JPH02302311A - 部分フッ素化シランの製造方法 - Google Patents
部分フッ素化シランの製造方法Info
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- JPH02302311A JPH02302311A JP12138389A JP12138389A JPH02302311A JP H02302311 A JPH02302311 A JP H02302311A JP 12138389 A JP12138389 A JP 12138389A JP 12138389 A JP12138389 A JP 12138389A JP H02302311 A JPH02302311 A JP H02302311A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、部分フッ素化シランの製造方法に関する。更
に詳しくは、溶媒を用いたハロゲン交換法による部分フ
ッ素化シランの製造方法に関する。
に詳しくは、溶媒を用いたハロゲン交換法による部分フ
ッ素化シランの製造方法に関する。
部分フッ素化シランは弗素化アモルファスシリコン薄膜
を形成させる材料ガスとして近年注目されでいる。
を形成させる材料ガスとして近年注目されでいる。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点3部分
フッ素化シランの製造方法としては、対応する部分フッ
素化シランをフッ素化剤でフッ素化する、いわゆるハロ
ゲン交換法が知られている。
フッ素化シランの製造方法としては、対応する部分フッ
素化シランをフッ素化剤でフッ素化する、いわゆるハロ
ゲン交換法が知られている。
その際使用されるフッ素化剤は、三弗化アンチモン(S
bFs)、三弗化砒素(^5F3)、四弗化チタン(T
iFn)、四弗化錫(SnFn)、弗化銅(CuFt)
、弗化亜鉛(ZnFg)などが知られているが、取り扱
い易さの点からZnPtを使用するのが一般的である。
bFs)、三弗化砒素(^5F3)、四弗化チタン(T
iFn)、四弗化錫(SnFn)、弗化銅(CuFt)
、弗化亜鉛(ZnFg)などが知られているが、取り扱
い易さの点からZnPtを使用するのが一般的である。
これら固体状のフッ素化剤と部分塩素化シランを反応さ
せる方法としては、上記、フッ素化剤に部分塩素化シラ
ンを接触させる方法示−船的であるが部分フッ素化シラ
ンの反応収率が低いという問題点がある。
せる方法としては、上記、フッ素化剤に部分塩素化シラ
ンを接触させる方法示−船的であるが部分フッ素化シラ
ンの反応収率が低いという問題点がある。
本発明者らは、上記問題点に鑑み、特定の溶媒にフッ素
化剤を懸濁させた後、部分塩素化シランと反応させる方
法を見出し、本発明によって反応収率が大きく向上した
。
化剤を懸濁させた後、部分塩素化シランと反応させる方
法を見出し、本発明によって反応収率が大きく向上した
。
これらに使用される溶媒は比較的高価であるためぽかり
でなく、場合によっては環境問題にも悪影響を及ぼすの
で、反応後回収して再使用する必要があり、具体的には
、反応後の溶媒スラリーを濾過し、固形物を除去して、
該溶媒を再び、フッ素化剤と懸濁させ部分塩素化シラン
との反応を行なう方法がある。
でなく、場合によっては環境問題にも悪影響を及ぼすの
で、反応後回収して再使用する必要があり、具体的には
、反応後の溶媒スラリーを濾過し、固形物を除去して、
該溶媒を再び、フッ素化剤と懸濁させ部分塩素化シラン
との反応を行なう方法がある。
しかしながら、上記で回収した溶媒を使用して、部分塩
素化シランとの反応を行なったところ、未使用の溶媒を
使用したものに比べ反応収率が大きく低下するという問
題を生じた。
素化シランとの反応を行なったところ、未使用の溶媒を
使用したものに比べ反応収率が大きく低下するという問
題を生じた。
また、濾過による回収操作では、ケーキとなる未反応の
フッ素化剤または反応によって生成する塩化物の固体層
に大量の溶媒が付着しており、該溶媒の回収率も十分と
はいえない、したがって、該溶媒の回収方法の改善が望
まれていた。
フッ素化剤または反応によって生成する塩化物の固体層
に大量の溶媒が付着しており、該溶媒の回収率も十分と
はいえない、したがって、該溶媒の回収方法の改善が望
まれていた。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕・ 本発明者
らは、上記問題点に鑑み、再使用溶媒に於ける部分フッ
素化シランの反応収率が低下することなく、また、溶媒
の回収率を向上させる回収方法について鋭意検討を重ね
た結果、この溶媒スラリーに水及び、アルカリ水溶液を
加えて十分攪拌した後、溶媒を回収し、更に、水分を実
質的に完全に除去すれば、上記目的が達成することを見
出し本発明を完成するに到ったのである。
らは、上記問題点に鑑み、再使用溶媒に於ける部分フッ
素化シランの反応収率が低下することなく、また、溶媒
の回収率を向上させる回収方法について鋭意検討を重ね
た結果、この溶媒スラリーに水及び、アルカリ水溶液を
加えて十分攪拌した後、溶媒を回収し、更に、水分を実
質的に完全に除去すれば、上記目的が達成することを見
出し本発明を完成するに到ったのである。
即ち、部分塩素化シランと溶媒に懸濁させたフッ素化剤
(金属フシ化物)との反応で、部分フッ素化シランを製
造する方法において、反応後の溶媒スラリーに水を加え
攪拌した後、溶媒を分離し、該溶媒を攪拌しながら、p
++が7を越えないように、アルカリ水溶液を加え、溶
媒を分離し、蒸留もしくは吸着剤で溶媒中の水分を0.
1%以下に除去して、再使用することを特徴とする部分
フッ素化シランの製造方法であって、溶媒が一般式C−
111−−1cI(ただし、。3〜8の整数)で表され
る塩化アルキル、およびエーテル、ペンタン、アニソー
ル、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
クロロベンゼンの一種以上を用いる方法である。
(金属フシ化物)との反応で、部分フッ素化シランを製
造する方法において、反応後の溶媒スラリーに水を加え
攪拌した後、溶媒を分離し、該溶媒を攪拌しながら、p
++が7を越えないように、アルカリ水溶液を加え、溶
媒を分離し、蒸留もしくは吸着剤で溶媒中の水分を0.
1%以下に除去して、再使用することを特徴とする部分
フッ素化シランの製造方法であって、溶媒が一般式C−
111−−1cI(ただし、。3〜8の整数)で表され
る塩化アルキル、およびエーテル、ペンタン、アニソー
ル、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
クロロベンゼンの一種以上を用いる方法である。
本発明を更に詳細に説明する。
本発明で使用するフッ素化剤としては、三弗化アンチモ
ン(SbFs)、三弗化砒素(AgF2)、四弗化チタ
ン(T’tF、)、四弗化錫(SnF4)、弗化tli
(CuF*)、弗化亜鉛(ZnFt)などの金属フッ化
物である従来公知のフッ素化剤が使用出来るが、価格面
及び取り扱い易さの点からZnFlを用いるのが好まし
い。
ン(SbFs)、三弗化砒素(AgF2)、四弗化チタ
ン(T’tF、)、四弗化錫(SnF4)、弗化tli
(CuF*)、弗化亜鉛(ZnFt)などの金属フッ化
物である従来公知のフッ素化剤が使用出来るが、価格面
及び取り扱い易さの点からZnFlを用いるのが好まし
い。
部分塩素化シラン及び部分フッ素化シランは、何れも水
が存在すると容易に加水分解する性質をもっているので
、反応に使用する溶媒、金属フッ化物はもちろん反応装
置も水分を十分除去しておく必要がある0例えば、金属
フッ化物は使用前に200°C,4時間程度加熱処理す
るなどによって完全に脱水しておくのが、高収率に製品
を得る上で好ましい。
が存在すると容易に加水分解する性質をもっているので
、反応に使用する溶媒、金属フッ化物はもちろん反応装
置も水分を十分除去しておく必要がある0例えば、金属
フッ化物は使用前に200°C,4時間程度加熱処理す
るなどによって完全に脱水しておくのが、高収率に製品
を得る上で好ましい。
本発明において使用する溶媒としては、金属フッ化物及
び部分フッ素化シランに対する溶解度が低く、かつ、部
分塩素化シラン並びに反応によって生成する金属塩化物
に対する溶解度が高い性質を示す溶媒を用いる必要があ
る。
び部分フッ素化シランに対する溶解度が低く、かつ、部
分塩素化シラン並びに反応によって生成する金属塩化物
に対する溶解度が高い性質を示す溶媒を用いる必要があ
る。
このような具体的な溶媒としては、−C弐〇、11□や
、CI(ただし8.3〜8の整数)で表される塩化アル
キル、または/およびエーテル、ペンクン、アニソール
、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ク
ロロベンゼンなどが挙ケられる。塩化アルキルの具体的
な例としては、塩化n−プロピル、塩化イソプロピル、
塩化S−ブチル、塩化t−ブチル、塩化n−ペンチル、
塩化ローヘキシルなどを挙げることが出来る。キシレン
はオルソ、メタ、パラの3種の異性体があるが、その何
れでも良くまた混合物でも差し支えない。
、CI(ただし8.3〜8の整数)で表される塩化アル
キル、または/およびエーテル、ペンクン、アニソール
、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ク
ロロベンゼンなどが挙ケられる。塩化アルキルの具体的
な例としては、塩化n−プロピル、塩化イソプロピル、
塩化S−ブチル、塩化t−ブチル、塩化n−ペンチル、
塩化ローヘキシルなどを挙げることが出来る。キシレン
はオルソ、メタ、パラの3種の異性体があるが、その何
れでも良くまた混合物でも差し支えない。
反応温度は本発明では重要であり、ハロゲン交換の反応
性あるいは生成する部分フッ素化シランも熱安定性を考
慮して決められるが、通常O〜50℃で実施される0反
応温度が高すぎると副反応生放物を生じ易くなり、従っ
て製品の純度が低下する。逆に、反応温度が低すぎると
ハロゲン交換の反応の反応率が低下する。
性あるいは生成する部分フッ素化シランも熱安定性を考
慮して決められるが、通常O〜50℃で実施される0反
応温度が高すぎると副反応生放物を生じ易くなり、従っ
て製品の純度が低下する。逆に、反応温度が低すぎると
ハロゲン交換の反応の反応率が低下する。
本発明による反応を行う場合の、溶媒中に懸濁させる金
属フン化物のスラリー濃度は、通常20〜50重量%(
以下単に%と示す)であり、部分塩素化シランを添加し
て反応を終了した後の溶媒スラリーは粘性があり、使用
する溶媒、金属フッ化物及び濃度によって異なるが、1
00〜800 cp/25°C程度の粘度がある。
属フン化物のスラリー濃度は、通常20〜50重量%(
以下単に%と示す)であり、部分塩素化シランを添加し
て反応を終了した後の溶媒スラリーは粘性があり、使用
する溶媒、金属フッ化物及び濃度によって異なるが、1
00〜800 cp/25°C程度の粘度がある。
したがって、まず反応終了後の溶媒スラリーに、反応に
使用した溶媒と同程度の水を加えて、よく攪拌し静止さ
せる。静止させることにより、上層に溶媒、中層に酸性
水溶液、及び下層に固形物と3Nに分離する。
使用した溶媒と同程度の水を加えて、よく攪拌し静止さ
せる。静止させることにより、上層に溶媒、中層に酸性
水溶液、及び下層に固形物と3Nに分離する。
反応終了後の溶媒スラリーに加える水量が少量では、上
記のように溶媒、酸性水溶液、及び固形物の3層に分離
しないので、十分に水を加えることが望ましい、また、
攪拌する場合も溶媒スラリーと水を十分に接触させるよ
うに、強力に撹拌することが望ましく、固形物に付着す
る溶媒を完全に分離させ、回収率を向上させることがで
きる。
記のように溶媒、酸性水溶液、及び固形物の3層に分離
しないので、十分に水を加えることが望ましい、また、
攪拌する場合も溶媒スラリーと水を十分に接触させるよ
うに、強力に撹拌することが望ましく、固形物に付着す
る溶媒を完全に分離させ、回収率を向上させることがで
きる。
上記の操作後、上層の溶媒は半透明であるので、該溶媒
を回収して攪拌しながらアルカリ水溶液を加え溶媒の円
1が7以下、好ましくは4〜6の範囲に調整する。
を回収して攪拌しながらアルカリ水溶液を加え溶媒の円
1が7以下、好ましくは4〜6の範囲に調整する。
このようにして溶媒のPHを調整した後静止すると、上
層に溶媒、下層にアルカリ性の水溶液が分離する。
層に溶媒、下層にアルカリ性の水溶液が分離する。
本発明で使用するアルカリ水溶液は、特に限定するもの
ではないが、通常の場合、安価なNa0II、KOI+
の水溶液が使用される。またアルカリ水溶液の濃度も特
に限定されるものではないが、0.5〜5%程度が円!
の母整および取り扱い易さの点から好ましい。
ではないが、通常の場合、安価なNa0II、KOI+
の水溶液が使用される。またアルカリ水溶液の濃度も特
に限定されるものではないが、0.5〜5%程度が円!
の母整および取り扱い易さの点から好ましい。
これら、アルカリを示す薬剤は、市販される工業用で十
分であり、溶解する水も市水で十分である。
分であり、溶解する水も市水で十分である。
PH1A整を行なった溶媒は白濁しており、濾紙等で濾
過して透明な溶媒にして回収する。
過して透明な溶媒にして回収する。
なお、反応終了後の溶媒スラリーに直接アルカリ水溶液
を加えて攪拌し、溶媒スラリー〇PHを7以下にするこ
とも可能であるが、アルカリ水溶液を多量に必要とする
ので、コストアップとなり好ましくない。
を加えて攪拌し、溶媒スラリー〇PHを7以下にするこ
とも可能であるが、アルカリ水溶液を多量に必要とする
ので、コストアップとなり好ましくない。
更に、部分塩素化シラン及部分フッ素化シランは何れも
水が存在すると容易に加水分解する性質をもっているこ
とはすでに述べた。従って反応に使用する溶媒も水は十
分に除去しておく必要がある。
水が存在すると容易に加水分解する性質をもっているこ
とはすでに述べた。従って反応に使用する溶媒も水は十
分に除去しておく必要がある。
上記操作で回収した溶媒は使用する溶媒により異なるが
、@量の水分を含んでいるので、0.1%、以下まで除
去しなければならない。
、@量の水分を含んでいるので、0.1%、以下まで除
去しなければならない。
溶媒中の水分を除去する方法は、−m的な蒸留方法や吸
着剤を用いる方法が筒便で最も効率よく、除去できるの
で好ましく、上記の水分濃度まで除去することができる
。
着剤を用いる方法が筒便で最も効率よく、除去できるの
で好ましく、上記の水分濃度まで除去することができる
。
吸着剤は市販される、モレキュラシーブ、シリカゲル及
び活性炭等が使用される。
び活性炭等が使用される。
(実施例〕
以下、実施例及び比較例によって本発明を具体的に説明
する。
する。
実施例1
200℃で4時間脱水処理したZnPt 1.5kgを
、還流コンデンサーを取りつけたlOlの攪拌機付き反
応容器(材質ステンレス製)に入れ、未使用の工業用ア
ニソール3Nに懸濁させた0反応容器を完全にシールし
たのち、反応温度を20’Cに維持するとともに、還流
コンデンサーに冷媒を流して溶媒であるアニソールの蒸
発を防止した。
、還流コンデンサーを取りつけたlOlの攪拌機付き反
応容器(材質ステンレス製)に入れ、未使用の工業用ア
ニソール3Nに懸濁させた0反応容器を完全にシールし
たのち、反応温度を20’Cに維持するとともに、還流
コンデンサーに冷媒を流して溶媒であるアニソールの蒸
発を防止した。
次に系内を窒素ガスで十分に置換させたのち、攪拌しな
がら5illzChを155/minの速度で合計1.
2kg反応容器内にフィードし、フィード完了後更に3
時間反応させた。尚、反応中はキャリアーガスとして窒
素ガスを500m1/winの流量で反応容器中にフィ
ードした。
がら5illzChを155/minの速度で合計1.
2kg反応容器内にフィードし、フィード完了後更に3
時間反応させた。尚、反応中はキャリアーガスとして窒
素ガスを500m1/winの流量で反応容器中にフィ
ードした。
反応容器から発生した反応生成ガスとキャリアーガスは
、−15’Cの冷媒トラップで不純物を除去した後、ド
ライアイスーア番トントラップ中に回収した。更に、ド
ライアイスーアセトントラップ内を真空ポンプで真空排
気し、キャリアーガスとして使用した窒素ガスを除去し
た。
、−15’Cの冷媒トラップで不純物を除去した後、ド
ライアイスーア番トントラップ中に回収した。更に、ド
ライアイスーアセトントラップ内を真空ポンプで真空排
気し、キャリアーガスとして使用した窒素ガスを除去し
た。
回収量は0.66kg (回収率82%)で、このもの
はTI?吸収チャートからS i If t F tと
同定された。
はTI?吸収チャートからS i If t F tと
同定された。
反応後の溶媒スラリーを、別の152の反応容器に移し
た後、水31を加え約30分間攪拌を行なった。攪拌後
約1時間静止した。静止後の溶媒スラリーは、上層にア
ニソール、中層に酸性水溶液、下層には固形物がそれぞ
れ分離しているので、上層のアニソールを別の容器に回
収し、1%KO11水溶液を約100++1加えPl+
を5.5ツメ−ターに調整した後、再度30分間撹拌し
、更に、30分間静止した。
た後、水31を加え約30分間攪拌を行なった。攪拌後
約1時間静止した。静止後の溶媒スラリーは、上層にア
ニソール、中層に酸性水溶液、下層には固形物がそれぞ
れ分離しているので、上層のアニソールを別の容器に回
収し、1%KO11水溶液を約100++1加えPl+
を5.5ツメ−ターに調整した後、再度30分間撹拌し
、更に、30分間静止した。
次に上層のアニソールをNo、 6濾紙を使用して濾過
し、透明なアニソールを得た。全量をIONの大型ロー
タリーエバボレークーにより、温度80℃、圧力20t
orrで減圧蒸留を約4時間行ない脱水した。
し、透明なアニソールを得た。全量をIONの大型ロー
タリーエバボレークーにより、温度80℃、圧力20t
orrで減圧蒸留を約4時間行ない脱水した。
上記方法により回収したアニソールは収率97%、含水
率0.03%であった。
率0.03%であった。
以上の方法で回収したアニソールを、上記と同じ方法で
5illiFtの製造を行なった結果、5illlF1
の収率は81%であり、未使用の工業用アニソールと同
等の結果を得た。
5illiFtの製造を行なった結果、5illlF1
の収率は81%であり、未使用の工業用アニソールと同
等の結果を得た。
実施例2
200 ”Cで4時間脱水処理したCuFz 3 kg
を、還流コンデンサーを取りつけた101の攪拌機付き
反応容器に入れ、未使用の工業用塩化n−ブチル31に
懸濁させた0反応容器を完全にシールしたのち、反応温
度を30℃に維持するとともに、還流コンデンサーに冷
媒を流して溶媒である塩化n−ブチルの蒸発を防止した
。
を、還流コンデンサーを取りつけた101の攪拌機付き
反応容器に入れ、未使用の工業用塩化n−ブチル31に
懸濁させた0反応容器を完全にシールしたのち、反応温
度を30℃に維持するとともに、還流コンデンサーに冷
媒を流して溶媒である塩化n−ブチルの蒸発を防止した
。
次に系内を窒素ガスで十分に置換させたのち、攪拌しな
から5illC1aを20e/winの速度で合計2.
0 k、反応容器内にフィードし、フィード完了後更に
3時間反応させた。尚、反応中はキャリアーガスとして
窒素ガスを500m1/m!nの流量で反応容器中にフ
ィードした。
から5illC1aを20e/winの速度で合計2.
0 k、反応容器内にフィードし、フィード完了後更に
3時間反応させた。尚、反応中はキャリアーガスとして
窒素ガスを500m1/m!nの流量で反応容器中にフ
ィードした。
反応容器から発生した反応生成ガスとキャリアーガスは
、−15℃の冷媒トラップで不純物を除去した後、ドラ
イアイス−アセトントラップ中に回収した。更に、ドラ
イアイス−アセトントラップ内を真空ポンプで真空排気
し、キャリアーガスとして使用した窒素ガスを除去した
。
、−15℃の冷媒トラップで不純物を除去した後、ドラ
イアイス−アセトントラップ中に回収した。更に、ドラ
イアイス−アセトントラップ内を真空ポンプで真空排気
し、キャリアーガスとして使用した窒素ガスを除去した
。
回収量は0.95kg (回収率75%)で、このもの
はIt?吸収チャートから5illFsと同定された。
はIt?吸収チャートから5illFsと同定された。
反応後の溶媒スラリーを、別の152の反応容器に移し
た後、水41を加え約60分間撹拌を行なった。攪拌後
約2時間静止した。静止後の溶媒スラリーは、上層に塩
化n−ブチル、中層に酸性水溶液、下層には固形物がそ
れぞれ分離しているので、上層の塩化n−ブチルを別の
容器に回収し、1%Na0ll水溶液を約150m1加
えr’l+を6.0/メーターに調整した後、再度30
分間攪拌し、更に、60分間静止した。
た後、水41を加え約60分間撹拌を行なった。攪拌後
約2時間静止した。静止後の溶媒スラリーは、上層に塩
化n−ブチル、中層に酸性水溶液、下層には固形物がそ
れぞれ分離しているので、上層の塩化n−ブチルを別の
容器に回収し、1%Na0ll水溶液を約150m1加
えr’l+を6.0/メーターに調整した後、再度30
分間攪拌し、更に、60分間静止した。
次に上層の塩化n−ブチルを別の容器に取り出し、これ
にあらかじめ脱水した10〜20メツシユのモレキュラ
シーブ3A 200m1を加え、30分間攪拌した後、
約10時間密閉状態で放置した。その後、NO,6濾紙
を使用しこれを濾過して透明な塩化ドブチルを得た。
にあらかじめ脱水した10〜20メツシユのモレキュラ
シーブ3A 200m1を加え、30分間攪拌した後、
約10時間密閉状態で放置した。その後、NO,6濾紙
を使用しこれを濾過して透明な塩化ドブチルを得た。
上記方法により回収した塩化n−ブチルは、収量95%
、含水率0.05%であった。
、含水率0.05%であった。
以上の方法で回収した塩化n−ブチルを、上記と同じ方
法で5iHFsの製造を行なつた結果、5illhの収
率は76%であり、未使用の工業用塩化n−ブチルと同
等の結果を得た。
法で5iHFsの製造を行なつた結果、5illhの収
率は76%であり、未使用の工業用塩化n−ブチルと同
等の結果を得た。
実施例3〜5
第1表に示す溶媒及び金属フッ化物を用いて実施例1の
方法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった6
反応終了後の溶媒スラリーを、実施例1の方法と同じ操
作で溶媒を回収した。
方法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった6
反応終了後の溶媒スラリーを、実施例1の方法と同じ操
作で溶媒を回収した。
回収した溶媒を再使用して、再び実施例1の方法で部分
フッ素化シランの製造を行なった結果、第1表に示す如
く回収して溶媒を再使用して製造した部分フッ素化シラ
ンの収率は、未使用の溶媒を使用したものと同等であっ
た。
フッ素化シランの製造を行なった結果、第1表に示す如
く回収して溶媒を再使用して製造した部分フッ素化シラ
ンの収率は、未使用の溶媒を使用したものと同等であっ
た。
比較例1〜3
第2表に示す溶媒及び金属フッ化物を用いて実施例1の
方法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった0
反応後の溶媒スラリーをアスピレータ−を用い減圧下で
濾過し溶媒を回収した。
方法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった0
反応後の溶媒スラリーをアスピレータ−を用い減圧下で
濾過し溶媒を回収した。
回収した溶媒を用いて上記と同じように、実施例1の方
法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった結果
、第2表に示すように回収した溶媒の収率、及び溶媒を
再使用して製造した部分フッ素化シランの収率は大きく
低下することが判明した。
法に従って、部分フッ素化シランの製造を行なった結果
、第2表に示すように回収した溶媒の収率、及び溶媒を
再使用して製造した部分フッ素化シランの収率は大きく
低下することが判明した。
第2表
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように、本発明は溶媒に懸濁させた
金属フッ化物を使用し、ノ10ゲン交操法によるフッ素
化反応により部分フッ素化シランを製造するに際し、反
応後の溶媒を回収して再使用するという方法であるが、
この方法により反応収率に悪影響を及ぼすことなく、更
に、溶媒を再使用するという経済的効果は大なるものが
あり、大幅なコストダウンとなるのである。
金属フッ化物を使用し、ノ10ゲン交操法によるフッ素
化反応により部分フッ素化シランを製造するに際し、反
応後の溶媒を回収して再使用するという方法であるが、
この方法により反応収率に悪影響を及ぼすことなく、更
に、溶媒を再使用するという経済的効果は大なるものが
あり、大幅なコストダウンとなるのである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式SiH_xCl_4_−_x(ただしx=1
〜3の整数)で表わされる部分塩素化シランと溶媒に懸
濁させたフッ素化剤との反応で、対応する部分フッ素化
シランを製造する方法において、反応後の溶媒スラリー
に水を加え撹拌した後、溶媒を分離し、該溶媒を攪拌し
ながら、PHが7を越えないように、アルカリ水溶液を
加え、溶媒を分離し、蒸留もしくは吸着剤で溶媒中の水
分を0.1%以下に除去して、再使用することを特徴と
する部分フッ素化シランの製造方法。 2)溶媒が一般式C_nH_2_n_+_1Cl(ただ
しn=3〜8の整数)で表わされる塩化アルキル、およ
びエーテル、ペンタン、アニソール、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼンの1種
以上である特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1121383A JP2664772B2 (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 部分フッ素化シランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1121383A JP2664772B2 (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 部分フッ素化シランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02302311A true JPH02302311A (ja) | 1990-12-14 |
JP2664772B2 JP2664772B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=14809851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1121383A Expired - Fee Related JP2664772B2 (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 部分フッ素化シランの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2664772B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0599278A1 (en) * | 1992-11-27 | 1994-06-01 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Process for the preparation of partially-substituted fluorosilane |
-
1989
- 1989-05-17 JP JP1121383A patent/JP2664772B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0599278A1 (en) * | 1992-11-27 | 1994-06-01 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Process for the preparation of partially-substituted fluorosilane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2664772B2 (ja) | 1997-10-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |