及びセルロースア
セテートブチレート;セルロースエーテル、例工ば、メ
チルセルロース、並ヒにエチルセルロース;ポリカーボ
ネート;並びにポリビニルアセタール、例えば、ポリビ
ニルブチラール及びポリビニルホルマール。適当な結合
剤として機能する酸含有重合体及び共重合体は、米国特
許3,458,311中及び米国特許4,273,85
7中に開示されているものを包含する。並びに米国特許
4,293,635中開示されている両性重合体結合剤
(これらのおのおのけ、参考文献として明細書中に組入
れられる)。
であるが、単独でか又は互に組合せて使用することがで
き、次のものを包含するニアクリレート及びアルファー
アルキルアクリレートエステル及び酸性重合体及びイン
ターポリマー、例えば、ポリメタクリル酸メチル及びポ
リメタクリル酸エチル;ポリビニルエステル、例えば、
ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸/アクリル酸ビニル、ポリ酢
酸/メタクリル酸ビニル及び加水分解型ポリ酢酸ビニル
;エチレン/酢酸ビニル共重合体;飽和及び不飽和ポリ
ウレタン;ブタジェン及びイソプレン重合体及び共重合
体及びほぼ4,000〜1,000,000の平均分子
量を有するポリグリコールの高分子量ポリ酸化エチレン
:エポキシ化物、例えば、アクリレート又はメタクリレ
ート基を有するエポキシ化物;ポリアミP、例えば、N
−メトキシメチルポリヘキサメチレンアシツクミド;セ
ルロースエステル、例、t ハ、セルロースアセテート
、セルロースアセテートサクシネート及びセルロースア
セテートブチレート;セルロースエーテル、例工ば、メ
チルセルロース、並ヒにエチルセルロース;ポリカーボ
ネート;並びにポリビニルアセタール、例えば、ポリビ
ニルブチラール及びポリビニルホルマール。適当な結合
剤として機能する酸含有重合体及び共重合体は、米国特
許3,458,311中及び米国特許4,273,85
7中に開示されているものを包含する。並びに米国特許
4,293,635中開示されている両性重合体結合剤
(これらのおのおのけ、参考文献として明細書中に組入
れられる)。
本発明の単量体配向型系中使用するのに特に好適な結合
剤は、セルロースアセテートラクテート重合体;ポリメ
タクリル酸メチル、メタクリル酸メチル/メタクリル酸
及びメタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体を含むア
クリル系重合体及びインターポリマー メタクリル酸メ
チル/アクリル酸又はメタクリル酸02〜C4アルキル
/アクリル酸又はメタクリル酸の3元重合体;ポリ酢酸
ビニル;ポリビニルアセタール;ポリビニルブチラール
;ポリビニルホルマール;並びにそれらの混合物である
。
剤は、セルロースアセテートラクテート重合体;ポリメ
タクリル酸メチル、メタクリル酸メチル/メタクリル酸
及びメタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体を含むア
クリル系重合体及びインターポリマー メタクリル酸メ
チル/アクリル酸又はメタクリル酸02〜C4アルキル
/アクリル酸又はメタクリル酸の3元重合体;ポリ酢酸
ビニル;ポリビニルアセタール;ポリビニルブチラール
;ポリビニルホルマール;並びにそれらの混合物である
。
結合剤配向型系
結合剤配向型系の単量体は、付加重合することができ、
100℃より高い沸点を有する液体、エチレン系不飽和
化合物である。この単量体は、フェニル、フェノキシ、
ナフチル、ナフチロキシ、3つまでの芳香族環を有する
ヘテロ芳香族、塩素及び臭素よりなる群からとられる部
分を実質的に含まない。単一の単量体としてか又は他の
単量体と組合せて使用することができるこの型の適当な
単量体は、次のものを包含するが、それに限定されない
ニアクリル酸し一ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸イソーホルニル、1,5−ベンタンジオール
ジアクリレート、N、N−−)エチルアミノエチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルノアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリ
レート、1.3−プロノぐンジオール・クアクリレート
、デカメチレングリコールジアクリレー)、1.4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、2.2− ・ク
メチロールデロノ臂ンジアクリレート、グリセロールジ
アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ポリオキシ
エチル化トリメチロールプ0ノントリアクリレート及び
トリメタクリレート及び米国特許&380.831中開
示されている類縁化合物、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート
、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキ
シプロピルトリメチロールプロパンジアクリレート(4
62)、エチレングリコール・クメタクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−プロパンジ
オールジメタクリレート、 1,2.4−ブタントリ
オールトリメタクリレート、2,2.4−トリメチル−
1,3−プロパンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラメタクリレート、トリメチロ−−ルプロJRン
トリメタクリレート、1,5−ベンタンジオールジメタ
クリレート、フマル酸ジアリル、アクリル酸1H,IH
−パーフロロオクチル、メタクリル酸IH,1H,2H
。
100℃より高い沸点を有する液体、エチレン系不飽和
化合物である。この単量体は、フェニル、フェノキシ、
ナフチル、ナフチロキシ、3つまでの芳香族環を有する
ヘテロ芳香族、塩素及び臭素よりなる群からとられる部
分を実質的に含まない。単一の単量体としてか又は他の
単量体と組合せて使用することができるこの型の適当な
単量体は、次のものを包含するが、それに限定されない
ニアクリル酸し一ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸イソーホルニル、1,5−ベンタンジオール
ジアクリレート、N、N−−)エチルアミノエチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルノアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリ
レート、1.3−プロノぐンジオール・クアクリレート
、デカメチレングリコールジアクリレー)、1.4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、2.2− ・ク
メチロールデロノ臂ンジアクリレート、グリセロールジ
アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ポリオキシ
エチル化トリメチロールプ0ノントリアクリレート及び
トリメタクリレート及び米国特許&380.831中開
示されている類縁化合物、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート
、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキ
シプロピルトリメチロールプロパンジアクリレート(4
62)、エチレングリコール・クメタクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−プロパンジ
オールジメタクリレート、 1,2.4−ブタントリ
オールトリメタクリレート、2,2.4−トリメチル−
1,3−プロパンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラメタクリレート、トリメチロ−−ルプロJRン
トリメタクリレート、1,5−ベンタンジオールジメタ
クリレート、フマル酸ジアリル、アクリル酸1H,IH
−パーフロロオクチル、メタクリル酸IH,1H,2H
。
2H−ノe−フロロオクチル、並びに1−ビニル−2−
ピロリジノン。
ピロリジノン。
上記のエチレン系不飽和単量体の外K、この光硬化性の
石は、一般に少なくともほぼ300の分子量を有する、
1種又はそれ以上の遊離う・ジカル開始型、連鎖生長性
、付加重合可能、エチレン系不飽和化合物も含有するこ
とができる。
石は、一般に少なくともほぼ300の分子量を有する、
1種又はそれ以上の遊離う・ジカル開始型、連鎖生長性
、付加重合可能、エチレン系不飽和化合物も含有するこ
とができる。
この型の好適な単量体は、2〜15の炭素原子のアルキ
レングリコール又は1〜10のエーテル結合のポリアル
キレンエーテルグリコールから製造されるアルキレン又
はポリアルキレングリコールジアクリレート、並びに米
国特許2.92ス022中開示されているもの、例えば
、特に末端結合として存在する時、複数の付加重合可能
なエチレン結合を有するものである。
レングリコール又は1〜10のエーテル結合のポリアル
キレンエーテルグリコールから製造されるアルキレン又
はポリアルキレングリコールジアクリレート、並びに米
国特許2.92ス022中開示されているもの、例えば
、特に末端結合として存在する時、複数の付加重合可能
なエチレン結合を有するものである。
本発明の結合剤配向型系中使用するのK特に好適な液体
単量体は、デカンジオールジアクリレート、アクリル酸
イソ−ボルニル、トリエチレングリフールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、アクリル酸エトキシエ
トキシエチル、エトキシル化トリメチロールプロノンの
トリアクリレートエステル、並びIC1−ビニル−2−
ピロリジノンを包含する。
単量体は、デカンジオールジアクリレート、アクリル酸
イソ−ボルニル、トリエチレングリフールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、アクリル酸エトキシエ
トキシエチル、エトキシル化トリメチロールプロノンの
トリアクリレートエステル、並びIC1−ビニル−2−
ピロリジノンを包含する。
結合剤配向型系中有用である単量体は液体であるが、そ
れらは、同じ型の第2の固体単量体、側光ばN−ビニル
カプロラクタムと混合して使用してよい。
れらは、同じ型の第2の固体単量体、側光ばN−ビニル
カプロラクタムと混合して使用してよい。
結合剤配向型系の溶媒可溶性重合体材料又は結合剤は、
その重合体構造中フェニル、フェノキシ、ナフチル、ナ
フチロキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族
、塩素、臭素及びそれらの混合物よりなる群からとられ
る部分を有する。この群に均等と企図されているのは、
結合剤が溶媒可溶性及び熱可塑性で保たれるかぎり、置
換分が低級アルキル、アルコキシ、ヒPロキシ、カルボ
キシ、カルボニル 7 ミFl。
その重合体構造中フェニル、フェノキシ、ナフチル、ナ
フチロキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族
、塩素、臭素及びそれらの混合物よりなる群からとられ
る部分を有する。この群に均等と企図されているのは、
結合剤が溶媒可溶性及び熱可塑性で保たれるかぎり、置
換分が低級アルキル、アルコキシ、ヒPロキシ、カルボ
キシ、カルボニル 7 ミFl。
イミド又はそれらの組合せであってよい置換された群で
ある。この部分は、重合体結合剤を構成する単量体単位
の一部を形成してよく、或いは予め製造された重合体又
はインターポリマー上グラフトされてよい。この型の結
合剤は、単独重合体であってよく、或いは2つ又はそれ
以上の別の単量体単位のインターポリマー(ただし単量
体単位の少なくとも1つは、上に挙げた部分のうち1つ
を含有する)であってよい。
ある。この部分は、重合体結合剤を構成する単量体単位
の一部を形成してよく、或いは予め製造された重合体又
はインターポリマー上グラフトされてよい。この型の結
合剤は、単独重合体であってよく、或いは2つ又はそれ
以上の別の単量体単位のインターポリマー(ただし単量
体単位の少なくとも1つは、上に挙げた部分のうち1つ
を含有する)であってよい。
溶媒可溶性、熱可塑性重合体又はインターポリマーであ
るこの類の適当な結合剤は、単独でか又は互に組合せて
使用することができ、次のものを包含する:ポリスチレ
ン重合体、並びに例えば、アクリロニトリル、無水マレ
イン酸、アクリル酸、メタクリル酸及びそのエステルと
の共重合体;塩化ビニリデン共重合体、例えば、塩化ビ
ニリデン/アクリロニトリル;ビニリデンクロリド/メ
タクリレート及び塩化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体
;ポリ塩化ビニル及び共重合体、例えば、ポリビニルク
ロIJ)’/7−にテート;ポリビニルベンザル合成ゴ
ム、例エバ、ブタ・クエン/アクリロニトリル、アクリ
ロニトリル/ブタジェン/スチレン、メタクリレート/
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重合体、2
−クロロブタジェン−1,3重合体、塩素化ゴム、並び
にスチレン/ブタジェン/スチレン、スチレン/イソプ
レン/スチレンブロック共重合体;コポリエステル、例
えば、弐E(O(CH2)nOH(式中nは、2〜10
の整数である)のポリメチレングリコール、並びに(1
)ヘキサヒPロチレフタル酸、セバシン酸及びテレフタ
ル酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸及びセバシン
酸、(3)テレフタル酸及びセバシン酸、(4)テレフ
タル酸及びイソフタル酸の反応生成物から製造されたも
の、並びに(5)該グリコール及び(11テレフタル酸
、イソフタル酸及びセバシン酸及びI11テレフタル酸
、イソフタル酸、セバシン酸及びアジピン酸から製造さ
れたコポリエステルの混合物;セルロースエーテル、例
えハ、エチルベンジルセルロース;ボ17 N −ヒニ
ルカルパゾール及びその共重合体;並びにH,カモガワ
らにEdition 、、18巻、9〜18頁(197
9)中間水されているようなカルバゾール含有重合体。
るこの類の適当な結合剤は、単独でか又は互に組合せて
使用することができ、次のものを包含する:ポリスチレ
ン重合体、並びに例えば、アクリロニトリル、無水マレ
イン酸、アクリル酸、メタクリル酸及びそのエステルと
の共重合体;塩化ビニリデン共重合体、例えば、塩化ビ
ニリデン/アクリロニトリル;ビニリデンクロリド/メ
タクリレート及び塩化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体
;ポリ塩化ビニル及び共重合体、例えば、ポリビニルク
ロIJ)’/7−にテート;ポリビニルベンザル合成ゴ
ム、例エバ、ブタ・クエン/アクリロニトリル、アクリ
ロニトリル/ブタジェン/スチレン、メタクリレート/
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重合体、2
−クロロブタジェン−1,3重合体、塩素化ゴム、並び
にスチレン/ブタジェン/スチレン、スチレン/イソプ
レン/スチレンブロック共重合体;コポリエステル、例
えば、弐E(O(CH2)nOH(式中nは、2〜10
の整数である)のポリメチレングリコール、並びに(1
)ヘキサヒPロチレフタル酸、セバシン酸及びテレフタ
ル酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸及びセバシン
酸、(3)テレフタル酸及びセバシン酸、(4)テレフ
タル酸及びイソフタル酸の反応生成物から製造されたも
の、並びに(5)該グリコール及び(11テレフタル酸
、イソフタル酸及びセバシン酸及びI11テレフタル酸
、イソフタル酸、セバシン酸及びアジピン酸から製造さ
れたコポリエステルの混合物;セルロースエーテル、例
えハ、エチルベンジルセルロース;ボ17 N −ヒニ
ルカルパゾール及びその共重合体;並びにH,カモガワ
らにEdition 、、18巻、9〜18頁(197
9)中間水されているようなカルバゾール含有重合体。
結合剤配向型系中に使用するのに%に好適な結合剤は、
ポリスチレン、ポリ(スチレン/アクリロニトリル)、
ポリ(スチレン/メタクリル酸メチル)、並びにポリビ
ニルペンデル及びそれらの混合物を包含する。
ポリスチレン、ポリ(スチレン/アクリロニトリル)、
ポリ(スチレン/メタクリル酸メチル)、並びにポリビ
ニルペンデル及びそれらの混合物を包含する。
化学作用放射線によって活性化可能な同じ光開始剤系を
、単量体配向型系か又は結合剤配向型系の一方において
使用してよい。典型的にはこの光開始剤系は、光開始剤
及び特殊な用途を有する区域、例えば、近紫外域及びレ
ーザーが発生する可視スペクトル域中にスペクトル反応
を延ばす増感剤を含有する。
、単量体配向型系か又は結合剤配向型系の一方において
使用してよい。典型的にはこの光開始剤系は、光開始剤
及び特殊な用途を有する区域、例えば、近紫外域及びレ
ーザーが発生する可視スペクトル域中にスペクトル反応
を延ばす増感剤を含有する。
化学作用光によって活性化可能であり、185℃以下に
おいて熱不活性である、適当な遊離ラジカル発生付加重
合開始剤は、共役炭素環状環系中2つの環内炭素原子を
有する化合物である置換又は非置換多核キノン、例えば
、9,10−アンスラキノン、1−クロロアンスラキノ
ン、2−クロロアンスラキノン、2−メチルアンスラキ
ノン、2−エチルアンスラキノン、2−三級−ブチルア
ンスラキノン、オクタメチルアンスラキノン、1,4−
ナフトキノン、9,10−フェナンスレンキノン、1.
2−ベンズアンスラキノン、2.3−ベンズアンスラキ
ノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジ
クロロナフトキノン、1.4− ・ジメチルアンスラキ
ノン、2,3−ジメチルアンスラキノン、2−フェニル
アンスラキノン、2.3−ジメチルアンスラキノン、ア
ンスラキノンアルファースルホン酸のナトリウム塩、3
−クロロ−2−メチルアンスラキノン、レテネキノン%
7,8.9.10−テトラヒPロナフタセンキノン、並
びに1.2,3.4−テトラヒPロペンズ(alアンス
ラセン−7,12−・ジオンを包含する。同じく有用で
ある他の光開始剤(中には85℃の温度において熱活性
であるものがあるが)が米国特許2,760.863中
記載され、ベンゾイン、ピパロイン、アシロインエーテ
ル、例エバ、ベンゾインメチル及びエチルエーテルのよ
うな隣接ケトブルPニルアルコール;α−メチルベンゾ
イン、α−アリルベンゾイン及ヒα−フェニルベンゾイ
ンを含む、α−炭化水素置換芳香族アシロインを包含す
る。米国特許2,850.445;2.875,047
;3,097.096 ;3,074,974 ;3
,097,097;!1,145.104及び3.57
9.339中開示されているもののような、光還元性色
素及び還元剤−並びにフェナジン、オキサジン、並びに
キノン類の色素;ミチュラーのケトン、ベンゾフェノン
;米国特許:3,42ス161 ; 3,479,18
5 ; 3,549,367 ;4.311,783
; 4:622,2s6;並びに3,784,557
中記載されている水素ドナーと共に2.4.5− トリ
フェニルイミダゾイル2量体を開始剤として使用するこ
とができる。色素増感光重合は、Adv、inPhot
ochemistry、 13巻、 D、H,グオル7
ン、 G、S、″モンr及びに、ゴリニツク編、ウィリ
ー−インターサイエンス、ニューヨーク、1989.4
27〜487頁中り、F、イートンによる「色素増感光
重合」中に見出すことができる。同様に米国特許4.5
41,860号のシクロヘキサ・フェノン化合物が開始
剤として有用である。好適な光開始剤は、CDM −H
ABI 、即ち、2−(0−クロロフェニル)−4,5
−ビス(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体;
o −C1−HA3I 、即ち、1,1′−ビイミダ
ゾール、2,2′−ヒス(0−クロロフェニル) −4
,4’、5.5’−テトラフェニルー:並びにTCTM
−HABI 、即ち、1H−イミダゾール、2,5−
ビス(0−クロロフェニル) −4−3,4−・ジメト
キシフェニル−2量体(そのおのおのは、典型的には水
素ドナー、例えば、2−メルカプトベンズオキサゾール
と共に使用される)を包含する。
おいて熱不活性である、適当な遊離ラジカル発生付加重
合開始剤は、共役炭素環状環系中2つの環内炭素原子を
有する化合物である置換又は非置換多核キノン、例えば
、9,10−アンスラキノン、1−クロロアンスラキノ
ン、2−クロロアンスラキノン、2−メチルアンスラキ
ノン、2−エチルアンスラキノン、2−三級−ブチルア
ンスラキノン、オクタメチルアンスラキノン、1,4−
ナフトキノン、9,10−フェナンスレンキノン、1.
2−ベンズアンスラキノン、2.3−ベンズアンスラキ
ノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジ
クロロナフトキノン、1.4− ・ジメチルアンスラキ
ノン、2,3−ジメチルアンスラキノン、2−フェニル
アンスラキノン、2.3−ジメチルアンスラキノン、ア
ンスラキノンアルファースルホン酸のナトリウム塩、3
−クロロ−2−メチルアンスラキノン、レテネキノン%
7,8.9.10−テトラヒPロナフタセンキノン、並
びに1.2,3.4−テトラヒPロペンズ(alアンス
ラセン−7,12−・ジオンを包含する。同じく有用で
ある他の光開始剤(中には85℃の温度において熱活性
であるものがあるが)が米国特許2,760.863中
記載され、ベンゾイン、ピパロイン、アシロインエーテ
ル、例エバ、ベンゾインメチル及びエチルエーテルのよ
うな隣接ケトブルPニルアルコール;α−メチルベンゾ
イン、α−アリルベンゾイン及ヒα−フェニルベンゾイ
ンを含む、α−炭化水素置換芳香族アシロインを包含す
る。米国特許2,850.445;2.875,047
;3,097.096 ;3,074,974 ;3
,097,097;!1,145.104及び3.57
9.339中開示されているもののような、光還元性色
素及び還元剤−並びにフェナジン、オキサジン、並びに
キノン類の色素;ミチュラーのケトン、ベンゾフェノン
;米国特許:3,42ス161 ; 3,479,18
5 ; 3,549,367 ;4.311,783
; 4:622,2s6;並びに3,784,557
中記載されている水素ドナーと共に2.4.5− トリ
フェニルイミダゾイル2量体を開始剤として使用するこ
とができる。色素増感光重合は、Adv、inPhot
ochemistry、 13巻、 D、H,グオル7
ン、 G、S、″モンr及びに、ゴリニツク編、ウィリ
ー−インターサイエンス、ニューヨーク、1989.4
27〜487頁中り、F、イートンによる「色素増感光
重合」中に見出すことができる。同様に米国特許4.5
41,860号のシクロヘキサ・フェノン化合物が開始
剤として有用である。好適な光開始剤は、CDM −H
ABI 、即ち、2−(0−クロロフェニル)−4,5
−ビス(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体;
o −C1−HA3I 、即ち、1,1′−ビイミダ
ゾール、2,2′−ヒス(0−クロロフェニル) −4
,4’、5.5’−テトラフェニルー:並びにTCTM
−HABI 、即ち、1H−イミダゾール、2,5−
ビス(0−クロロフェニル) −4−3,4−・ジメト
キシフェニル−2量体(そのおのおのは、典型的には水
素ドナー、例えば、2−メルカプトベンズオキサゾール
と共に使用される)を包含する。
光開始剤と共に有用である増感剤は、メチレンブルー及
び米国特許3,554,753 ;3,563,750
;3.563,751 ;3,647,467165
2,275 ;4,162,162;4.26B、66
7 ;4,351,893 ;4,454,218 ;
4,535.052;並びに4,565,769(その
おのおのは、参考文献として明細書に組入れられる)中
に開始されているものを包含する。
び米国特許3,554,753 ;3,563,750
;3.563,751 ;3,647,467165
2,275 ;4,162,162;4.26B、66
7 ;4,351,893 ;4,454,218 ;
4,535.052;並びに4,565,769(その
おのおのは、参考文献として明細書に組入れられる)中
に開始されているものを包含する。
好適な増感剤は次のものを包含する:
DEC1即チ、シクロヘキサノン、2.5−ビス(C4
−(ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル〕メチレン
); DEAW 、即’Ill>、シクロペンタノン、2,5
−ビス((4−(−、’エチルアミノ)フェニル〕メチ
レン;並びに 、ジメトキシ−JD丁、即ち、1H−インデン−1−オ
ン、2.3−−)ヒrロー5,6−シメトキシー2−
(C2+3.6.7−fト5と)”0− IH,5I(
−インタ(i、j)キノリジン−9−イル)メチレン〕
これらはそれぞれ次の構造を有する: BC DEAW Dime thoxy−JDI 本発明の固体光重合性組成物は、結像した組成物の屈折
率変調を増強するために可塑剤を含有していてよい。可
塑剤は、典型的には組成物の重量でおよそ2%〜およそ
25%、好適には5〜およそ15重量%の変動量で使用
されてよい。適当な可塑剤は、トリエチレングリコール
、トリエチレングリコールジアセテート、トリエチレン
グリコールジプロピオネート、トリエチレングリコール
シカプリレート、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサ
ノエート)、テトラエチレングリコールジヘデタノエー
ト、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(エチレングリ
コール)メチルエーテル、イソゾロビルナフタレン、ジ
イソプロピルナフタレン、ポリ(プロピレングリコール
)、トリ酪酸グリセリル、アジピン酸ジエチル、セバシ
ン酸ジエチル、スペリン酸・ノブチル、燐酸トリブチル
、燐酸トリス(2−エチルヘキシル)、ブリ・シュ(B
rij )@30 (C+2H25(OCHzCH2)
40H) 、並びにブリシュ■35(C12H25(O
CH2CH2)2oOH)を包含する。これら可塑剤の
多くは次の一般式によって表わすことができR3(○C
H2CHR4)7.OH (式中R1及びR2のおのおのは、1〜10の炭素原子
のアルキル基である;R3ば、H又は8〜16の炭素原
子を有するアルキル基であり、R4ば、H又はCH3で
ある;Xは1〜4である;yば2〜10であり、2は1
〜20である)。単純セルロースアセテート系中使用す
るのに特に好適な系は、トリエチレングリコールシカブ
リレート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート
、アジピン酸・ジエチル、ブリ・シュ■30及び燐酸ト
リス(2−エチルヘキシル)である。同様に、セルロー
スアセテートブチレートが結合剤である「単量体配向型
系」中トリエチレングリコールシカプリレート、アジピ
ン酸ジエチル、ブリシュ@30、並びに燐酸トリス(2
−エチルヘキシル)が好適である。
−(ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル〕メチレン
); DEAW 、即’Ill>、シクロペンタノン、2,5
−ビス((4−(−、’エチルアミノ)フェニル〕メチ
レン;並びに 、ジメトキシ−JD丁、即ち、1H−インデン−1−オ
ン、2.3−−)ヒrロー5,6−シメトキシー2−
(C2+3.6.7−fト5と)”0− IH,5I(
−インタ(i、j)キノリジン−9−イル)メチレン〕
これらはそれぞれ次の構造を有する: BC DEAW Dime thoxy−JDI 本発明の固体光重合性組成物は、結像した組成物の屈折
率変調を増強するために可塑剤を含有していてよい。可
塑剤は、典型的には組成物の重量でおよそ2%〜およそ
25%、好適には5〜およそ15重量%の変動量で使用
されてよい。適当な可塑剤は、トリエチレングリコール
、トリエチレングリコールジアセテート、トリエチレン
グリコールジプロピオネート、トリエチレングリコール
シカプリレート、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサ
ノエート)、テトラエチレングリコールジヘデタノエー
ト、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(エチレングリ
コール)メチルエーテル、イソゾロビルナフタレン、ジ
イソプロピルナフタレン、ポリ(プロピレングリコール
)、トリ酪酸グリセリル、アジピン酸ジエチル、セバシ
ン酸ジエチル、スペリン酸・ノブチル、燐酸トリブチル
、燐酸トリス(2−エチルヘキシル)、ブリ・シュ(B
rij )@30 (C+2H25(OCHzCH2)
40H) 、並びにブリシュ■35(C12H25(O
CH2CH2)2oOH)を包含する。これら可塑剤の
多くは次の一般式によって表わすことができR3(○C
H2CHR4)7.OH (式中R1及びR2のおのおのは、1〜10の炭素原子
のアルキル基である;R3ば、H又は8〜16の炭素原
子を有するアルキル基であり、R4ば、H又はCH3で
ある;Xは1〜4である;yば2〜10であり、2は1
〜20である)。単純セルロースアセテート系中使用す
るのに特に好適な系は、トリエチレングリコールシカブ
リレート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート
、アジピン酸・ジエチル、ブリ・シュ■30及び燐酸ト
リス(2−エチルヘキシル)である。同様に、セルロー
スアセテートブチレートが結合剤である「単量体配向型
系」中トリエチレングリコールシカプリレート、アジピ
ン酸ジエチル、ブリシュ@30、並びに燐酸トリス(2
−エチルヘキシル)が好適である。
均等な結果を生じる他の可塑剤は、当該技術熟練者に明
らかであり、本発明に従って用いられてよい。可塑剤及
び単量体の混合物が液体で保たれるかぎり、固体単量体
が存在する場合には、可塑剤を液体単量体のうち若干又
は全部と置換してよいことが認められる。光重合体中使
用される他の常用の成分を、所望の場合には本発明の組
成物及びエレメントと共に利用してよい。上記の成分は
次のものを包含する二元学的増白剤、紫外線吸収剤、熱
安定剤、水素ドナー酸素スカペン・ジャー及びはく離削
。
らかであり、本発明に従って用いられてよい。可塑剤及
び単量体の混合物が液体で保たれるかぎり、固体単量体
が存在する場合には、可塑剤を液体単量体のうち若干又
は全部と置換してよいことが認められる。光重合体中使
用される他の常用の成分を、所望の場合には本発明の組
成物及びエレメントと共に利用してよい。上記の成分は
次のものを包含する二元学的増白剤、紫外線吸収剤、熱
安定剤、水素ドナー酸素スカペン・ジャー及びはく離削
。
本発明の方法中有用な光学的増白剤は、ヘルPの米国特
許3,854,950(参考文献として明細書に組入れ
られる)中開示されているものを包含する。好適な光学
的増白剤は、7− (4’−クロロ−6フージーエチル
アミノー1’、3’、5’−)リア):y−4’−イル
)アミノ3−フェニルクマリンである。本発明中有用な
紫外線吸収剤も、ヘルPの米国特許3,854,950
中開示されている。
許3,854,950(参考文献として明細書に組入れ
られる)中開示されているものを包含する。好適な光学
的増白剤は、7− (4’−クロロ−6フージーエチル
アミノー1’、3’、5’−)リア):y−4’−イル
)アミノ3−フェニルクマリンである。本発明中有用な
紫外線吸収剤も、ヘルPの米国特許3,854,950
中開示されている。
有用な熱安定剤は次のものを包含する:ヒrロキノン、
フェニドン、p−メトキシフェノール、アルキル及びア
リール置換ヒPロキノン及びキノン、三級ブチルカテコ
ール、ピロガロール、レジン酸銅、ナフチルアミン、ベ
ーターナフトール、塩化第一銅、2,6−ジー三級ブチ
ルp−クレゾール、フェノチア・ジン、ピリジン、ニト
ロベンゼン、ジニトロベンゼン、p−)ルキノン及びフ
ロラニール。パゾスの米国特許4.168,982(参
考文献として明細書に組入れられる)中記載されている
ジニトロソ2量体も有用である。普通は光重合性組成物
の貯蔵の際安定性を増大させるために熱重合阻止剤が存
在する。
フェニドン、p−メトキシフェノール、アルキル及びア
リール置換ヒPロキノン及びキノン、三級ブチルカテコ
ール、ピロガロール、レジン酸銅、ナフチルアミン、ベ
ーターナフトール、塩化第一銅、2,6−ジー三級ブチ
ルp−クレゾール、フェノチア・ジン、ピリジン、ニト
ロベンゼン、ジニトロベンゼン、p−)ルキノン及びフ
ロラニール。パゾスの米国特許4.168,982(参
考文献として明細書に組入れられる)中記載されている
ジニトロソ2量体も有用である。普通は光重合性組成物
の貯蔵の際安定性を増大させるために熱重合阻止剤が存
在する。
この光重合体組成物中連鎖移動剤として有用である水素
rナー化合物は次のものを包含する:2−メルカプトベ
ンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等
;並びに種々の型の化合物、例えば、フックラチュラン
の米国特許3.590,9960カラム12.18〜5
8行(参考文献として明細書に組入れられる)中間水さ
れている(alエーテル、(blエステル、(C)アル
コール、(a)アリル系又はベンジル系水素クメンを含
有する化合物、(e)アセタール、(flアルデヒド及
び(glアミド。
rナー化合物は次のものを包含する:2−メルカプトベ
ンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等
;並びに種々の型の化合物、例えば、フックラチュラン
の米国特許3.590,9960カラム12.18〜5
8行(参考文献として明細書に組入れられる)中間水さ
れている(alエーテル、(blエステル、(C)アル
コール、(a)アリル系又はベンジル系水素クメンを含
有する化合物、(e)アセタール、(flアルデヒド及
び(glアミド。
はく離剤として有用であることが見出されている化合物
は、バウアーの米国特許4,326,010(参考文献
として明細書に組入れられる)ll′c記載されている
。有用なはく離剤はポリカプロラクトンである。
は、バウアーの米国特許4,326,010(参考文献
として明細書に組入れられる)ll′c記載されている
。有用なはく離剤はポリカプロラクトンである。
光重合性組成物中の成分の量は、光重合性の層の全重量
を基にして一般に次の百分率の範囲内である:単量体、
5〜60%、好適VCは15〜50%:開始剤0.1〜
10%、好適には1〜5%:結合剤、25〜75%、好
適には45〜65%;可塑剤、0〜25%、好適には5
〜15%;並びに他の成分O〜5%。
を基にして一般に次の百分率の範囲内である:単量体、
5〜60%、好適VCは15〜50%:開始剤0.1〜
10%、好適には1〜5%:結合剤、25〜75%、好
適には45〜65%;可塑剤、0〜25%、好適には5
〜15%;並びに他の成分O〜5%。
本発明は、次の実施例について更に説明される。
一般操作
試料の調製
可視増感剤、別に示されないかぎりDEAWのない被覆
溶液を黄色又は赤色光下に調製した。
溶液を黄色又は赤色光下に調製した。
可視増感剤の添加後、溶液及び得られた被覆についての
全操作を赤色光下でのみ実施した。それらを光から更に
保護するために、溶液は、こはく色のびんの中で調製、
貯蔵された。溶液は、溶媒に成分を添加し、次にそれら
が完全に溶解するまで機械攪拌機で混合することによっ
て調製された。使用された溶媒は次のものであったニジ
クロロメタン;ジクロロメタン(80〜85重量%)、
クロロホルム(10%)及びメタノール(5〜10%)
の混合物;或いはジクロロメタン(90〜92%)及び
2−ブタノン(8〜10%)。使用直前に酸化アルミニ
ウム(活性−1)上クロマトグラフ処理された単量体T
DAを除いて、すべての溶液の成分は、精製することな
しに製造者から受取ったままで使用された。
全操作を赤色光下でのみ実施した。それらを光から更に
保護するために、溶液は、こはく色のびんの中で調製、
貯蔵された。溶液は、溶媒に成分を添加し、次にそれら
が完全に溶解するまで機械攪拌機で混合することによっ
て調製された。使用された溶媒は次のものであったニジ
クロロメタン;ジクロロメタン(80〜85重量%)、
クロロホルム(10%)及びメタノール(5〜10%)
の混合物;或いはジクロロメタン(90〜92%)及び
2−ブタノン(8〜10%)。使用直前に酸化アルミニ
ウム(活性−1)上クロマトグラフ処理された単量体T
DAを除いて、すべての溶液の成分は、精製することな
しに製造者から受取ったままで使用された。
Pフタ−ナイフ、50〜75℃にセットされた12フイ
ートのドライヤー、並びにラミネーターステーションを
備えたタルボーイ(Talboy)のコーターを使用し
て8 fpmのウェブ速度でポリエチレンテレフタレー
ト〔クロナール(Cro−nar )@C72又は40
0D−fイラー(Mylar)■〕の透明フィルム支持
体上に溶液を被覆した。乾燥後被覆1c1ミルのポリプ
ロピレンのカバーシートラ積層した。被膜の試料は、使
用されるまで黒色ポリエチレンの袋中に室温で貯蔵され
た。試料の調製の際使用された化学成分の同定は、以下
の「化学名の用語解」に含まれる。
ートのドライヤー、並びにラミネーターステーションを
備えたタルボーイ(Talboy)のコーターを使用し
て8 fpmのウェブ速度でポリエチレンテレフタレー
ト〔クロナール(Cro−nar )@C72又は40
0D−fイラー(Mylar)■〕の透明フィルム支持
体上に溶液を被覆した。乾燥後被覆1c1ミルのポリプ
ロピレンのカバーシートラ積層した。被膜の試料は、使
用されるまで黒色ポリエチレンの袋中に室温で貯蔵され
た。試料の調製の際使用された化学成分の同定は、以下
の「化学名の用語解」に含まれる。
試料の評価
被覆されたフィルムの断片を切り、カバーシートを除き
、次にガラスの表面に粘着性の被膜を直接子で積層する
ことによって4×5インチのガラスプレート上に取付け
た。ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体はその
まま残し、取扱い及び露光操作の開被膜の保護として役
立たせた。
、次にガラスの表面に粘着性の被膜を直接子で積層する
ことによって4×5インチのガラスプレート上に取付け
た。ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体はその
まま残し、取扱い及び露光操作の開被膜の保護として役
立たせた。
一連のホログラフィ−回折格子を記録し、その効率を決
定することによってガラスに取付けた被膜を評価した。
定することによってガラスに取付けた被膜を評価した。
488 nm及びTEMooにおいて操作されるアルゴ
ンイオンレーザ−の2つの干渉コリメーター処理ビーム
の交差における化学作用露光によって格子が得られた。
ンイオンレーザ−の2つの干渉コリメーター処理ビーム
の交差における化学作用露光によって格子が得られた。
図参照。ビーム強度比はおよそ1:1に保たれ、絶対強
度は3〜” mW/m2の範囲であった。各光束の直径
はおよそ1cMであった。露光時間は、系によって異な
るが、およそ1秒〜数分の範囲であり、12、5〜2.
000 mJ/cm2の全露光に相当した。上述した像
露光の1分後、この2つの488 nmのレーデ−ビー
ムの一方を使用して各格子VC1〜2分の固定露光を加
えた。格子の形成は、ブラッグ角において露光領域の中
心に632.8HmのHe:Neレーザービームを通す
ことによって実時間で測定された。He : Neレー
ザービームの強度は、ストリツデチャートレコー〆一に
連結されている干渉モデル212パワーメーターt−用
いてモニターされた。このようにして得られたグレーテ
ィングは、■あたりおよそ1000ライン、即ち、■あ
たり900〜1100ラインの空間ライン頻度を有して
いる。回折効率(η)は、被膜を通過した後の露光前の
回折されていなし・光束強度(工。)に対する回折され
たビーム強度(工diff)の比:η:Idiff/
I。
度は3〜” mW/m2の範囲であった。各光束の直径
はおよそ1cMであった。露光時間は、系によって異な
るが、およそ1秒〜数分の範囲であり、12、5〜2.
000 mJ/cm2の全露光に相当した。上述した像
露光の1分後、この2つの488 nmのレーデ−ビー
ムの一方を使用して各格子VC1〜2分の固定露光を加
えた。格子の形成は、ブラッグ角において露光領域の中
心に632.8HmのHe:Neレーザービームを通す
ことによって実時間で測定された。He : Neレー
ザービームの強度は、ストリツデチャートレコー〆一に
連結されている干渉モデル212パワーメーターt−用
いてモニターされた。このようにして得られたグレーテ
ィングは、■あたりおよそ1000ライン、即ち、■あ
たり900〜1100ラインの空間ライン頻度を有して
いる。回折効率(η)は、被膜を通過した後の露光前の
回折されていなし・光束強度(工。)に対する回折され
たビーム強度(工diff)の比:η:Idiff/
I。
として計算された。一連の露光時間を使用し、最大ηを
決定することができた。スローン(Slcan)DEK
TAK 3030 表面プロフィルモニタリング系か又
はブラウン及びシャープ(Brown and 8ha
rpe)モデル975電子コンパレーターの一方を使用
して光硬化された試料について被膜の厚さを測定した。
決定することができた。スローン(Slcan)DEK
TAK 3030 表面プロフィルモニタリング系か又
はブラウン及びシャープ(Brown and 8ha
rpe)モデル975電子コンパレーターの一方を使用
して光硬化された試料について被膜の厚さを測定した。
各試料について、前に説明されたコゲルニクのカップル
波理論を使用して測定された回折効率及び被膜の厚さか
ら記録されたグレーティング中屈折率変調を計算した。
波理論を使用して測定された回折効率及び被膜の厚さか
ら記録されたグレーティング中屈折率変調を計算した。
化学名の用語解
BHT 2,6−・クー三級ブチ
ル−4−メチルフェノール CAB セルロースアセテートブ
チレート53℃ o−C2−HABl 1.1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス〔0−クロ
ロフェニル)−4,4′。
ル−4−メチルフェノール CAB セルロースアセテートブ
チレート53℃ o−C2−HABl 1.1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス〔0−クロ
ロフェニル)−4,4′。
5.5′−テトラフェニル−; CA31707PA
アクリル酸p−クロロフェニル
P19−Y
90:10ポリ(メタクリル酸メチ
ル−メタクリル酸)
DA
1.10−デカンジオールジアクリレ
ート
チレン) ; CA838594−53−5ジメトキシ
−JDl 1H−インデン−1−オン、2,3− ジヒPロー5,6−シメトキシー2− ((2,3,6,7−テトラヒドローIH。
−JDl 1H−インデン−1−オン、2,3− ジヒPロー5,6−シメトキシー2− ((2,3,6,7−テトラヒドローIH。
5H−ベンゾ(i、j)キノリジン−9−イル)メチレ
ン) −; CAS80867−05−(S エルパサイト■2008 (Elvacit、e) 98:2ポリ(メタクリル酸メチル −メタクリル酸);分子量=25,00057℃ 1H,IH−PFOA アクリル酸IH,IH−パーフルオロ オクチル 1H,IH,2H,,2H− PFOMA HQ BO N′VC OEA TCTM−HABI DC DA TMPEO’rA メタクリル酸IH,IH,2H,2H−パーフルオロオ
クチル 4−メトキシフェノール 2−メルカプトベンズオキサゾール: 2−ベンズオキサゾールチオール; CA32582−96−9 N−ビニルカルバゾール;9−ビニ ルカルバゾール;CA81484−13−5アクリル酸
フェニル;2−7’ロペン 酸、フェニルエステル; CAS 957−アクリル酸
2−フェノキシエチル; CAS 48145−04−6 1H−イミダゾール、2.5−ビス 〔○−クロロフェニル) −4−(3,4−ジメトキシ
フェニルクー12量体; CAS 79070−04−5 トリエチレングリコールシカプリレ ート; CAS106−10−5 トリエチレングリコールジアクリレ ート;CAS1680−21−3 エトキシル化トリメチロールデロノぐ ンのトリアクリレートエステル; CAS 28961−43−5 TMPTMA )リメチロールデロパ
ントリメタク対照例 A〜工 次の例は、セルロースアセテートブチレート結合剤(イ
ーストマンC’ABす531−1)、ヘキサアリールビ
イミダゾール/色素−増感剤開始剤系及び種々の単量体
を使用する代表的な先行技術の組成物を例示する。
ン) −; CAS80867−05−(S エルパサイト■2008 (Elvacit、e) 98:2ポリ(メタクリル酸メチル −メタクリル酸);分子量=25,00057℃ 1H,IH−PFOA アクリル酸IH,IH−パーフルオロ オクチル 1H,IH,2H,,2H− PFOMA HQ BO N′VC OEA TCTM−HABI DC DA TMPEO’rA メタクリル酸IH,IH,2H,2H−パーフルオロオ
クチル 4−メトキシフェノール 2−メルカプトベンズオキサゾール: 2−ベンズオキサゾールチオール; CA32582−96−9 N−ビニルカルバゾール;9−ビニ ルカルバゾール;CA81484−13−5アクリル酸
フェニル;2−7’ロペン 酸、フェニルエステル; CAS 957−アクリル酸
2−フェノキシエチル; CAS 48145−04−6 1H−イミダゾール、2.5−ビス 〔○−クロロフェニル) −4−(3,4−ジメトキシ
フェニルクー12量体; CAS 79070−04−5 トリエチレングリコールシカプリレ ート; CAS106−10−5 トリエチレングリコールジアクリレ ート;CAS1680−21−3 エトキシル化トリメチロールデロノぐ ンのトリアクリレートエステル; CAS 28961−43−5 TMPTMA )リメチロールデロパ
ントリメタク対照例 A〜工 次の例は、セルロースアセテートブチレート結合剤(イ
ーストマンC’ABす531−1)、ヘキサアリールビ
イミダゾール/色素−増感剤開始剤系及び種々の単量体
を使用する代表的な先行技術の組成物を例示する。
次のとおり一般操作に従って光重合性組成物を調製した
ニア87のジクロロメタン、12.5f(固体の50.
4%)のCAB 531−1 、11.55’ (46
,4%)の単量体、0.45P(1,89%)の■○、
0.3f(1,29%)のo−Ct−HABI、0.0
7〜0.28%のDEAW(厚さによって変る)及び・
ジクロロメタン1 mLに溶解した0、0025fのB
HT 。
ニア87のジクロロメタン、12.5f(固体の50.
4%)のCAB 531−1 、11.55’ (46
,4%)の単量体、0.45P(1,89%)の■○、
0.3f(1,29%)のo−Ct−HABI、0.0
7〜0.28%のDEAW(厚さによって変る)及び・
ジクロロメタン1 mLに溶解した0、0025fのB
HT 。
これらの組成物は、一般操作に従って評価された。得ら
れたホログラフィ−回折格子について測定した屈折率変
調及び回折効率を下表に示す。
れたホログラフィ−回折格子について測定した屈折率変
調及び回折効率を下表に示す。
ジアクリレート
ジアクリレート
対照例 J〜0
次の例は、その中で使用される重合体結合剤及び不飽和
単量体が共に1つ又はそれ以上のフェニル又はフェノキ
シ基を有する組成物を例示する。対照例A〜工の場合の
ようにして被覆組成物を調製、評価した。
単量体が共に1つ又はそれ以上のフェニル又はフェノキ
シ基を有する組成物を例示する。対照例A〜工の場合の
ようにして被覆組成物を調製、評価した。
一般操作に従ってこれらの組成物を評価した。
得られたホログラフィ−回折格子について測定した屈折
率変調及び回折効率値を下表に示す。
率変調及び回折効率値を下表に示す。
アクリレート
デカン・ジオールジアクリ
レート
アクリル酸エトキシエト
キシエチル
トリメチロールプロパン
トリアクリレート
アクリル酸イソ−ボルニル
0.18
0.13
0.24
0.20
50.8
48.8
53.8
エチ
ルシエ
チルメタ
クリル
ルエチル
0、46
20、3
メタクリ橿2ーフェニ
ルエチル
0、15
22、9
例 1
この例は、CAB結合剤、ヘキサアリールビイミダゾー
ル、7色素増感剤開始剤系、並びにPOEA単量体を使
用する有用な組成物を例示する。
ル、7色素増感剤開始剤系、並びにPOEA単量体を使
用する有用な組成物を例示する。
次のとおり上に示した一般操作に従って光重合性組成物
を調製したニア81のジクロロメタン、12.59(固
体の50,4優)のCAB−531−1,11,5t
(46,5係)のPOEA、 0.45 ? (1,8
係)のMBOlo、3P(1,2壬) 、、7) TO
TM−HABI 、 0.07CNF(0,34)のD
EAW 、並びにジクロロメタン1 mLに溶解した0
、0025 f (0,01%)のMHQ 0この組成
物を上述した一般操作に従って評価した。この組成物の
11.2ミクロンの被膜は、測定された反射率変y40
.010を有していた。同じ組成物の17.3ミクロン
の被膜は、0.010の測定された屈折率変調を有して
いた。
を調製したニア81のジクロロメタン、12.59(固
体の50,4優)のCAB−531−1,11,5t
(46,5係)のPOEA、 0.45 ? (1,8
係)のMBOlo、3P(1,2壬) 、、7) TO
TM−HABI 、 0.07CNF(0,34)のD
EAW 、並びにジクロロメタン1 mLに溶解した0
、0025 f (0,01%)のMHQ 0この組成
物を上述した一般操作に従って評価した。この組成物の
11.2ミクロンの被膜は、測定された反射率変y40
.010を有していた。同じ組成物の17.3ミクロン
の被膜は、0.010の測定された屈折率変調を有して
いた。
例 2
0.070rのDEAWの代シにDEA’W O,04
Ofを含有したことを除いて、例1の組成物に類傾の組
成物の23.1 ミクロンの被膜は、0.010の測定
された屈折率変調を有していた。
Ofを含有したことを除いて、例1の組成物に類傾の組
成物の23.1 ミクロンの被膜は、0.010の測定
された屈折率変調を有していた。
例 3〜14
これらの例は、CRAB結合剤、ヘキサアリールビイミ
ダゾール/色素増感剤開始剤系、並びに他の光重合性単
量体を使用する他の有用な組成物を例示する。
ダゾール/色素増感剤開始剤系、並びに他の光重合性単
量体を使用する他の有用な組成物を例示する。
POEAO代りに他の光重合性単量体のいくつか、並び
にCABの他の等級を用いて例1の操作に従い、本発明
の実施の際のそれらの有用性を例示した。例3及び4に
おける組成物は、DEAWO,070fを含有していた
:例5〜11における組成物は、DEAW O,040
?を含有していた:文例12及び13における組成物は
、DEAw O,017tを含有していた。使用された
単量体及び結合剤、並びに測定された屈折率変調を下に
示す。
にCABの他の等級を用いて例1の操作に従い、本発明
の実施の際のそれらの有用性を例示した。例3及び4に
おける組成物は、DEAWO,070fを含有していた
:例5〜11における組成物は、DEAW O,040
?を含有していた:文例12及び13における組成物は
、DEAw O,017tを含有していた。使用された
単量体及び結合剤、並びに測定された屈折率変調を下に
示す。
対照例A〜工に比して大きく改善された屈折率変調がこ
れらの例において達成されたことを見ることができる。
れらの例において達成されたことを見ることができる。
屈折率変調 厚さ
例 単 量 体 (xloo) (ミ
クロy) DE(41CAB型531−1 0EA 1.1 17.3 0EA 1.0 23.1 5 メタクリル酸 2−フェノキシエチル 0.77 13.5 メタクリル酸 2−フェノキシエチル 0.55 22.6 P−クロロフェニル アクリル酸 2−フェニルエチル 0.55 CAB型531−1 2.4.6−ドリブロモ PA 9 80係 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80壬 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80憾 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80係 POEA−20係 ペンタクロロ PA 8.9 11.7 21.3 19.1 63チ POEA−37係 ?IJVC 63% POEA−37% N′VC 9,7 10,9 85壬 POEA−15係 VO 35憾 POEA−15チ VC 8,1 10,2 CAB型551−0.2 POEA)、0 CAB型553−0.4 POgA Q、5821.3 24.4 7 アクリル酸フェニル(PA) 0.96 11.7 29.5 例゛15〜19 これらの例は、結合剤としてポリ(メタクリル酸メチル
)及びその共重合体、ヘキサアリールビイミダゾール7
色累増感剤開始剤系、並びK POEA単量体を使用す
る他の有用な組成物を例示する。
クロy) DE(41CAB型531−1 0EA 1.1 17.3 0EA 1.0 23.1 5 メタクリル酸 2−フェノキシエチル 0.77 13.5 メタクリル酸 2−フェノキシエチル 0.55 22.6 P−クロロフェニル アクリル酸 2−フェニルエチル 0.55 CAB型531−1 2.4.6−ドリブロモ PA 9 80係 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80壬 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80憾 POEA−20係 アクリル酸2−ナフチル 80係 POEA−20係 ペンタクロロ PA 8.9 11.7 21.3 19.1 63チ POEA−37係 ?IJVC 63% POEA−37% N′VC 9,7 10,9 85壬 POEA−15係 VO 35憾 POEA−15チ VC 8,1 10,2 CAB型551−0.2 POEA)、0 CAB型553−0.4 POgA Q、5821.3 24.4 7 アクリル酸フェニル(PA) 0.96 11.7 29.5 例゛15〜19 これらの例は、結合剤としてポリ(メタクリル酸メチル
)及びその共重合体、ヘキサアリールビイミダゾール7
色累増感剤開始剤系、並びK POEA単量体を使用す
る他の有用な組成物を例示する。
次の表中水された結合剤が使用されたことを除いて、例
1の操作に従った。これらの例における組成物は、すべ
てDEAW O,017tを含有していた。測定された
屈折率変調は、対照例A〜工におけるよシ有意に高かっ
た。
1の操作に従った。これらの例における組成物は、すべ
てDEAW O,017tを含有していた。測定された
屈折率変調は、対照例A〜工におけるよシ有意に高かっ
た。
エルパサイト■2008
0F−19Y
エルパサイトの2051
カルがセット[F]XL−27
カルゲセツト■525
0.81 27.9
1.0 20.1
1.0 24.1
0.57 28.0
0.89 29.2
例 20〜22
これらの例は、デカンノオールジアクリレー) (DD
A)単量体及びフェニル基を含有する種々の結合剤が使
用される有用な組成物を例示する。
A)単量体及びフェニル基を含有する種々の結合剤が使
用される有用な組成物を例示する。
屈折率変調値は次の表に示さね、対応する対照例E及び
J〜0におけるより有意に高い。
J〜0におけるより有意に高い。
例 20
ポリ(スチレン)、Mn=116,000、M、=30
6.000を結合剤として使用し、DDAを光重合性単
量体として使用したことを除いて例1の操作に従った。
6.000を結合剤として使用し、DDAを光重合性単
量体として使用したことを除いて例1の操作に従った。
例 21
ポリ(スチレン−メタクリル酸メチル)(70:30)
、Mn=10a000、Mw=233,000を結合剤
として使用したことを除いて例1の操作に従った。光重
合性単量体FiDDAであった。この組成物は、DEA
W O,017tを含有していた。
、Mn=10a000、Mw=233,000を結合剤
として使用したことを除いて例1の操作に従った。光重
合性単量体FiDDAであった。この組成物は、DEA
W O,017tを含有していた。
例 22
DDA単量体と共に結合剤としてポリ(スチレン−アク
リロニトリル)が使用されたことを除いて例1の操作に
従った。この組成物け、DEAWO,04(lを含有し
ていた。
リロニトリル)が使用されたことを除いて例1の操作に
従った。この組成物け、DEAWO,04(lを含有し
ていた。
これらの例における組成物は、すべてDEAWo、01
7Fを含有していた。使用された単量体及び測定された
屈折率変調を次の表に示す。これらの結果が対照例より
すぐれている(例えば、例25対対胛例工)ことをMる
ことかできる。
7Fを含有していた。使用された単量体及び測定された
屈折率変調を次の表に示す。これらの結果が対照例より
すぐれている(例えば、例25対対胛例工)ことをMる
ことかできる。
20 ポリ(スチレン) 1.1 2
5.4 921H,IH−PFOA 例 23〜25 これらの例は、プリ(スチレン)結合剤と共に異なった
単量体が使用される他の有用な組成物を例示する。
5.4 921H,IH−PFOA 例 23〜25 これらの例は、プリ(スチレン)結合剤と共に異なった
単量体が使用される他の有用な組成物を例示する。
結合剤としてポリ(スチレン) 、M、=116,00
0、MW=304000が使用され、種々の他の光重合
性単量体が使用されたことを除いて例1の操作に従った
。
0、MW=304000が使用され、種々の他の光重合
性単量体が使用されたことを除いて例1の操作に従った
。
FOMA
25 アクリル酸イン−0,6822,951ゲルニル
例 26〜30
これらの例f)、70:30/す(スチレン−メタクリ
ル酸メチル)結合剤と共に異なった単量体が使用される
他の有用な組成物を例示する。
ル酸メチル)結合剤と共に異なった単量体が使用される
他の有用な組成物を例示する。
結合剤としてポリ(スチレン−メタクリル酸メチル)(
70:30)、Mn=10aOOO1MW=233.0
00が使用され、種々の他の光重合性単量体が使用され
たことを除いて例1の操作に従った。例26〜28にお
ける組成物は、DEAW 0.04Ofを含有していた
二側29〜60における組成物は、DEAW O,01
7?を含有していた。使用された単量体及び測定された
屈折率変調を次の表に示す。
70:30)、Mn=10aOOO1MW=233.0
00が使用され、種々の他の光重合性単量体が使用され
たことを除いて例1の操作に従った。例26〜28にお
ける組成物は、DEAW 0.04Ofを含有していた
二側29〜60における組成物は、DEAW O,01
7?を含有していた。使用された単量体及び測定された
屈折率変調を次の表に示す。
これらの結果は、対照例、特に対照例A、 D、 E。
I%K及びLよりすぐれている。
−ルノアクリレート
27 ジエチレングリコール 0.86 2
2.1 67.5ノアクリレート 28 トリエチレングリコ−0,6718,334ル
ソメタクリレート 29 アクリル酸イソ−〇、65 27.9
64ボルニル 30 TMPEOTA O,52
21,128これらの例H175:25ポリ(スチレン
−アクリロニトリル)結合剤と共に異なった単量体が使
用される他の有用な組成物を例示する。
2.1 67.5ノアクリレート 28 トリエチレングリコ−0,6718,334ル
ソメタクリレート 29 アクリル酸イソ−〇、65 27.9
64ボルニル 30 TMPEOTA O,52
21,128これらの例H175:25ポリ(スチレン
−アクリロニトリル)結合剤と共に異なった単量体が使
用される他の有用な組成物を例示する。
結合剤としてポリ(スチレン−アクリロニトリル)(7
5:25)が使用され、種々の他の光重合性単量体が使
用されたことを除いて例1の操作に従った。例31〜3
2における組成物は、DEAW O,04Ofを含有し
ていた;例33〜36における組成物は、D′FIAW
0.017 fを含有していた。
5:25)が使用され、種々の他の光重合性単量体が使
用されたことを除いて例1の操作に従った。例31〜3
2における組成物は、DEAW O,04Ofを含有し
ていた;例33〜36における組成物は、D′FIAW
0.017 fを含有していた。
使用された単量体及び測定さhた屈折率変調を次の表に
示す。これらの結果は、対照例、特に対照例A、D、
E、I、M、N及び0よシすぐれている。
示す。これらの結果は、対照例、特に対照例A、D、
E、I、M、N及び0よシすぐれている。
例 31〜36
ジアクリレート
1H,IH−PFOA
64 トリエチレングリコール 0.62 2
4.4 48.5ジメタクリレート 35 アクリル酸エトキシ 1.3 20
.3 93エトキシエチル 例 57 この例は、異なった色素増感剤が使用される場合の、7
0:30ポリ(スチレン−メタクリル酸メチル)結合剤
、ヘキサアリール゛ビイミダゾール/色累増感剤開始剤
系、並びにTDA単量体を使用する有用な組成物を例示
する。
4.4 48.5ジメタクリレート 35 アクリル酸エトキシ 1.3 20
.3 93エトキシエチル 例 57 この例は、異なった色素増感剤が使用される場合の、7
0:30ポリ(スチレン−メタクリル酸メチル)結合剤
、ヘキサアリール゛ビイミダゾール/色累増感剤開始剤
系、並びにTDA単量体を使用する有用な組成物を例示
する。
ジクロロメタン882中次のものを溶解り、り:15、
O?(50,4係)のポリ(スチレン−メタクリル酸メ
チル)、11.!M(44,5チ)のTDA、 0.4
5r(1,7%)のMBo、0.87(5,1チ)のT
CTM −HABI、0.066F(0,3係)のジメ
トキシ−JDI、並びだ95%5%ジクロロメタン−メ
タノール1 mLに溶解した0、0025(0,011
) のMHQ、 例1に記載した操作によってこの組
成物を評価した。0.054の屈折率変調が測定された
。
O?(50,4係)のポリ(スチレン−メタクリル酸メ
チル)、11.!M(44,5チ)のTDA、 0.4
5r(1,7%)のMBo、0.87(5,1チ)のT
CTM −HABI、0.066F(0,3係)のジメ
トキシ−JDI、並びだ95%5%ジクロロメタン−メ
タノール1 mLに溶解した0、0025(0,011
) のMHQ、 例1に記載した操作によってこの組
成物を評価した。0.054の屈折率変調が測定された
。
例 38
この例は、増感色素及びアミンを使用して光重合を開示
させる有用な組成物を例示する。
させる有用な組成物を例示する。
95憾ジクロロメタン−5憾メタノール882に次のも
のを溶解した: 13.91(53,8壬)の70:3
0+t?す(スチレン−メタクリル酸メチル)、11.
55’(44,5係)のTDA、 o、s!M(1,3
6壬)のN−フェニルグリシン、α0669(0,31
)のアクリシンオレンジ、並びに95係ジクロロメタン
−5チメタノ一ル1mLに溶解した0、0025(0,
01名)の)、fHQ 。
のを溶解した: 13.91(53,8壬)の70:3
0+t?す(スチレン−メタクリル酸メチル)、11.
55’(44,5係)のTDA、 o、s!M(1,3
6壬)のN−フェニルグリシン、α0669(0,31
)のアクリシンオレンジ、並びに95係ジクロロメタン
−5チメタノ一ル1mLに溶解した0、0025(0,
01名)の)、fHQ 。
例1に記載された操作によってこの組成物を評価した。
0.0054の屈折率変調が測定された。
例 39〜40
これらの例は、TDA可塑剤、POEA単量体、並びに
CAE 531−1結合剤を含有する組成物である。
CAE 531−1結合剤を含有する組成物である。
下に表示されるとおシ、各々異なった量のTDO及びP
OgAを含有し、各々2.679のCAB531−1
(44,8壬)、0.24 fのTCTlvl−HAB
I (4,0係)、0.12 fのMBO(2,0%)
、0.003C1のDEAW(0,05係)、0.0O
o6fのMHQ(0,01係)、1.92の2−ブタノ
ン、並びに17.09rのジクロロメタンを含有する2
種の処方を調製した。これらの処方は、ドクターナイフ
が4ミルの間隙を有し、Pライヤーが40〜50℃にお
いてセットされたことを除いて、例1におけるように被
覆、評価された。屈折率変調は、TDO可塑剤を含有し
ない対応する例1及び2の場合より大きい。
OgAを含有し、各々2.679のCAB531−1
(44,8壬)、0.24 fのTCTlvl−HAB
I (4,0係)、0.12 fのMBO(2,0%)
、0.003C1のDEAW(0,05係)、0.0O
o6fのMHQ(0,01係)、1.92の2−ブタノ
ン、並びに17.09rのジクロロメタンを含有する2
種の処方を調製した。これらの処方は、ドクターナイフ
が4ミルの間隙を有し、Pライヤーが40〜50℃にお
いてセットされたことを除いて、例1におけるように被
覆、評価された。屈折率変調は、TDO可塑剤を含有し
ない対応する例1及び2の場合より大きい。
例 41〜42
これらの例は、TDO可塑剤、CPA単量体、並びにC
!AB 531−1結合剤を含有する有用な組成物であ
る。
!AB 531−1結合剤を含有する有用な組成物であ
る。
下に表示されるとおり、各々の異なった量のTDA及び
CPAを含有し、各々5.349のCAB531−1
(44,8係)、0.48fのTcTM−H/LBI(
4,o嗟)、0、249のMEO(2,0係)、0.0
06C1のDEAW(0,05憾)、0.0012fの
MHQ (0,01チ)、′5.8tの2−ブタノン、
並びに34.18fのジクロロメタンを含有する281
の処方を調製した。例39〜40中記載されているとお
シこれらの処方を被覆、評価した:結果は下の表に示さ
れる。屈折率変調は、TDC可塑剤を含有し彦い対応す
る例5の場合より大きい。
CPAを含有し、各々5.349のCAB531−1
(44,8係)、0.48fのTcTM−H/LBI(
4,o嗟)、0、249のMEO(2,0係)、0.0
06C1のDEAW(0,05憾)、0.0012fの
MHQ (0,01チ)、′5.8tの2−ブタノン、
並びに34.18fのジクロロメタンを含有する281
の処方を調製した。例39〜40中記載されているとお
シこれらの処方を被覆、評価した:結果は下の表に示さ
れる。屈折率変調は、TDC可塑剤を含有し彦い対応す
る例5の場合より大きい。
例 43
この例は、TDO可塑剤、POEA単量体、NVC単量
体、並びにCAB 531−1結合剤を含有する有用々
組成物である。
体、並びにCAB 531−1結合剤を含有する有用々
組成物である。
8.06fのCAB 531−1 (44,8壬)、5
.58 f(7) POEA (31% ’)、1.0
8 PノNvC(6,04)、2.70fのTDC(1
5嗟)、0.18 fのTCTM −HABI(1,0
係)、0.36 fのMBO(2,04> 、0.04
0tのDEAW (0,22係)、0.0018rのB
HT (0,01憾)、4、”56?の2−ブタノン、
並びに52.4fのジクロロメタンを含有する処方を調
製した。例39〜40中記載されているとおりこの処方
を被覆、評価した:結果は次のとおシである: 被&厚さ:8.96ミクロン 回折効率ニア2係 インデックス変調X100:2.2(例11〜12より
大きい)例 44〜48 これらの例は、TDA単量体及びCAB 531−1結
合剤を含有する組成物中TDC可塑剤の濃度幼芽を示す
。
.58 f(7) POEA (31% ’)、1.0
8 PノNvC(6,04)、2.70fのTDC(1
5嗟)、0.18 fのTCTM −HABI(1,0
係)、0.36 fのMBO(2,04> 、0.04
0tのDEAW (0,22係)、0.0018rのB
HT (0,01憾)、4、”56?の2−ブタノン、
並びに52.4fのジクロロメタンを含有する処方を調
製した。例39〜40中記載されているとおりこの処方
を被覆、評価した:結果は次のとおシである: 被&厚さ:8.96ミクロン 回折効率ニア2係 インデックス変調X100:2.2(例11〜12より
大きい)例 44〜48 これらの例は、TDA単量体及びCAB 531−1結
合剤を含有する組成物中TDC可塑剤の濃度幼芽を示す
。
下に記載されるとおり、各々異なった量のTDC及びT
DAを含有し、各々12.6rのCAE531−1 (
54,8壬)、0.239のTCTM−島BI(1,0
%)、α46?の)、n5o(2,0憾)、0.010
42のDEAW (0,045係)、0.0023fの
MHQ (0,01%)、3、85 rのメタノール、
7.72のクロロホルム、並びに65.459の・ジク
ロロメタンを含有する5種の処方を調製した。例1に記
載されているとおりこれらの処方を襟覆、評価した;結
果は次の表に示される。
DAを含有し、各々12.6rのCAE531−1 (
54,8壬)、0.239のTCTM−島BI(1,0
%)、α46?の)、n5o(2,0憾)、0.010
42のDEAW (0,045係)、0.0023fの
MHQ (0,01%)、3、85 rのメタノール、
7.72のクロロホルム、並びに65.459の・ジク
ロロメタンを含有する5種の処方を調製した。例1に記
載されているとおりこれらの処方を襟覆、評価した;結
果は次の表に示される。
0.00 (0,0係)9.66C42優)2.30
(10係) 7.36(32チ)5.45(15係)
6.21(27優)4.60(20cI)) 5.
06<224>5.75 (25憾”l 3.91(
17壬)47.8 25 54.0 51 52.1 97 53.8 66 53.2 54 0.22 0.29 0.35 0.30 例 49〜51 これらの例は、TDC可V剤、TDA単量体、並rQに
異なったCAB結合剤を含有する有用な組成物を例示す
る。
(10係) 7.36(32チ)5.45(15係)
6.21(27優)4.60(20cI)) 5.
06<224>5.75 (25憾”l 3.91(
17壬)47.8 25 54.0 51 52.1 97 53.8 66 53.2 54 0.22 0.29 0.35 0.30 例 49〜51 これらの例は、TDC可V剤、TDA単量体、並rQに
異なったCAB結合剤を含有する有用な組成物を例示す
る。
例 49
131.52Fの(!AB531−1 (54,9壬>
、64.8’i’のTDA(27%)、56fのTDO
(15%)、24f ノ’r(’!TM−HABI (
10%)、4.87のtxBo (2,0%)、0.1
08rのDEAW (0,0451係)、0.024f
のMHQ(001係、76?のメタノール、762のク
ロロホルム、並びに6082のジクロロメタンを含有す
る処方を調製した。例1の操作に従ってこの溶液を被覆
、評価した:結果は下に示される。
、64.8’i’のTDA(27%)、56fのTDO
(15%)、24f ノ’r(’!TM−HABI (
10%)、4.87のtxBo (2,0%)、0.1
08rのDEAW (0,0451係)、0.024f
のMHQ(001係、76?のメタノール、762のク
ロロホルム、並びに6082のジクロロメタンを含有す
る処方を調製した。例1の操作に従ってこの溶液を被覆
、評価した:結果は下に示される。
例 50
65.7iのC!AB 500−5 (54,9壬)、
6242のTDA(27係)、182のTDO(15壬
)、1.22ノTCTM−HABI (1,0% )、
2.42のMBO(2,0%)、0.054rのDEA
W (0,045%)、0.012f (7) MHQ
(0,01係)、38?のメタノール、382のクロロ
ホルム、並びに3042のジクロロメタンを含有する処
方を調製した。例1に記載されているとおりこの処方を
被覆、評価した:結果は下に示される。
6242のTDA(27係)、182のTDO(15壬
)、1.22ノTCTM−HABI (1,0% )、
2.42のMBO(2,0%)、0.054rのDEA
W (0,045%)、0.012f (7) MHQ
(0,01係)、38?のメタノール、382のクロロ
ホルム、並びに3042のジクロロメタンを含有する処
方を調製した。例1に記載されているとおりこの処方を
被覆、評価した:結果は下に示される。
例 51
65.76?のCAB 381−20 (56,6壬)
、31.4fのTDA(274)、17.55’のTD
C!(15壬)、1.22のTcTM−44ABI (
1,0%)、2.62の1.IBO(2,0% )、0
.051のDEAW (0,045係)、0.012r
のMHQ(0,01チ)、57.79のメタノール、3
7.72のクロロホルム、並ヒに301fのジクロロメ
タンを含有する処方を調製した。例1に記載されている
とおりこの処方を被覆、評価した;結果は下に示される
。
、31.4fのTDA(274)、17.55’のTD
C!(15壬)、1.22のTcTM−44ABI (
1,0%)、2.62の1.IBO(2,0% )、0
.051のDEAW (0,045係)、0.012r
のMHQ(0,01チ)、57.79のメタノール、3
7.72のクロロホルム、並ヒに301fのジクロロメ
タンを含有する処方を調製した。例1に記載されている
とおりこの処方を被覆、評価した;結果は下に示される
。
49 CAB531−I TDC(154)
51.0 94% 0.5150 C!
AE500−5 TDC!(15%) 50.
9 924 [:1.5051 CAB
381−20 TDC(15係)50.090係
0.49明細書中、特に例3〜14中に記載さtて
いる材料、並びに図中の装置け、普通HOE’sと称さ
り、る、ホログラフィ−光学エレメントを形成するため
にも使用される。
51.0 94% 0.5150 C!
AE500−5 TDC!(15%) 50.
9 924 [:1.5051 CAB
381−20 TDC(15係)50.090係
0.49明細書中、特に例3〜14中に記載さtて
いる材料、並びに図中の装置け、普通HOE’sと称さ
り、る、ホログラフィ−光学エレメントを形成するため
にも使用される。
例えば、ホログラフィ−レンズは、ガラスに取付けられ
た試料28を2つの干渉レーザービーム68(その一方
は、図におけるとおりコリメーター処理され、他方は発
散性(diverging )である。この発散性ビー
ムは、平行(collimating)レンズのうち1
つを除くことによって形成される。かくして形成された
ホログラフィ−レンズの焦点長さは、空間フィルター2
6のピンホール及びガラスに取付けられた試料からの距
離に等しい。
た試料28を2つの干渉レーザービーム68(その一方
は、図におけるとおりコリメーター処理され、他方は発
散性(diverging )である。この発散性ビー
ムは、平行(collimating)レンズのうち1
つを除くことによって形成される。かくして形成された
ホログラフィ−レンズの焦点長さは、空間フィルター2
6のピンホール及びガラスに取付けられた試料からの距
離に等しい。
このようにしてホログラフィ−レンズが形成されると、
その焦点合せ能は、ホログラフィ−レンズ、即ち、ガラ
スに取付けられた試料28を180°その中心を通って
垂直軸の周りに回転させ、コリメーター処理レーザービ
ーム38のみをそれを通過させることによって実証され
る。
その焦点合せ能は、ホログラフィ−レンズ、即ち、ガラ
スに取付けられた試料28を180°その中心を通って
垂直軸の周りに回転させ、コリメーター処理レーザービ
ーム38のみをそれを通過させることによって実証され
る。
コリメーター処理レーザービームは、上に決定されると
おり、レンズの焦点長さに等しいホログラフィ−レンズ
からの距離における点にビームを焦点合せするようにホ
ログラフィ−レンズによって回折される。
おり、レンズの焦点長さに等しいホログラフィ−レンズ
からの距離における点にビームを焦点合せするようにホ
ログラフィ−レンズによって回折される。
平行レンズ40のうち1つを適当な光学成分、例えば、
発散レンズ又は何か他のコンプレックス光学成分で宜換
えることによって他のホログラフィ−光学エレメントを
同様に創造することができる。上記のホログラフィ−ビ
ームエレメントは、安価に再生し、現在使用されている
みがかれかつ成型されたエレメント、例えば、フレスネ
ルレンズ、ヘッドライトレンズ等ニ代えることができる
。
発散レンズ又は何か他のコンプレックス光学成分で宜換
えることによって他のホログラフィ−光学エレメントを
同様に創造することができる。上記のホログラフィ−ビ
ームエレメントは、安価に再生し、現在使用されている
みがかれかつ成型されたエレメント、例えば、フレスネ
ルレンズ、ヘッドライトレンズ等ニ代えることができる
。
以上、本発明の詳細な説明したが、本発明はさらに次の
実施態様によってこれを要約して示すことができる。
実施態様によってこれを要約して示すことができる。
1)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光すると
屈折率像を形成する実質的に固体の光を合性組成物であ
って、本質的に (a) 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性重合体
結合剤: (b)5〜60チの液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃よシ高い沸点を有し、付加重合をする
ことができる) (C) O,1〜10優の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(c)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率
変調を有し、この透過格子は該組成物の層からホログラ
フィ−によって製造される〕よりなる組成物。
屈折率像を形成する実質的に固体の光を合性組成物であ
って、本質的に (a) 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性重合体
結合剤: (b)5〜60チの液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃よシ高い沸点を有し、付加重合をする
ことができる) (C) O,1〜10優の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(c)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率
変調を有し、この透過格子は該組成物の層からホログラ
フィ−によって製造される〕よりなる組成物。
2)該結合剤か又は該不飽和単量体の一方がフェニル、
フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族
環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素、並びにそれらの
混合物よりなる群から選択される置換分を有し、他方の
成分が該置換分を実質的に含まない前項1)記載の組成
物。
フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香族
環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素、並びにそれらの
混合物よりなる群から選択される置換分を有し、他方の
成分が該置換分を実質的に含まない前項1)記載の組成
物。
6)不飽和単量体が該置換分を有し、重合体結合剤が該
置換分を実質的に含まない前項2)記載の組成物。
置換分を実質的に含まない前項2)記載の組成物。
4)該不飽和単量体がアクリル酸又はメタクリル酸フェ
ノキシアルキル、アクリル酸又はメタクリル酸フェノー
ルエトキシレート、アクリル酸又はメタクリル酸フェニ
ルアルキル、アクリルfi2−(1−す7チルオキシ)
エチル、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエ
チル)エーテル、或いはエトキシル化ビスフェノール−
Aノアクリレートであり、該重合体結合剤がセルロース
アセテートブチレート:アクリル酸又はメタクリル酸重
合体又はインターポリマm:ビニルブチラール、アセタ
ール又hホルマール重合体又はインターポリマ、或いは
酢酸ビニル重合体又はインターポリマーである前項3)
記載の組成物。
ノキシアルキル、アクリル酸又はメタクリル酸フェノー
ルエトキシレート、アクリル酸又はメタクリル酸フェニ
ルアルキル、アクリルfi2−(1−す7チルオキシ)
エチル、ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエ
チル)エーテル、或いはエトキシル化ビスフェノール−
Aノアクリレートであり、該重合体結合剤がセルロース
アセテートブチレート:アクリル酸又はメタクリル酸重
合体又はインターポリマm:ビニルブチラール、アセタ
ール又hホルマール重合体又はインターポリマ、或いは
酢酸ビニル重合体又はインターポリマーである前項3)
記載の組成物。
5)重合体結合剤が該置換分を有するセグメントを含有
し、不飽和単量体が該置換外を実質的に含まない前項2
)記載の組成物。
し、不飽和単量体が該置換外を実質的に含まない前項2
)記載の組成物。
6)重合体結合剤がスチレン重合体又はインタープリマ
ーであシ、不飽和単量体がアルキレングリコールジアク
リレート又は・ジメタクリレート、アクリル化又はメタ
クリル化ポリオールエステル、或いはエトキシル化ポリ
オールアクリル酸又はメタクリル酸エステルである前項
5)記載の組成物。
ーであシ、不飽和単量体がアルキレングリコールジアク
リレート又は・ジメタクリレート、アクリル化又はメタ
クリル化ポリオールエステル、或いはエトキシル化ポリ
オールアクリル酸又はメタクリル酸エステルである前項
5)記載の組成物。
7)固体エチレン系不飽和単量体も存在する前項1)記
載の組成物。
載の組成物。
8)固体エチレン系不飽和単量体がカルバゾール基を有
する前項7)記載の組成物。
する前項7)記載の組成物。
9)該エチレン系不飽和単量体がN−ビニル力A/ ハ
ソーA/ 、 3.6− ’) フロモー9−ビニルカ
ルバゾール、並びにそれらの混合物よシなる群から選択
される前項8)記載の組成物。
ソーA/ 、 3.6− ’) フロモー9−ビニルカ
ルバゾール、並びにそれらの混合物よシなる群から選択
される前項8)記載の組成物。
10)固体エチレン系不飽和化合物がアクリル酸又はメ
タクリル酸2,4.6− )リブロモフェニル、アクリ
ル酸又はメタクリル酸ペンタクロロフェニル、アクリル
酸又はメタクリル酸2−ナフチル、テトラブロモ−ビス
フェノールAのジー(2−7クリロキシエチル)エーテ
ル、並びにそれらの混合物よシなる群から選択される前
項7)記載の組成物。
タクリル酸2,4.6− )リブロモフェニル、アクリ
ル酸又はメタクリル酸ペンタクロロフェニル、アクリル
酸又はメタクリル酸2−ナフチル、テトラブロモ−ビス
フェノールAのジー(2−7クリロキシエチル)エーテ
ル、並びにそれらの混合物よシなる群から選択される前
項7)記載の組成物。
11)可塑剤も存在し、この可塑剤が燐酸トリス(2−
エチルヘキシル)、トリ酪酸グリセリル、並びに一般式 %式%) (式中R1及びR2は、各々1〜10の炭素原子のアル
キルであり、R3H1H又は8〜16の炭素原子のアル
キルであり、R4は、H又はCH3であり、Xは1〜4
であシ、yは2〜20であシ、2は1〜20である)を
有する化合物よりなる群から選択される前項1)記載の
組成物。
エチルヘキシル)、トリ酪酸グリセリル、並びに一般式 %式%) (式中R1及びR2は、各々1〜10の炭素原子のアル
キルであり、R3H1H又は8〜16の炭素原子のアル
キルであり、R4は、H又はCH3であり、Xは1〜4
であシ、yは2〜20であシ、2は1〜20である)を
有する化合物よりなる群から選択される前項1)記載の
組成物。
12)可塑剤がトリエチレングリコールシカプリレート
、ビス(2−エチルヘキサン酸)トリエチレングリコー
ル、アジピン酸ソエチル、アゾピン酸ジブチル、ゾヘブ
タン酸テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ス
ペリン酸ジプチル、セバシン酸ノエチル、燐酸トリス(
2−エチルヘキシル)、並びにトリ酪酸グリセリルより
なる群から選択される前項11)記載の組成物。
、ビス(2−エチルヘキサン酸)トリエチレングリコー
ル、アジピン酸ソエチル、アゾピン酸ジブチル、ゾヘブ
タン酸テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ス
ペリン酸ジプチル、セバシン酸ノエチル、燐酸トリス(
2−エチルヘキシル)、並びにトリ酪酸グリセリルより
なる群から選択される前項11)記載の組成物。
13)該可塑剤が液体エチレン系不飽和単量体の少なく
とも一部と置換される前項11)記載の組成物。
とも一部と置換される前項11)記載の組成物。
14)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光する
と屈折率像を形成する実質的に固体の光重合性組成物で
あって、本質的に fa) 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性重合体
結合剤: (b)5〜604の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃工夛高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる):並びに (c) 0.1〜10係の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分子aJ、(皺、及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
ある〕よシなる組成物(ただし該結合剤か又Fi該不飽
和単量体の一方が7エ二ル、フェノキシ、ナフチル、ナ
フトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族、
塩素、並びに臭素よりなる群から選択される置換分を有
する。
と屈折率像を形成する実質的に固体の光重合性組成物で
あって、本質的に fa) 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性重合体
結合剤: (b)5〜604の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃工夛高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる):並びに (c) 0.1〜10係の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分子aJ、(皺、及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
ある〕よシなる組成物(ただし該結合剤か又Fi該不飽
和単量体の一方が7エ二ル、フェノキシ、ナフチル、ナ
フトキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族、
塩素、並びに臭素よりなる群から選択される置換分を有
する。
15) ミリメートルあたり約i oooラインの空
間頻度を有する透過格子から632.8nmの放射線を
用いて決定して少なくとも0.005の屈折率変調を有
し、この透過格子が該組成物の層からホログラフィ−に
よって製造される前項14)記載の組成物。
間頻度を有する透過格子から632.8nmの放射線を
用いて決定して少なくとも0.005の屈折率変調を有
し、この透過格子が該組成物の層からホログラフィ−に
よって製造される前項14)記載の組成物。
16)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光する
ことにより屈折率像を製造するための感光性エレメント
であって、本質的に ial 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性1合体
結合剤: (b)5〜60幅の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる) (c) Q、i〜10係の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b+及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定し7て少なくともo、 o o s
の屈折率変調を有し、この透過格子は該組成物の層から
ホログラフィ−・によって製造される〕よりなる、実質
的に固体の光重合性組成物を支持する基質よりなるエレ
メント。
ことにより屈折率像を製造するための感光性エレメント
であって、本質的に ial 25〜75憾の溶媒可溶性、熱可塑性1合体
結合剤: (b)5〜60幅の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる) (c) Q、i〜10係の、化学作用放射線に露光す
ると該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b+及び(C)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定し7て少なくともo、 o o s
の屈折率変調を有し、この透過格子は該組成物の層から
ホログラフィ−・によって製造される〕よりなる、実質
的に固体の光重合性組成物を支持する基質よりなるエレ
メント。
17)該結合剤か又は該不飽和単量体の一方がフェニル
、フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香
族環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素、並びにそれら
の混合物よりなる群から選択される置換分を有し、他方
の成分が#置換分を実質的に含まない前項16)記載の
感光性エレメント。
、フェノキシ、ナフチル、ナフトキシ、3つまでの芳香
族環を有するヘテロ芳香族、塩素、臭素、並びにそれら
の混合物よりなる群から選択される置換分を有し、他方
の成分が#置換分を実質的に含まない前項16)記載の
感光性エレメント。
18)該固体光重合性組成物中に固体エチレン系不飽和
単量体も存在する前項16)記載の感光性のエレメント
。
単量体も存在する前項16)記載の感光性のエレメント
。
19)該固体光重合性組成物中に可塑剤も存在し、この
可塑剤が燐酸トリス(2−エチルへキシル)、トリ酪酸
グリセリル、並びに一般式%式% : (式中R1及びR2は、各々1〜1oの炭素原子のアル
キルであり、亀は、H又は8〜16の炭素原子のアルキ
ルであり、 R4け、H又はCH3であり、Xは1〜4
であり、yは2〜2゜であり、z n 1〜20である
)を有する化合物よりなる群から選択される前項16)
記載の感光性エレメント。
可塑剤が燐酸トリス(2−エチルへキシル)、トリ酪酸
グリセリル、並びに一般式%式% : (式中R1及びR2は、各々1〜1oの炭素原子のアル
キルであり、亀は、H又は8〜16の炭素原子のアルキ
ルであり、 R4け、H又はCH3であり、Xは1〜4
であり、yは2〜2゜であり、z n 1〜20である
)を有する化合物よりなる群から選択される前項16)
記載の感光性エレメント。
20)光重合性組成物が支持体に永久的に接着さねてい
る前項16)記載の感光性のエレメント。
る前項16)記載の感光性のエレメント。
21)保護カバーシートが光重合性組成物の表面に剥離
できるように接着されている前項16)記載の感光性の
エレメント。
できるように接着されている前項16)記載の感光性の
エレメント。
22)基質が化学作用放射線に対して透過性である前項
16)記載の感光性のエレメント。
16)記載の感光性のエレメント。
25)基質が可視放射線に対して透過性である前項16
)記載の感光性のエレメント。
)記載の感光性のエレメント。
24)光重合性組成物が基質に剥離できるように接着さ
れている前項16)記載の感光性のエレメント。
れている前項16)記載の感光性のエレメント。
25)光重合性組成物の表面に保護カバーシートが剥離
できるように接着されており、基質と感光性組成物との
間の接着力が、光重合性組成物と保護カバーシートの間
、つ接着力より大きい前項24)記載の感光性、′7′
>工゛・Iント。
できるように接着されており、基質と感光性組成物との
間の接着力が、光重合性組成物と保護カバーシートの間
、つ接着力より大きい前項24)記載の感光性、′7′
>工゛・Iント。
26)基質及び保護力・り−ン・−トが柔軟性ウェブで
ある前項21)〜25)記載の感光性のエレメント 。
ある前項21)〜25)記載の感光性のエレメント 。
27)基質表面上光重合性の層中光安定性のホログラム
形成法であって、いずれかの順序でA)ホログラフィ−
情報を保持する変調された化学作用放射線に、シート支
持体及びそflに剥離できるように接着さハているa)
溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料。
形成法であって、いずれかの順序でA)ホログラフィ−
情報を保持する変調された化学作用放射線に、シート支
持体及びそflに剥離できるように接着さハているa)
溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料。
b) 少なくとも1種の、約100℃より高い沸点を有
する付加重合ができる液体エチレン系不飽和単量体、並
びに 〔:)化学作用放射線によって活性化することができる
光開始剤系 よりなる光重合性の層よりなる光重合性のニレメン)・
(ただしこの組成物は、該組成物の層がちホログラフィ
−によ・つて製造されたミリメートルあたり約1ooo
ラインの空間頻度を有する透過格子からの652.Bn
mの放射線を用いて決定して、少なくとも0.005の
屈折率変調を有し、1り〔1グラフイー情報を保持する
変調された化学作用放射線は、干渉性の化学作用放射線
の像変調さね、たビームとの同じ干渉性の化学作用放射
線の参照ビームの相互作用によって形成され、交差にお
ける平面は、光重合性物の平面に対応する) よシなる光重合性のエレメントをN党しB)基質の表面
に光重合性の層の表面を積層し、次に C)露光された光重合体の層からシート支持体を除去す
る ことを特徴とする方法。
する付加重合ができる液体エチレン系不飽和単量体、並
びに 〔:)化学作用放射線によって活性化することができる
光開始剤系 よりなる光重合性の層よりなる光重合性のニレメン)・
(ただしこの組成物は、該組成物の層がちホログラフィ
−によ・つて製造されたミリメートルあたり約1ooo
ラインの空間頻度を有する透過格子からの652.Bn
mの放射線を用いて決定して、少なくとも0.005の
屈折率変調を有し、1り〔1グラフイー情報を保持する
変調された化学作用放射線は、干渉性の化学作用放射線
の像変調さね、たビームとの同じ干渉性の化学作用放射
線の参照ビームの相互作用によって形成され、交差にお
ける平面は、光重合性物の平面に対応する) よシなる光重合性のエレメントをN党しB)基質の表面
に光重合性の層の表面を積層し、次に C)露光された光重合体の層からシート支持体を除去す
る ことを特徴とする方法。
28)工eA、B、並びにCltl回又はそれ以上くり
返して多層ホログラフィ−記録を形成する前項27)記
載の方法。
返して多層ホログラフィ−記録を形成する前項27)記
載の方法。
29)参照ビーム及び像変調さ引たビームが光重合性の
層の同じ側にはいって透過ホログラムを形成する前項2
7)記載の方法。
層の同じ側にはいって透過ホログラムを形成する前項2
7)記載の方法。
30)参照ビームが光重合性の層の一方の側にはいり、
像変調されたビームが光重合性の層の他方の側にはいっ
て反射ホログラムを形成する前項27)記載の方法。
像変調されたビームが光重合性の層の他方の側にはいっ
て反射ホログラムを形成する前項27)記載の方法。
31)基質表面が反射性である前項27)記載の方法。
32)光重合性のエレメント栄光安定性の反射ホログラ
ムの1工程形成法〔光重合性のエレメントは、(囚化学
作用放射線に透過性の支持シート及び(B)支持シート
に接着されている光重合性の、実質的に固体の組成物(
ただしこの組成物は、 a)溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料、b)少なくとも
1種の、約100℃より高い沸点を有する付加重合がで
きる液体エチレン系不飽和単量体、並びに C)化学作用放射線によって活性化することができる光
開始剤系 よりなり、この組成物は、該組成物の層からホログラフ
ィ−によって製造さり、たミリメートルあたり約100
0ラインの空間頻度を有する透過格子からの632.8
nmの放射線を用いて決定して、少なくとも0.0
O5の屈折率変調を有する)よりなる〕であって、〕ホ
ログラフィー情を保持する変調された化学作用放射線に
光重合性組成物を露光する(ただし、変調された化学作
用放射線は、光重合性の層の平面と対応する平面におい
て、干渉性化学作用放射線の参照ビームの同じ干渉性化
学作用放射線の儂変調されたビームとの交差によって形
成され、参照ビームは、光重合性の層の一方の例だけい
り、偉変調されたものは、光重合性の層の逆の側にはい
る)ことを特徴とする方法。
ムの1工程形成法〔光重合性のエレメントは、(囚化学
作用放射線に透過性の支持シート及び(B)支持シート
に接着されている光重合性の、実質的に固体の組成物(
ただしこの組成物は、 a)溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料、b)少なくとも
1種の、約100℃より高い沸点を有する付加重合がで
きる液体エチレン系不飽和単量体、並びに C)化学作用放射線によって活性化することができる光
開始剤系 よりなり、この組成物は、該組成物の層からホログラフ
ィ−によって製造さり、たミリメートルあたり約100
0ラインの空間頻度を有する透過格子からの632.8
nmの放射線を用いて決定して、少なくとも0.0
O5の屈折率変調を有する)よりなる〕であって、〕ホ
ログラフィー情を保持する変調された化学作用放射線に
光重合性組成物を露光する(ただし、変調された化学作
用放射線は、光重合性の層の平面と対応する平面におい
て、干渉性化学作用放射線の参照ビームの同じ干渉性化
学作用放射線の儂変調されたビームとの交差によって形
成され、参照ビームは、光重合性の層の一方の例だけい
り、偉変調されたものは、光重合性の層の逆の側にはい
る)ことを特徴とする方法。
33)光重合性のエレメントを通して透過されて物体を
照射し、光重合性のエレメントを通シかつ比較ビームに
同軸の像変調されたビームを逆発生する比較ビームの干
渉性の放射線から像変調されたビームが形成される前項
32)記載の方法。
照射し、光重合性のエレメントを通シかつ比較ビームに
同軸の像変調されたビームを逆発生する比較ビームの干
渉性の放射線から像変調されたビームが形成される前項
32)記載の方法。
34)対象が反射ホログラムである前項33)記載の方
法。
法。
35)液体単量体が1つ又はそれ以上のフェニル、フェ
ノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、或いは3つ又はそれ
より少ない芳香族環を有するヘテロ芳香族基又はクロロ
又はブロモ原子金含有し、重合体材料が該基又は原子を
実質的に含まない前項32)記載の方法。
ノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、或いは3つ又はそれ
より少ない芳香族環を有するヘテロ芳香族基又はクロロ
又はブロモ原子金含有し、重合体材料が該基又は原子を
実質的に含まない前項32)記載の方法。
36)重合体材料が1つ又はそれ以上のフェニル、フェ
ノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、或いは3つ又はそれ
よシ少ない芳香族環を有するヘテロ芳香族基又はクロロ
又はブロモ原子t−含有し、液体単量体が該基又は原子
を実質的に含まない前項32)記載の方法。
ノキシ、ナフチル、ナフチロキシ、或いは3つ又はそれ
よシ少ない芳香族環を有するヘテロ芳香族基又はクロロ
又はブロモ原子t−含有し、液体単量体が該基又は原子
を実質的に含まない前項32)記載の方法。
37)液体単量体が置換又は非置換アクリル酸又はメタ
クリル酸フェノキシアルキル:置換又は非置換フェノー
ルエトキシレートアクリレート又はメタクリレート:或
いは置換又は非置換アクリル酸又はメタクリル酸フェニ
A/フルキル:アクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エ
チル:ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエテ
ル)エーテル:或いはエトキシル化ビスフェノール−A
ジアクリレートであり:又溶媒可溶性、熱可塑性重合体
材料がセルロースアセテートブチレート:/リアクリレ
ート又はメタクリレート又はインターポリマー:ポリビ
ニルブチラール、アセタール又はホルマール又はインタ
ー491−:或いはポリ酢酸ビニル又はインターポリマ
ーである前項32)記載の方法。
クリル酸フェノキシアルキル:置換又は非置換フェノー
ルエトキシレートアクリレート又はメタクリレート:或
いは置換又は非置換アクリル酸又はメタクリル酸フェニ
A/フルキル:アクリル酸2−(1−ナフチロキシ)エ
チル:ビスフェノール−Aのジ(2−アクリロキシエテ
ル)エーテル:或いはエトキシル化ビスフェノール−A
ジアクリレートであり:又溶媒可溶性、熱可塑性重合体
材料がセルロースアセテートブチレート:/リアクリレ
ート又はメタクリレート又はインターポリマー:ポリビ
ニルブチラール、アセタール又はホルマール又はインタ
ー491−:或いはポリ酢酸ビニル又はインターポリマ
ーである前項32)記載の方法。
第1図は、屈折率変調をホログラフィ−によって決定す
るの圧使用される実験装置を例示する。 10:アルゴンイオンレーザー:12:レーザービーム
:14:鏡:16ニピームエレベーター二18:アテマ
エーター:20:ビームスプリツター;22:ピームセ
グメント:24:鏡:26:空間フィルター:40ニコ
ム:28:試料:32:レーザービーム:36:検出器
を示す。
るの圧使用される実験装置を例示する。 10:アルゴンイオンレーザー:12:レーザービーム
:14:鏡:16ニピームエレベーター二18:アテマ
エーター:20:ビームスプリツター;22:ピームセ
グメント:24:鏡:26:空間フィルター:40ニコ
ム:28:試料:32:レーザービーム:36:検出器
を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光すると
屈折率像を形成する実質的に固体の光重合性組成物であ
つて、本質的に (a)25〜75%の溶媒可溶性、熱可塑性重合体結合
剤; (b)5〜60%の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付加重合をする
ことができる) (c)0.1〜10%の、化学作用放射線に露光すると
該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(c)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率
変調を有し、この透過格子は該組成物の層からホログラ
フィーによつて製造される〕よりなる組成物。 2)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光すると
屈折率像を形成する実質的に固体の光重合性組成物であ
つて、本質的に (a)25〜75%の溶媒可溶性、熱可塑性重合体結合
剤; (b)5〜60%の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる);並びに (c)0.1〜10%の、化学作用放射線に露光すると
該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(c)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
ある〕よりなる組成物(ただし該結合剤か又は該不飽和
単量体の一方がフェニル、フェノキシ、ナフチル、ナフ
トキシ、3つまでの芳香族環を有するヘテロ芳香族、塩
素、並びに臭素よりなる群から選択される置換分を有す
る)。 3)唯一の処理工程として化学作用放射線に露光するこ
とにより屈折率像を製造するための感光性エレメントで
あつて、本質的に (a)25〜75%の溶媒可溶性、熱可塑性重合体結合
剤; (b)5〜60%の液体エチレン系不飽和単量体(該単
量体は、100℃より高い沸点を有し、付合重合をする
ことができる) (c)0.1〜10%の、化学作用放射線に露光すると
該不飽和単量体の重合を活性化する光開始剤系 〔ただし該百分率は、成分(a)、(b)及び(c)の
全結合剤、不飽和単量体及び光開始剤系の重量百分率で
あり、この組成物は、ミリメートルあたり約1000ラ
インの空間頻度を有する透過格子から632.8nmの
放射線を用いて決定して少なくとも0.005の屈折率
変調を有し、この透過格子は該組成物の層からホログラ
フィーによつて製造される〕よりなる、実質的に固体の
光重合性組成物を支持する基質よりなるエレメント。 4)基質表面上光重合性の層中光安定性のホログラム形
成法であつて、いずれかの順序で(A)ホログラフィー
情報を保持する変調された化学作用放射線に、シート支
持体及びそれにはく離できるように接着されている a)溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料、 b)少なくとも1種の、約100℃より高い沸点を有す
る付加重合ができる液体エチレン系不飽和単量体、並び
に c)化学作用放射線によつて活性化することができる光
開始剤系 よりなる光重合性の層よりなる光重合性のエレメント(
ただしこの組成物は、該組成物の層からホログラフィー
によつて製造されたミリメートルあたり約1000ライ
ンの空間頻度を有する透過格子からの652.8nmの
放射線を用いて決定して、 少なくとも0.005の屈折率変調を有し、ホログラフ
ィー情報を保持する変調された化学作用放射線は、干渉
性の化学作用放射線の像変調されたビームとの同じ干渉
性の化学作用放射線の参照ビームの相互作用によつて形
成され、交差における平面は、光重合性物の平面に対応
する) よりなる光重合性のエレメントを露光し (B)基質の表面に光重合性の層の表面を積層し、次に (C)露光された光重合体の層からシート支持体を除去
する ことを特徴とする方法。 5)光重合性のエレメント中光安定性の反射ホログラム
の1段階形成法〔光重合性のエレメントは、(A)化学
作用放射線に透過性の支持シート及び(B)支持シート
に接着されている光重合性の、実質的に固体の組成物(
ただしこの組成物は、 (a)溶媒可溶性の熱可塑性重合体材料、 (b)少なくとも1種の、約100℃より高い沸点を有
する付加重合ができる液体エチレン系不飽和単量体、並
びに (c)化学作用放射線によつて活性化することができる
光開始剤系 よりなり、この組成物は、該組成物の層からホログラフ
ィーによつて製造されたミリメートルあたり約1000
ラインの空間頻度を有する透過格子からの632.8n
mの放射線を用いて決定して、少なくとも0.005の
屈折率変調を有する)よりなる〕であつて、ホログラフ
ィー情報を保持する変調された化学作用放射線に光重合
性組成物を露光する(ただし、変調された化学作用放射
線は、光重合性の層の平面と対応する平面において、干
渉性化学作用放射線の参照ビームの同じ干渉性化学作用
放射線の像変調されたビームとの交差によつて形成され
、参照ビームは、光重合性の層の一方の側にはいり、像
変調されたものは、光重合性の層の逆の側にはいる)こ
とを特徴とする方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0643634A (ja) * | 1988-01-15 | 1994-02-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光重合性組成物及び屈折率画像用エレメント |
US5658966A (en) * | 1992-11-09 | 1997-08-19 | Fujitsu Limited | Method of coupling optical parts and refractive index imaging material |
US5902715A (en) * | 1992-11-09 | 1999-05-11 | Fujitsu Limited | Method of forming a mirror in a waveguide |
US6166834A (en) * | 1996-03-15 | 2000-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display apparatus and method for forming hologram suitable for the display apparatus |
WO2007007436A1 (ja) | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Toagosei Co., Ltd. | 体積位相型ホログラム記録材料、その製造方法および記録体 |
JP2008524353A (ja) * | 2004-12-20 | 2008-07-10 | イーピージー (エンジニアード ナノプロダクツ ジャーマニー) アーゲー | 高方位分解能を有する屈折率勾配層を製造するための有機−無機ハイブリッド材料を含む光学部品及びその製造方法 |
JP2009149909A (ja) * | 2009-03-25 | 2009-07-09 | Fujifilm Corp | 非共鳴2光子吸収重合用組成物及びそれを用いた3次元光記録媒体 |
US7582390B2 (en) | 2003-05-23 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method |
US8298726B2 (en) | 2007-02-05 | 2012-10-30 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Volume phase hologram recording material and optical information recording medium |
US8399156B2 (en) | 2007-07-26 | 2013-03-19 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Volume phase hologram recording material and optical information recording medium using the same |
Families Citing this family (121)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5096790A (en) * | 1988-07-28 | 1992-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process of forming hologram and polymeric holographic recording medium with sensitizer |
US4996120A (en) * | 1988-12-29 | 1991-02-26 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements containing a ring-opening monomer |
US5098804A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multiplexer-demultiplexer for integrated optic circuit |
US5128235A (en) * | 1989-04-21 | 1992-07-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of forming a three-dimensional object comprising additives imparting reduction of shrinkage to photohardenable compositions |
US5279689A (en) * | 1989-06-30 | 1994-01-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for replicating holographic optical elements |
US4963471A (en) * | 1989-07-14 | 1990-10-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements for refractive index imaging |
US5013632A (en) * | 1989-09-29 | 1991-05-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymer film for holography |
EP0435147A3 (en) * | 1989-12-28 | 1991-10-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Elements for recording volume transmission holograms |
US5543251A (en) * | 1990-06-29 | 1996-08-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of recording plural holographic images into a holographic recording material by temporal interleaving |
JPH05509418A (ja) * | 1990-06-29 | 1993-12-22 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 時間的インターリーブによって複数のホログラフィー像をホログラフィー記録材料に記録するための方法と装置 |
DE69131158T2 (de) * | 1990-11-22 | 1999-12-16 | Canon Kk | Photoempfindliches Aufzeichnungsmedium enthaltendes Volumen-Phasenhologram und Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit diesem Medium |
JPH0527433A (ja) * | 1990-11-30 | 1993-02-05 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 難燃性感光性樹脂組成物 |
EP0509472A3 (en) * | 1991-04-18 | 1992-12-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making read-only optically readable media |
DE69316792T2 (de) * | 1992-06-17 | 1998-05-28 | Nitto Denko Corp | Verfahren zur Herstellung von Polymerisation oder vernetzter Rate-distribuierte Produkte und Verfahren zur Herstellung einer Linse, Linsenanordnung oder Lichtwellenleiter durch dieses Verfahren |
US6479193B1 (en) * | 1992-06-30 | 2002-11-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Optical recording film and process for production thereof |
GB2271435B (en) * | 1992-10-06 | 1996-05-22 | Grumman Aerospace Corp | A system and method of fabricating multiple holographic elements |
EP1457545A3 (en) | 1992-11-24 | 2004-12-22 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Oxygen scavengers independent of transition metal catalysts |
US7132200B1 (en) * | 1992-11-27 | 2006-11-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram recording sheet, holographic optical element using said sheet, and its production process |
JP2849021B2 (ja) | 1993-04-12 | 1999-01-20 | 日本ペイント株式会社 | 体積ホログラム記録用感光性組成物 |
TW262537B (ja) * | 1993-07-01 | 1995-11-11 | Allied Signal Inc | |
US5481385A (en) * | 1993-07-01 | 1996-01-02 | Alliedsignal Inc. | Direct view display device with array of tapered waveguide on viewer side |
US5377176A (en) * | 1993-07-14 | 1994-12-27 | Tamarack Storage Devices | Method and apparatus for isolating data storage regions in a thick holographic storage media |
US5415950A (en) * | 1993-11-08 | 1995-05-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic flake pigment |
AU684891B2 (en) * | 1994-03-17 | 1998-01-08 | Toppan Printing Co. Ltd. | Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium |
JP3075090B2 (ja) * | 1994-07-29 | 2000-08-07 | 凸版印刷株式会社 | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 |
US5615022A (en) * | 1994-08-22 | 1997-03-25 | Grumman Aerospace Corporation | System and method of fabricating multiple holographic elements |
US5725970A (en) * | 1994-11-07 | 1998-03-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Broad band reflection holograms and a dry process for making same |
US5879853A (en) * | 1996-01-18 | 1999-03-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Top antireflective coating material and its process for DUV and VUV lithography systems |
KR100457693B1 (ko) * | 1997-05-15 | 2005-01-17 | 주식회사 코오롱 | 해상도 및 텐팅성이 개선된 광경화성 조성물 |
DE19814872A1 (de) * | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Basf Ag | Strahlungshärtbare Zubereitungen |
US6450642B1 (en) | 1999-01-12 | 2002-09-17 | California Institute Of Technology | Lenses capable of post-fabrication power modification |
JP4404282B2 (ja) * | 1999-03-19 | 2010-01-27 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム撮影用乾板の作製方法及び作製装置 |
US6555288B1 (en) | 1999-06-21 | 2003-04-29 | Corning Incorporated | Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions |
US6306563B1 (en) | 1999-06-21 | 2001-10-23 | Corning Inc. | Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions |
JP3677240B2 (ja) | 2000-03-20 | 2005-07-27 | カリフォルニア インスティテュート オブ テクノロジー | 製造後の倍率調節が可能なレンズへの波面センサーの応用 |
US6606432B2 (en) * | 2000-05-03 | 2003-08-12 | Georgia Tech Research Corp. | Phase mask consisting of an array of multiple diffractive elements for simultaneous accurate fabrication of large arrays of optical couplers and method for making same |
US7230764B2 (en) * | 2000-08-18 | 2007-06-12 | Reflexite Corporation | Differentially-cured materials and process for forming same |
US20040190102A1 (en) * | 2000-08-18 | 2004-09-30 | Mullen Patrick W. | Differentially-cured materials and process for forming same |
AU2001284844A1 (en) * | 2000-08-18 | 2002-03-04 | Reflexite Corporation | Differentially cured materials and process for forming same |
JP2004525394A (ja) * | 2000-11-10 | 2004-08-19 | デュランド テクノロジー リミテッド | 光学記録材料 |
US7361432B2 (en) | 2001-02-01 | 2008-04-22 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Composition for hologram-recording material, hologram-recording medium, and process for producing the same |
KR100553245B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2006-02-20 | 주식회사 코오롱 | 감광성 수지 조성물 |
US6778753B2 (en) * | 2001-07-25 | 2004-08-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halogenated optical polymer composition |
DE10153028A1 (de) * | 2001-10-26 | 2003-05-08 | Xetos Ag | Holographisches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Bildung eines lichtbeständigen Hologramms |
US6998196B2 (en) * | 2001-12-28 | 2006-02-14 | Wavefront Technology | Diffractive optical element and method of manufacture |
US7115305B2 (en) * | 2002-02-01 | 2006-10-03 | California Institute Of Technology | Method of producing regular arrays of nano-scale objects using nano-structured block-copolymeric materials |
GB0305590D0 (en) * | 2003-03-11 | 2003-04-16 | Smart Holograms Ltd | Sensors and their production |
JP4461725B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
US20050036179A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | General Electric Company | Holographic storage medium comprising metal-containing high refractive index region, and storage article containing same |
US20050046915A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hologram recording material composition, hologram recording material and hologram recording method |
EP1510862A3 (en) | 2003-08-25 | 2006-08-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hologram recording method and hologram recording material |
RU2258285C1 (ru) * | 2003-11-21 | 2005-08-10 | Самсунг Электроникс Ко., Лтд. | Планарная антенна |
JP2005309359A (ja) | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、3次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。 |
JP2005275273A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法及び光記録媒体 |
DE102004053367A1 (de) | 2004-04-27 | 2005-11-17 | Bundesdruckerei Gmbh | Sicherheitselement, Wertdokument und Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements |
US7491628B2 (en) * | 2004-05-05 | 2009-02-17 | California Institute Of Technology | Method for patterning large scale nano-fibrous surfaces using capillography |
JP4461902B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP4461901B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
DE102004030019A1 (de) | 2004-06-22 | 2006-01-19 | Xetos Ag | Photopolymerisierbare Zusammensetzung |
US7264169B2 (en) * | 2004-08-02 | 2007-09-04 | Idx, Inc. | Coaligned bar codes and validation means |
JP4649158B2 (ja) | 2004-09-30 | 2011-03-09 | 富士フイルム株式会社 | ホログラム記録方法 |
US8021967B2 (en) * | 2004-11-01 | 2011-09-20 | California Institute Of Technology | Nanoscale wicking methods and devices |
US7632631B2 (en) * | 2005-01-05 | 2009-12-15 | International Business Machines Corporation | Method of preventing pinhole defects through co-polymerization |
JP2006195009A (ja) | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録方法、ホログラム記録装置及びホログラム記録媒体 |
EP1691237A3 (en) | 2005-02-15 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Holographic recording material and holographic recording method |
US7704643B2 (en) * | 2005-02-28 | 2010-04-27 | Inphase Technologies, Inc. | Holographic recording medium with control of photopolymerization and dark reactions |
JP2006301171A (ja) | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法 |
JP4633562B2 (ja) | 2005-07-06 | 2011-02-16 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム感光性組成物 |
JP4373383B2 (ja) | 2005-08-24 | 2009-11-25 | 富士フイルム株式会社 | 光記録方法、光記録装置、光記録媒体及び光記録再生方法 |
DE602005017147D1 (de) * | 2005-08-26 | 2009-11-26 | Agfa Graphics Nv | photopolymer Druckplattenvorläufer |
JP2007072192A (ja) | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | 光記録媒体及びその製造方法 |
US20070077498A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical recording composition, optical recording medium and production method thereof, optical recording method and optical recording apparatus |
US8367274B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-02-05 | Tdk Corporation | Hologram recording material, and hologram recording medium |
US8349524B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-01-08 | Tdk Corporation | Hologram recording material and hologram recording medium |
JP2007328149A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Toshiba Corp | 光記録媒体およびその記録方法 |
JP5421772B2 (ja) * | 2006-07-25 | 2014-02-19 | 日東電工株式会社 | 長時間の回折格子持続性を有する非線形光学装置 |
EP2054765A2 (en) * | 2006-07-25 | 2009-05-06 | Nitto Denko Corporation | Non-linear optical device sensitive to green laser |
JP2008058840A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP2008164941A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
WO2008105510A1 (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-04 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 体積ホログラム積層体の製造方法 |
CN101034257B (zh) * | 2007-04-06 | 2010-09-08 | 上海复旦天臣新技术有限公司 | 用于全息记录的感光薄膜及其制备方法 |
WO2008124785A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-16 | University Of Iowa Research Foundation | Methods for controlling gloss in photopolymerized coatings, films and surfaces |
JP4918393B2 (ja) * | 2007-04-19 | 2012-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 光記録用組成物およびホログラフィック記録媒体 |
JP2008304807A (ja) | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Fujifilm Corp | 光記録用組成物、ホログラフィック記録媒体および情報記録再生方法 |
EP2223299B1 (en) * | 2007-11-27 | 2015-03-11 | Southbourne Investments Ltd. | Holographic recording medium |
WO2009099898A1 (en) * | 2008-02-05 | 2009-08-13 | Nitto Denko Corporation | Optical devices responsive to blue laser and method of modulating light |
DE102008009332A1 (de) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Optische Elemente mit Gradientenstruktur |
JP2009216766A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Toshiba Corp | ホログラム記録媒体 |
JP5402266B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2014-01-29 | 三菱化学株式会社 | 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 |
CN101324752B (zh) * | 2008-07-21 | 2012-07-25 | 上海天臣防伪技术股份有限公司 | 可以记录反射全息的聚合物液晶感光材料制备方法 |
JP2010026450A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Toshiba Corp | ホログラム記録媒体および光情報記録再生装置 |
IL200996A0 (en) * | 2008-10-01 | 2010-06-30 | Bayer Materialscience Ag | Photopolymer formulations having a low crosslinking density |
IL200995A0 (en) * | 2008-10-01 | 2010-06-30 | Bayer Materialscience Ag | Polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media |
JP2012504777A (ja) * | 2008-10-01 | 2012-02-23 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体 |
US20100099789A1 (en) * | 2008-10-20 | 2010-04-22 | Nitto Denko Corporation | Method for modulating light of photorefractive composition |
US20100096603A1 (en) * | 2008-10-20 | 2010-04-22 | Nitto Denko Corporation | Optical devices responsive to near infrared laser and methods of modulating light |
US20110200918A1 (en) * | 2008-11-08 | 2011-08-18 | Tomoya Mizuta | Photosensitive composition for volume hologram recording and producing method thereof |
DE102008057485A1 (de) | 2008-11-14 | 2010-05-20 | Hologram Industries Research Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Mehrfarben-Volumenhologramms und holographischer Photopolymerfilm |
US8323854B2 (en) * | 2009-04-23 | 2012-12-04 | Akonia Holographics, Llc | Photopolymer media with enhanced dynamic range |
US9360611B2 (en) | 2009-10-09 | 2016-06-07 | Massachusetts Institute Of Technology | System, method and apparatus for contrast enhanced multiplexing of images |
IN2012DN03890A (ja) * | 2009-11-03 | 2015-09-04 | Bayer Materialscience Ag | |
RU2012137134A (ru) * | 2010-02-02 | 2014-03-10 | Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх | Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина |
EP2372454A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-10-05 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung zur Herstellung sichtbarer Hologramme |
JP5533249B2 (ja) * | 2010-05-20 | 2014-06-25 | Tdk株式会社 | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 |
CN102344704B (zh) * | 2010-07-28 | 2014-03-05 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 光固化组合物 |
US9256202B2 (en) | 2011-05-20 | 2016-02-09 | Massachusetts Institute Of Technology | System, method and apparatus for phase-coded multi-plane microscopy |
US9523919B2 (en) | 2011-05-31 | 2016-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods for making differentially pattern cured microstructured articles |
KR20140035454A (ko) | 2011-05-31 | 2014-03-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 불연속 형상을 갖는 미세구조화 공구의 제조 방법, 및 그로부터 제조된 용품 |
JP5803401B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2015-11-04 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
DE102012014447A1 (de) * | 2012-07-21 | 2014-01-23 | Daimler Ag | Projektionsanordnung |
RU2645161C2 (ru) | 2012-09-17 | 2018-02-16 | Басф Се | Защитные элементы и способ их получения |
JP6497850B2 (ja) | 2013-05-08 | 2019-04-10 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | ハロー防止層を有するホログラフィック記録媒体およびその製造 |
JP2018141815A (ja) * | 2015-07-23 | 2018-09-13 | コニカミノルタ株式会社 | ホログラフィック光学素子およびその製造方法 |
US20180304590A1 (en) * | 2015-10-07 | 2018-10-25 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Interlayer filler material for touch panels, and touch panel laminate |
CN106634743B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-01-01 | 沈阳万合胶业股份有限公司 | 具有信息记录功能的胶体材料、制备方法及用途 |
US11262495B1 (en) * | 2017-10-04 | 2022-03-01 | Facebook Technologies, Llc | Waveguides with high refractive index gratings manufactured by post-patterning infusion |
EP3772671A1 (de) | 2019-08-06 | 2021-02-10 | Covestro Deutschland AG | Schichtaufbau für die belichtung von hologrammen |
JP7468544B2 (ja) | 2019-11-11 | 2024-04-16 | ソニーグループ株式会社 | ホログラム記録用組成物、ホログラム記録媒体、ホログラム、及びこれを用いた光学装置、光学部品 |
EP4043961B1 (de) | 2021-02-11 | 2023-08-16 | Xetos AG | 2k-system |
ES2969163T3 (es) | 2021-02-11 | 2024-05-16 | Xetos Ag | Composición HOE fotopolimerizable |
ES2955365T3 (es) | 2021-02-11 | 2023-11-30 | Xetos Ag | Composición fotopolimerizable |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5315152A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS61165784A (ja) * | 1985-11-18 | 1986-07-26 | Canon Inc | ホログラム |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3515552A (en) * | 1966-09-16 | 1970-06-02 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive imaging sheet and method of using |
US3645204A (en) * | 1967-09-15 | 1972-02-29 | Burroughs Corp | Methods of preparing and composing relief printing member |
BE755251A (fr) * | 1969-08-25 | 1971-02-25 | Du Pont | Enregistrement holographique dans des couches photopoly- merisables |
DE2016791C3 (de) * | 1970-04-08 | 1973-10-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Co., Saint Paul, Minn. (V.St.A.) | Photographisches Aufzeichnungs material und Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder |
US3667946A (en) * | 1970-09-23 | 1972-06-06 | Holotron Corp | Surface treatment of photopolymer film used for recording holograms |
US3899338A (en) * | 1972-02-09 | 1975-08-12 | Horizons Inc | Photosensitive material suitable for use as a photoresist |
US3999834A (en) * | 1973-08-14 | 1976-12-28 | Kanebo, Ltd. | Method for producing optical fibers and resulting fibers |
US3925077A (en) * | 1974-03-01 | 1975-12-09 | Horizons Inc | Photoresist for holography and laser recording with bleachout dyes |
US4033773A (en) * | 1974-08-27 | 1977-07-05 | Horizons Incorporated, A Division Of Horizons Research Incorporated | Radiation produced colored photopolymer systems |
US3954468A (en) * | 1974-08-27 | 1976-05-04 | Horizons Incorporated | Radiation process for producing colored photopolymer systems |
US3993485A (en) * | 1975-05-27 | 1976-11-23 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Photopolymerization process and related devices |
US4169732A (en) * | 1978-01-09 | 1979-10-02 | International Business Machines Corporation | Photosensitive coating composition and use thereof |
US4264708A (en) * | 1978-03-31 | 1981-04-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer |
US4535041A (en) * | 1984-08-20 | 1985-08-13 | Polaroid Corporation | Stabilization of holograms |
US4588664A (en) * | 1983-08-24 | 1986-05-13 | Polaroid Corporation | Photopolymerizable compositions used in holograms |
AU565571B2 (en) * | 1983-08-24 | 1987-09-17 | Polaroid Corp. | Photopolymerizable compositions |
NL8303251A (nl) * | 1983-09-22 | 1985-04-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het optisch verbinden van een lichtgeleider aan een elektrooptische inrichting. |
US4604342A (en) * | 1984-03-17 | 1986-08-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable mixture and recording material produced from it |
US4734356A (en) * | 1986-04-30 | 1988-03-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Positive-working color proofing film and process |
US4696876A (en) * | 1986-05-12 | 1987-09-29 | Polaroid Corporation | Photopolymerizable composition |
US4942102A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic optical elements having a reflection hologram formed in a photopolymer |
ATE87752T1 (de) * | 1988-01-15 | 1993-04-15 | Du Pont | Verfahren zur herstellung von reflexionshologrammen in photopolymerisierbaren schichten. |
US4942112A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging |
GB8811588D0 (en) * | 1988-05-16 | 1988-06-22 | Ici Plc | Photopolymerisable compositions suitable for recording holographic information |
US4959284A (en) * | 1988-12-29 | 1990-09-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements containing a ring-opening monomer |
US4963471A (en) * | 1989-07-14 | 1990-10-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements for refractive index imaging |
US5013632A (en) * | 1989-09-29 | 1991-05-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymer film for holography |
JPH06100827A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-12 | Sakura Color Prod Corp | ボールペン用水性インキ組成物 |
-
1988
- 1988-01-15 US US07/144,355 patent/US4942112A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-01-12 AT AT89100495T patent/ATE104451T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-01-12 CA CA000588121A patent/CA1332796C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-12 EP EP89100495A patent/EP0324480B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-12 DE DE68914470T patent/DE68914470T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-12 BR BR898900133A patent/BR8900133A/pt unknown
- 1989-01-13 JP JP1005068A patent/JPH06100827B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-13 AU AU28480/89A patent/AU603027B2/en not_active Ceased
- 1989-01-14 CN CN89100195A patent/CN1035364A/zh active Pending
- 1989-01-14 KR KR1019890000398A patent/KR0151846B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-03-14 CN CN92101819A patent/CN1067319A/zh active Pending
- 1992-12-22 JP JP4342139A patent/JP2636653B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5315152A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS61165784A (ja) * | 1985-11-18 | 1986-07-26 | Canon Inc | ホログラム |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0643634A (ja) * | 1988-01-15 | 1994-02-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光重合性組成物及び屈折率画像用エレメント |
US5658966A (en) * | 1992-11-09 | 1997-08-19 | Fujitsu Limited | Method of coupling optical parts and refractive index imaging material |
US5861444A (en) * | 1992-11-09 | 1999-01-19 | Fujitsu Limited | Refractive index imaging material |
US5902715A (en) * | 1992-11-09 | 1999-05-11 | Fujitsu Limited | Method of forming a mirror in a waveguide |
US6166834A (en) * | 1996-03-15 | 2000-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display apparatus and method for forming hologram suitable for the display apparatus |
US7582390B2 (en) | 2003-05-23 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method |
JP2008524353A (ja) * | 2004-12-20 | 2008-07-10 | イーピージー (エンジニアード ナノプロダクツ ジャーマニー) アーゲー | 高方位分解能を有する屈折率勾配層を製造するための有機−無機ハイブリッド材料を含む光学部品及びその製造方法 |
WO2007007436A1 (ja) | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Toagosei Co., Ltd. | 体積位相型ホログラム記録材料、その製造方法および記録体 |
US8298726B2 (en) | 2007-02-05 | 2012-10-30 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Volume phase hologram recording material and optical information recording medium |
US8399156B2 (en) | 2007-07-26 | 2013-03-19 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Volume phase hologram recording material and optical information recording medium using the same |
JP2009149909A (ja) * | 2009-03-25 | 2009-07-09 | Fujifilm Corp | 非共鳴2光子吸収重合用組成物及びそれを用いた3次元光記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1332796C (en) | 1994-11-01 |
EP0324480B1 (en) | 1994-04-13 |
DE68914470T2 (de) | 1994-08-25 |
KR890012204A (ko) | 1989-08-25 |
CN1035364A (zh) | 1989-09-06 |
DE68914470D1 (de) | 1994-05-19 |
US4942112A (en) | 1990-07-17 |
ATE104451T1 (de) | 1994-04-15 |
CN1067319A (zh) | 1992-12-23 |
AU2848089A (en) | 1989-07-20 |
EP0324480A2 (en) | 1989-07-19 |
BR8900133A (pt) | 1989-09-12 |
JPH06100827B2 (ja) | 1994-12-12 |
JP2636653B2 (ja) | 1997-07-30 |
AU603027B2 (en) | 1990-11-01 |
EP0324480A3 (en) | 1989-09-27 |
KR0151846B1 (ko) | 1998-10-15 |
JPH0643634A (ja) | 1994-02-18 |
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